JP2022014176A - レーザ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】チェンバが熱変形しても、レ―ザビームの経路にずれが生じにくいレーザ装置を提供する。
【解決手段】チェンバがレーザ媒質ガス及び光共振器を収容する。架台がチェンバを支持する。チェンバは、１箇所で、架台に対するチェンバの水平方向の位置が拘束されている。架台に対するチェンバの水平方向の位置が拘束されている箇所以外では、架台に対してチェンバが水平方向に移動可能に支持されている。
【選択図】図４

Description

本発明は、レーザ装置に関する。

ガスレーザ発振器のチェンバが架台に支持される。この構造において、通常はチェンバを４か所で架台に固定する。三軸直交型のレーザ発振器では、放電電極での放電を安定させるために、チェンバ内のレーザ媒質ガスを高速で循環させる。一対の放電電極の間の放電領域にレーザ媒質ガスが流入し、放電によって高温になったレーザ媒質ガスが放電領域からチェンバ内の他の領域に排出される。放電領域から排出されたレーザ媒質ガスは、熱交換器によって冷却され、放電領域に再流入する。放電を経て高温になったレーザ媒質ガスにより、チェンバが熱膨張する。チェンバが熱膨張すると、チェンバの変形に応じて架台も変形する。

下記の特許文献１に、光共振器のミラーをチェンバの外に配置したガスレーザ発振器が開示されている。チェンバと光共振器ミラーとは、別々の架台に固定されている。このため、チェンバやその架台が熱変形しても、光共振器はその熱変形の影響を受けにくい。

特開平２－１０５４７８号公報

チェンバの内部に光共振器のミラーが配置されている構成では、チェンバの熱変形によって架台が変形すると、チェンバの姿勢が変化し、チェンバ内の光共振器のミラーの姿勢や位置も変化する。その結果、光共振器の光軸が初期の位置からずれてしまう。光共振器の光軸がずれると、レーザ発振器の後段に配置されているビーム整形光学系等へのレーザビームの入射位置にもずれが生じる。ビーム整形光学系への入射位置がずれると、加工面におけるビームプロファイルが崩れてしまい、加工品質が低下してしまう。

本発明の目的は、チェンバが熱変形しても、レ―ザビームの経路にずれが生じにくいレーザ装置を提供することである。

本発明の一観点によると、
レーザ媒質ガス及び光共振器を収容するチェンバと、
前記チェンバを支持する架台と
を有し、
前記チェンバは、１箇所で、前記架台に対する前記チェンバの水平方向の位置が拘束されており、
前記架台に対する前記チェンバの水平方向の位置が拘束されている箇所以外では、前記チェンバが前記架台に対して水平方向に移動可能に支持されているレーザ装置が提供される。

チェンバが熱変形しても、架台はその変形の影響を受けにくい。これにより、チェンバの姿勢の変動が軽減され、レーザビームの経路のずれも生じにくくなる。

図１は、本実施例によるレーザ装置、及びレーザ装置から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置の概略図である。 図２は、実施例によるレーザ装置の側面図であり、レーザ発振器については断面を示した図である。 図３は、実施例によるレーザ装置の光軸に垂直な断面図である。 図４は、実施例によるレーザ装置のチェンバ及び架台の平面図である。 図５Ａ及び図５Ｂは、それぞれ図４の一点鎖線５Ａ－５Ａ及び一点鎖線５Ｂ－５Ｂにおける断面図である。 図６Ａは、実施例によるレーザ装置の共振器ベースの平面図であり、図６Ｂ及び図６Ｃは、それぞれ図６Ａの一点鎖線６Ｂ－６Ｂ及び一点鎖線６Ｃ－６Ｃにおける断面図である。 図７Ａ及び図７Ｂは、それぞれ比較例によるレーザ装置の概略平面図及び概略断面図である。

図１～図７Ｂを参照して、実施例によるレーザ装置について説明する。
図１は、実施例によるレーザ装置１０、及びレーザ装置１０から出力されたレーザビームで加工を行う加工装置８０の概略図である。共通ベース１００に、レーザ装置１０及び加工装置８０が固定されている。共通ベース１００は、例えば床である。

レーザ装置１０は、共通ベース１００に固定された架台１１と、架台１１に支持されたレーザ発振器１２とを含む。加工装置８０は、ビーム整形光学系８１及びステージ８２を含む。ステージ８２の上に加工対象物９０が保持される。ビーム整形光学系８１及びステージ８２は、共通ベース１００に固定されている。レーザ発振器１２から出力されたレーザビームが、ビーム整形光学系８１によってビームプロファイルを整形され、加工対象物９０に入射する。

図２は、レーザ装置１０の側面図であり、レーザ発振器１２については断面を示した図である。レーザ発振器１２は、レーザ媒質ガス及び光共振器２０等を収容するチェンバ１５を含む。チェンバ１５が、４箇所で架台１１に支持されている。すなわち、架台１１は、４箇所でチェンバ１５からの荷重を受け止める。図２では、チェンバ１５が架台１１に支持されている箇所を三角形３０で示している。図２は、三角形３０によってチェンバ１５が架台１１に支持されている箇所を模式的に表しているのみであり、三角形３０は架台１１がチェンバ１５を支持する支持構造の形状を表しているわけではない。架台１１は、４個の架台脚１３によって共通ベース１００の上に支持される。図２は、架台脚１３を模式的に三角形で表しており、架台脚１３の形状を表しているわけではない。なお、後に説明する放電電極支持部材２３及び光共振器支持部材２７も、図２では模式的に表されている。

次に、レーザ発振器１２の構成について説明する。チェンバ１５にレーザ媒質ガスが収容される。チェンバ１５の内部空間が、相対的に上側に位置する光学室１６と、相対的に下側に位置するブロワ室１７とに区分されている。光学室１６とブロワ室１７とは、上下仕切り板１８で仕切られている。なお、上下仕切り板１８には、レーザガスを光学室１６とブロワ室１７との間で流通させる開口が設けられている。ブロワ室１７の側壁から光学室１６の底板１９が光共振器２０の光軸２０Ａの方向に張り出しており、光学室１６の光軸方向の長さが、ブロワ室１７の光軸方向の長さより長くなっている。チェンバ１５は、底板１９により、または底板１９に固定された部材を介して架台１１に支持される。

光学室１６内に、一対の放電電極２１及び一対の共振器ミラー２５が配置されている。一対の放電電極２１は、それぞれ放電電極支持部材２２、２３を介して底板１９に支持されている。一対の放電電極２１は、上下方向に間隔を隔てて配置され、両者の間に放電領域２４が画定される。放電電極２１は放電領域２４に放電を生じさせることにより、レーザ媒質ガスを励起させる。後に図３を参照して説明するように、放電領域２４を図２の紙面に垂直な方向にレーザ媒質ガスが流れる。

一対の共振器ミラー２５は、光学室１６内に配置された１つの共振器ベース２６に固定されている。共振器ベース２６は、４個の光共振器支持部材２７を介して底板１９に支持されている。共振器ミラー２５は、放電領域２４を通る光軸２０Ａを持つ光共振器２０を構成する。光共振器２０の光軸２０Ａを一方向（図１において左方向）に延伸させた延長線と光学室１６の壁面との交差箇所に、レーザビームを透過させる光透過窓２８が取り付けられている。光共振器内で励振されたレーザビームが光透過窓２８を透過して外部に放射される。

ブロワ室１７にブロワ２９が配置されている。ブロワ２９は、光学室１６とブロワ室１７との間でレーザ媒質ガスを循環させる。

図３は、実施例によるレーザ装置の光軸２０Ａ（図２）に垂直な断面図である。図２を参照して説明したように、チェンバ１５の内部空間が上下仕切り板１８により、上方の光学室１６と下方のブロワ室１７とに区分されている。光学室１６内に、一対の放電電極２１、光共振器２０（図２）を支持する共振器ベース２６が配置されている。放電電極２１の間に放電領域２４が画定される。

光学室１６内に仕切り板４０が配置されている。仕切り板４０は、上下仕切り板１８に設けられた開口１８Ａから放電領域２４までの第１ガス流路４１、放電領域２４から上下仕切り板１８に設けられた他の開口１８Ｂまでの第２ガス流路４２を画定する。レーザ媒質ガスは、放電領域２４を、光軸２０Ａ（図２）に対して直交する方向に流れる。放電方向は、レーザ媒質ガスが流れる方向、及び光軸２０Ａの両方に対して直交する。ブロワ室１７、第１ガス流路４１、放電領域２４、及び第２ガス流路４２によって、レーザ媒質ガスが循環する循環路が形成される。ブロワ２９は、この循環路をレーザ媒質ガスが循環するように、矢印で示したレーザ媒質ガスの流れを発生させる。

ブロワ室１７内の循環路に、熱交換器４３が収容されている。放電領域２４で加熱されたレーザ媒質ガスが熱交換器４３を通過することによって冷却され、冷却されたレーザ媒質ガスが放電領域２４に再供給される。

上下仕切り板１８に、ブロワ室１７から光学室１６にレーザガスを流出させる流出穴４４が設けられている。ブロワ２９によって第１ガス流路４１に向かうレーザ媒質ガスの一部が、流出穴４４を通過して光学室１６に流出する。流出穴４４には、パーティクルを除去するフィルタ４５が設けられている。例えば、フィルタ４５は流出穴４４を塞いでおり、ブロワ室１７から光学室１６に流出するレーザ媒質ガスが、フィルタ４５を通過することによりろ過される。

次に、図４～図５Ｂを参照して、チェンバ１５を架台１１に支持する構造について説明する。
図４は、チェンバ１５及び架台１１の平面図である。図５Ａ及び図５Ｂは、それぞれ図４の一点鎖線５Ａ－５Ａ及び一点鎖線５Ｂ－５Ｂにおける断面図である。平面視において、光軸２０Ａの方向に関してブロワ室１７の両側に底板１９が設けられている。チェンバ１５の２つの底板１９の各々から、光軸２０Ａから遠ざかる二方向に被支持部３２が突出している。被支持部３２は、チェンバ１５と一体的に形成してもよいし、被支持部３２をボルト等でチェンバ１５に取り付けて固定してもよい。「一体的に形成」とは、分離不可能に形成することを意味し、例えば溶接等による接続や、単一部材で形成すること等を意味する。なお、底板１９の一部分を被支持部３２として利用してもよい。２つの底板１９の各々に設けられた２つの被支持部３２は、光軸方向に関して同じ位置に配置されている。すなわち、４個の被支持部３２が、長方形の４個の頂点に対応する位置に配置されている。

架台１１の４個の支持部３１が、平面視において被支持部３２のそれぞれと重なる位置に設けられている。支持部３１は、架台１１の、光軸２０Ａに平行な２本の枠から光軸２０Ａに向かって突出している。支持部３１は、架台１１と一体的に形成してもよいし、支持部３１をボルト等で架台１１に取り付けて固定してもよい。なお、架台１１の一部分を支持部３１として利用してもよい。支持部３１の各々は、被支持部３２からの荷重を受け止める。すなわち、チェンバ１５は４箇所で架台１１に支持されている。支持部３１と被支持部３２との間に摩擦力低減部材３６（図５Ａ、図５Ｂ）が挿入されている。すなわち、チェンバ１５を支持する箇所において、架台１１は摩擦力低減部材３６を介してチェンバ１５を支持している。摩擦力低減部材３６は、摩擦力低減部材３６を配置せず、支持部３１と被支持部３２とが直接接触する場合よりも摩擦力を低減させる。摩擦力低減部材３６として、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等が用いられる。

４個の被支持部３２のうち１つの被支持部３２（図４において左下の被支持部３２）は、ボルト３３で支持部３１に固定されている。これにより、被支持部３２の、支持部３１に対する水平方向の位置が拘束される。すなわち、１箇所において、架台１１に対するチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されている。なお、架台１１に対してチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されている箇所においては、チェンバ１５と架台１１との間に摩擦力低減部材３６を配置しなくてもよい。

架台１１に対してチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されている箇所以外の３箇所に、架台１１に固定された側壁部３１Ａ及び天蓋部３１Ｂ（図５Ａ、図５Ｂ）が設けられている。側壁部３１Ａは、被支持部３２の先端面に対向し、天蓋部３１Ｂは、被支持部３２の上面に対向する。図４において、天蓋部３１Ｂは支持部３１とほぼ重なっている。側壁部３１Ａ及び天蓋部３１Ｂは、架台１１と一体的に形成してもよいし、ボルト等で架台１１に取り付けて固定してもよい。

被支持部３２と天蓋部３１Ｂとの間に、コイルバネ等の弾性部材３４が配置されている。弾性部材３４は、被支持部３２を支持部３１に対して、荷重が加わる方向と同一の方向に押し付ける。これにより、チェンバ１５が架台１１に向かって押し付けられる。

光軸２０Ａから見て、支持部３１に固定された被支持部３２とは反対側に配置されている２つの被支持部３２（図４において上側、図５Ａ及び図５において右側の被支持部３２）においては、被支持部３２の先端面と側壁部３１Ａとの間に空隙が確保されている。このため、被支持部３２は支持部３１に対して、光軸２０Ａと平行な方向及び直交する方向の二方向に移動可能である。すなわち、２箇所において、チェンバ１５が架台１１に対して水平な二方向に移動可能に支持されている。

光軸２０Ａから見て、支持部３１に固定された被支持部３２と同じ側に配置されている被支持部３２（図４において右下、図５Ｂにおいて左側の被支持部３２）においては、被支持部３２の先端面と側壁部３１Ａとの間に摩擦力低減部材３６が挟まれている。光軸２０Ａの方向に関してこの被支持部３２と同じ位置に配置されているもう１つの被支持部３２においては、被支持部３２の先端面と側壁部３１Ａとの間に、弾性部材３５が配置されている。弾性部材３５は、被支持部３２を、光軸２０Ａを挟んで反対側の側壁部３１Ａに押し付けている。なお、被支持部３２の先端面と弾性部材３５との間に、摩擦力低減部材３６が配置されている。

光軸２０Ａから見て、支持部３１に固定された被支持部３２と同じ側に配置されている被支持部３２（図５Ｂにおいて左側の被支持部３２）の先端面と側壁部３１Ａとの間に空隙は確保されていない。このため、この被支持部３２は、支持部３１に対して、光軸２０Ａに直交する方向の位置が拘束される。なお、光軸２０Ａに平行な方向に関しては、被支持部３２は自由に移動可能である。すなわち、架台１１に対するチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されている箇所を中心としてチェンバ１５が水平面内で回転方向に変位しないように、１箇所において、チェンバ１５の回転方向の位置が拘束されている。

次に、図６Ａ～図６Ｃを参照して、共振器ベース２６をチェンバ１５に支持する構造について説明する。
図６Ａは、共振器ベース２６の平面図であり、図６Ｂ及び図６Ｃは、それぞれ図６Ａの一点鎖線６Ｂ－６Ｂ及び一点鎖線６Ｃ－６Ｃにおける断面図である。共振器ベース２６は、光軸２０Ａの方向に長い平板である。共振器ベース２６の両端近傍の上面に共振器ミラー２５が固定されている。

平面視において共振器ベース２６に内包される位置に、４本の光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄが配置されている。光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの各々は段付きピンであり、平面視において光軸２０Ａから見て同じ側に配置されている。光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの中心を通過する直線は、光軸２０Ａと平行である。他の２つの光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄは、段差が設けられていないピンであり、それぞれ平面視において光軸２０Ａに関して光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの線対称の位置に配置されている。すなわち、４個の光共振器支持部材２７Ａ～２７Ｄは、長方形の４つの頂点に対応する位置に配置されている。４個の光共振器支持部材２７Ａ～２７Ｄの下端は、底板１９に埋め込まれて底板１９に固定されている。

共振器ベース２６に、円形孔５１及び長孔５２が設けられている。円形孔５１及び長孔５２は、それぞれ、平面視において光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂに対応する位置に配置されている。長孔５２は、平面視において光軸２０Ａに平行な方向に長い形状を持つ。光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂのそれぞれの段差より上方の部分が、円形孔５１及び長孔５２に挿入されている。共振器ベース２６は、光共振器支持部材２７Ａ、２７Ｂの段差部分、及び光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄの上端面によって、荷重が加わる方向に支持されている。

共振器ベース２６のうち円形孔５１の周囲の部分は、光共振器支持部材２７Ａに対して水平面内の位置が拘束されている。長孔５２に挿入された光共振器支持部材２７Ｂは、共振器ベース２６に対して光軸２０Ａに平行な一次元方向に移動可能である。光共振器支持部材２７Ｃ、２７Ｄは、共振器ベース２６に対して水平面内の二方向に移動可能である。すなわち、共振器ベース２６は、チェンバ１５に対して１か所において水平方向の位置が拘束され、他の３か所においては水平方向の位置が拘束されていない。

次に、図７Ａ及び図７Ｂに示した比較例と比較しながら、上記実施例の優れた効果について説明する。

図７Ａ及び図７Ｂは、それぞれ比較例によるレーザ装置の概略平面図及び概略断面図である。比較例においては、チェンバ１５の４個の被支持部３２のすべてが、架台１１の４個の支持部３１にボルト３３で固定されている。図７Ｂにおいて、支持部３１と被支持部３２とのペアを模式的に三角形３０で表している。レーザ発振器１２を動作させると、放電によってレーザ媒質ガスの温度が上昇する。その結果、チェンバ１５の温度も上昇し、チェンバ１５が熱膨張する。図７Ａ及び図７Ｂにおいて、熱膨張後の各構成部分を破線で示している。なお、図７Ａ及び図７Ｂでは理解を容易にするために、熱膨張による変形量を実際の変形量より極端に大きく示している。

図３に示した断面において、放電領域２４より下流側のレーザ媒質ガスの温度が、上流側のレーザ媒質ガスの温度より高くなる。このため、チェンバ１５の２つの側面の温度上昇幅に差が生じ、チェンバ１５の側面の熱膨張量にも差が生じる。このため、図７Ａに示したように、チェンバ１５の一方の側面（図７Ａにおいて上側の側面）が、他方の側面より大きく膨張し、チェンバ１５に変形が生じる。チェンバ１５の変形により、架台１１にも変形が生じる。

架台１１に変形が生じると、架台１１に支持されているチェンバ１５の底板１９の姿勢が変化する。底板１９に支持されている共振器ベース２６の姿勢も変化し、その結果、光軸２０Ａの位置及び方向が変化する。光軸２０Ａの位置及び方向の変化に応じて、レーザ発振器１２（図１）から出力されるレーザビームの経路が変化するため、ビーム整形光学系８１（図１）へのレーザビームの入射位置が初期の位置からずれる。これにより、加工対象物９０の表面におけるビームプロファイルが崩れ、加工不良が生じやすくなる。

これに対して上記実施例では、４個の被支持部３２（図４）のうち１個のみが、支持部３１に固定されており、残りの３個の被支持部３２は、支持部３１に対して水平方向に移動可能である。すなわち、チェンバ１５が支持されている４箇所のうち１箇所において、架台１１に対するチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されており、残りの３箇所においては、架台１１に対してチェンバ１５が水平方向に移動可能に支持されている。さらに、被支持部３２と支持部３１との間に摩擦力低減部材３６が配置されているため、支持部３１に対して被支持部３２が水平方向に移動しやすい。このため、チェンバ１５が熱膨張したときの架台１１の変形が抑制される。架台１１の変形が生じにくいため、架台１１の変形に起因する光軸２０Ａのずれも生じにくい。

また、図４において右下の被支持部３２は、光軸２０Ａに対して平行な方向に関しては移動可能であるが、光軸２０Ａに対して直交する方向の位置は拘束されている。このため、支持部３１に固定された被支持部３２を中心とした回転方向の姿勢を拘束することができる。

さらに、支持部３１に固定されている被支持部３２（図４）と、光軸２０Ａに対して直交する方向への位置が拘束されている被支持部３２とを結ぶ直線が、光軸２０Ａに平行である。このため、チェンバ１５が熱膨張しても、チェンバ１５の回転方向の姿勢は実質的に変化しない。

被支持部３２が支持部３１に固定されていない箇所において、被支持部３２が弾性部材３４によって支持部３１に押し付けられている。このため、チェンバ１５の鉛直方向の位置が安定するという優れた効果が得られる。

共振器ベース２６（図６Ａ～図６Ｃ）は、光共振器支持部材２７Ａで支持されている箇所においてのみ水平面内でチェンバ１５に固定されており、他の光共振器支持部材２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄで支持されている箇所では、水平方向の移動が許容されている。このため、共振器ベース２６は、チェンバ１５の変形の影響を受けにくく、光軸２０Ａのずれも生じにくい。

また、共振器ベース２６の、光共振器支持部材２７Ｂで支持されている箇所は、光軸２０Ａに直交する方向の位置が拘束されている。このため、共振器ベース２６の水平面内での回転方向の位置が拘束される。

実際に、上記実施例によるレーザ装置と、図７Ａ～図７Ｂに示した比較例によるレーザ装置とのビーム経路の位置安定性について比較実験を行った。以下、比較実験の内容について説明する。

実施例によるレーザ装置と比較例によるレーザ装置とのそれぞれを、パルスの繰り返し周波数及び出力が異なる２つの発振条件で動作させた。チェンバの温度が安定した状態で、光共振器の出力端から一定の距離だけ離れた位置におけるビームスポットを検出し、２つの発振条件におけるビームスポットの位置のずれ量を計測した。パルスの繰り返し周波数が高く、出力も大きな条件で動作させた場合には、パルスの繰り返し周波数が低く、出力も低い条件で動作させた場合より、チェンバが高温になる。

本実施例によるレーザ装置におけるビームスポットのずれ量は、比較例によるレーザ装置におけるビームスポットのずれ量の１／４～１／３程度であった。この比較実験から、上記実施例による構造のレーザ装置のレーザビームの経路の位置は、チェンバの熱変形の影響を受けにくいことがわかる。

次に、上記実施例の変形例について説明する。
上記実施例では、チェンバ１５の被支持部３２、及び架台１１の支持部３１を、それぞれ４個にしているが、２個にしてもよいし、３個または５個以上にしてもよい。すなわち、架台１１がチェンバ１５を２箇所、３箇所、または５箇所以上で支持してもよい。チェンバ１５を２箇所で支持する場合には、例えば、図４において左側に位置する２つの被支持部３２を結ぶ細長い領域でチェンバ１５を支持し、右側に位置する２つの被支持部３２を結ぶ細長い領域でチェンバ１５を支持するとよい。この場合、架台１１の対応する支持部３１も、平面視において細長い形状になる。チェンバ１５を支持する左側の細長い領域の一方の端部近傍の１箇所でチェンバ１５を架台１１にボルト等で固定するとよい。チェンバ１５を支持する左側の細長い領域のうち、ボルト等で固定されていない領域においては、架台１１に対するチェンバ１５の水平方向の位置が拘束されない。また、チェンバ１５を支持する右側の細長い領域においては、その全域でチェンバ１５が架台１１に対して水平方向に移動可能である。

チェンバ１５を３箇所で支持する場合には、例えば、図４において左側の２つの被支持部３２を結ぶ１つの細長い領域と、右側の２つの被支持部３２とでチェンバ１５を支持するとよい。または、図４において右側の２つの被支持部３２を結ぶ１つの細長い領域と、左側の２つの被支持部３２とでチェンバ１５を支持するとよい。チェンバ１５を５箇所以上で支持する場合には、例えば、図４において上側または下側の２つの被支持部３２の間に、新たに被支持部及び支持部を設けるとよい。

すなわち、架台１１がチェンバ１５を複数箇所で支持するようにしてもよい。この場合、複数の被支持部３２のうち１つの被支持部３２を、対応する支持部３１に対して水平方向の位置が拘束された固定被支持部とすればよい。すなわち、１箇所において、架台１１に対するチェンバ１５の水平方向の位置を拘束すればよい。

複数の被支持部３２のうち固定被支持部以外の被支持部３２は、対応する支持部３１に対して水平方向に移動可能にすればよい。すなわち、チェンバ１５の水平方向の位置が拘束された支持箇所以外の支持箇所においては、チェンバ１５が架台１１に対して水平方向に移動可能にすればよい。固定被支持部以外の複数の被支持部３２のうち１つの被支持部３２においては、対応する支持部３１に対して、固定被支持部を中心とした水平面内における回転方向の位置を拘束する構成にするとよい。すなわち、１つの支持箇所においては、水平面内におけるチェンバ１５の、固定被支持部を中心とした回転方向の位置を拘束するとよい。

上記実施例は例示であり、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。

１０ レーザ装置
１１ 架台
１２ レーザ発振器
１３ 架台脚
１５ チェンバ
１６ 光学室
１７ ブロワ室
１８ 上下仕切り板
１８Ａ、１８Ｂ 開口
１９ 底板
２０ 光共振器
２０Ａ 光軸
２１ 放電電極
２２、２３ 放電電極支持部材
２４ 放電領域
２５ 共振器ミラー
２６ 共振器ベース
２７、２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄ 光共振器支持部材
２８ 光透過窓
２９ ブロワ
３１ 支持部
３１Ａ 側壁部
３１Ｂ 天蓋部
３２ 被支持部
３３ ボルト
３４、３５ 弾性部材
３６ 摩擦力低減部材
４０ 仕切り板
４１ 第１ガス流路
４２ 第２ガス流路
４３ 熱交換器
４４ 流出穴
４５ フィルタ
５１ 円形孔
５２ 長孔
８０ 加工装置
８１ ビーム整形光学系
８２ ステージ
９０ 加工対象物
１００ 共通ベース

Claims (5)

1. レーザ媒質ガス及び光共振器を収容するチェンバと、
   前記チェンバを支持する架台と
   を有し、
   前記チェンバは、１箇所で、前記架台に対する前記チェンバの水平方向の位置が拘束されており、
   前記架台に対する前記チェンバの水平方向の位置が拘束されている箇所以外では、前記チェンバが前記架台に対して水平方向に移動可能に支持されているレーザ装置。
2. さらに、前記チェンバが前記架台に対して水平方向に移動可能に支持されている箇所において、荷重が加わる方向と同一の方向に前記チェンバを押し付ける弾性部材を有する請求項１に記載のレーザ装置。
3. 前記チェンバが前記架台に対して水平方向に移動可能に支持されている箇所において、前記架台は、摩擦力を低減させる摩擦力低減部材を介して前記チェンバを支持している請求項１または２に記載のレーザ装置。
4. 前記チェンバが前記架台に対して水平方向に移動可能に支持されている箇所のうち１つの箇所において、前記架台に対する前記チェンバの水平方向の位置が拘束されている箇所を中心とした水平面内における前記チェンバの回転方向の位置が拘束されている請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレーザ装置。
5. 前記光共振器は、
   一対の共振器ミラーと、
   前記チェンバに支持され、前記一対の共振器ミラーを固定する共振器ベースと
   を有し
   前記共振器ベースは、３個以上の複数の箇所で荷重が加わる方向に支持され、支持された複数の箇所のうち１か所においては水平方向の位置が拘束され、他の複数の箇所においては、水平方向の位置が拘束されていない請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレーザ装置。
   

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