JP2999320B2 - 透明パネルの両面に透明膜パターンを形成する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス板又は透明合成
樹脂板等の表裏両面に、透明電極膜又は透明配線膜等の
透明膜パターンを、フォトリソ法にて形成する方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、パネルの表面に対して膜パター
ンを形成するには、前記パネルの表面に、前記パターン
を構成する薄膜を塗布し、この薄膜の表面にフォトレジ
スト膜を塗布し、このフォトレジスト膜に対して所定パ
ターン形状のマスクを使用して露光し、次いで、現像す
ることによって、前記フォトレジスト膜に、所定パター
ン形状の開口部を形成し、そして、前記薄膜のうち前記
フォトレジスト膜にて覆われていない部分を、エッチン
グ液にて除去するエッチング処理を行ったのち、前記フ
ォトレジスト膜を除去すると言う所謂フォトリソ法を採
用していることは、従来から良く知られている。

【０００３】一方、バックライト式のＴＮ型液晶表示素
子等においては、ガラス等の透明パネルにおける表面側
と裏面側との両方に、透明電極等の透明膜パターンを、
互いに位置合わせして形成する場合があるが、この場
合、従来は、前記したフォトリソ法を、透明パネルの表
面側と裏面側との両方に対して、各々別々に施工するよ
うにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記透明パネ
ルにおける表面側と裏面側との両方に対して、前記のフ
ォトリソ法を各々別々に施工することは、二倍の手数を
必要とするのである。しかも、透明パネルにおける表面
に形成する膜パターンと、透明パネルにおける裏面に形
成する膜パターンとを位置合わせするためには、前記透
明パネルの表面側におけるフォトレジスト膜に対してパ
ターンを露光するマスクの位置と、透明パネルの裏面側
におけるフォトレジスト膜に対してパターンを露光する
マスクの位置とを、正確に一致するようにしなければな
らず、これに多大の手数と高度な技術とを必要とするか
ら、コストが大幅にアップするのであった。

【０００５】本発明は、ガラス等の透明パネルにおける
表面側と裏面側との両方に、透明電極膜又は透明配線膜
等の透明膜パターンを、互いに正確に位置合わせして形
成することが、きわめて簡単な工程で、低コストにてで
きるようにした方法を提供することを技術的課題とする
ものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、ガラス等の透明パネルの表裏両面に、
透明な薄膜を形成し、次いで、前記両透明薄膜の表面の
各々に、フォトレジスト膜を形成したのち、前記両フォ
トレジスト膜のうち一方のフォトレジスト膜に対してマ
スクを重ねて、該マスクを通して露光し、次に、前記両
フォトレジスト膜の両方に対して現像処理を施したの
ち、全体にエッチッグ処理を施すことにした。

【０００７】

【作 用】このように、透明パネルの表裏両面に、透
明薄膜を形成し、この両透明薄膜の表面の各々にフォト
レジスト膜を形成したのち、一方のフォトレジスト膜に
対してマスクを重ねて露光することにより、前記一方の
フォトレジスト膜に所定のパターンが前記マスクを通し
て焼き付けされる一方、この露光に際しての光が透明パ
ネル及びその表裏両面における両透明薄膜を通って他方
のフォトレジスト膜にも照射され、換言すると、他方の
フォトレジスト膜にも、前記一方のフォトレジスト膜に
対するマスクを通してのパターンの焼き付けと同時に、
同じマスクを通して所定のパターンが焼き付けられるこ
とになるから、この露光後における現像処理により、一
方のフォトレジスト膜と他方のフォトレジスト膜との両
方に、所定パターン形状の開口部を形成することができ
る。

【０００８】そこで、次に、全体をエッチッグ液に浸漬
する等と言うエッチング処理を施すことにより、前記透
明パネルの表裏両面における両透明薄膜のうち、その各
々に対するフォトレジスト膜にて覆われていない部分が
エッチングによって除去されるから、その後において、
前記両フォトレジスト膜を除去することにより、前記透
明パネルの表裏両面の各々に、透明薄膜による膜パター
ンを形成することができるのである。

【０００９】

【発明の効果】このように本発明によると、一回の露
光、現像処理及びエッチング処理によって、透明パネル
における表裏両面に対して透明膜パターンを形成するこ
とができるから、透明パネルの表裏両面に透明膜パター
ンを形成することに要する手数を大幅に低減できるので
あり、しかも、前記透明パネルにおける表裏両面に対す
る透明膜パターンを、一つのマスクを通しての露光にて
形成するもので、表裏両面における透明膜パターンを正
確に位置合わせすることができるから、位置合わせに要
する手数を必要としないのである。

【００１０】従って、ガラス等の透明パネルにおける表
面側と裏面側との両方に、透明膜パターンを、互いに正
確に位置合わせして形成することに要するコストを著し
く低減できる効果を有する。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例を、バックライト式Ｔ
Ｎ型液晶表示素子において、二枚の透明パネルのうち裏
面側におけるセグメント透明パネルを製造することに適
用した場合について説明する。ところで、前記バックラ
イト式ＴＮ型液晶表示素子は、図１に示すように、下面
に多数本の透明電極膜パターン２を形成したコモン透明
パネル１と、上面に同じく多数本の透明電極膜パターン
４を形成したセグメント透明パネル３とを、これらの各
透明電極膜パターン２，４が互いに交差状に向かい合う
ように重ね合わせ、その間を、周囲のシール材５にて密
封して液晶６を充填し、前記コモン透明パネル１の上面
には、透明の偏光フィルム７を張設する一方、前記セグ
メント透明パネル３の下面には、当該セグメント透明パ
ネル３の上面側における各透明電極膜パターン４の間の
部位に反射膜８を形成したのち、透明の偏光フィルム９
を張設し、且つ、前記セグメント透明パネル３の下面の
部位にバックライトの光源１０を配設したものに構成さ
れている。

【００１２】前記セグメント透明パネル３における表裏
両面に、先づ、図２に示すように、導電性を有する透明
な薄膜１１，１２を形成し、次いで、図３に示すよう
に、前記両透明薄膜１１，１２のうち前記セグメント透
明パネル３の上面側における透明薄膜１１の表面には、
ネガタイプの透明なフォトレジスト膜１３を、下面側に
おける透明薄膜１２の表面には、ポジタイプの透明なフ
ォトレジスト膜１４を各々形成する。

【００１３】そして、前記セグメント透明パネル３の上
面側におけるフォトレジスト膜１３に対して、図４に示
すように、前記セグメント透明パネル３の上面側に形成
する各透明電極膜パターン４と同じ形状の抜き窓を設け
たマスク１５を重ねて、このマスク１５の上面側から光
を照射することにより露光する。すると、上面側におけ
るフォトレジスト膜１３に所定のパターンがマスク１５
を通して焼き付けされる一方、この露光に際しての光が
透明パネル３及びその表裏両面における両透明薄膜１
１，１２を通って下面側におけるフォトレジスト膜１４
にも照射され、換言すると、下面側のフォトレジスト膜
１４にも、前記上面側のフォトレジスト膜１３に対する
マスク１５を通してのパターンの焼き付けと同時に、同
じマスク１５を通して所定のパターンが焼き付けられ
る。

【００１４】そこで、前記マスク１５を取り除いたの
ち、前記両フォトレジスト膜１３，１４の両方に対して
現像処理を施すことにより、前記両フォトレジスト膜１
３，１４の各々に、図５に示すように、所定パターン通
りの開口部を形成することができるから、次いで、その
全体をエッチッグ液に浸漬する等と言うエッチング処理
を施すことにより、前記セグメント透明パネル３の表裏
両面における両透明薄膜１１，１２のうち、その各々に
対するフォトレジスト膜１３，１４にて覆われていない
部分が、図６に示すように、エッチングによって除去さ
れるから、その後において、前記両フォトレジスト膜１
３，１４を除去することにより、図７に示すように、前
記セグメント透明パネル３における上面側に、前記透明
薄膜１１にて所定の各透明電極膜パターン４を形成する
ことができる一方、前記セグメント透明パネル３におけ
る下面側に、前記透明薄膜１２による導電性の透明膜パ
ターン１６を、前記各透明電極膜パターン４の間の部位
に正確に位置合わせして形成することができるのであ
る。

【００１５】そして、前記セグメント透明パネル３にお
ける下面側に対して、当該下面における各透明膜パター
ン１６に対して通電した状態で金属メッキを施すことに
より、前記各透明膜パターン１６における表面の全体
に、図８に示すように、金属による反射膜８を形成する
ことができるから、この反射膜８の表面に対して透明の
偏光フィルム９を張設することにより、前記図１のバッ
クライト式ＴＮ型液晶表示素子におけるセグメント透明
パネル３を得ることができるのである。

【００１６】なお、前記実施例は、セグメント透明パネ
ル３の表裏両面における各フォトレジスト膜１３，１４
のうち、上面側のフォトレジスト膜１３をネガタイプに
する一方、下面側のフォトレジスト膜１４をポジタイプ
にした場合を示したが、本発明は、これに限らず、上面
側のフォトレジスト膜１３をポジタイプに、下面側のフ
ォトレジスト膜１４をネガタイプにしても良く、また、
両フォトレジスト膜１３，１４の両方を、ネガタイプ又
はポジタイプにしても良いのである。

【００１７】更にまた、本発明は、前記実施例のよう
に、バックライト式ＴＮ型液晶表示素子におけるセグメ
ント透明パネルを製造することに限らず、その他の用途
における透明パネルにも適用できることは言うまでもな
い。この他の用途における透明パネルに適用する場合、
当該透明パネルにおける下面側に形成する透明薄膜１４
は、導電性を有しないものにしても良い。

【図面の簡単な説明】

【図１】バックライト式ＴＮ型液晶表示素子の縦断正面
図である。

【図２】前記バックライト式ＴＮ型液晶表示素子におけ
るセグメント透明パネルの表裏両面に透明の薄膜を形成
した状態の断面図である。

【図３】前記セグメント透明パネルの表裏両面における
各透明薄膜の表面にフォトレジスト膜を形成した状態の
断面図である。

【図４】前記両フォトレジスト膜のうち一方のフォトレ
ジスト膜にマスクを重ねて露光している状態の断面図で
ある。

【図５】前記の露光後において現像処理したあとの断面
図である。

【図６】エッチング処理したあとの断面図である。

【図７】前記のエッチング処理後においてフォトレジス
ト膜を除去したあとの断面図である。

【図８】反射膜を形成したあとの断面図である。

【符号の説明】

３ 透明パネル １１，１２ 透明薄膜 １３，１４ フォトレジスト膜 １５ マスク ４，１６ 膜パターン

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガラス等の透明パネルの表裏両面に、透明
   な薄膜を形成し、次いで、前記両透明薄膜の表面の各々
   に、フォトレジスト膜を形成したのち、前記両フォトレ
   ジスト膜のうち一方のフォトレジスト膜に対してマスク
   を重ねて、該マスクを通して露光し、次に、前記両フォ
   トレジスト膜の両方に対して現像処理を施したのち、全
   体にエッチッグ処理を施すことを特徴とする透明パネル
   の両面に透明膜パターンを形成する方法。