JP3044857U - Ｉｃエレメントの錫玉填め込み機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単、便利、快速、正確及び安定して錫玉填
め込みの動作を完成でき、錫玉填め込みを完成している
ＩＣエレメントを取り出す動作を簡単、便利且つ快速位
実施でき；又、元来ＩＣエレメントの上に填め込んでい
る錫玉が全く触れられたり振動・揺れのために転がり位
置を変えることが無く、確実にＩＣエレメントの品質・
精度と安定性を高める積極的な効果が達成できるＩＣエ
レメントの錫玉填め込み機を提供すること。 【解決手段】 フレームと錫玉盛り入れ装置３０と錫玉
填め込み装置２０と、ＩＣエレメント定位装置４０及び
ＩＣエレメント型脱離装置５０等から成ることを特徴と
する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案はＩＣエレメントの錫玉填め込み機に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来のＩＣエレメントの錫玉填め込み機の構成とその操作の方式は下記の如き である。図１に示す如く、平台１の上にＩＣエレメントＡを支え定位する為の簡 易鋳型２が設けられ、そしてこの簡易鋳型２の上で一端に回転ピン３により錫玉 填め込み板４が取り付けられている。

【０００３】 即ち、既に表面にロジン粘着剤を塗り付けているＩＣエレメントＡを簡易鋳型 ２の上に置いた後、回転ピン３を軸点として錫玉填め込み板４をＩＣエレメント Ａの上に蓋せると共に適当な間隔で対応させる。次いでこの錫玉Ｂが錫玉填め込 み板４の表面に置かれ、操作する者が削り板で弾き動かし一つずつ各填め込み穴 ４１の中に落とすと、これにより錫玉Ｂは直接に下方に位置するＩＣエレメント Ａの表面に落ち、そしてＩＣエレメントＡの表面にロジン粘着剤が塗り付けられ るようになっているので、錫玉ＢがＩＣエレメントＡの上に位置した後に適当な 粘着性を有し、錫玉填め込み板４を引き開けた後、ＩＣエレメントＡがもう既に 必要な填め込みの操作を完了している。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

斯くの如き錫玉をＩＣエレメントに填め込む操作の方式は、確かにその時節に 会う価値と効能を提供でき、且つ目前最も普遍的に運用されている方式である。 しかしながら、長い間使用した後に、業者がこれは実際的に実施する場合に依 然と数多くの改善でき且つ改善すべき欠点が有るのをはっきりと発見している。 即ち、手で削り板を持ち錫玉を弾き動かしそれを錫玉填め込み板の各填め込み穴 に入らせる方式は、きわめて時間がかかり且つ能率が低いのみならず、毎ピース のＩＣエレメントに応じて数百個の填め込み穴（三百個余りの穴）が有るので、 操作する者は長い間目視によりこの操作を行うので非常に疲れやすく、ひいては 錫玉を全て一つずつ填め込み穴に填め込みできない事態を生じることになる。従 って錫玉をＩＣエレメントに填め込む場合には、極めて漏失する現象が生じやす く、安定、均一と確実の状態が達せられないので、ＩＣエレメントの不良率が明 らかに増加する。また、錫玉が填め込みの動作を完了した後、上記の錫玉填め込 み板は斜めの角度で錫玉を離れる引き開けた形で作動しているので、元来既に填 め込み定位しているそれらの錫玉は極めてたやすく触れられたり振動、揺れのた めに転がり位置を変える現象が生じ、ひいては直結ＩＣエレメントの精度と品質 に悪影響を及ぼす恐れが有る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

以上述べたように、従来の錫玉をＩＣエレメントに填め込む操作の方式は、明 らかに依然と実際的に実施する場合の欠点が有り、そして改善する必要が有る。

【０００６】 本考案の主な目的は、その錫玉填め込み装置の上方の錫玉盛り入れ装置に設け られた錫玉盛り入れ槽が、左右に往き来し位置を変える作動ができると共に、振 動器の振動の操作により中に盛っている錫玉に下向きに推し進める力を持たせ、 錫玉填め込みの動作を実施する時に、それらの錫玉が極めて快速、簡単、均一及 び確実に錫玉填め込み鋳型の各填め込み穴に落ちることができ、操作実施の面で 確実に能率が上がる効果が有り、且つ錫玉の填め込み漏れの現象が直接に消滅で き、ＩＣエレメントの品質が更にアップできるＩＣエレメントの錫玉填め込み装 置を提供することにある。

【０００７】 本考案の別の一つの目的は、そのＩＣエレメント定位装置が錫玉填め込み装置 の下方に設けられ、且つその定位鋳型が左右に位置を変える作動ができると共に 、錫玉填め込み装置も上がり下がりの作動ができるので、ＩＣエレメントを定位 鋳型に置き且つこの鋳型が錫玉鋳型の真下に位置を変えて錫玉填め込みの動作を する時に、錫玉鋳型の各填め込み穴により下に案内された錫玉が、きわめてスム ースに且つ正確にＩＣエレメントの上に填め込まれ、錫玉填め込み動作を完了し た後、上記の錫玉填め込み装置が垂直に上昇できるために、錫玉鋳型が錫玉を離 脱し、填め込み定位を完了したそれらの錫玉は当然に斜め向きに触れられたり振 動、揺れが発生して、そのために転がり位置を変える恐れが無く、確かに定位が 安定できる効果が有るＩＣエレメントの錫玉填め込み装置を提供することにある 。

【０００８】 本考案の又もう一つの目的は、そのフレームの所に気圧瓶をベースにし、上が り下がりの作動を実施できるＩＣエレメント型離脱装置が設けられ、ＩＣエレメ ントが錫玉填め込みの動作を完了し、且つＩＣエレメント定位装置の定位鋳型が 又位置を変え設定の位置に導かれた後、この気圧瓶の頂を利用して作動し、ＩＣ エレメントを自然に穏やかに突き上げ、操作する者に簡単、便利且つ快速に取り 置きさせるＩＣエレメントの錫玉填め込み機を提供することにある。

【０００９】

【発明の実施の形態】

以下、添付した図面を参照し、下記の具体的な実施形態に従って、本考案の目 的、特徴及び効能を詳細に説明する。図２及び図３に示す如く、本考案のＩＣエ レメントの錫玉填め込み機は、フレーム１０と錫玉填め込み装置２０と錫玉盛り 入れ装置３０とＩＣエレメント定位装置４０及びＩＣエレメント型脱離装置５０ 等から成る。

【００１０】 上記の錫玉填め込み装置２０はベース２０１が設けられ、その中央には錫玉鋳 型２０１０が据え付けられている。この錫玉鋳型２０１０にはＩＣエレメントの 錫玉配置の位置に基き複数の錫玉填め込み穴２０１０１が企画されており、四端 の角にはそれぞれ下向きに案内軸２０１１が固設されている。この案内軸２０１ １はフレーム支え板１０１の下方から上向きに貫くと共に、支え板１０１の上方 にスリーブ２０１２が据え付けられている。そして下方にスプリング２０１３が 貫設されていると共に、底部において遮り線２０１１１でスプリング２０１３の 底端を支え、これにより案内軸２０１１とベース２０１に随時に下向きに弾圧す る動力を持たせるようになっている。四個の気圧瓶２０２はそれぞれベース案内 軸２０１１の底部に設けられると共に、それぞれねじ２０２１で定位スリーブ２ ０２２を貫いた後、直接にフレーム支え板１０１の所に固設されている。中心の ピストン・バー２０２３は上がり下がりの作動ができ、且つ連帯的に案内軸２０ １１及びベース２０１に垂直的な上がり下がりのブレーキをさせることができる 。

【００１１】 上記の錫玉盛り入れ装置３０は錫玉填め込み装置２０の真上に設けられ、２本 のガイド・レール３０１を有し、両端をそれぞれ固定棒３０１１の所に定位する と共に、これにより錫玉填め込み装置２０のベース２０１の中央の両端に据え付 けられている。

【００１２】 振動器３０２は前記２本のガイド・レール３０１の上に貫き、錫玉盛り積め箱 ３０３が振動器３０２の一側端に据え付けられ、この錫玉盛り積め箱３０３の中 に填め込みたい錫玉を盛り入れできるようになっている。また、錫玉盛り積め箱 ３０３の底部には細長い棒の形をした錫玉導出槽３０３１が設けられ、導出槽３ ０３１の付近の周縁にブラシ部３０３２が環状を成して設けられ、これにより収 容に供じる空間３０３３が形成されている。またブラシ部３０３２はさらに錫玉 填め込み装置２０の錫玉鋳型２０１０と僅かに接触するようになっている。

【００１３】 気圧瓶（シリンダー）３０４は２本のガイド・レール３０１の中の一端に固設 された固定棒３０１１の所に据え付けられ、そのピストン・バー３０４１が振動 器３０２の所に固設されている。そして、ピストン・バー３０４１が伸縮作動し ている時に振動器３０２及び錫玉盛り積め箱３０３に錫玉鋳型２０１０の上方で 往き来して位置を変えさせると共に、錫玉盛り積め箱３０３の中の錫玉が振動の 推進力によりスムース且つ確実に錫玉鋳型２０１０の各錫玉填め込み穴２０１０ の中に落ち込むようになっている。

【００１４】 上記のＩＣエレメント定位装置４０は錫玉填め込み装置２０の真下に設けられ 、２本のガイド・レール４０１が有り、両端をそれぞれ固定棒４０１１の所に定 位すると共に、これによりフレーム１０の支え板１０１の両端に据え付けられて いる。

【００１５】 定位鋳型４０２は前記２本のガイド・レール４０１の上に貫き、ＩＣエレメン トＡを定位に支えるのに供じられている。定位鋳型４０２の中央には垂直に貫通 した案内穴４０２１が設けられ、気圧瓶（シリンダー）４０３が２本のガイド・ レール４０１の中の一端に固設された固定棒４０１１の所に固設され、そのピス トン・バー４０３１がＩＣエレメント定位鋳型４０２の所に固設され、以て気圧 瓶（シリンダー）４０３が伸縮作動している時に、定位鋳型４０２が錫玉鋳型２ ０１０の真下で往き来し位置を変える作動ができるようになっている。

【００１６】 上記ＩＣエレメント型脱離装置５０はフレーム１０の支え板１０１の一端の下 方に設けられている。この装置には気圧瓶５０１が設けられ、そのピストン・バ ー５０１１はフレーム支え板１０１位置に予め置いている案内穴１０１１の所か ら上下に上がり下がりできると共に、ＩＣエレメント定位装置４０の定位鋳型４ ０２が錫玉鋳型２０１０の下方を離れ設定の位置に位置を変えた時に、丁度その 案内穴４０２１の所に貫設されるようになっている。

【００１７】 そして上記のフレーム１０は大体矩形を成す物体であり、上記の各装置２０・ ３０・４０及び５０を据え付け定位するのに供じられる。

【００１８】 上記の如く構成された本考案のＩＣエレメントの錫玉填め込み機を利用すれば 、錫玉盛り入れ装置３０の錫玉盛り積め箱３０３の底部のブラシ部３０３２が錫 玉填め込み装置２０の錫玉鋳型２０１０と僅かに接触しているので、錫玉填め込 みの動作を実施していたために底部の収容の空間３０３３が錫玉鋳型２０１の各 填め込み穴２０１０１に対応しない場合に、錫玉盛り積め箱３０３の中の錫玉Ｂ は当然外に漏れる恐れは無い。

【００１９】 また、錫玉填め込み装置２０が上がり下がりの作動の制御を行えると共に、Ｉ Ｃエレメント定位装置４０の定位鋳型４０２も左右に位置を変える作動を行える ので、ＩＣエレメントの錫玉填め込み動作を実施する時に、錫玉填め込み装置の ４個の気圧瓶２０２がピストン・バー２０２３に先に作動し外に伸びるのを命じ 、以て対応する案内軸２０１１とベース２０１を一緒に突き上げ、同時にＩＣエ レメント定位装置４０の気圧瓶４０３もピストン・バー４０３１に予め外に伸び るのを命じ、以て定位鋳型４０２を外に向き押し出しベース２０１の下方を離れ させる。

【００２０】 次いでＩＣエレメントＡを定位鋳型４０２に置いた後、定位装置４０の気圧瓶 ４０３のピストン・バー４０３１が又ブレーキされて中の方に縮み、そのために 定位鋳型４０２がＩＣエレメントＡを載せる位置を錫玉鋳型２０１０の真下の設 置された位置に変え、且つ錫玉填め込み装置２０の気圧瓶２０２もブレーキされ て中の方に縮み、ひいてベース２０１と錫玉鋳型２０１０がスプリング２０１３ の弾圧力により作動でき、そして直接に錫玉鋳型２０１０とＩＣエレメントＡが 極めて僅かの距離（錫玉直径の約１／４に等しい距離）の対応を成す設定の位置 に下がる。

【００２１】 次いで、錫玉盛り入れ装置３０の気圧瓶３０４が往き来し位置を変える作動が できるのと、振動器３０２と錫玉盛り積め箱３０３も連帯的に一緒に作動され往 き来し位置を変えることができるので、錫玉盛り積み箱３０３の中の錫玉Ｂは振 動器３０２が持続して振動する操作の下で又随時に下向きに押しつける推進力を 有し、錫玉盛り積め箱３０３の底部の収容空間３０３３が位置を変える最中に一 つずつ錫玉鋳型２０１０の各填め込み穴２０１０１に対応する時に、中に位置す る錫玉Ｂが推進力の操作の下で自然に極めてスムース・確実且つ快速に落ち込み 、就中ブラシ部３０３２の往き来し位置を変え刷り動かす操作を通じて、全ての 填め込み穴２０１０１が皆確実に錫玉Ｂを填め込み、填め漏れの不均一・不安定 の現象が全く発生しなく、且つそれら錫玉Ｂも挟み止め破壊される恐れも無い。

【００２２】 また、ＩＣエレメント定位装置４０の定位鋳型４０２に填め込まれたＩＣエレ メントＡは丁度錫玉鋳型２０１０の真下の設定の位置に位しているので、各填め 込み穴２０１０１に落ち込んだ上記の錫玉Ｂが、連帯的にスムース・確実且つ快 速に下に向き落ちると共にＩＣエレメントＡの上に落ち込み、以て簡単、便利且 つ快速、正確及び安定した錫玉填め込みの操作を完了できる。

【００２３】 また、上記錫玉ＢをＩＣエレメントに填め込む動作を完了した後、錫玉填め込 み装置２０の気圧瓶２０２が適時に作動されて上昇すると共に、ベース２０１と 錫玉鋳型２０１０が連帯的に突き上げられ垂直に上昇する作動を生じるので、錫 玉鋳型２０１０が垂直に上昇する形でＩＣエレメントＡの上に填め込まれた錫玉 Ｂを離れ、そして一般に見られるように斜めの角度で引き離すのでない状況の下 で、元来ＩＣエレメントＡの上に填め込まれたそれらの錫玉Ｂは、自然に全く一 般に見られるような振動や揺れによって転がり位置を変える現象が発生すること がなく、確実にＩＣエレメントの品質、精度と安定性を高める積極的な効果を達 成できる。

【００２４】 次に、上記錫玉填め込み装置２０が上昇する動作の後に、ＩＣエレメント定位 装置４０の気圧瓶４０３が適時に作動され外に伸びると共に、定位鋳型４０２を 外向きに型脱離装置５０を互いに対応する設定の位置まで離し、且つＩＣエレメ ント型脱離装置５０の気圧瓶５０１も適時に作動されると共に、ピストン・バー ５０１１の上昇動作が生じ、且つ丁度定位鋳型４０２が予め設けている案内穴４ ０２１に貫設でき、そして直接ＩＣエレメントＡを予め突き上げるので、操作の 者が既に錫玉Ｂの填め込みを完了しているＩＣエレメントＡを予め取り出すのが 、明らかに極めて便利、簡単、快速及びスムースになる効果が有る。

【００２５】

【考案の効果】

本考案の錫玉填め込み機にあっては、錫玉填め込み装置の上方の錫玉盛り入れ 装置に設けられた錫玉盛り入れ槽が、左右に往き来し位置を変える作動ができる と共に、振動器の振動の操作により中に盛っている錫玉に下向きに推し進める力 を持たせ、錫玉填め込みの動作を実施する時に、それらの錫玉が極めて快速、簡 単、均一及び確実に錫玉填め込み鋳型の各填め込み穴に落ちることができ、操作 実施の面で確実に能率が上がる効果が有り、錫玉の填め込み漏れの現象が直接に 消滅でき、ＩＣエレメントの品質が更にアップできる。

【００２６】 またこの錫玉填め込み機にあっては、ＩＣエレメント定位装置が錫玉填め込み 装置の下方に設けられ、且つその定位鋳型が左右に位置を変える作動ができると 共に、錫玉填め込み装置も上がり下がりの作動ができるので、ＩＣエレメントを 定位鋳型に置き且つこの鋳型が錫玉鋳型の真下に位置を変えて錫玉填め込みの動 作をする時に、錫玉鋳型の各填め込み穴により下に案内された錫玉は、きわめて スムースに且つ正確にＩＣエレメントの上に填め込まれる。

【００２７】 またこの錫玉填め込み機にあっては、錫玉填め込み動作を完了した後、上記の 錫玉填め込み装置が垂直に上昇できるために、錫玉鋳型が錫玉を離脱し、填め込 み定位を完了したそれらの錫玉は当然に斜め向きに触れられたり振動、揺れが発 生して、そのために転がり位置を変える恐れが無く、確かに定位が安定できる効 果が有る。

【００２８】 さらにこの錫玉填め込み機にあっては、フレームの所に気圧瓶をベースにし、 上がり下がりの作動を実施できるＩＣエレメント形離脱装置が設けられ、ＩＣエ レメントが錫玉填め込みの動作を完了し、且つＩＣエレメント定位装置の定位鋳 型が又位置を変え設定の位置に導かれた後、この気圧瓶の頂を利用して作動し、 ＩＣエレメントを自然に穏やかに突き上げ、操作する者に簡単、便利且つ快速に 取り置きさせることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 従来のＩＣエレメントの錫玉填め込み操作の
拡大側面図である。

【図２】 本考案のＩＣエレメントの錫玉填め込み機の
全体斜視図である。

【図３】 本考案のＩＣエレメントの錫玉填め込み機の
分解斜視図である。

【符号の説明】

１・・・ 平台 ２・・・ 簡易鋳型 ３・・・ 回転ピン ４・・・ 錫玉填め込み板 Ａ・・・ ＩＣエレメント Ｂ・・・ 錫玉 １０・・・ フレーム ２０・・・ 錫玉填め込み装置 ３０・・・ 錫玉盛り入れ装置 ４０・・・ ＩＣエレメント定位装置 ５０・・・ ＩＣエレメント型脱離装置

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 フレームと、錫玉填め込み装置と、錫玉
   盛り入れ装置と、ＩＣエレメント定位装置及びＩＣエレ
   メント型脱離装置とから成るＩＣエレメントの錫玉填め
   込み機において、 上記の錫玉填め込み装置は、ベースを設けその中央に錫
   玉の鋳型が据え付けられ、この錫玉鋳型はさらにＩＣエ
   レメントが錫玉を配置しようとする位置に基き、複数の
   錫玉填め込み穴が企画され、四端の角においてそれぞれ
   下向きに案内軸が固設され、この案内軸は且つフレーム
   支え板の下から上向きに貫くと共に、支え板の上方にス
   リーブが据え付けられ、そして下方にスプリングが貫設
   されていると共に、底部において遮り線でスプリングの
   底端を支え、４個の気圧瓶がそれぞれ上記ベース案内軸
   の底部に位置して設けられると共に、それぞれねじで定
   位スリーブを貫いた後、直接フレーム支え板の所に固設
   され、中心のピストン・バーが上がり下がりの作動がで
   き、且つ連帯的に案内軸とベース、錫玉鋳型の垂直に上
   がり下がりする作動を制御でき、 上記の錫玉盛り入れ装置は錫玉填め込み装置の真上に位
   置して設けられ、２本のガイド・レールが有り、それぞ
   れ両端を固定枠に定位すると共に、これにより錫玉填め
   込み装置のベース中央の両端に据え付けられ；振動器が
   ２本のガイド・レールの上に貫き；錫玉盛り積み箱が振
   動器の一側端に据え付けられ、その中に填め込み操作を
   しようとする錫玉を盛ることができ、底部に細長い棒の
   形をした錫玉導出槽が設けられ、導出槽付近の周縁に環
   状に設けられたブラシ部が企画されると共に、これによ
   り収容の空間を形成し、そしてこのブラシ部が錫玉填め
   込み装置の錫玉鋳型と僅かに接触する形を成し；気圧瓶
   が２本のガイド・レールの中の一端の固定棒に固設さ
   れ、そのピストン・バーが振動器の位置に固設され、以
   て伸縮作動の最中に振動器と錫玉盛り積め箱に錫玉鋳型
   の上方で往き来し位置を変えさせ、錫玉盛り積み箱の中
   の錫玉が同時に振動振進力を利用して錫玉鋳型の各填め
   込み穴の中に填め込みでき；上記のＩＣエレメント定位
   位置は錫玉填め込み装置の真下に位置して設けられ、２
   本のガイド・レールが有り、それぞれ両端が固定棒の所
   に定位されると共に、これによりフレームの支え板の両
   端に据え付けられ；定位鋳型が２本のガイド・レールの
   上に貫きＩＣエレメントを支え定位するのに供じられ、
   中央には垂直に貫通する案内穴が設けられ；気圧瓶が２
   本のガイド・レールの中の一端の固定棒の所に固設さ
   れ、そのピストン・バーがＩＣエレメント定位鋳型の位
   置に固設され、以て伸縮作動の最中に定位鋳型に錫玉鋳
   型の真下で往き来し位置を変える作動をさせ；上記のＩ
   Ｃエレメント型脱離装置はフレーム支え板の一端の下方
   に据え付けられ、主に気圧瓶が設けられ、そのピストン
   ・バーがフレーム支え板設定の位置に予め設けられた案
   内穴の所から上がり下がりの作動ができると共に、ＩＣ
   エレメント定位装置の鋳型が錫玉鋳型の下方を離れその
   対応する位置に移る時、丁度その案内穴の所に貫設さ
   れ、且つＩＣエレメントを予め突き上げることができ、
   そして上記のフレームは大体矩形をなし、上記の各装置
   を据え付け定位するのに供じられることを特徴とするＩ
   Ｃエレメントの錫玉填め込み機。