JP2784706B2 - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JP2784706B2 JP2784706B2 JP4321249A JP32124992A JP2784706B2 JP 2784706 B2 JP2784706 B2 JP 2784706B2 JP 4321249 A JP4321249 A JP 4321249A JP 32124992 A JP32124992 A JP 32124992A JP 2784706 B2 JP2784706 B2 JP 2784706B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガスレーザ装置に係り、
特に放電チャンバの両端に設けられたウインドウの汚損
防止機構に関する。
特に放電チャンバの両端に設けられたウインドウの汚損
防止機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】気体状態の活性媒質を用いるガスレーザ
装置の中に、チャンバ内に封入したガスをファンにより
電極間に流し、放電によりガスの分子を励起させてレー
ザ媒質の反転分布を形成させ、高温になったガスを熱交
換器で冷却した後、ファンに戻しているＣＯ２レーザや
エキシマレーザがある。
装置の中に、チャンバ内に封入したガスをファンにより
電極間に流し、放電によりガスの分子を励起させてレー
ザ媒質の反転分布を形成させ、高温になったガスを熱交
換器で冷却した後、ファンに戻しているＣＯ２レーザや
エキシマレーザがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記ガスレーザ装置に
おいて、レーザ発振の長寿命化を阻害する要因の一つに
光学系の汚れが挙げられる。レーザ発振を繰り返すこと
によって生成される粉体の化合物等がウインドウに付着
すると、光の透過率が低下し、レーザ出力の低下を招
く。この対策として特公昭６０−２６３１２やＵＳＰ−
５０１８１６１は、フィルタによって清浄化したガスを
ウインドウ表面に強制的に吹きつけているが、塵を含む
レーザ媒質ガスを巻き込まないようにするため多量のパ
ージ流量が必要である。一方、特開昭５８−１８６９８
５は、ウインドウ領域に清浄化したガスの入口を設け、
放電管のガス出口から電気集塵装置と休止ゾーンとを介
して前記ガス入口に至るガス循環路を設けて、ウインド
ウを清浄なガスで洗浄する方式であるが、前記ガス循環
路は放電管の外部に設置されているため、キャビティ長
の増大、配管接続部からのリークの可能性などの問題点
がある。また従来、アパーチャはチャンバの外側、すな
わち大気側に配設されていたので、パージしないと汚れ
る、紫外光と雰囲気ガスとによってアパーチャが反応し
て劣化または不純物を発生して周囲の光学部品を汚損す
る等の問題がある。本発明は上記従来の問題点に着目し
てなされたもので、ウインドウを清浄な状態に保つため
に多量のパージガスを必要とせず、キャビティ長の増
大、配管接続部からのリークの可能性などの問題発生が
なく、かつアパーチャの劣化を防止することができるよ
うなガスレーザ装置を提供することを目的としている。
おいて、レーザ発振の長寿命化を阻害する要因の一つに
光学系の汚れが挙げられる。レーザ発振を繰り返すこと
によって生成される粉体の化合物等がウインドウに付着
すると、光の透過率が低下し、レーザ出力の低下を招
く。この対策として特公昭６０−２６３１２やＵＳＰ−
５０１８１６１は、フィルタによって清浄化したガスを
ウインドウ表面に強制的に吹きつけているが、塵を含む
レーザ媒質ガスを巻き込まないようにするため多量のパ
ージ流量が必要である。一方、特開昭５８−１８６９８
５は、ウインドウ領域に清浄化したガスの入口を設け、
放電管のガス出口から電気集塵装置と休止ゾーンとを介
して前記ガス入口に至るガス循環路を設けて、ウインド
ウを清浄なガスで洗浄する方式であるが、前記ガス循環
路は放電管の外部に設置されているため、キャビティ長
の増大、配管接続部からのリークの可能性などの問題点
がある。また従来、アパーチャはチャンバの外側、すな
わち大気側に配設されていたので、パージしないと汚れ
る、紫外光と雰囲気ガスとによってアパーチャが反応し
て劣化または不純物を発生して周囲の光学部品を汚損す
る等の問題がある。本発明は上記従来の問題点に着目し
てなされたもので、ウインドウを清浄な状態に保つため
に多量のパージガスを必要とせず、キャビティ長の増
大、配管接続部からのリークの可能性などの問題発生が
なく、かつアパーチャの劣化を防止することができるよ
うなガスレーザ装置を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係るガスレーザ装置は、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側のレーザ光路上にウインドウ側か
ら順に第１の副室、ラビリンスを設置し、該ラビリンス
の開口内にレーザ光路が含まれ、清浄レーザ媒質ガスを
前記第１の副室と前記ラビリンスとの間に導入するレー
ザガス導入開口を有し、前記清浄レーザ媒質ガスを前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
るガスレーザ装置とした。また、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側に第２の副室及びラビリンスを設
置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第２の副室の前記ウイ
ンドウから離隔した位置へ導入して静圧に戻した上、前
記ラビリンスを経てチャンバ内に導入することとした。
本発明に係るガスレーザ装置は、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側のレーザ光路上にウインドウ側か
ら順に第１の副室、ラビリンスを設置し、該ラビリンス
の開口内にレーザ光路が含まれ、清浄レーザ媒質ガスを
前記第１の副室と前記ラビリンスとの間に導入するレー
ザガス導入開口を有し、前記清浄レーザ媒質ガスを前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
るガスレーザ装置とした。また、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側に第２の副室及びラビリンスを設
置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第２の副室の前記ウイ
ンドウから離隔した位置へ導入して静圧に戻した上、前
記ラビリンスを経てチャンバ内に導入することとした。
【０００５】
【作用】上記構成によれば、ウインドウの内側のレーザ
光路上にウインドウ側から順に第１の副室、ラビリンス
を設置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第１の副室と前記
ラビリンスとの間に導入した上、前記ラビリンスを経て
チャンバ内に導入することにし、また第２の副室をウイ
ンドウの内側に設け、除塵装置によって清浄化したレー
ザ媒質ガスをラビリンスあるいはウインドウの内側に直
接導入せず、いったん第２副室に導入して静圧に回復さ
せた後、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入するこ
とにしたので、前記いずれの構成によってもウインドウ
の内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留させる
ことができる。従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記
ウインドウの内側に到達することはなく、多量のパージ
ガスをウインドウに吹きつけなくてもウインドウ表面を
清浄に保つことができる。また、除塵装置から前記副室
に至るガス導入路をチャンバの側壁に内蔵したので、キ
ャビティ長の増大、配管接続部からのリークの可能性な
どの問題が起こらない。更に、レーザ光を整形するアパ
ーチャを取着する場合は、ウインドウ近傍の清浄なレー
ザ媒質ガス雰囲気内に配設することにしたので、アパー
チャの汚損、劣化あるいは不純物発生による周囲の光学
部品の汚損等の問題発生を防止することができる。
光路上にウインドウ側から順に第１の副室、ラビリンス
を設置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第１の副室と前記
ラビリンスとの間に導入した上、前記ラビリンスを経て
チャンバ内に導入することにし、また第２の副室をウイ
ンドウの内側に設け、除塵装置によって清浄化したレー
ザ媒質ガスをラビリンスあるいはウインドウの内側に直
接導入せず、いったん第２副室に導入して静圧に回復さ
せた後、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入するこ
とにしたので、前記いずれの構成によってもウインドウ
の内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留させる
ことができる。従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記
ウインドウの内側に到達することはなく、多量のパージ
ガスをウインドウに吹きつけなくてもウインドウ表面を
清浄に保つことができる。また、除塵装置から前記副室
に至るガス導入路をチャンバの側壁に内蔵したので、キ
ャビティ長の増大、配管接続部からのリークの可能性な
どの問題が起こらない。更に、レーザ光を整形するアパ
ーチャを取着する場合は、ウインドウ近傍の清浄なレー
ザ媒質ガス雰囲気内に配設することにしたので、アパー
チャの汚損、劣化あるいは不純物発生による周囲の光学
部品の汚損等の問題発生を防止することができる。
【０００６】
【実施例】以下に本発明に係るガスレーザ装置の実施例
について、図面を参照して説明する。図１はエキシマレ
ーザ装置の構造を模式的に示す断面図、図２は図１のＰ
部拡大図である。これらの図において、１は所定のガス
を封入するチャンバ、２はファン、３，４は主電極、５
はファン駆動用モータ、６はウインドウ、７はウインド
ウホルダ、８はラビリンスである。前記チャンバ１には
ダストフィルタケース９が連結され、チャンバ１とダス
トフィルタケース９とは、光軸方向のほぼ中央に設けら
れたダストフィルタ入口１０と、チャンバ１の両端の壁
面内に設けられたガス導入路１１とダストフィルタケー
ス９の両端に設けられたダストフィルタ出口１２とによ
って連通している。前記ダストフィルタケース９内に
は、フロント側ウインドウ用、リア側ウインドウ用のフ
ィルタ１３がそれぞれ配設されている。
について、図面を参照して説明する。図１はエキシマレ
ーザ装置の構造を模式的に示す断面図、図２は図１のＰ
部拡大図である。これらの図において、１は所定のガス
を封入するチャンバ、２はファン、３，４は主電極、５
はファン駆動用モータ、６はウインドウ、７はウインド
ウホルダ、８はラビリンスである。前記チャンバ１には
ダストフィルタケース９が連結され、チャンバ１とダス
トフィルタケース９とは、光軸方向のほぼ中央に設けら
れたダストフィルタ入口１０と、チャンバ１の両端の壁
面内に設けられたガス導入路１１とダストフィルタケー
ス９の両端に設けられたダストフィルタ出口１２とによ
って連通している。前記ダストフィルタケース９内に
は、フロント側ウインドウ用、リア側ウインドウ用のフ
ィルタ１３がそれぞれ配設されている。
【０００７】レーザ媒質ガスはファン２の駆動によって
主電極３，４間を流れ、主電極３，４間のガスを吹き払
った後、図示しない熱交換器で冷却されて再びファン２
に戻る。このファン２によって生じる圧力差を利用して
ダストフィルタケース９内に流れを発生させ、レーザ媒
質ガスは前記ダストフィルタ入口１０からダストフィル
タケース９内に入り、フィルタ１３を通過することによ
って濾過される。ダストフィルタ出口１２を出た清浄な
ガスは、チャンバ壁面内のガス導入路１１を通り、図２
に示すようにラビリンス８を収納する第２副室１４に入
る。第２副室１４はレーザ光路上に設けられ、流入した
ガスの流れを静定させるバッファ領域Ｂ（第２の副室）
を形成している。ここで静圧に回復したガスは、ウイン
ドウ６の内面近傍の静定領域Ａ（第１の副室１６）の部
分に滞留する清浄なガスを動かすことなく、ラビリンス
８を通過してチャンバ１内の放電領域Ｃすなわち主電極
３，４の方向に流れる。従って、塵を含む放電領域Ｃの
ガスがウインドウ６に向かって流入することを防止す
る。
主電極３，４間を流れ、主電極３，４間のガスを吹き払
った後、図示しない熱交換器で冷却されて再びファン２
に戻る。このファン２によって生じる圧力差を利用して
ダストフィルタケース９内に流れを発生させ、レーザ媒
質ガスは前記ダストフィルタ入口１０からダストフィル
タケース９内に入り、フィルタ１３を通過することによ
って濾過される。ダストフィルタ出口１２を出た清浄な
ガスは、チャンバ壁面内のガス導入路１１を通り、図２
に示すようにラビリンス８を収納する第２副室１４に入
る。第２副室１４はレーザ光路上に設けられ、流入した
ガスの流れを静定させるバッファ領域Ｂ（第２の副室）
を形成している。ここで静圧に回復したガスは、ウイン
ドウ６の内面近傍の静定領域Ａ（第１の副室１６）の部
分に滞留する清浄なガスを動かすことなく、ラビリンス
８を通過してチャンバ１内の放電領域Ｃすなわち主電極
３，４の方向に流れる。従って、塵を含む放電領域Ｃの
ガスがウインドウ６に向かって流入することを防止す
る。
【０００８】図３は、アパーチャを取着した請求項３の
ガスレーザ装置のウインドウ近傍の断面図である。アパ
ーチャ１５は、ウインドウホルダ７の段付き穴の底面、
すなわち上記静定領域Ａ（第１の副室１６）とバッファ
領域Ｂ（第２の副室１４）との境界面に取着されてい
る。従って、アパーチャ１５は常に清浄なレーザ媒質ガ
ス雰囲気中にあるため、材質を選ぶことにより汚損、劣
化等の不具合が起こらない。例えば、フッ素をレーザ媒
質ガスに用いるエキシマレーザ装置ではアルミニウムに
Ｎｉめっきを施したアパーチャを用いると良好な結果が
得られる。また、アパーチャ１５は静定領域Ａ（第１の
副室１６）とバッファ領域Ｂ（第２の副室１４）とを分
離する仕切りとしての機能も備え、領域Ａ（第１の副室
１６）をさらに安定に保つことが出来る。
ガスレーザ装置のウインドウ近傍の断面図である。アパ
ーチャ１５は、ウインドウホルダ７の段付き穴の底面、
すなわち上記静定領域Ａ（第１の副室１６）とバッファ
領域Ｂ（第２の副室１４）との境界面に取着されてい
る。従って、アパーチャ１５は常に清浄なレーザ媒質ガ
ス雰囲気中にあるため、材質を選ぶことにより汚損、劣
化等の不具合が起こらない。例えば、フッ素をレーザ媒
質ガスに用いるエキシマレーザ装置ではアルミニウムに
Ｎｉめっきを施したアパーチャを用いると良好な結果が
得られる。また、アパーチャ１５は静定領域Ａ（第１の
副室１６）とバッファ領域Ｂ（第２の副室１４）とを分
離する仕切りとしての機能も備え、領域Ａ（第１の副室
１６）をさらに安定に保つことが出来る。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
の効果が得られる。 （１）ウインドウのレーザチャンバ内側のレーザ光路上
にウインドウ側から順に第１の副室、ラビリンスを設置
し、該ラビリンスの開口内にレーザ光が含まれ、清浄レ
ーザ媒質ガスを前記第１の副室と前記ラビリンスとの間
に導入するレーザ ガス導入開口を有し、該導入口から導
入される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラビリンスの
開口を経てチャンバ内に導入することにしたので、ウイ
ンドウの内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留
させることができると共に放電の衝撃波がダストを含む
レーザガスをウインドウ方向へ流す作用を弱めることが
でき、従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウインド
ウの内側に到達することはなく、多量のパージガスを用
いなくてもウインドウ表面を清浄に保つことができる。 （２）ウインドウの内側のレーザ光路上に、除塵装置に
よって清浄化したレーザ媒質ガスを導入して静定する副
室を設け、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入する
こととしたので、ウインドウの内側近傍には常に清浄な
レーザ媒質ガスを滞留させることができる。従って、放
電領域に浮遊する塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウイン
ドウの内面に到達することはなく、多量のパージガスを
用いなくてもウインドウ表面を常に清浄に保つことがで
きる。 （３）除塵装置から副室に至るレーザ媒質ガス導入路を
チャンバの側壁に内蔵したので、キャビティ長の増大、
配管接続部からのリークの可能性などの問題が起こらな
い。 （４）レーザ光を整形するアパーチャを取着する場合
は、ウインドウの内側近傍の清浄なレーザ媒質ガス雰囲
気内に配設することとしたので、アパーチャの汚損、劣
化あるいは不純物発生による周囲の光学部品の汚損等の
問題発生を防止することができるとともに、アパーチャ
専用のパージ機構を必要としない。また、アパーチャの
おかれる雰囲気レーザ媒質ガスが完全ドライであり、化
学反応を起こす可能性のあるガスはハロゲンのみである
から、アパーチャの材質選定が容易になる。更に、アパ
ーチャを上記静定領域Ａ（第１の副室）とバッファ領域
Ｂ（第２の副室）との境界面に取着することにより、静
定領域内の清浄なガスをより安定に保つことができるの
で、ウインドウの汚れ防止効果が増大する。
の効果が得られる。 （１）ウインドウのレーザチャンバ内側のレーザ光路上
にウインドウ側から順に第１の副室、ラビリンスを設置
し、該ラビリンスの開口内にレーザ光が含まれ、清浄レ
ーザ媒質ガスを前記第１の副室と前記ラビリンスとの間
に導入するレーザ ガス導入開口を有し、該導入口から導
入される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラビリンスの
開口を経てチャンバ内に導入することにしたので、ウイ
ンドウの内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留
させることができると共に放電の衝撃波がダストを含む
レーザガスをウインドウ方向へ流す作用を弱めることが
でき、従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウインド
ウの内側に到達することはなく、多量のパージガスを用
いなくてもウインドウ表面を清浄に保つことができる。 （２）ウインドウの内側のレーザ光路上に、除塵装置に
よって清浄化したレーザ媒質ガスを導入して静定する副
室を設け、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入する
こととしたので、ウインドウの内側近傍には常に清浄な
レーザ媒質ガスを滞留させることができる。従って、放
電領域に浮遊する塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウイン
ドウの内面に到達することはなく、多量のパージガスを
用いなくてもウインドウ表面を常に清浄に保つことがで
きる。 （３）除塵装置から副室に至るレーザ媒質ガス導入路を
チャンバの側壁に内蔵したので、キャビティ長の増大、
配管接続部からのリークの可能性などの問題が起こらな
い。 （４）レーザ光を整形するアパーチャを取着する場合
は、ウインドウの内側近傍の清浄なレーザ媒質ガス雰囲
気内に配設することとしたので、アパーチャの汚損、劣
化あるいは不純物発生による周囲の光学部品の汚損等の
問題発生を防止することができるとともに、アパーチャ
専用のパージ機構を必要としない。また、アパーチャの
おかれる雰囲気レーザ媒質ガスが完全ドライであり、化
学反応を起こす可能性のあるガスはハロゲンのみである
から、アパーチャの材質選定が容易になる。更に、アパ
ーチャを上記静定領域Ａ（第１の副室）とバッファ領域
Ｂ（第２の副室）との境界面に取着することにより、静
定領域内の清浄なガスをより安定に保つことができるの
で、ウインドウの汚れ防止効果が増大する。
【図１】ガスレーザ装置の構造を模式的に示す断面図で
ある。
ある。
【図２】図１のＰ部拡大図である。
【図３】アパーチャを取着したガスレーザ装置のウイン
ドウ近傍の断面図である。
ドウ近傍の断面図である。
１ チャンバ ６ ウインドウ ８ ラビリンス ９ ダストフィルタケース １１ ガス導入路 １３ フィルタ １４ 第２の副室 １５ アパーチャ１６ 第１の 副室１７ ラビリンスの開口 １８ レーザガス導入開口 １９ 清浄レーザ媒質ガスを第２の副室内へ導入する開
口
口
Claims (10)
- 【請求項１】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
レーザチャンバ内側のレーザ光路上にウインドウ側から
順に第１の副室、ラビリンスを設置し、該ラビリンスの
開口１７内にレーザ光路が含まれ、清浄レーザ媒質ガス
を前記第１の副室と前記ラビリンスとの間に導入するレ
ーザガス導入開口１８を有し、該導入開口１８から導入
される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラビリンスの開
口１７を経てチャンバ内に導入することを特徴とするガ
スレーザ装置。 - 【請求項２】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
レーザチャンバ内側のレーザ光路上にウインドウ側から
順に第１の副室、アパーチャ、ラビリンスを設置し、該
ラビリンスの開口１７内にレーザ光路が含まれ、清浄レ
ーザ媒質ガスを前記アパーチャと前記ラビリンスとの間
に導入するレーザガス導入開口１８を有し、該導入開口
１８から導入される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラ
ビリンスの開口１７を経てチャンバ内に導入することを
特徴とするガスレーザ装置。 - 【請求項３】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
内側に第２の副室をレーザ光路周囲に設置し、清浄レー
ザ媒質ガスを前記第２の副室内へ導入する開口１９を有
し、前記第２の副室内のレーザガスを前記第１の副室と
前記ラビリンスとの間に導入する開口１８を有し、前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
る請求項１記載のガスレーザ装置。 - 【請求項４】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
内側に第２の副室をレーザ光路周囲に設置し、清浄レー
ザ媒質ガスを前記第２の副室内へ導入する開口１９を有
し、前記第２の副室内のレーザガスを前記アパーチャと
前記ラビリンスとの間に導入する開口１８を有し、前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
る請求項２記載のガスレーザ装置。 - 【請求項５】 前記アパーチャを、ウインドウの内側近
傍の清浄なレーザ媒質ガス雰囲気内に配設したことを特
徴とする請求項２又は４記載のガスレーザ装置。 - 【請求項６】 前記アパーチャはレーザ光を整形するこ
とを特徴とする請求項２、４又は５記載のガスレーザ装
置。 - 【請求項７】 前記アパーチャの開口径よりもラビリン
ス開口の径が大きく、ラビリンス開口の径よりもラビリ
ンス出口の径の方が大きいことを特徴とする請求項２、
４、５又は６記載のガスレーザ装置。 - 【請求項８】 前記ラビリンスを前記第２の副室内部に
収納した請求項３又は４記載のガスレーザ装置。 - 【請求項９】 前記レーザ媒質ガスは除塵装置によって
清浄化されている請求項１〜８のいずれかに記載のガス
レーザ装置。 - 【請求項１０】 レーザ媒質ガス中に浮遊する塵を除塵
装置によって除去し、前記除去装置から前記ガス導入部
に至るレーザ媒質ガス導入路をチャンバの側壁に内蔵し
たことを特徴とする請求項９記載のガスレーザ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321249A JP2784706B2 (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | ガスレーザ装置 |
| US08/136,448 US5373523A (en) | 1992-10-15 | 1993-10-14 | Excimer laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321249A JP2784706B2 (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | ガスレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06152030A JPH06152030A (ja) | 1994-05-31 |
| JP2784706B2 true JP2784706B2 (ja) | 1998-08-06 |
Family
ID=18130476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4321249A Expired - Lifetime JP2784706B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-11-05 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2784706B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7819945B2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-10-26 | Cymer, Inc. | Metal fluoride trap |
| EP3830175B1 (en) | 2018-07-30 | 2022-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Foams and methods of making |
| JP7766079B2 (ja) | 2021-03-24 | 2025-11-07 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 |
| CN115810969B (zh) * | 2021-09-14 | 2025-09-09 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 一种激光器出光窗片防尘结构和激光器 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59176172U (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-24 | 株式会社ダイヘン | レ−ザ発振器 |
| JPS63108786A (ja) * | 1986-10-25 | 1988-05-13 | Hitachi Ltd | ガスレ−ザ発生装置 |
| JPH02288385A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガスレーザー装置 |
| JPH0714084B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1995-02-15 | 松下電器産業株式会社 | エキシマレーザ装置 |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP4321249A patent/JP2784706B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06152030A (ja) | 1994-05-31 |
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