JP3140575B2 - ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 - Google Patents
ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤Info
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Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はベンゾフェノン誘導体、
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に水相への溶解性の高
いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外線吸収剤、
皮膚外用剤に関する。
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に水相への溶解性の高
いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外線吸収剤、
皮膚外用剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常人体が受ける紫外線は、その殆どが
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には４００nm〜３２０nmの長波長紫外線
（ＵＶ−Ａ）、３２０nm〜２９０nmの中波長紫外線（Ｕ
Ｖ−Ｂ）、２９０nm以下の短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ）に
分類される。このうち、２９０nm以下の波長の紫外線は
オゾン層によって吸収され、地表に到達しない。地表に
届く紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上
にまで達する紫外線の内で、ＵＶ−Ａは皮膚の褐色化を
惹起し、皮膚の弾力性の低下及びシワの発生を促進し急
激な老化をもたらす。また、紅斑反応の開始を促進し、
或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、さら
に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなり得
る。一方、ＵＶ−Ｂもまた皮膚の紅斑や水泡を形成し、
メラニン形成が亢進され、色素沈着を生じる等の変化を
もたらす。このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバカ
スの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護する
ことは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発され
てきた。
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には４００nm〜３２０nmの長波長紫外線
（ＵＶ−Ａ）、３２０nm〜２９０nmの中波長紫外線（Ｕ
Ｖ−Ｂ）、２９０nm以下の短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ）に
分類される。このうち、２９０nm以下の波長の紫外線は
オゾン層によって吸収され、地表に到達しない。地表に
届く紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上
にまで達する紫外線の内で、ＵＶ−Ａは皮膚の褐色化を
惹起し、皮膚の弾力性の低下及びシワの発生を促進し急
激な老化をもたらす。また、紅斑反応の開始を促進し、
或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、さら
に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなり得
る。一方、ＵＶ−Ｂもまた皮膚の紅斑や水泡を形成し、
メラニン形成が亢進され、色素沈着を生じる等の変化を
もたらす。このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバカ
スの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護する
ことは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発され
てきた。
【０００３】既存の紫外線吸収剤としては、ＰＡＢＡ誘
導体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体および
複素環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの
紫外線吸収剤は、通常、化粧料あるいは医薬部外品等の
皮膚外用剤に配合されているが、外用剤基剤には低分子
量のジメチルシロキサン系基剤が広く使用されている。
すなわち、もっとも頻繁に日焼け止を使用するのが夏で
あるため、耐汗性、耐水性等の観点から紫外線吸収剤と
して使用されてきたものは、油溶性のものが殆どであっ
た。
導体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体および
複素環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの
紫外線吸収剤は、通常、化粧料あるいは医薬部外品等の
皮膚外用剤に配合されているが、外用剤基剤には低分子
量のジメチルシロキサン系基剤が広く使用されている。
すなわち、もっとも頻繁に日焼け止を使用するのが夏で
あるため、耐汗性、耐水性等の観点から紫外線吸収剤と
して使用されてきたものは、油溶性のものが殆どであっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、最近では日
常の生活で受ける紫外線の影響についても問題になって
おり、通常のスキンケアでも日焼け止が望まれている。
このため、化粧水等の水系のスキンケア製品にも多量に
配合できること、より高い紫外線吸収効果を有する外用
剤を処方する上でも系全体に多量の紫外線吸収剤を配合
できる方がよいので、油相だけでなく水相にも紫外線吸
収剤を配合することが望まれること等から、水溶性で且
つ紫外線を吸収する物質の開発が強く要望されていた。
しかし、従来の紫外線吸収剤は、前述したようにその殆
どが油溶性で水溶性が低く、処方が制限されていた。水
溶性紫外線吸収剤としては、僅かに２−ヒドロキシ−４
−メトキシ−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナ
トウリム塩が知られているのみであり、これは塩である
ので処方系のｐＨに影響をもたらすという課題があっ
た。本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は優れた紫外線吸収性を有し、しかも水
溶性である物質およびそれを配合した皮膚外用剤を提供
することにある。
常の生活で受ける紫外線の影響についても問題になって
おり、通常のスキンケアでも日焼け止が望まれている。
このため、化粧水等の水系のスキンケア製品にも多量に
配合できること、より高い紫外線吸収効果を有する外用
剤を処方する上でも系全体に多量の紫外線吸収剤を配合
できる方がよいので、油相だけでなく水相にも紫外線吸
収剤を配合することが望まれること等から、水溶性で且
つ紫外線を吸収する物質の開発が強く要望されていた。
しかし、従来の紫外線吸収剤は、前述したようにその殆
どが油溶性で水溶性が低く、処方が制限されていた。水
溶性紫外線吸収剤としては、僅かに２−ヒドロキシ−４
−メトキシ−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナ
トウリム塩が知られているのみであり、これは塩である
ので処方系のｐＨに影響をもたらすという課題があっ
た。本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたもので
あり、その目的は優れた紫外線吸収性を有し、しかも水
溶性である物質およびそれを配合した皮膚外用剤を提供
することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討した結果、ベンゾフェノン誘導
体が優れた紫外線吸収性及び極性溶媒相溶性を有するこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、水
溶性の紫外線吸収剤としては、系のｐＨに与える影響を
低減させるため、非イオン性親水基を導入した水溶性の
紫外線吸収剤が好ましい。非イオン性の親水基として
は、主にポリエチレンオキサイド、ポリグリセリン、糖
などが考えられる。これらのうち、ポリエチレンオキサ
イドは、経時で分解され、ホルマリンを発生すること
や、それ自身ジオキサンが含まれていることなどから近
年安全性の上から好ましくないと考えられてきている。
この観点からは、安全性の高いポリグリセリンや糖が好
ましい。一方、基剤単一成分であることが望まれている
が、ポリエチレンオキサイドやポリグリセリンはその合
成反応の性質上、付加数の分布をもった混合物となりや
すく、またそのため精製も容易ではない。これに対し、
糖のような親水基は、生成物が混合物となりにくく、精
製も容易であるという点でより好ましいと言える。しか
し、糖に直接エーテル化やエステル化などの反応を行う
と、やはり付加モル数の違いによる混合物となるという
問題点があった。そこで、本発明者らはこのような問題
を解決すべく、本発明をなしたのである。すなわち本出
願の請求項１記載のベンゾフェノン誘導体は、下記一般
式化２で表わされる。
に本発明者らが鋭意検討した結果、ベンゾフェノン誘導
体が優れた紫外線吸収性及び極性溶媒相溶性を有するこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、水
溶性の紫外線吸収剤としては、系のｐＨに与える影響を
低減させるため、非イオン性親水基を導入した水溶性の
紫外線吸収剤が好ましい。非イオン性の親水基として
は、主にポリエチレンオキサイド、ポリグリセリン、糖
などが考えられる。これらのうち、ポリエチレンオキサ
イドは、経時で分解され、ホルマリンを発生すること
や、それ自身ジオキサンが含まれていることなどから近
年安全性の上から好ましくないと考えられてきている。
この観点からは、安全性の高いポリグリセリンや糖が好
ましい。一方、基剤単一成分であることが望まれている
が、ポリエチレンオキサイドやポリグリセリンはその合
成反応の性質上、付加数の分布をもった混合物となりや
すく、またそのため精製も容易ではない。これに対し、
糖のような親水基は、生成物が混合物となりにくく、精
製も容易であるという点でより好ましいと言える。しか
し、糖に直接エーテル化やエステル化などの反応を行う
と、やはり付加モル数の違いによる混合物となるという
問題点があった。そこで、本発明者らはこのような問題
を解決すべく、本発明をなしたのである。すなわち本出
願の請求項１記載のベンゾフェノン誘導体は、下記一般
式化２で表わされる。
【０００６】
【化２】 但し、Ｒ1，Ｒ2は水素又は水酸基で、一つ以上が水酸基
で表わされる。Ｒ3〜Ｒ10は水素又は水酸基またはアル
コキシ基又はＯ−Ｒ−Ａで表わされ、一つ以上がＯ−Ｒ
−Ａで表わされる。アルコキシ基の場合は、好ましくは
炭素数１〜４である。Ａは糖の一個の水酸基から水素を
除いた残基、Ｒは脂肪鎖、好ましくは全炭素数１〜４を
表わす。請求項２記載の紫外線吸収剤は、前記化２のベ
ンゾフェノン誘導体を一種または二種以上を含むことを
特徴とする。請求項３記載の皮膚外用剤は、前記化２の
ベンゾフェノン誘導体を一種または二種以上を含むこと
を特徴とする。
で表わされる。Ｒ3〜Ｒ10は水素又は水酸基またはアル
コキシ基又はＯ−Ｒ−Ａで表わされ、一つ以上がＯ−Ｒ
−Ａで表わされる。アルコキシ基の場合は、好ましくは
炭素数１〜４である。Ａは糖の一個の水酸基から水素を
除いた残基、Ｒは脂肪鎖、好ましくは全炭素数１〜４を
表わす。請求項２記載の紫外線吸収剤は、前記化２のベ
ンゾフェノン誘導体を一種または二種以上を含むことを
特徴とする。請求項３記載の皮膚外用剤は、前記化２の
ベンゾフェノン誘導体を一種または二種以上を含むこと
を特徴とする。
【０００７】前記一般式化２において、Ａは糖の残基
で、糖の具体例としては、グルコ−ス、ガラクト−ス、
キシロ−ス、フルクト−ス、アルトロ−ス、タロ−ス、
マンノ−ス、アラビノ−ス、イド−ス、リキソ−ス、リ
ボ−ス、アロ−ス等の単糖類及びその混合物、またはマ
ルト−ス、イソマルト−ス、ラクト−ス、キシロビオ−
ス、ケンチオビオ−ス、コ−ジオビオ−ス、セロビオ−
ス、ソホロ−ス、ニゲロ−ス、スクロ−ス、メリビオ−
ス、ラミナリビオ−ス、ルチノ−ス等の二糖類及びその
混合物、またはマルトトリオ−ス等の三糖類及びその混
合物、さらにそれ以上の多糖及びその混合物、またこれ
らの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合物を用いること
も可能である。Ｒ3〜Ｒ10において、Ｏ−Ｒ−Ａを用い
る場合、Ｒとなる脂肪鎖は、直鎖アルキル基、分岐アル
キル基、不飽和アルキル基、シクロアルキル基のいずれ
でもよく、脂肪鎖の具体例としては、メチル基、エチル
基、アセチレニル基、プロピル基、イソプロピル基、プ
ロペニル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、
ブテニル基等が挙げられる。いずれも、紫外線吸収波長
に顕著な差はないが、工業性等から、特にメチル基、エ
チル基が好ましい。また、Ｒ3〜Ｒ10において、アルコ
キシ基を用いる場合、該アルコキシ基の脂肪鎖も直鎖ア
ルコキシ基、分岐アルコキシ基、不飽和アルコキシ基、
シクロアルコキシ基のいずれでもよく、具体的にはメト
キシ基、エトキシ基、アセチレニロキシ基、プロピロキ
シ基、イソプロピロキシ基、プロペニロキシ基、ブチロ
キシ基、イソブチロキシ基、ｔ−ブチロキシ基、ブテニ
ロキシ基等が挙げられる。いずれも紫外線吸収波長に顕
著な鎖はないが、水溶性などや工業性などから特にメト
キシ基、エトキシ基が好ましい。
で、糖の具体例としては、グルコ−ス、ガラクト−ス、
キシロ−ス、フルクト−ス、アルトロ−ス、タロ−ス、
マンノ−ス、アラビノ−ス、イド−ス、リキソ−ス、リ
ボ−ス、アロ−ス等の単糖類及びその混合物、またはマ
ルト−ス、イソマルト−ス、ラクト−ス、キシロビオ−
ス、ケンチオビオ−ス、コ−ジオビオ−ス、セロビオ−
ス、ソホロ−ス、ニゲロ−ス、スクロ−ス、メリビオ−
ス、ラミナリビオ−ス、ルチノ−ス等の二糖類及びその
混合物、またはマルトトリオ−ス等の三糖類及びその混
合物、さらにそれ以上の多糖及びその混合物、またこれ
らの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合物を用いること
も可能である。Ｒ3〜Ｒ10において、Ｏ−Ｒ−Ａを用い
る場合、Ｒとなる脂肪鎖は、直鎖アルキル基、分岐アル
キル基、不飽和アルキル基、シクロアルキル基のいずれ
でもよく、脂肪鎖の具体例としては、メチル基、エチル
基、アセチレニル基、プロピル基、イソプロピル基、プ
ロペニル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、
ブテニル基等が挙げられる。いずれも、紫外線吸収波長
に顕著な差はないが、工業性等から、特にメチル基、エ
チル基が好ましい。また、Ｒ3〜Ｒ10において、アルコ
キシ基を用いる場合、該アルコキシ基の脂肪鎖も直鎖ア
ルコキシ基、分岐アルコキシ基、不飽和アルコキシ基、
シクロアルコキシ基のいずれでもよく、具体的にはメト
キシ基、エトキシ基、アセチレニロキシ基、プロピロキ
シ基、イソプロピロキシ基、プロペニロキシ基、ブチロ
キシ基、イソブチロキシ基、ｔ−ブチロキシ基、ブテニ
ロキシ基等が挙げられる。いずれも紫外線吸収波長に顕
著な鎖はないが、水溶性などや工業性などから特にメト
キシ基、エトキシ基が好ましい。
【０００８】上記のベンゾフェノン誘導体は、固体で、
安全性、安定性に極めて優れているため、塗料やイン
ク、プラスチック、コ−ティング剤、化学繊維等の化学
製品などに配合出来る他、医薬品、医薬部外品、化粧料
及び洗浄料の成分として配合され得る。本発明に係るベ
ンゾフェノン誘導体は、例えば特開昭６３−８４６３７
に記載糖類変性用酸触媒を用いて合成できる外、一般に
グリコシル化に用いられている反応（ケーニッヒ−クノ
ール反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ以外のエーテル
交換法等）を用いてもよい。例えば次のように合成でき
る。糖のアセチル化物をジブチルセルソルグ、トルエン
などの無極性溶媒に溶解するか、又は無溶媒で一般式化
３
安全性、安定性に極めて優れているため、塗料やイン
ク、プラスチック、コ−ティング剤、化学繊維等の化学
製品などに配合出来る他、医薬品、医薬部外品、化粧料
及び洗浄料の成分として配合され得る。本発明に係るベ
ンゾフェノン誘導体は、例えば特開昭６３−８４６３７
に記載糖類変性用酸触媒を用いて合成できる外、一般に
グリコシル化に用いられている反応（ケーニッヒ−クノ
ール反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ以外のエーテル
交換法等）を用いてもよい。例えば次のように合成でき
る。糖のアセチル化物をジブチルセルソルグ、トルエン
などの無極性溶媒に溶解するか、又は無溶媒で一般式化
３
【０００９】
【化３】 （但し、式中Ｒ1，Ｒ2は前記化２と同一、Ｒ3〜Ｒ
10は、水素、水酸基、アルコキシ基又はＯ−Ｒ−ＯＨで
表わされ、一つ以上がＯ−Ｒ−ＯＨで表わされる。アル
コキシ基は好ましくは炭素数１〜４。Ｒは脂肪鎖、好ま
しくは炭素数１〜４を表わす。）で示される化合物を添
加して、酸触媒の存在下、９０〜１３０℃で攪拌、反応
は減圧下で行い、一般式化３で示される化合物は単独で
も、２種以上の併用してもよい。この際用いられる触媒
としては、ｐ−トルエンスルホン酸、ヘテロポリリン
酸、酢酸亜鉛、塩化亜鉛或いはイオン交換樹脂などが挙
げられる。反応後、反応溶媒を減圧留去し、生成物をト
ルエン抽出し、水洗する。得られた抽出液を減圧濃縮
後、そのまま脱アセチル化するか、シリカゲルカラムク
ロマト法で精製した後、脱アセチル化してもよい。
10は、水素、水酸基、アルコキシ基又はＯ−Ｒ−ＯＨで
表わされ、一つ以上がＯ−Ｒ−ＯＨで表わされる。アル
コキシ基は好ましくは炭素数１〜４。Ｒは脂肪鎖、好ま
しくは炭素数１〜４を表わす。）で示される化合物を添
加して、酸触媒の存在下、９０〜１３０℃で攪拌、反応
は減圧下で行い、一般式化３で示される化合物は単独で
も、２種以上の併用してもよい。この際用いられる触媒
としては、ｐ−トルエンスルホン酸、ヘテロポリリン
酸、酢酸亜鉛、塩化亜鉛或いはイオン交換樹脂などが挙
げられる。反応後、反応溶媒を減圧留去し、生成物をト
ルエン抽出し、水洗する。得られた抽出液を減圧濃縮
後、そのまま脱アセチル化するか、シリカゲルカラムク
ロマト法で精製した後、脱アセチル化してもよい。
【００１０】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化２で示されるベンゾフェノン誘導体の外、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば糖と
塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖
を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメ
チルエチルケトン、ｎ−ブタノールで分配し、有機溶媒
層を分取することにより精製することができる。また、
糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する場
合、反応生成物を水又は水とアルコールの混液に懸濁さ
せ、ハイパーポーラスポリマー（例えば三菱化成工業株
式会社製のハイポーラス樹脂）、オクタデシルシリカな
どの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメタノー
ル、エタノールなどのアルコールやアセトニトリルなど
の極性有機溶媒と水との混液で通液し、この液を分取す
ることにより生成できる。前述したベンゾフェノン誘導
体は、抽出溶媒を留去したり、カラムにより精製した後
用いてもよく、そのまま用いてもよい。
一般式化２で示されるベンゾフェノン誘導体の外、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば糖と
塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖
を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメ
チルエチルケトン、ｎ−ブタノールで分配し、有機溶媒
層を分取することにより精製することができる。また、
糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する場
合、反応生成物を水又は水とアルコールの混液に懸濁さ
せ、ハイパーポーラスポリマー（例えば三菱化成工業株
式会社製のハイポーラス樹脂）、オクタデシルシリカな
どの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメタノー
ル、エタノールなどのアルコールやアセトニトリルなど
の極性有機溶媒と水との混液で通液し、この液を分取す
ることにより生成できる。前述したベンゾフェノン誘導
体は、抽出溶媒を留去したり、カラムにより精製した後
用いてもよく、そのまま用いてもよい。
【００１１】このようにして得られるベンゾフェノン誘
導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶性で、紫
外線領域に吸収を有する上、保湿性に優れるという機能
を持つ。本発明のベンゾフェノン誘導体は安全性に優れ
るので、化粧料、医薬料等に配合できる。また、本発明
に加えて通常用いられる他の化粧料や医薬料成分を適宣
配合することができる。例えば、流動パラフイン、スク
ワラン、ワセリン、セチルアルコ−ル、イソステアリル
アルコ−ル、２−エチルヘキサン酸セチル、２−オクチ
ルドデシルアルコ−ル、トリイソステアリン酸グリセリ
ン、マカデミアンナッツ油、ラノリン等の各種炭化水
素、油脂類、ロウ類等の油性成分、シリコ−ン類、界面
活性剤、増粘剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止
剤、粉体成分、色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効
剤、金属封鎖剤、ｐＨ調製剤等が挙げられる。
導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶性で、紫
外線領域に吸収を有する上、保湿性に優れるという機能
を持つ。本発明のベンゾフェノン誘導体は安全性に優れ
るので、化粧料、医薬料等に配合できる。また、本発明
に加えて通常用いられる他の化粧料や医薬料成分を適宣
配合することができる。例えば、流動パラフイン、スク
ワラン、ワセリン、セチルアルコ−ル、イソステアリル
アルコ−ル、２−エチルヘキサン酸セチル、２−オクチ
ルドデシルアルコ−ル、トリイソステアリン酸グリセリ
ン、マカデミアンナッツ油、ラノリン等の各種炭化水
素、油脂類、ロウ類等の油性成分、シリコ−ン類、界面
活性剤、増粘剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止
剤、粉体成分、色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効
剤、金属封鎖剤、ｐＨ調製剤等が挙げられる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。配合量は重量
％である。実施例１ 2-ヒト゛ロキシ4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１ｇをエチルブロ
モヒドリン７ｇ、水酸化ナトリウム３７mg、精製水０．
２５ｇを加え、溶解した。１００℃まで加熱攪拌した後
９０℃に下げ、さらに水酸化ナトリウム２２４mgを加え
た。２時間加熱攪拌した後、空冷し、クロロホルムで抽
出、水洗後、乾燥し、濃縮した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフ法（トルエン：メチルエチルケトン）を用い
て精製し、２−ヒドロキシ４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）ベンゾフェノンを１．１ｇ得た。
明の技術的範囲を限定するものではない。配合量は重量
％である。実施例１ 2-ヒト゛ロキシ4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１ｇをエチルブロ
モヒドリン７ｇ、水酸化ナトリウム３７mg、精製水０．
２５ｇを加え、溶解した。１００℃まで加熱攪拌した後
９０℃に下げ、さらに水酸化ナトリウム２２４mgを加え
た。２時間加熱攪拌した後、空冷し、クロロホルムで抽
出、水洗後、乾燥し、濃縮した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフ法（トルエン：メチルエチルケトン）を用い
て精製し、２−ヒドロキシ４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）ベンゾフェノンを１．１ｇ得た。
【００１３】続いて、これを１００mg、トルエン１mlに
溶解し、アセチルマルトース２１９mg、モリブドリン酸
１０mgを加えた後、１００℃にて３０分間加熱攪拌し
た。反応系を室温まで空冷した後、トルエンで抽出し、
精製水で１回、飽和食塩水で４回水洗した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（ヘキサン：酢酸
エチル）で精製し、２−ヒドロキシ４−（２−マルトシ
ロキシエトキシ）ベンゾフェノンのアセチル化物１１０
mgを得た。この２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロキ
シベンゾフェノン）このアセチル化物１００mgをメタノ
ール３mlに溶解し、ナトリウムメチラート０．３nlを加
え、室温で３０分間攪拌した後、イオン交換樹脂（例え
ばオルガノ工業製のアンバーライトＩＲ１２０Ｂや、三
菱化成製のＵＢＫ５３０）で中和後、樹脂を濾去、反応
液を減圧濃縮し、２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロ
キシエトキシ）ベンゾフェノンを得た。収量は８０mgで
あった。得られた２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロ
キシエトキシ）ベンゾフェノンを、次の（１）〜（６）
の方法により分析した。このようにして得た２−ヒドロ
キシ４−（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノ
ンを試料１とした。
溶解し、アセチルマルトース２１９mg、モリブドリン酸
１０mgを加えた後、１００℃にて３０分間加熱攪拌し
た。反応系を室温まで空冷した後、トルエンで抽出し、
精製水で１回、飽和食塩水で４回水洗した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（ヘキサン：酢酸
エチル）で精製し、２−ヒドロキシ４−（２−マルトシ
ロキシエトキシ）ベンゾフェノンのアセチル化物１１０
mgを得た。この２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロキ
シベンゾフェノン）このアセチル化物１００mgをメタノ
ール３mlに溶解し、ナトリウムメチラート０．３nlを加
え、室温で３０分間攪拌した後、イオン交換樹脂（例え
ばオルガノ工業製のアンバーライトＩＲ１２０Ｂや、三
菱化成製のＵＢＫ５３０）で中和後、樹脂を濾去、反応
液を減圧濃縮し、２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロ
キシエトキシ）ベンゾフェノンを得た。収量は８０mgで
あった。得られた２−ヒドロキシ４−（２−マルトシロ
キシエトキシ）ベンゾフェノンを、次の（１）〜（６）
の方法により分析した。このようにして得た２−ヒドロ
キシ４−（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノ
ンを試料１とした。
【００１４】（１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９２０cm-1に２−マルト
シロキシエトキシ基の伸縮振動、１６３０cm-1にカルボ
ニル基の伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図１に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１５ppm、
１０８ppm、１０５ppm、１０３ppm、１０３ppm、８１pp
m、７８ppm、７７ppm、７５ppm、７５ppm、７５ppm、７
４ppm、７４ppm、７２ppm、６９ppm、６９ppm、６３pp
m、６２ppmにシグナルが観測された。結果を図２に示
す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５３〜７．３８、６．４６〜６．３９、４．７２〜
３．１１にシグナルが観測された。結果を図３に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８７．６nm，３２４．６nmに極大吸収を示し
た。結果を図４に示す。 （５）融点測定法 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、９２〜１１０℃で溶解した
が明確な融点を示さなかった。 （６）水溶性 水に２０重量％以上溶解した。
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９２０cm-1に２−マルト
シロキシエトキシ基の伸縮振動、１６３０cm-1にカルボ
ニル基の伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図１に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１５ppm、
１０８ppm、１０５ppm、１０３ppm、１０３ppm、８１pp
m、７８ppm、７７ppm、７５ppm、７５ppm、７５ppm、７
４ppm、７４ppm、７２ppm、６９ppm、６９ppm、６３pp
m、６２ppmにシグナルが観測された。結果を図２に示
す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５３〜７．３８、６．４６〜６．３９、４．７２〜
３．１１にシグナルが観測された。結果を図３に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８７．６nm，３２４．６nmに極大吸収を示し
た。結果を図４に示す。 （５）融点測定法 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、９２〜１１０℃で溶解した
が明確な融点を示さなかった。 （６）水溶性 水に２０重量％以上溶解した。
【００１５】実施例２ 2- ヒト゛ロキシ 4-(2- ク゛ルコシロキシエトキシ ) ヘ゛ン
ソ゛フェノン 実施例１で合成した２−ヒドロキシ４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゾフェノン１００mgを、トルエン２ml
に溶解し、アセチルグルコース１３６mgを加えた後、１
００℃まで昇温し、モリブドリン酸５０mgを加えた後、
１００℃にて３０分間加熱撹拌した。反応系を室温まで
空冷した後、トルエンで抽出し、精製水で１回、飽和食
塩水で４回水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフ法（ヘキサン：酢酸エチル）で精製し、２−
ヒドロキシ４−（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾ
フェノンのアセチル化物を１８９mg得た。得られた２−
ヒドロキシ４−（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾ
フェノンのアセチル化物１８９mgを、メタノール６mlに
溶解し、ナトリウムメチラート０．６mlを加えて室温で
３０分間撹拌した後、イオン交換樹脂（例えばオルガノ
工業製のアンバーライトＩＲ１２０Ｂや、三菱化成製の
ＵＢＫ５３０）で中和後、樹脂を濾去し、反応液を減圧
濃縮し、２−ヒドロキシ４−（２−グルコシロキシエト
キシ）ベンゾフェノンを得た。得られた２−ヒドロキシ
４−（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノン
は、次の（１）〜（６）の方法により分析した。
ソ゛フェノン 実施例１で合成した２−ヒドロキシ４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゾフェノン１００mgを、トルエン２ml
に溶解し、アセチルグルコース１３６mgを加えた後、１
００℃まで昇温し、モリブドリン酸５０mgを加えた後、
１００℃にて３０分間加熱撹拌した。反応系を室温まで
空冷した後、トルエンで抽出し、精製水で１回、飽和食
塩水で４回水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフ法（ヘキサン：酢酸エチル）で精製し、２−
ヒドロキシ４−（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾ
フェノンのアセチル化物を１８９mg得た。得られた２−
ヒドロキシ４−（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾ
フェノンのアセチル化物１８９mgを、メタノール６mlに
溶解し、ナトリウムメチラート０．６mlを加えて室温で
３０分間撹拌した後、イオン交換樹脂（例えばオルガノ
工業製のアンバーライトＩＲ１２０Ｂや、三菱化成製の
ＵＢＫ５３０）で中和後、樹脂を濾去し、反応液を減圧
濃縮し、２−ヒドロキシ４−（２−グルコシロキシエト
キシ）ベンゾフェノンを得た。得られた２−ヒドロキシ
４−（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノン
は、次の（１）〜（６）の方法により分析した。
【００１６】（１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９３０cm-1に２−グルコ
シロキシエトキシ基の伸縮振動、１６３０cm-1にカルボ
ニル基の伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図５に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１４ppm、
１０９ppm、１０８ppm、１０４ppm、１０３ppm、７８pp
m、７５ppm、７２ppm、６９ppm、６９ppm、６２ppmにシ
グナルが観測された。結果を図６に示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５２〜７．３８、６．４５〜６．３９、４．２８〜
３．１０にシグナルが観測された。結果を図７に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８６．９nm，３２４．３nmに極大吸収を示し
た。結果を図８に示す。 （５）融点測定法 化合物の吸湿性が高く、測定できなかった。 （６）溶解性 水に１０重量％程度溶解した。
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９３０cm-1に２−グルコ
シロキシエトキシ基の伸縮振動、１６３０cm-1にカルボ
ニル基の伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図５に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１４ppm、
１０９ppm、１０８ppm、１０４ppm、１０３ppm、７８pp
m、７５ppm、７２ppm、６９ppm、６９ppm、６２ppmにシ
グナルが観測された。結果を図６に示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５２〜７．３８、６．４５〜６．３９、４．２８〜
３．１０にシグナルが観測された。結果を図７に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８６．９nm，３２４．３nmに極大吸収を示し
た。結果を図８に示す。 （５）融点測定法 化合物の吸湿性が高く、測定できなかった。 （６）溶解性 水に１０重量％程度溶解した。
【００１７】実施例３ 2-ヒト゛ロキシ4-(3-マルトシロキシフ゜ロヒ゜ロキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１ｇを、１−ブロ
モプロパノール７．７８ｇ、水酸化ナトリウム４０mg、
精製水０．１mlを加え溶解した。１００℃まで加熱攪拌
した後９０℃に下げ、さらに水酸化ナトリウム２２０mg
を加えた。４時間加熱攪拌した後、空冷し、クロロホル
ムで抽出、水洗後、乾燥し、濃縮した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフ法（トルエン：メチルエチルケトン）
を用いて精製し、２−ヒドロキシ４−（３−ヒドロキシ
プロピロキシ）ベンゾフェノンを１．０１ｇ（収率８０
％）を得た。得られた２−ヒドロキシ４−（３−ヒドロ
キシプロピロキシ）ベンゾフェノン４６０mgに、オクタ
アセチルマルトース１．１４ｇを加え、トルエン１０ml
に溶解し、９０℃に昇温した後、モリブドリン酸を触媒
量加えた。３０分間加熱攪拌した後、空冷し、トルエン
１００mlで抽出し、飽和重曹水で洗浄した。乾燥、濃縮
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ法（トルエ
ン：メチルエチルケトン）で精製し、２−ヒドロキシ４
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
のアセチル化物を８８０mg（収率６０％）得た。得られ
た２−ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキ
シ）ベンゾフェノンのアセチル化物８８０mgをメタノー
ル２０mlに溶解し、ナトリウムメトキシドを加え、３０
分間攪拌した後酸性樹脂で中和し、濾過後濃縮し、２−
ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベ
ンゾフェノン５６５mg（収率１００％）を得た。得られ
た２−ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキ
シ）ベンゾフェノンを次の（１）〜（６）の方法により
確認した。
モプロパノール７．７８ｇ、水酸化ナトリウム４０mg、
精製水０．１mlを加え溶解した。１００℃まで加熱攪拌
した後９０℃に下げ、さらに水酸化ナトリウム２２０mg
を加えた。４時間加熱攪拌した後、空冷し、クロロホル
ムで抽出、水洗後、乾燥し、濃縮した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフ法（トルエン：メチルエチルケトン）
を用いて精製し、２−ヒドロキシ４−（３−ヒドロキシ
プロピロキシ）ベンゾフェノンを１．０１ｇ（収率８０
％）を得た。得られた２−ヒドロキシ４−（３−ヒドロ
キシプロピロキシ）ベンゾフェノン４６０mgに、オクタ
アセチルマルトース１．１４ｇを加え、トルエン１０ml
に溶解し、９０℃に昇温した後、モリブドリン酸を触媒
量加えた。３０分間加熱攪拌した後、空冷し、トルエン
１００mlで抽出し、飽和重曹水で洗浄した。乾燥、濃縮
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフ法（トルエ
ン：メチルエチルケトン）で精製し、２−ヒドロキシ４
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
のアセチル化物を８８０mg（収率６０％）得た。得られ
た２−ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキ
シ）ベンゾフェノンのアセチル化物８８０mgをメタノー
ル２０mlに溶解し、ナトリウムメトキシドを加え、３０
分間攪拌した後酸性樹脂で中和し、濾過後濃縮し、２−
ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベ
ンゾフェノン５６５mg（収率１００％）を得た。得られ
た２−ヒドロキシ４−（３−マルトシロキシプロピロキ
シ）ベンゾフェノンを次の（１）〜（６）の方法により
確認した。
【００１８】（１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９３０cm-1に３−マルト
シロキシ基の伸縮振動、１６２６cm-1にカルボニル基の
伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図９に示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１４ppm、
１０９ppm、１０４ppm、１０３ppm、８１ppm、７８pp
m、７６ppm、７５ppm、７５ppm、７４ppm、７１ppm、６
７ppm、６７ppm、６３ppm、６２ppm、３０ppmにシグナ
ルが観測された。結果を図１０に示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５５ppm、７．５０ppm、７．４３ppm、６．５６pp
m、６．５０ppm、６．４４ppm、５．２２ppm〜１．９pp
mにシグナルが観測された。結果を図１１に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８９．４nm，３２４．１nmに極大吸収を示し
た。結果を図１２に示す。 （５）融点測定法 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、７７〜８７℃で溶解したが
明確な融点を示さなかった。 （６）溶解性 水に２０重量％以上溶解した。
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０cm-1に水酸基の伸縮振動、２９３０cm-1に３−マルト
シロキシ基の伸縮振動、１６２６cm-1にカルボニル基の
伸縮運動よる吸収が観測された。結果を図９に示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０ppm、１３６
ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、１１４ppm、
１０９ppm、１０４ppm、１０３ppm、８１ppm、７８pp
m、７６ppm、７５ppm、７５ppm、７４ppm、７１ppm、６
７ppm、６７ppm、６３ppm、６２ppm、３０ppmにシグナ
ルが観測された。結果を図１０に示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．５５ppm、７．５０ppm、７．４３ppm、６．５６pp
m、６．５０ppm、６．４４ppm、５．２２ppm〜１．９pp
mにシグナルが観測された。結果を図１１に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル測定法 日本分光株式会社、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定したと
ころ、２８９．４nm，３２４．１nmに極大吸収を示し
た。結果を図１２に示す。 （５）融点測定法 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、７７〜８７℃で溶解したが
明確な融点を示さなかった。 （６）溶解性 水に２０重量％以上溶解した。
【００１９】試験例１ 美容液の製造 表１のような処方にて、ベンゾフェノン誘導体を配合し
た美容液と、対照例として２−ヒドロキシ−４−メトキ
シ−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンを配合した
美容液の製造を行なった。
た美容液と、対照例として２−ヒドロキシ−４−メトキ
シ−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンを配合した
美容液の製造を行なった。
【表１】 ────────────────────────────────── 成分 配合例１ 対照例１ ────────────────────────────────── Ａ（アルコール相） エタノール ５．０ ５．０ ＰＯＥオレイルアルコールエーテル ２．０ ２．０ 香料 適 量 適 量 ────────────────────────────────── Ｂ（水相） １，３−ブチレングリコール ５．０ ５．０ ベンゾフェノン誘導体（実施例１） ８．０ ＿ 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノン ＿ ８．０ トリエタノールアミン ０．１ ０．１ カルボキシビニルポリマー ０．１５ ０．１５ 精製水 残余 残余 ────────────────────────────────── アルコ−ル相Ａを水相Ｂに添加し、香料を可溶化して美
容液を得た。配合例１は、無色透明で粘性のある良好な
美容液が得られたのに対し、対照例１では、黄味が強く
粘性のないものであった。
容液を得た。配合例１は、無色透明で粘性のある良好な
美容液が得られたのに対し、対照例１では、黄味が強く
粘性のないものであった。
【００２０】試験例２ 日焼け止めテスト 試験例１で製造した２つの美容液を用いて、海浜での実
使用テストを行なった。方法としては、サンプルを男女
各２０名の背中に左右半分ずつ塗布し、日焼け度合いを
判定した。判定基準は、以下のようにした。 日焼けの程度の評価基準 強い紅斑が認められ・・・・× 僅かに紅斑が認められた・・△ 紅斑が認められなかった・・○ 結果を、表２に示す。
使用テストを行なった。方法としては、サンプルを男女
各２０名の背中に左右半分ずつ塗布し、日焼け度合いを
判定した。判定基準は、以下のようにした。 日焼けの程度の評価基準 強い紅斑が認められ・・・・× 僅かに紅斑が認められた・・△ 紅斑が認められなかった・・○ 結果を、表２に示す。
【表２】 ────────────────────────────────── 配合例１の塗布部 対照例１の塗布部 ────────────────────────────────── ○ ３９ ６ △ １ １５ × ０ １９ ────────────────────────────────── 皮膚トラブル件数 なし かゆみ ８件 発疹 ２件 ──────────────────────────────────
【００２１】これらの結果より、ベンゾフェノ誘導体を
配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を配
合した皮膚外用剤よりも紫外線防御効果が高く、皮膚ト
ラブルもなく、安全性の高いものであった。試験例３ 保湿性 室温２５℃ ５０％相対湿度の環境下で男女１５名の皮
膚コンダクタンスの変化を測定した。試験例１で製造し
た美容液を腕部に塗り、その処理後２４時間経過した後
の腕部の皮膚コンダクタンスを測定し、その増加率より
判定を行なった。判定は以下のように行なった。コンダ
クタンス増加率＝コンダクタンス値の増加量／処理前コ
ンダクタンス値 保湿性の判定基準 コンダクタンス増加率１５％・・・・・・・・・・× コンダクタンス増加率１５％以上３０％未満・・・△ コンダクタンス増加率３０％以上・・・・・・・・○ 結果を表３に示す。
配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を配
合した皮膚外用剤よりも紫外線防御効果が高く、皮膚ト
ラブルもなく、安全性の高いものであった。試験例３ 保湿性 室温２５℃ ５０％相対湿度の環境下で男女１５名の皮
膚コンダクタンスの変化を測定した。試験例１で製造し
た美容液を腕部に塗り、その処理後２４時間経過した後
の腕部の皮膚コンダクタンスを測定し、その増加率より
判定を行なった。判定は以下のように行なった。コンダ
クタンス増加率＝コンダクタンス値の増加量／処理前コ
ンダクタンス値 保湿性の判定基準 コンダクタンス増加率１５％・・・・・・・・・・× コンダクタンス増加率１５％以上３０％未満・・・△ コンダクタンス増加率３０％以上・・・・・・・・○ 結果を表３に示す。
【表３】 ───────────────────────────────── 判定 配合例１の塗布部 対照例１の塗布部 ───────────────────────────────── ○ ２６ ６ △ ４ ８ × ０ １６ ───────────────────────────────── 以上の結果より、本発明にかかるベンゾフェノン誘導体
を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を
配合した皮膚外用剤よりも保湿性の高い優れたものであ
ることがわかった。以下に本発明にかかる皮膚外用剤の
配合例を説明する。なお、各皮膚外用剤ともに優れた紫
外線防御効果を示した。
を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を
配合した皮膚外用剤よりも保湿性の高い優れたものであ
ることがわかった。以下に本発明にかかる皮膚外用剤の
配合例を説明する。なお、各皮膚外用剤ともに優れた紫
外線防御効果を示した。
【００２２】実施例３ クリ−ム Ａ．油脂 ステアリン酸 １０．０ ステアリルアルコ−ル ４．０ ステアリン酸モノグリセリンエステル ８．０ ビタミンＥアセテ−ト ０．５ 香料 ０．４ エチルパラべン ０．１ ブチルパラベン ０．１ プロピルパラベン ０．１ Ｂ．水相 プロピレングリコ−ル ８．０ グリセリン ２．０ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ８．０ 水酸化カリウム ０．４ エデト酸三ナトリルム ０．０５ 精製水 残余 〈製法〉Ａの油相部とＢの水相部をそれぞれ７０℃に加
熱し完全溶解する。Ａ相をＢ相に加えて、乳化機で乳化
する。乳化物を熱交換器を用いて冷却し、クリ−ムを得
た。
熱し完全溶解する。Ａ相をＢ相に加えて、乳化機で乳化
する。乳化物を熱交換器を用いて冷却し、クリ−ムを得
た。
【００２３】実施例４ クリ−ム Ａ．油相 セタノ−ル ４．０ ワセリン ７．０ イソプロピルミリステ−ト ８．０ スクワラン １２．０ ジメチルポリシロキサン ３．０ ステアリン酸モノグリセリンエステル ２．２ POE（20）ソ゛ルヒ゛タンモノステアレ-ト ０．５ グリチルレチン酸ステアレ−ト ０．１ ＢＨＴ ０．０２ エチルパラベン ０．１ ブチルパラベン ０．１ プロピルパラベン ０．１ Ｂ．水相 １，３ブチレングリコ−ル ７．０ エデト酸ニナトリルム ０．０７ フェノキシエタノ−ル ０．２ Ｌ−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩 ３．０ ポリアクリル酸アルキルエステル １．０ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛リセロイルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ８．０ 精製水 残余 〈製法〉実施例３に準じてクリ−ムを得た。
【００２４】実施例５ 乳液 Ａ．油相 オレイルオレ−ト ３．０ ワセリン ７．０ スクワラン ５．０ ソルビタンセスキオレイン酸エステル ０．８ ポリオキシエチレンオレイルエ−テル（２０Ｅ．０．） １．２シ゛ p-メトキシ桂皮酸ク゛リセリル ３．０ メチルパラベン ０．１ 香料 ０．１２ Ｂ．水相 ジプロピレングリコ−ル ５．０ エタノール ３．０ カルボキシビニルポリマ− ０．１７ ヒアルロン酸ナトリウム ０．０１ ポリアクリル酸アルキルエステル １．０ 2,2'-シ゛ヒト゛ロキシ4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ４．０ 水酸化カリウム ０．０８ ヘキサメタリン酸ナトリウム ０．０５ 精製水 残余 〈製法〉実施例３に準じて乳液を得た。
【００２５】実施例６ クリ−ム Ａ．油相 ベヘニルアルコール ０．５ １２−ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル ２．０ スクワラン ７．０ ホホバオイル ５．０ 自己乳化型モノステアリン酸グリセリン ２．５ホ゜リオキシエチレンソルヒ゛タンモノステアリン 酸エステル（20EO） １．５ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ３．０ エチルパラベン ０．２ ブチルパラベン ０．１ プロピルパラベン ０．１ Ｂ．水相 プロピレングリコ−ル ５．０ エデト酸酸ナトリウム ０．０８ グリセリン ５．０ ビ−ガム（モンモリロナイト） ３．０ 水酸化カリウム ０．３ 2,2',4'トリヒト゛ロキシ-4(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ８．０ 精製水 残余 〈製法〉実施例３に準じてクリ−ムを得た。
【００２６】実施例７ 粉末入化粧水 Ａ．油相 エタノール ８．０ ＰＯＥ（６０）グリセリルモノイソステアレート ２．０ Ｌ−メントール ０．１ カンファー ０．１ メチルパラベン ０．２ 香料 適 量 Ｂ．水相 グリセリン ３．５ 2-ヒト゛ロキシ-4(3-マルトシロキシフ゛トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ４．０ 亜鉛 １．５ カオリン ０．５ ベントナイト ０．３ ヘキサメタリン酸ナトリウム ０．０３ 精製水 残余 〈製法〉実施例３に準じてクリームを得た。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明にかかるベン
ゾフェノン誘導体によれば、優れた紫外線吸収能、及び
極性溶媒相溶性を有する。また、それを配合した皮膚外
用剤は極性基剤に対しても配合可能で優れた使用性を発
揮することができる。
ゾフェノン誘導体によれば、優れた紫外線吸収能、及び
極性溶媒相溶性を有する。また、それを配合した皮膚外
用剤は極性基剤に対しても配合可能で優れた使用性を発
揮することができる。
【図１】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの赤外
吸収スペクトルチャート図である。
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの赤外
吸収スペクトルチャート図である。
【図２】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの13Ｃ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの13Ｃ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図３】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図４】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの紫外
吸収スペクトルチャート図である。
（２−マルトシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの紫外
吸収スペクトルチャート図である。
【図５】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの赤外
吸収スペクトルチャート図である。
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの赤外
吸収スペクトルチャート図である。
【図６】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの13Ｃ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの13Ｃ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図７】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図８】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの紫外
吸収スペクトルチャート図である。
（２−グルコシロキシエトキシ）ベンゾフェノンの紫外
吸収スペクトルチャート図である。
【図９】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４−
（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノンの
赤外吸収スペクトルチャート図である。
（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノンの
赤外吸収スペクトルチャート図である。
【図１０】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の13Ｃ−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の13Ｃ−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図１１】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャート図である。
【図１２】本発明の一実施例にかかる２−ヒドロキシ４
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の紫外吸収スペクトルチャート図である。
−（３−マルトシロキシプロピロキシ）ベンゾフェノン
の紫外吸収スペクトルチャート図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高田 定樹 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株式会社 資生堂 第一リサーチセンタ ー内 (56)参考文献 特開 平１−180820（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07H 15/18 A61K 7/00 A61K 7/42 C09K 3/00 104 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式化１で表わされるベンゾフェ
ノン誘導体。 【化１】 但し、Ｒ1，Ｒ2は水素又は水酸基で、一つ以上が水酸基
で表わされる。Ｒ3〜Ｒ10は水素、水酸基、アルコキシ
基又はＯ−Ｒ−Ａで表わされ、一つ以上がＯ−Ｒ−Ａで
表わされる。Ａは糖の一個の水酸基から水素を除いた残
基、Ｒは脂肪鎖を表わす。 - 【請求項２】 請求項１記載のベンゾフェノン誘導体よ
りなる紫外線吸収剤。 - 【請求項３】 請求項１記載のベンゾフェノン誘導体を
一種または二種以上を含むことを特徴とする皮膚外用
剤。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26296292A JP3140575B2 (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
| US07/963,901 US5342610A (en) | 1991-10-21 | 1992-10-20 | Benzophenone derivative, ultraviolet absorbent and external preparation for skin |
| KR1019920019299A KR100226142B1 (ko) | 1991-10-21 | 1992-10-20 | 벤조페논유도체, 자외선흡수제 및 그것을 배합한 피부외용제 |
| EP92118026A EP0538839B1 (en) | 1991-10-21 | 1992-10-21 | Benzophenone derivative, utraviolet absorbent and external preparation for skin |
| DE69231656T DE69231656T2 (de) | 1991-10-21 | 1992-10-21 | Benzophenon-Derivat, Ultraviolett-Absorptionsmittel und äusserliche Zubereitung für die Haut |
| TW81109687A TW287164B (ja) | 1992-09-04 | 1992-12-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26296292A JP3140575B2 (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0687879A JPH0687879A (ja) | 1994-03-29 |
| JP3140575B2 true JP3140575B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=17382970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26296292A Expired - Fee Related JP3140575B2 (ja) | 1991-10-21 | 1992-09-04 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3140575B2 (ja) |
| TW (1) | TW287164B (ja) |
-
1992
- 1992-09-04 JP JP26296292A patent/JP3140575B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-03 TW TW81109687A patent/TW287164B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0687879A (ja) | 1994-03-29 |
| TW287164B (ja) | 1996-10-01 |
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