JP2988558B2 - オルガノポリシロキサンガムの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンガムの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、低分子シロキサン含有
量が非常に少ない高重合度オルガノポリシロキサンガム
を製造する方法に関するものである。
量が非常に少ない高重合度オルガノポリシロキサンガム
を製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シリコーンゴムは優れた耐候性、電気特
性、低圧縮永久歪、耐熱性、耐寒性等の特性を有してい
るため、近年、電子機器、自動車、建築、医療、食品を
はじめとして様々な分野で広く使用されている。例え
ば、リモートコントローラー，タイプライター，ワード
プロセッサー，コンピューター端末，楽器等のゴム接点
キーとして使用されるラバーコンタクト、建築用ガスケ
ット、複写器用ロール，現像ロール，転写ロール，帯電
ロール，給紙ロール等の各種ロール、オーディオ装置等
の防振ゴム、コンピューターに使用されるコンパクトデ
ィスク用パッキンなどの用途が挙げられる。このように
シリコーンゴムの需要は益々高まっており、優れた特性
を有するシリコーンゴムの開発が望まれる。
性、低圧縮永久歪、耐熱性、耐寒性等の特性を有してい
るため、近年、電子機器、自動車、建築、医療、食品を
はじめとして様々な分野で広く使用されている。例え
ば、リモートコントローラー，タイプライター，ワード
プロセッサー，コンピューター端末，楽器等のゴム接点
キーとして使用されるラバーコンタクト、建築用ガスケ
ット、複写器用ロール，現像ロール，転写ロール，帯電
ロール，給紙ロール等の各種ロール、オーディオ装置等
の防振ゴム、コンピューターに使用されるコンパクトデ
ィスク用パッキンなどの用途が挙げられる。このように
シリコーンゴムの需要は益々高まっており、優れた特性
を有するシリコーンゴムの開発が望まれる。
【０００３】従来、シリコーンゴムの原料となる高重合
度オルガノポリシロキサンガムを製造する方法として、
例えば米国特許２，５４６，０３６号には、触媒として
水酸化ナトリウムを用い、低分子量の液状水酸基末端オ
ルガノシロキサンをポリジメチルシロキサンで処理する
ことにより、シロキサンガムを得る方法が開示されてい
る。また、米国特許２，６３４，２５２号には、速度、
粘度及び品質の観点から有効なシロキサンガム用触媒が
開示されており、具体的には水酸化カリウム、カリウム
シラノレート、リチウムシラノレート、テトラアルキル
アンモニウム水酸化物などが開示されている。
度オルガノポリシロキサンガムを製造する方法として、
例えば米国特許２，５４６，０３６号には、触媒として
水酸化ナトリウムを用い、低分子量の液状水酸基末端オ
ルガノシロキサンをポリジメチルシロキサンで処理する
ことにより、シロキサンガムを得る方法が開示されてい
る。また、米国特許２，６３４，２５２号には、速度、
粘度及び品質の観点から有効なシロキサンガム用触媒が
開示されており、具体的には水酸化カリウム、カリウム
シラノレート、リチウムシラノレート、テトラアルキル
アンモニウム水酸化物などが開示されている。
【０００４】しかしながら、これらの方法を採用した場
合、重合反応で得られたシロキサンガム中にはかなりの
量（５〜１０重量％）の環状低分子シロキサンが残存す
る。
合、重合反応で得られたシロキサンガム中にはかなりの
量（５〜１０重量％）の環状低分子シロキサンが残存す
る。
【０００５】この低分子シロキサンはシリコーンゴム製
品に悪影響を与えるため、例えば上記ラバーコンタクト
の場合、シリコーンゴム成型物中に含まれる低分子シロ
キサン量を低減することにより、接点の耐久信頼性を更
に向上することが行われている。具体的にはラバーコン
タクト成型物を加硫した後に熱処理を１５０〜２５０℃
で２〜２４時間かけてオーブン中で行う方法を採用する
など、熱処理を強化することによって低分子シロキサン
量を低減しているが、このような熱処理は時間、労力、
コスト面で多大の不利を招いている。
品に悪影響を与えるため、例えば上記ラバーコンタクト
の場合、シリコーンゴム成型物中に含まれる低分子シロ
キサン量を低減することにより、接点の耐久信頼性を更
に向上することが行われている。具体的にはラバーコン
タクト成型物を加硫した後に熱処理を１５０〜２５０℃
で２〜２４時間かけてオーブン中で行う方法を採用する
など、熱処理を強化することによって低分子シロキサン
量を低減しているが、このような熱処理は時間、労力、
コスト面で多大の不利を招いている。
【０００６】また、複写機用ロール材においても上記と
同様の理由から低分子シロキサンの低減が要求されてお
り、また、建築ガスケット等においても周辺部への汚れ
の原因物質が原料であるシロキサンガム中に残存してい
る低分子シロキサンであることから、成型物から低分子
シロキサンを低減するよりもシリコーンゴム製造者はシ
ロキサンガム中の低分子シロキサン分を低減するための
様々な方法を検討している。
同様の理由から低分子シロキサンの低減が要求されてお
り、また、建築ガスケット等においても周辺部への汚れ
の原因物質が原料であるシロキサンガム中に残存してい
る低分子シロキサンであることから、成型物から低分子
シロキサンを低減するよりもシリコーンゴム製造者はシ
ロキサンガム中の低分子シロキサン分を低減するための
様々な方法を検討している。
【０００７】一例として、シロキサンガムを１００〜３
００℃の高温下で減圧することにより、低分子シロキサ
ンを除去する方法が採用されている。しかし、シロキサ
ンガムは粘度が高いため、完全に除去するには多大のエ
ネルギーと時間を要し、実質的な限界がある。また、シ
ロキサンガムをトルエン等の溶媒に溶解させ、低分子シ
ロキサンを抽出する方法も提案されているが、この方法
は工程の煩雑さをもたらすため工業的には不利である。
００℃の高温下で減圧することにより、低分子シロキサ
ンを除去する方法が採用されている。しかし、シロキサ
ンガムは粘度が高いため、完全に除去するには多大のエ
ネルギーと時間を要し、実質的な限界がある。また、シ
ロキサンガムをトルエン等の溶媒に溶解させ、低分子シ
ロキサンを抽出する方法も提案されているが、この方法
は工程の煩雑さをもたらすため工業的には不利である。
【０００８】このため、シロキサンガム中の低分子シロ
キサン量が極端に低いシロキサンガムの重合方法が求め
られていた。
キサン量が極端に低いシロキサンガムの重合方法が求め
られていた。
【０００９】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
低分子シロキサンの含有量が少ない高重合度オルガノポ
リシロキサンガムの製造方法を提供することを目的とす
る。
低分子シロキサンの含有量が少ない高重合度オルガノポ
リシロキサンガムの製造方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、下記式
（１）で示される両末端シラノールオルガノシロキサン
に対し、一分子中に２個の加水分解性基を含むシラン又
はシロキサンをシラノール基／加水分解性基＝０．５〜
３のモル比で混合し、加熱下に縮合重合することによ
り、低分子シロキサンの含有量の少ない重合度が１×１
０３以上の高重合度のシロキサンガムが得られることを
見い出した。
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、下記式
（１）で示される両末端シラノールオルガノシロキサン
に対し、一分子中に２個の加水分解性基を含むシラン又
はシロキサンをシラノール基／加水分解性基＝０．５〜
３のモル比で混合し、加熱下に縮合重合することによ
り、低分子シロキサンの含有量の少ない重合度が１×１
０３以上の高重合度のシロキサンガムが得られることを
見い出した。
【００１１】
【化２】 （但し、Ｒ１及びＲ２は互に同一又は異種の非置換又は
置換一価炭化水素基を示し、ｎは２〜３，０００の整数
である。）
置換一価炭化水素基を示し、ｎは２〜３，０００の整数
である。）
【００１２】すなわち、従来の重合法により式（１）の
オルガノシロキサンを縮合重合して高重合度オルガノポ
リシロキサンガムを製造した場合、下記式（２）におい
てｍが３〜２５（３〜２５量体）である低分子シロキサ
ンがその合計量として３０，０００ｐｐｍ以上副生して
しまう。ところが、上記式（１）のオルガノシロキサン
を用いて、さらに一分子中に２個の加水分解性基を含む
シラン又はシロキサンをシラノール基／加水分解性基＝
０．５〜３のモル比で混合し、加熱して縮合重合するこ
とにより得られたシロキサンガム中には、意外にもｍが
３〜２５の低分子シロキサンが５，０００ｐｐｍ以下、
特に原料である両末端シラノールオルガノシロキサン中
に含まれる低分子シロキサンが充分除かれている場合
は、ｍが３〜２５の低分子シロキサンが２，０００ｐｐ
ｍ以下の高重合度シロキサンガムを得ることができるこ
とを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
オルガノシロキサンを縮合重合して高重合度オルガノポ
リシロキサンガムを製造した場合、下記式（２）におい
てｍが３〜２５（３〜２５量体）である低分子シロキサ
ンがその合計量として３０，０００ｐｐｍ以上副生して
しまう。ところが、上記式（１）のオルガノシロキサン
を用いて、さらに一分子中に２個の加水分解性基を含む
シラン又はシロキサンをシラノール基／加水分解性基＝
０．５〜３のモル比で混合し、加熱して縮合重合するこ
とにより得られたシロキサンガム中には、意外にもｍが
３〜２５の低分子シロキサンが５，０００ｐｐｍ以下、
特に原料である両末端シラノールオルガノシロキサン中
に含まれる低分子シロキサンが充分除かれている場合
は、ｍが３〜２５の低分子シロキサンが２，０００ｐｐ
ｍ以下の高重合度シロキサンガムを得ることができるこ
とを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
【００１３】
【化３】 （式中、Ｒ1，Ｒ2は上記と同様の意味を示し、ｍは３以
上の整数である。）
上の整数である。）
【００１４】従って、本発明は、下記式（１）で示され
る両末端にシラノール基を有するオルガノシロキサンを
縮合重合して重合度が１×１０３以上の高重合度オルガ
ノポリシロキサンを製造する方法において、上記式
（１）のオルガノシロキサンに一分子中に２個の加水分
解性基を含むシラン又はシロキサンを上記式（１）のオ
ルガノシロキサンのシラノール基／加水分解性基＝０．
５〜３のモル比で添加して加熱下に縮合重合して、環状
の３量体〜２５量体の低分子シロキサン総含有量が５０
００ｐｐｍ以下の高重合度のオルガノポリシロキサンを
得ることを特徴とするオルガノポリシロキサンガムの製
造方法を提供する。
る両末端にシラノール基を有するオルガノシロキサンを
縮合重合して重合度が１×１０３以上の高重合度オルガ
ノポリシロキサンを製造する方法において、上記式
（１）のオルガノシロキサンに一分子中に２個の加水分
解性基を含むシラン又はシロキサンを上記式（１）のオ
ルガノシロキサンのシラノール基／加水分解性基＝０．
５〜３のモル比で添加して加熱下に縮合重合して、環状
の３量体〜２５量体の低分子シロキサン総含有量が５０
００ｐｐｍ以下の高重合度のオルガノポリシロキサンを
得ることを特徴とするオルガノポリシロキサンガムの製
造方法を提供する。
【００１５】
【化４】 （但し、Ｒ１及びＲ２は互に同一又は異種の非置換又は
置換一価炭化水素基を示し、ｎは２〜３，０００の整数
である。）
置換一価炭化水素基を示し、ｎは２〜３，０００の整数
である。）
【００１６】以下、本発明を更に詳しく説明すると、本
発明の高重合度オルガノポリシロキサンの製造方法は、
下記一般式（１）で示されるオルガノシロキサンを原料
として使用する。
発明の高重合度オルガノポリシロキサンの製造方法は、
下記一般式（１）で示されるオルガノシロキサンを原料
として使用する。
【００１７】
【化５】
【００１８】ここで、式中、Ｒ1，Ｒ2は互に同一又は異
種の非置換又は置換の一価炭化水素基であるが、特に炭
素数１〜１０のものが好ましい。具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等の
アリール基、フェニルエチル基等のアラルキル基、アル
カリール基及びこれらの基の水素原子の一部又は全部を
ハロゲン原子、シアノ基等で置換したクロロメチル基、
トリフロロプロピル基、シアノエチル基、α−シアノフ
ェニルエチル基などが挙げられる。
種の非置換又は置換の一価炭化水素基であるが、特に炭
素数１〜１０のものが好ましい。具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等の
アリール基、フェニルエチル基等のアラルキル基、アル
カリール基及びこれらの基の水素原子の一部又は全部を
ハロゲン原子、シアノ基等で置換したクロロメチル基、
トリフロロプロピル基、シアノエチル基、α−シアノフ
ェニルエチル基などが挙げられる。
【００１９】また、ｎは２〜３，０００の整数で、重合
度が表わされるが、経済性の観点から好ましくはｎ＝１
０〜１，５００、より好ましくは５０〜１，０００の整
数である。
度が表わされるが、経済性の観点から好ましくはｎ＝１
０〜１，５００、より好ましくは５０〜１，０００の整
数である。
【００２０】上記式（１）のオルガノシロキサンとして
は、製造したシロキサンガム中に含まれる低分子シロキ
サン量を抑えるために、ストリップ等の除去操作により
重合に関与しない環状シロキサンを極力除いた原料が望
ましい。この場合、環状トリシロキサンを原料とし、開
環重合して得られる一般式（１）で表わされる両末端シ
ラノール基を有するオルガノシロキサンを用いると更に
低分子シロキサン含有率を低減することができる。
は、製造したシロキサンガム中に含まれる低分子シロキ
サン量を抑えるために、ストリップ等の除去操作により
重合に関与しない環状シロキサンを極力除いた原料が望
ましい。この場合、環状トリシロキサンを原料とし、開
環重合して得られる一般式（１）で表わされる両末端シ
ラノール基を有するオルガノシロキサンを用いると更に
低分子シロキサン含有率を低減することができる。
【００２１】本発明においては、上記式（１）のオルガ
ノシロキサンを縮合重合する際、一分子中に２個の加水
分解性基を含むシラン又はシロキサンを添加する。
ノシロキサンを縮合重合する際、一分子中に２個の加水
分解性基を含むシラン又はシロキサンを添加する。
【００２２】このような一分子中に２個の加水分解性基
を含むシラン又はシロキサンは具体的には式（３）〜
（５）で例示されるが、これに制限されるものではな
い。
を含むシラン又はシロキサンは具体的には式（３）〜
（５）で例示されるが、これに制限されるものではな
い。
【００２３】
【化６】 （式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6はＲ1，Ｒ2と同様の非置換
又は置換の一価炭化水素基を示し、ａは０〜１００の正
数を表わす。）一般式（３）で表わされるシラン又はシ
ロキサンとしては下記のものが挙げられる。
又は置換の一価炭化水素基を示し、ａは０〜１００の正
数を表わす。）一般式（３）で表わされるシラン又はシ
ロキサンとしては下記のものが挙げられる。
【００２４】
【化７】 （式中、Ｒ7はメチル基、ビニル基、トリフロロプロピ
ル基又はフェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数で
ある。また、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を示
す。）
ル基又はフェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数で
ある。また、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を示
す。）
【００２５】
【化８】 （式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6はＲ1，Ｒ2と同様の非置換
又は置換の一価炭化水素基を示し、ｃは１〜１００の正
数を表わす。）一般式（４）で表わされるシラン又はシ
ロキサンとしては下記のものが挙げられる。
又は置換の一価炭化水素基を示し、ｃは１〜１００の正
数を表わす。）一般式（４）で表わされるシラン又はシ
ロキサンとしては下記のものが挙げられる。
【００２６】
【化９】 （式中、Ｒ7はメチル基、ビニル基、トリフロロプロピ
ル基、フェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数であ
る。）
ル基、フェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数であ
る。）
【００２７】
【化１０】 （式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ8，Ｒ9はＲ1，Ｒ2と同様の
非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、ｄは２〜１０
の整数を表わす。）一般式（５）で表わされるシラン又
はシロキサンとしては下記のものが挙げられる。
非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、ｄは２〜１０
の整数を表わす。）一般式（５）で表わされるシラン又
はシロキサンとしては下記のものが挙げられる。
【００２８】
【化１１】 （式中、Ｒ7はメチル基、ビニル基、トリフロロプロピ
ル基、フェニル基を表わす。）
ル基、フェニル基を表わす。）
【００２９】また、より低分子シロキサンの生成しない
２個の加水分解性基を持つシラン又はシロキサンとして
下記式（６）が挙げられる。
２個の加水分解性基を持つシラン又はシロキサンとして
下記式（６）が挙げられる。
【００３０】
【化１２】 （式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5は非置換又は置換の一価炭化水
素基を示し、ｅは０〜１０００の正数を表わす。）一般
式（６）で示されるシラン又はシロキサンとしては下記
のものが挙げられる。
素基を示し、ｅは０〜１０００の正数を表わす。）一般
式（６）で示されるシラン又はシロキサンとしては下記
のものが挙げられる。
【００３１】
【化１３】 （式中、Ｒ7はメチル基、ビニル基、トリフロロプロピ
ル基、フェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数であ
る。またＰｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基を示す。）
ル基、フェニル基を表わし、ｂは１〜１００の整数であ
る。またＰｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基を示す。）
【００３２】なお、式（６）中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5は非置
換又は置換の一価炭化水素基を示すが、好ましくはＲ5
はメチル基、エチル基、ブチル基等のアルキル基で、高
重合度のシロキサンガムを得るためにはより好ましくは
炭素数の少ないメチル基、エチル基、さらに、縮合触媒
の活性はｅが小さいほど高いのでｅ＝０〜１０のシラン
又はシロキサンオリゴマーが好ましい。
換又は置換の一価炭化水素基を示すが、好ましくはＲ5
はメチル基、エチル基、ブチル基等のアルキル基で、高
重合度のシロキサンガムを得るためにはより好ましくは
炭素数の少ないメチル基、エチル基、さらに、縮合触媒
の活性はｅが小さいほど高いのでｅ＝０〜１０のシラン
又はシロキサンオリゴマーが好ましい。
【００３３】この他、一分子中にアセトキシ基を２個含
むシラン、シロキサンなどが例示される。
むシラン、シロキサンなどが例示される。
【００３４】上記式（１）のオルガノシロキサンに上記
加水分解性基を有するシラン又はシロキサンを添加して
縮合重合する場合、該シラン又はシロキサンの添加量
は、式（１）のオルガノシロキサンのシラノール基／加
水分解性基＝０．５〜３（モル比）となるようにするも
ので、上記モル比が０．５以下では充分な重合度をもつ
シロキサンガムを得ることができず、また３を越えて使
用しても縮合重合の進行に関与しないためである。な
お、シラノール基１モルに対し加水分解性基量は０．８
〜１．５モルの割合が好ましく、より好ましくはシラノ
ール基と加水分解性基のモル比が約１となる混合であ
る。
加水分解性基を有するシラン又はシロキサンを添加して
縮合重合する場合、該シラン又はシロキサンの添加量
は、式（１）のオルガノシロキサンのシラノール基／加
水分解性基＝０．５〜３（モル比）となるようにするも
ので、上記モル比が０．５以下では充分な重合度をもつ
シロキサンガムを得ることができず、また３を越えて使
用しても縮合重合の進行に関与しないためである。な
お、シラノール基１モルに対し加水分解性基量は０．８
〜１．５モルの割合が好ましく、より好ましくはシラノ
ール基と加水分解性基のモル比が約１となる混合であ
る。
【００３５】縮合重合温度は、２００℃以下の加熱下で
行えば数時間でシロキサンガムを得ることができるが、
好ましくは加水分解性基を２個持つシラン又はシロキサ
ンが揮発性である場合は室温である程度縮合させた後、
１５０〜１８０℃に加熱して縮合重合反応を行うと、目
的とする分子量を持つシロキサンガムを得ることができ
る。
行えば数時間でシロキサンガムを得ることができるが、
好ましくは加水分解性基を２個持つシラン又はシロキサ
ンが揮発性である場合は室温である程度縮合させた後、
１５０〜１８０℃に加熱して縮合重合反応を行うと、目
的とする分子量を持つシロキサンガムを得ることができ
る。
【００３６】このようにして得られるシロキサンガム
は、その重合度が１×１０3以上、特に５×１０3以上で
あり、低分子シロキサン（上記式（２）においてｍが３
〜２５）含有量は５，０００ｐｐｍ以下、特に原料シラ
ノールに含まれる低分子シロキサン含有量が非常に少な
い原料を用いれば、低分子シロキサン量が２，０００ｐ
ｐｍ以下のシロキサンガムを得ることができる。
は、その重合度が１×１０3以上、特に５×１０3以上で
あり、低分子シロキサン（上記式（２）においてｍが３
〜２５）含有量は５，０００ｐｐｍ以下、特に原料シラ
ノールに含まれる低分子シロキサン含有量が非常に少な
い原料を用いれば、低分子シロキサン量が２，０００ｐ
ｐｍ以下のシロキサンガムを得ることができる。
【００３７】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００３８】［実施例１］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．０１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；
６５４ｐｐｍ）とビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラ
ン１．４２ｇ（ジメチルアミノ基含有量０．０１９５モ
ル）をセパラブルフラスコに仕込み、室温で１時間撹拌
した後、温度を１８０℃に上昇させ、撹拌させながら２
時間かけて縮合重合させた。得られたシロキサンガムの
重合度並びに低分子シロキサン（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を
表１に示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．０１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；
６５４ｐｐｍ）とビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラ
ン１．４２ｇ（ジメチルアミノ基含有量０．０１９５モ
ル）をセパラブルフラスコに仕込み、室温で１時間撹拌
した後、温度を１８０℃に上昇させ、撹拌させながら２
時間かけて縮合重合させた。得られたシロキサンガムの
重合度並びに低分子シロキサン（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を
表１に示す。
【００３９】［実施例２］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝６．９×１
０2、２５℃における粘度６．２×１０3ｃｓ、シラノー
ル基含有量０．０１９０モル、低分子シロキサンＤ 3〜
Ｄ25；３２９ｐｐｍ）とビス（ジエチルアミノ）ジメチ
ルシラン１．９２ｇ（ジエチルアミノ基含有量０．０１
９０モル）を使用し、実施例１と同様にしてシロキサン
ガムを得た。その結果を表１に示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝６．９×１
０2、２５℃における粘度６．２×１０3ｃｓ、シラノー
ル基含有量０．０１９０モル、低分子シロキサンＤ 3〜
Ｄ25；３２９ｐｐｍ）とビス（ジエチルアミノ）ジメチ
ルシラン１．９２ｇ（ジエチルアミノ基含有量０．０１
９０モル）を使用し、実施例１と同様にしてシロキサン
ガムを得た。その結果を表１に示す。
【００４０】［実施例３］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝１×１０ 、２５
℃における粘度１５ｃｓ、シラノール基含有量０．９モ
ル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１８００ｐｐｍ）と
ビス（ジエチルアミノ）ジメチルシラン９０．９ｇ（ジ
エチルアミノ基含有量０．９モル）を使用し、実施例１
と同様にしてシロキサンガムを得た。その結果を表１に
示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝１×１０ 、２５
℃における粘度１５ｃｓ、シラノール基含有量０．９モ
ル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１８００ｐｐｍ）と
ビス（ジエチルアミノ）ジメチルシラン９０．９ｇ（ジ
エチルアミノ基含有量０．９モル）を使用し、実施例１
と同様にしてシロキサンガムを得た。その結果を表１に
示す。
【００４１】［実施例４］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１
８００ｐｐｍ）とビス（メチルエチルアミド）ジメチル
シラン２１．１ｇ（メチルエチルアミド基含有量０．１
９５モル）を使用し、実施例１と同様にしてシロキサン
ガムを得た。その結果を表１に示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１
８００ｐｐｍ）とビス（メチルエチルアミド）ジメチル
シラン２１．１ｇ（メチルエチルアミド基含有量０．１
９５モル）を使用し、実施例１と同様にしてシロキサン
ガムを得た。その結果を表１に示す。
【００４２】［実施例５］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１
８００ｐｐｍ）とビス（ジエチルアミノヘキシ）ヘキサ
メチルテトラシクロシロキサン３７．４ｇ（ジエチルア
ミノキシ基含有量０．１９５モル）を使用し、実施例１
と同様にしてシロキサンガムを得た。その結果を表１に
示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；１
８００ｐｐｍ）とビス（ジエチルアミノヘキシ）ヘキサ
メチルテトラシクロシロキサン３７．４ｇ（ジエチルア
ミノキシ基含有量０．１９５モル）を使用し、実施例１
と同様にしてシロキサンガムを得た。その結果を表１に
示す。
【００４３】［比較例１］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝１×１０ 、２５
℃における粘度１５ｃｓ、シラノール基含有量０．９モ
ル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；６５４ｐｐｍ）をセ
パラブルフラスコに仕込み、温度を１７０℃とした後、
水酸化カリウムとジメチルシロキサンガムの１０％ペー
スト（１０％カリウムシリコネート）を０．０１ｇ加
え、２時間撹拌重合させた。得られたシロキサンガムの
重合度並びに低分子シロキサン（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を
表１に示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝１×１０ 、２５
℃における粘度１５ｃｓ、シラノール基含有量０．９モ
ル、低分子シロキサンＤ 3〜Ｄ25；６５４ｐｐｍ）をセ
パラブルフラスコに仕込み、温度を１７０℃とした後、
水酸化カリウムとジメチルシロキサンガムの１０％ペー
スト（１０％カリウムシリコネート）を０．０１ｇ加
え、２時間撹拌重合させた。得られたシロキサンガムの
重合度並びに低分子シロキサン（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を
表１に示す。
【００４４】［比較例２］両末端シラノールジメチルポ
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．０１１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜
Ｄ25；６５４ｐｐｍ）をセパラブルフラスコに仕込み、
温度を１７０℃とした後、水酸化カリウムとジメチルシ
ロキサンガムの１０％ペースト（１０％カリウムシリコ
ネート）を０．０１ｇ加え、２時間撹拌重合させた。得
られたシロキサンガムの重合度並びに低分子シロキサン
（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を表１に示す。
リシロキサン５００ｇ（平均重合度ｎ＝７×１０2、２
５℃における粘度６．４×１０3ｃｓ、シラノール基含
有量０．０１１９５モル、低分子シロキサンＤ 3〜
Ｄ25；６５４ｐｐｍ）をセパラブルフラスコに仕込み、
温度を１７０℃とした後、水酸化カリウムとジメチルシ
ロキサンガムの１０％ペースト（１０％カリウムシリコ
ネート）を０．０１ｇ加え、２時間撹拌重合させた。得
られたシロキサンガムの重合度並びに低分子シロキサン
（Ｄ 3〜Ｄ25）含有量を表１に示す。
【００４５】［比較例３］比較例２と同じ両末端シラノ
ールジメチルポリシロキサン５００ｇをセパラブルフラ
スコに仕込み、温度を１５０℃とした後、硫酸０．０１
ｍｌを加え、４〜６時間重合させた。得られたシロキサ
ンガムの重合度並びに低分子シロキサン含有量を同様に
表１に示す。
ールジメチルポリシロキサン５００ｇをセパラブルフラ
スコに仕込み、温度を１５０℃とした後、硫酸０．０１
ｍｌを加え、４〜６時間重合させた。得られたシロキサ
ンガムの重合度並びに低分子シロキサン含有量を同様に
表１に示す。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、低分子量シロキサン含
有量が少ないオルガノポリシロキサンガムを容易に製造
することができる。
有量が少ないオルガノポリシロキサンガムを容易に製造
することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 五十嵐 実 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭60−26058（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−167753（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−33564（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−157860（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−255768（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08G 77/06
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式（１）で示される両末端にシラノ
ール基を有するオルガノシロキサン 【化１】 （但し、Ｒ1及びＲ2は互に同一又は異種の非置換又は置
換一価炭化水素基を示し、ｎは２〜３，０００の整数で
ある。）を縮合重合して重合度が１×１０3以上の高重
合度オルガノポリシロキサンを製造する方法において、
上記式（１）のオルガノシロキサンに一分子中に２個の
加水分解性基を含むシラン又はシロキサンを上記式
（１）のオルガノシロキサンのシラノール基／加水分解
性基＝０．５〜３のモル比で添加して加熱下に縮合重合
して、環状の３量体〜２５量体の低分子シロキサン総含
有量が５０００ｐｐｍ以下の高重合度のオルガノポリシ
ロキサンを得ることを特徴とするオルガノポリシロキサ
ンガムの製造方法。 - 【請求項２】 加水分解性基がジアルキルアミノシリル
基である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 一分子中に２個の加水分解性基を含むシ
ラン又はシロキサンが、下記一般式（３）〜（６）で示
されるものである請求項１記載の製造方法。 【化１４】 （式中、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ8，Ｒ9は非置換又は置
換の一価炭化水素基を示し、ａは０〜１００の正数、ｃ
は１〜１００の正数、ｄは２〜１０の整数、ｅは０〜１
０００の正数を示す。）
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5034211A JP2988558B2 (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | オルガノポリシロキサンガムの製造方法 |
| US08/189,333 US5468830A (en) | 1993-01-29 | 1994-01-31 | Process for preparing organopolysiloxane gum |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5034211A JP2988558B2 (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | オルガノポリシロキサンガムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06228313A JPH06228313A (ja) | 1994-08-16 |
| JP2988558B2 true JP2988558B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=12407831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5034211A Expired - Fee Related JP2988558B2 (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | オルガノポリシロキサンガムの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5468830A (ja) |
| JP (1) | JP2988558B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5834584A (en) * | 1991-11-12 | 1998-11-10 | Sumitomo Rubber Industries Ltd. | Silicone rubber roller for electrophotography and method of producing the same |
| JP5042165B2 (ja) * | 2008-08-27 | 2012-10-03 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| JP7136001B2 (ja) * | 2019-05-22 | 2022-09-13 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン生ゴムの製造方法 |
| JP2025123689A (ja) * | 2024-02-13 | 2025-08-25 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに物品 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6026510B2 (ja) * | 1980-03-04 | 1985-06-24 | ト−レ・シリコ−ン株式会社 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその製造方法 |
| JPS58157860A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-20 | Toray Silicone Co Ltd | 室温硬化後塗装可能となるオルガノポリシロキサン組成物 |
| DE3323912A1 (de) * | 1983-07-02 | 1985-01-10 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Einkomponentige siliconpasten |
| US4673750A (en) * | 1985-04-04 | 1987-06-16 | Loctite Corporation | Auto-adhering one-component RTV silicone sealant composition utilizing glycidoxyalkyl substituted alkoxy-oxime silane as an adhesion promoter |
| JP2635156B2 (ja) * | 1989-03-29 | 1997-07-30 | 東芝シリコーン株式会社 | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
| JP2675626B2 (ja) * | 1989-06-28 | 1997-11-12 | 東芝シリコーン株式会社 | ストラクチュラルグレージングシーラント用シリコーンゴム組成物 |
-
1993
- 1993-01-29 JP JP5034211A patent/JP2988558B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-31 US US08/189,333 patent/US5468830A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06228313A (ja) | 1994-08-16 |
| US5468830A (en) | 1995-11-21 |
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