JPH09255696A - ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 - Google Patents
ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた紫外線吸収効果を示し、しかも水溶性
で低温でも安定に溶解する物質、紫外線吸収剤及びそれ
を配合した皮膚外用剤を提供することを目的とする。 【解決手段】 下記一般式化１で表されるベンゾフェノ
ン誘導体、及びそれを用いた紫外線吸収剤、皮膚外用
剤。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基または炭素数１
〜４のアルコキシ基で表される。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6は、水素原子または炭素数１〜２のアルキル基を表
し、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基を表すこ
とを特徴とする。Ａは保護基のない糖残基、ｎは１また
は２を示す。）
で低温でも安定に溶解する物質、紫外線吸収剤及びそれ
を配合した皮膚外用剤を提供することを目的とする。 【解決手段】 下記一般式化１で表されるベンゾフェノ
ン誘導体、及びそれを用いた紫外線吸収剤、皮膚外用
剤。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基または炭素数１
〜４のアルコキシ基で表される。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6は、水素原子または炭素数１〜２のアルキル基を表
し、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基を表すこ
とを特徴とする。Ａは保護基のない糖残基、ｎは１また
は２を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はベンゾフェノン誘導
体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に親水性溶剤への
溶解性の高いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外
線吸収剤及び皮膚外用剤に関する。
体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に親水性溶剤への
溶解性の高いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外
線吸収剤及び皮膚外用剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常人体が受ける紫外線は、その殆どが
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には３２０〜４００nmの長波長紫外線
（ＵＶ−Ａ）、２９０〜３２０nmの中波長紫外線（ＵＶ
−Ｂ）、２９０nm以下の短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ）に分
類される。このうち、２９０nm以下の波長の紫外線はオ
ゾン層によって吸収され、地表に到達しない。
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には３２０〜４００nmの長波長紫外線
（ＵＶ−Ａ）、２９０〜３２０nmの中波長紫外線（ＵＶ
−Ｂ）、２９０nm以下の短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ）に分
類される。このうち、２９０nm以下の波長の紫外線はオ
ゾン層によって吸収され、地表に到達しない。
【０００３】地表に届く紫外線は、人間の皮膚に様々な
影響を及ぼす。地表にまで到達する紫外線の内で、ＵＶ
−Ａは皮膚の褐色化を惹起し、皮膚の弾力性の低下及び
シワの発生を促進し急激な老化をもたらす。また、紅斑
反応の開始を促進し、或いはある種の患者に対してはこ
の反応を増強し、さらに光毒性或いは光アレルギー反応
の原因とさえなりうる。一方、ＵＶ−Ｂもまた皮膚の紅
斑や水泡を形成し、メラニン形成が亢進され、色素沈着
を生じる等の変化をもたらす。
影響を及ぼす。地表にまで到達する紫外線の内で、ＵＶ
−Ａは皮膚の褐色化を惹起し、皮膚の弾力性の低下及び
シワの発生を促進し急激な老化をもたらす。また、紅斑
反応の開始を促進し、或いはある種の患者に対してはこ
の反応を増強し、さらに光毒性或いは光アレルギー反応
の原因とさえなりうる。一方、ＵＶ−Ｂもまた皮膚の紅
斑や水泡を形成し、メラニン形成が亢進され、色素沈着
を生じる等の変化をもたらす。
【０００４】このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバ
カスの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護す
ることは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発さ
れてきた。既存の紫外線吸収剤としては、ＰＡＢＡ誘導
体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体及び複素
環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの紫外
線吸収剤はその殆どが固体であり、油溶性であった。
カスの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護す
ることは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発さ
れてきた。既存の紫外線吸収剤としては、ＰＡＢＡ誘導
体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体及び複素
環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの紫外
線吸収剤はその殆どが固体であり、油溶性であった。
【０００５】一方、最近では日常の生活で受ける紫外線
の影響についても問題になっており、通常のスキンケア
でも日焼け止めが望まれている。このため、化粧水等の
水系のスキンケア製品にも多量に配合できることが求め
られ、より高い紫外線吸収効果を有する外用剤を処方す
る上で水溶性で紫外線吸収効果を持つ物質も注目されて
きており、このような水溶性紫外線Ａ吸収剤として２−
ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルフォキソニウムベ
ンゾフェノンナトリウム塩が知られている。しかしなが
ら、該物質は塩であるので、処方系のｐＨに影響をもた
らすという問題点があった。
の影響についても問題になっており、通常のスキンケア
でも日焼け止めが望まれている。このため、化粧水等の
水系のスキンケア製品にも多量に配合できることが求め
られ、より高い紫外線吸収効果を有する外用剤を処方す
る上で水溶性で紫外線吸収効果を持つ物質も注目されて
きており、このような水溶性紫外線Ａ吸収剤として２−
ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルフォキソニウムベ
ンゾフェノンナトリウム塩が知られている。しかしなが
ら、該物質は塩であるので、処方系のｐＨに影響をもた
らすという問題点があった。
【０００６】近年、このような問題点を解決するため
に、非イオン性親水基としてポリグリセリンや糖を用い
た水溶性紫外線吸収剤が開発されている（特開平６−８
７８７９、特開平６−１３５９８５）。この非イオン性
親水基を導入した水溶性紫外線吸収剤はイオン性親水基
のように塩でないためｐＨに影響をもたらすことはな
く、また、系の性状を破壊することはない。また非イオ
ン性親水基として導入されるポリグリセリンや糖は人体
に対する安全性が高いことからも優れた水溶性紫外線吸
収剤と言える。
に、非イオン性親水基としてポリグリセリンや糖を用い
た水溶性紫外線吸収剤が開発されている（特開平６−８
７８７９、特開平６−１３５９８５）。この非イオン性
親水基を導入した水溶性紫外線吸収剤はイオン性親水基
のように塩でないためｐＨに影響をもたらすことはな
く、また、系の性状を破壊することはない。また非イオ
ン性親水基として導入されるポリグリセリンや糖は人体
に対する安全性が高いことからも優れた水溶性紫外線吸
収剤と言える。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
水溶性紫外線吸収剤は、水、あるいは水とアルコールの
ような親水性溶媒の混合溶液中で調製し低温に放置した
場合、結晶が析出することがあった。製品中で結晶が析
出することは製品の安定性上重大な問題であり、製品を
均一に塗布できないため所期の紫外線吸収効果を十分発
揮できないばかりでなく、製品の価値も低下させること
になる。そのため実際の処方ではその配合量が制限され
てしまい、紫外線吸収効果を高めるために高濃度に配合
することができなかった。
水溶性紫外線吸収剤は、水、あるいは水とアルコールの
ような親水性溶媒の混合溶液中で調製し低温に放置した
場合、結晶が析出することがあった。製品中で結晶が析
出することは製品の安定性上重大な問題であり、製品を
均一に塗布できないため所期の紫外線吸収効果を十分発
揮できないばかりでなく、製品の価値も低下させること
になる。そのため実際の処方ではその配合量が制限され
てしまい、紫外線吸収効果を高めるために高濃度に配合
することができなかった。
【０００８】本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされ
たものであり、その目的は、優れた紫外線吸収性を示
し、しかも水溶性で、低温でも安定に溶解する物質、紫
外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤を提供するこ
とにある。
たものであり、その目的は、優れた紫外線吸収性を示
し、しかも水溶性で、低温でも安定に溶解する物質、紫
外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤を提供するこ
とにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者が鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェノ
ン誘導体が紫外線吸収作用をもち、かつ水あるいは水−
親水性有機溶媒の混合溶液、特に低級アルコールと水の
混合溶媒に対し、低温領域でも溶解性に優れていること
を見出し、本発明を完成するに至った。
に本発明者が鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェノ
ン誘導体が紫外線吸収作用をもち、かつ水あるいは水−
親水性有機溶媒の混合溶液、特に低級アルコールと水の
混合溶媒に対し、低温領域でも溶解性に優れていること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】すなわち、本出願の請求項１記載のベンゾ
フェノン誘導体は、下記一般式化２で表される。
フェノン誘導体は、下記一般式化２で表される。
【化２】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜
４のアルコキシ基で表される。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、
水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を表し、Ｒ3〜
Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基を表すことを特徴
とする。Ａは保護基のない糖残基、ｎは１又は２を示
す。）
４のアルコキシ基で表される。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、
水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を表し、Ｒ3〜
Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基を表すことを特徴
とする。Ａは保護基のない糖残基、ｎは１又は２を示
す。）
【００１１】請求項２記載のベンゾフェノン誘導体は、
前記化２のベンゾフェノン誘導体において、Ｒ1及びＲ2
が水素原子、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか一つがメチル基、Ａが
グルコース残基又はマルトース残基、ｎが１である。請
求項３記載の紫外線吸収剤は、請求項１又は２記載のベ
ンゾフェノン誘導体よりなることを特徴とする。
前記化２のベンゾフェノン誘導体において、Ｒ1及びＲ2
が水素原子、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか一つがメチル基、Ａが
グルコース残基又はマルトース残基、ｎが１である。請
求項３記載の紫外線吸収剤は、請求項１又は２記載のベ
ンゾフェノン誘導体よりなることを特徴とする。
【００１２】請求項４記載の皮膚外用剤は、請求項３記
載の紫外線吸収剤を一種又は二種以上含有することを特
徴とする。請求項５記載の皮膚外用剤は、請求項４記載
の皮膚外用剤において、外用基剤として低級アルコール
及び水を含むことを特徴とする。請求項６記載の皮膚外
用剤は、請求項５記載の皮膚外用剤において、低級アル
コールがエタノールであることを特徴とする。
載の紫外線吸収剤を一種又は二種以上含有することを特
徴とする。請求項５記載の皮膚外用剤は、請求項４記載
の皮膚外用剤において、外用基剤として低級アルコール
及び水を含むことを特徴とする。請求項６記載の皮膚外
用剤は、請求項５記載の皮膚外用剤において、低級アル
コールがエタノールであることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。なお、本発明の実施形態はこれに限定されるもの
ではない。前記一般式化２で表されるベンゾフェノン誘
導体において、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基、アルコキ
シ基を表し、アルコキシ基を用いる場合、該アルコキシ
基の脂肪鎖は直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれ
でもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられ
るが水溶性や工業性の観点からメトキシ基、エトキシ基
が好ましい。
する。なお、本発明の実施形態はこれに限定されるもの
ではない。前記一般式化２で表されるベンゾフェノン誘
導体において、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基、アルコキ
シ基を表し、アルコキシ基を用いる場合、該アルコキシ
基の脂肪鎖は直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれ
でもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられ
るが水溶性や工業性の観点からメトキシ基、エトキシ基
が好ましい。
【００１４】また、前記一般式化２において、Ｒ3、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子又は炭素数１〜２のアルキ
ル基を表し、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基
を表すことを特徴とする。Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上
がアルキル基であることより、水及び低級アルコールと
の相性が良くなり、また化２で表されるベンゾフェノン
誘導体の低温での溶解性が良好になる。特にアルキル基
がメチル基であることにより、水及び低級アルコールの
混合溶媒中での低温時の安定性が向上される。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子又は炭素数１〜２のアルキ
ル基を表し、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基
を表すことを特徴とする。Ｒ3〜Ｒ6のいずれか１つ以上
がアルキル基であることより、水及び低級アルコールと
の相性が良くなり、また化２で表されるベンゾフェノン
誘導体の低温での溶解性が良好になる。特にアルキル基
がメチル基であることにより、水及び低級アルコールの
混合溶媒中での低温時の安定性が向上される。
【００１５】前記一般式化２において、Ａは糖の残基
で、糖の具体例としては、例えば、グリセリルアルデヒ
ド、ジヒドロキシアセトン等の三炭糖、エリトロース、
エリトルロース、トレオース等の四炭糖、アラビノー
ス、キシロース、リキソース、アラビノース、リボー
ス、リブロース、キシルロース等の五炭糖、グルコー
ス、アルトロース、タロース、ブシコース、ガラクトー
ス、フルクトース、マンノース、タガトース、イドー
ス、リキソース、アロース等の六炭糖、アルドヘプトー
ス、ヘプッロース等の七炭糖、オクツロース等の八炭
糖、２−デオキシ−Ｄ−リボース、６−デオキシ−Ｌ−
ガラクトース、６−デオキシ−Ｌ−マンノース等のデオ
キシ糖、Ｄ−グルコサミン、Ｄ−ガラクトサミン、シア
ル酸、アミノウロン酸、ムラミン酸等のアミノ糖、Ｄ−
グルクロン酸、Ｄ−マンヌロン酸、Ｌ−グルロン酸、Ｄ
−ガラクツロン酸、Ｌ−イズロン酸等のウロン酸等の単
糖類及びその混合物、又はマルトース、イソマルトー
ス、ラクトース、キシロビオース、ゲンチオビオース、
コージオビオース、セロビオース、ソホロース、ニゲロ
ース、スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、
ルチノース、グンチアノース、ウンベリフェロース、プ
ランテオース、イソリクノース類、α, α−トレハロー
ス、ラフィノース、リクノース類、ウンビリシン、スタ
キオース、ベルバスコース類等の二糖類及びその混合
物、またはマルトトリオース等の三糖類及びその混合
物、さらに、それ以上の多糖類及びその混合物、またこ
れらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合物を用いるこ
とも可能である。
で、糖の具体例としては、例えば、グリセリルアルデヒ
ド、ジヒドロキシアセトン等の三炭糖、エリトロース、
エリトルロース、トレオース等の四炭糖、アラビノー
ス、キシロース、リキソース、アラビノース、リボー
ス、リブロース、キシルロース等の五炭糖、グルコー
ス、アルトロース、タロース、ブシコース、ガラクトー
ス、フルクトース、マンノース、タガトース、イドー
ス、リキソース、アロース等の六炭糖、アルドヘプトー
ス、ヘプッロース等の七炭糖、オクツロース等の八炭
糖、２−デオキシ−Ｄ−リボース、６−デオキシ−Ｌ−
ガラクトース、６−デオキシ−Ｌ−マンノース等のデオ
キシ糖、Ｄ−グルコサミン、Ｄ−ガラクトサミン、シア
ル酸、アミノウロン酸、ムラミン酸等のアミノ糖、Ｄ−
グルクロン酸、Ｄ−マンヌロン酸、Ｌ−グルロン酸、Ｄ
−ガラクツロン酸、Ｌ−イズロン酸等のウロン酸等の単
糖類及びその混合物、又はマルトース、イソマルトー
ス、ラクトース、キシロビオース、ゲンチオビオース、
コージオビオース、セロビオース、ソホロース、ニゲロ
ース、スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、
ルチノース、グンチアノース、ウンベリフェロース、プ
ランテオース、イソリクノース類、α, α−トレハロー
ス、ラフィノース、リクノース類、ウンビリシン、スタ
キオース、ベルバスコース類等の二糖類及びその混合
物、またはマルトトリオース等の三糖類及びその混合
物、さらに、それ以上の多糖類及びその混合物、またこ
れらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合物を用いるこ
とも可能である。
【００１６】これらの糖のうち、特にグルコース、マル
トース等を用いると、水系溶媒中での低温時における物
質の安定性が向上される。なお、ｎは１又は２を示すが
ｎ＝１の方が低温時の安定性に優れている。すなわち、
本発明のベンゾフェノン誘導体として、Ｒ1及びＲ2が水
素原子、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか一つがメチル基であり、Ａ
がグルコース残基又はマルトース残基であり、ｎ＝１で
ある化合物は、低温時の安定性が特に高くなり、有効な
物質である。
トース等を用いると、水系溶媒中での低温時における物
質の安定性が向上される。なお、ｎは１又は２を示すが
ｎ＝１の方が低温時の安定性に優れている。すなわち、
本発明のベンゾフェノン誘導体として、Ｒ1及びＲ2が水
素原子、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか一つがメチル基であり、Ａ
がグルコース残基又はマルトース残基であり、ｎ＝１で
ある化合物は、低温時の安定性が特に高くなり、有効な
物質である。
【００１７】また、本発明のベンゾフェノン誘導体は、
固体で安全性、安定性に極めて優れているため、塗料や
インク、プラスチック、コーティング剤、化学繊維等の
化学製品などに配合できる他、医薬品、医薬部外品、化
粧料及び洗浄料の成分として配合されうる。本発明に係
るベンゾフェノン誘導体は、例えば特開昭６３−８４６
３７に記載されている糖類変性用酸触媒を用いて合成で
きる他、一般にグルコシル化に用いられている反応（ケ
ーニッヒ−クノール反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ
以外のエーテル交換法等）を用いて合成してもよい。
固体で安全性、安定性に極めて優れているため、塗料や
インク、プラスチック、コーティング剤、化学繊維等の
化学製品などに配合できる他、医薬品、医薬部外品、化
粧料及び洗浄料の成分として配合されうる。本発明に係
るベンゾフェノン誘導体は、例えば特開昭６３−８４６
３７に記載されている糖類変性用酸触媒を用いて合成で
きる他、一般にグルコシル化に用いられている反応（ケ
ーニッヒ−クノール反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ
以外のエーテル交換法等）を用いて合成してもよい。
【００１８】例えば次のように合成できる。糖のアセチ
ル化物をジブチルセロソルブ、トルエン等の無極性溶媒
に溶解するか、又は無溶媒で下記一般式化３
ル化物をジブチルセロソルブ、トルエン等の無極性溶媒
に溶解するか、又は無溶媒で下記一般式化３
【化３】 （ただし、式中Ｒ1〜Ｒ6は前記化２と同一。ｎは１また
は２を示す。）で示される化合物を添加して、酸触媒の
存在下、９０〜１３０℃で撹拌、反応は減圧下で行う。
一般式化３で示される化合物は単独でも２種以上併用し
ても良い。
は２を示す。）で示される化合物を添加して、酸触媒の
存在下、９０〜１３０℃で撹拌、反応は減圧下で行う。
一般式化３で示される化合物は単独でも２種以上併用し
ても良い。
【００１９】この際用いられる触媒としては、ｐ−トル
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛、硝酸亜鉛、無機酸あるいはイオン交換樹脂等が挙げ
られる。反応後、そのまま反応溶媒を減圧濃縮し、脱ア
セチル化するか、若しくは反応溶媒を減圧留去後または
そのまま減圧留去することなく、生成物をトルエン、ベ
ンゼン、酢酸エチル、クロロホルム等の有機溶媒で抽出
し、水洗した後、得られた抽出液を減圧濃縮後、そのま
ま脱アセチル化するか、再結晶法や、シリカゲルカラム
クロマトグラフ法で精製後、脱アセチル化してもよい。
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛、硝酸亜鉛、無機酸あるいはイオン交換樹脂等が挙げ
られる。反応後、そのまま反応溶媒を減圧濃縮し、脱ア
セチル化するか、若しくは反応溶媒を減圧留去後または
そのまま減圧留去することなく、生成物をトルエン、ベ
ンゼン、酢酸エチル、クロロホルム等の有機溶媒で抽出
し、水洗した後、得られた抽出液を減圧濃縮後、そのま
ま脱アセチル化するか、再結晶法や、シリカゲルカラム
クロマトグラフ法で精製後、脱アセチル化してもよい。
【００２０】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化２で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば、糖
と塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の
糖を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水と
メチルエチルケトン、ｎ−ブタノールで分配し、有機溶
媒層を分離することにより精製することができる。ま
た、糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する
場合、反応生成物を水または水とアルコールの混液に懸
濁させ、ハイパーポーラスポリマー（例えば三菱化成工
業株式会社製のハイポーラス樹脂）、オクタデシルシリ
カなどの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメチル
アルコール、エチルアルコールなどのアルコールやアセ
トニトリルなどの極性有機溶媒と水との混液で通液し、
この液を分取することにより精製できる。
一般式化２で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば、糖
と塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の
糖を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水と
メチルエチルケトン、ｎ−ブタノールで分配し、有機溶
媒層を分離することにより精製することができる。ま
た、糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する
場合、反応生成物を水または水とアルコールの混液に懸
濁させ、ハイパーポーラスポリマー（例えば三菱化成工
業株式会社製のハイポーラス樹脂）、オクタデシルシリ
カなどの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメチル
アルコール、エチルアルコールなどのアルコールやアセ
トニトリルなどの極性有機溶媒と水との混液で通液し、
この液を分取することにより精製できる。
【００２１】なお、一般式化３で示される化合物は、例
えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成する
ことができる。すなわち、２，４−ジヒドロキシ置換ベ
ンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをアル
カリ溶液中で０℃から溶媒の沸点の間で置換反応するこ
とにより得られる。この反応に用いられる溶媒は水、メ
チルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカリ
に対して安定な溶媒であればいずれも用いることがで
き、これら混合溶媒を用いてもよい。
えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成する
ことができる。すなわち、２，４−ジヒドロキシ置換ベ
ンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをアル
カリ溶液中で０℃から溶媒の沸点の間で置換反応するこ
とにより得られる。この反応に用いられる溶媒は水、メ
チルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカリ
に対して安定な溶媒であればいずれも用いることがで
き、これら混合溶媒を用いてもよい。
【００２２】また、反応に用いられる塩基としては、例
えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルコラート、四級アンモニウム
塩を用いることができる。反応後、弱酸性にした後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフ法で分離精製するか、あ
るいはさらに再結晶法により精製される。
えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルコラート、四級アンモニウム
塩を用いることができる。反応後、弱酸性にした後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフ法で分離精製するか、あ
るいはさらに再結晶法により精製される。
【００２３】また、一般式化３で示される化合物は２，
４−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。すなわち、
２，４−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレン
オキシドを０℃〜溶媒の沸点の間（加圧下の場合は、そ
れ以上）で開環付加反応により得られる。この反応に用
いられる溶媒は水、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、アセトン、アセトニトリル、トルエン、ベン
ゼン、キシレン等の溶媒であればいずれも用いることが
でき、これら混合溶媒を用いてもよい。
４−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。すなわち、
２，４−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレン
オキシドを０℃〜溶媒の沸点の間（加圧下の場合は、そ
れ以上）で開環付加反応により得られる。この反応に用
いられる溶媒は水、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、アセトン、アセトニトリル、トルエン、ベン
ゼン、キシレン等の溶媒であればいずれも用いることが
でき、これら混合溶媒を用いてもよい。
【００２４】また、反応は、常圧から加圧下で行い、反
応に用いられる触媒は、例えば水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
キシドや、四級アンモニウム塩等の塩基や、塩酸、硫
酸、硝酸、リン酸、トリフロロ酢酸、ｐ−トルエンスル
フォン酸、ＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ、酸性樹脂等の酸を用いるこ
とができる。反応後、弱酸性にした後、反応溶媒を減圧
留去し、生成物を溶媒で抽出し、水洗し、得られた抽出
液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ法で分離
精製するか、あるいはさらに再結晶法により得ることが
できる。また、特に精製を行わず、そのまま次の反応に
用いても良い。アレキレンオキシドを用いて一般式化３
を製造した際、アルキレンオキシドの付加反応の位置に
より、異性体が生成するが、その紫外線吸収剤としての
機能に大きな支障はないので異性体が混合したまま使用
してもかまわない。
応に用いられる触媒は、例えば水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
キシドや、四級アンモニウム塩等の塩基や、塩酸、硫
酸、硝酸、リン酸、トリフロロ酢酸、ｐ−トルエンスル
フォン酸、ＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ、酸性樹脂等の酸を用いるこ
とができる。反応後、弱酸性にした後、反応溶媒を減圧
留去し、生成物を溶媒で抽出し、水洗し、得られた抽出
液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ法で分離
精製するか、あるいはさらに再結晶法により得ることが
できる。また、特に精製を行わず、そのまま次の反応に
用いても良い。アレキレンオキシドを用いて一般式化３
を製造した際、アルキレンオキシドの付加反応の位置に
より、異性体が生成するが、その紫外線吸収剤としての
機能に大きな支障はないので異性体が混合したまま使用
してもかまわない。
【００２５】このようにして得られるベンゾフェノン誘
導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶性で紫外
線領域に吸収を有する上、保湿性に優れるという機能を
持つ。また、非イオン性であるので、系のｐＨに左右さ
れることなく配合することができ、また、系の性状を破
壊することもない。更に、低温でも各種極性溶媒に対す
る溶解性が良好である。
導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶性で紫外
線領域に吸収を有する上、保湿性に優れるという機能を
持つ。また、非イオン性であるので、系のｐＨに左右さ
れることなく配合することができ、また、系の性状を破
壊することもない。更に、低温でも各種極性溶媒に対す
る溶解性が良好である。
【００２６】本発明のベンゾフェノン誘導体は安全性に
優れているので、化粧料、医薬料等に配合できる。ま
た、本発明に加えて通常用いられる他の化粧料や医薬料
成分を適宜配合することができる。例えば、流動パラフ
ィン、スクワラン、ワセリン、セチルアルコール、イソ
ステアリルアルコール、２−エチルヘキシル酸セチル、
２−オクチルドデシルアルコール、トリイソステアリン
酸グリセリン、マカデミアナッツ油、ラノリン等の各種
炭化水素、油脂類、ロウ等の油性成分、シリコン類、界
面活性剤、増粘剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止
剤、紛体成分、色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効
剤、金属封鎖剤、ｐＨ調製剤等が挙げられる。
優れているので、化粧料、医薬料等に配合できる。ま
た、本発明に加えて通常用いられる他の化粧料や医薬料
成分を適宜配合することができる。例えば、流動パラフ
ィン、スクワラン、ワセリン、セチルアルコール、イソ
ステアリルアルコール、２−エチルヘキシル酸セチル、
２−オクチルドデシルアルコール、トリイソステアリン
酸グリセリン、マカデミアナッツ油、ラノリン等の各種
炭化水素、油脂類、ロウ等の油性成分、シリコン類、界
面活性剤、増粘剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止
剤、紛体成分、色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効
剤、金属封鎖剤、ｐＨ調製剤等が挙げられる。
【００２７】更に本発明のベンゾフェノン誘導体を含有
する皮膚外用剤は、安定性に優れ、皮膚への刺激が低
く、使用感触に優れ、更に保湿性に優れるという特徴が
ある。特に、水及び低級アルコールの混合溶媒を外用基
剤として含む皮膚外用剤中で、良好な安定性を示す。こ
の場合低級アルコールとしては、エタノールを用いるこ
とが特に好適である。
する皮膚外用剤は、安定性に優れ、皮膚への刺激が低
く、使用感触に優れ、更に保湿性に優れるという特徴が
ある。特に、水及び低級アルコールの混合溶媒を外用基
剤として含む皮膚外用剤中で、良好な安定性を示す。こ
の場合低級アルコールとしては、エタノールを用いるこ
とが特に好適である。
【００２８】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。また配合量は
重量％である。
明の技術的範囲を限定するものではない。また配合量は
重量％である。
【００２９】製造例１ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチル
エトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 （１） 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ヒト゛ロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０．７１ｇ、炭
酸水素ナトリウム５．０４ｇをイオン交換水４０ｇに加
えた後、プロピレンオキシド１７．４２ｇを加える。こ
の溶液をプロピレンオキシドの還流温度まで加熱し、そ
の温度で４時間加熱撹拌した後、室温まで空冷し、トル
エンで抽出、水洗後、乾燥し、濃縮した。得られた残渣
を３０％酢酸エチル−ヘキサン混液で再結晶し、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−２−メチルエトキ
シ）ベンゾフェノン８．１７ｇを得た（融点８５−８６
℃）。
エトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 （１） 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ヒト゛ロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０．７１ｇ、炭
酸水素ナトリウム５．０４ｇをイオン交換水４０ｇに加
えた後、プロピレンオキシド１７．４２ｇを加える。こ
の溶液をプロピレンオキシドの還流温度まで加熱し、そ
の温度で４時間加熱撹拌した後、室温まで空冷し、トル
エンで抽出、水洗後、乾燥し、濃縮した。得られた残渣
を３０％酢酸エチル−ヘキサン混液で再結晶し、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−２−メチルエトキ
シ）ベンゾフェノン８．１７ｇを得た（融点８５−８６
℃）。
【００３０】（２）2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキ
シ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 （１）で得られた２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノン５ｇをトルエ
ン１２ｍｌに溶解し、アセチルグルコース７．８１ｇ、
モリブドリン酸１４０ｍｇを加えた後、９０℃で１．５
時間加熱撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエ
ンで抽出、飽和食塩水で４回洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた残留物を２００ｍ
ｌのメタノールに溶解させた後、２８％ナトリウムメチ
ラート−メタノール溶液４ｍｌを加えて室温で１．５時
間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃縮し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（クロロ
ホルム−メタノール）で分離精製し、２−ヒドロキシ−
４−（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベン
ゾフェノンを３．４３ｇを得た。
シ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 （１）で得られた２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノン５ｇをトルエ
ン１２ｍｌに溶解し、アセチルグルコース７．８１ｇ、
モリブドリン酸１４０ｍｇを加えた後、９０℃で１．５
時間加熱撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエ
ンで抽出、飽和食塩水で４回洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた残留物を２００ｍ
ｌのメタノールに溶解させた後、２８％ナトリウムメチ
ラート−メタノール溶液４ｍｌを加えて室温で１．５時
間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃縮し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（クロロ
ホルム−メタノール）で分離精製し、２−ヒドロキシ−
４−（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベン
ゾフェノンを３．４３ｇを得た。
【００３１】得られた２−ヒドロキシ−４−（２−グル
コシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 （１）赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
６ｃｍ-1に水酸基の伸縮振動、１６２６ｃｍ-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図１に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０
ppm、１３７ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、
１１５ppm、１１４ppm、１０９ppm、１０５ppm、１０４
ppm、１０３ppm、１０３ppm、１０３ppm、７８ppm、７
８ppm、７８ppm、７８ppm、７５ppm、７５ppm、７５pp
m、７４ppm、７３ppm、７３ppm、７３ppm、７２ppm、７
２ppm、６３ppm、６３ppm、１９ppm、１８ppm、１７ppm
にシグナルが観察された。結果を図２に示す。
コシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 （１）赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
６ｃｍ-1に水酸基の伸縮振動、１６２６ｃｍ-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図１に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０１ppm、１６７ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０
ppm、１３７ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、
１１５ppm、１１４ppm、１０９ppm、１０５ppm、１０４
ppm、１０３ppm、１０３ppm、１０３ppm、７８ppm、７
８ppm、７８ppm、７８ppm、７５ppm、７５ppm、７５pp
m、７４ppm、７３ppm、７３ppm、７３ppm、７２ppm、７
２ppm、６３ppm、６３ppm、１９ppm、１８ppm、１７ppm
にシグナルが観察された。結果を図２に示す。
【００３２】（３）1Ｈ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．４７〜７．６２ppm、６．４９〜６．５６ppm、３．
２０〜４．５４ppm、１．１６〜１．３７ppmにシグナル
が観測された結果を図３に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、２８８．０nm、３２５．２nmに極大吸収を示
した。結果を図４に示す。 （５）融点 ＡＲＴＨＵＲ Ｈ． ＴＨＯＭＳ ＣＯＭＰＡＮＹ製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、６７
℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．４７〜７．６２ppm、６．４９〜６．５６ppm、３．
２０〜４．５４ppm、１．１６〜１．３７ppmにシグナル
が観測された結果を図３に示す。 （４）紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、２８８．０nm、３２５．２nmに極大吸収を示
した。結果を図４に示す。 （５）融点 ＡＲＴＨＵＲ Ｈ． ＴＨＯＭＳ ＣＯＭＰＡＮＹ製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、６７
℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
【００３３】製造例２ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエ
トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 製造例１（１）で合成した２−ヒドロキシ−４−（２−
ヒドロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノン１ｇ
をトルエン４ｍｌに溶解し、アセチルマルトース３．２
４ｇ、モリブドリン酸３０ｍｇを加えた後、９０℃で３
０分間撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエン
で抽出、飽和食塩水で４回洗浄後、乾燥し濃縮した。得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（酢
酸エチル−ヘキサン）で精製し、２−ヒドロキシ−４−
（２−ヘプタアセチルマルトシロキシ−２−メチルエト
キシ）ベンゾフェノンを２．５７ｇ得た。続いてこれ
を、５０ｍｌのメタノールに溶解させた後、２８％ナト
リウムメチラート−メタノール溶液０．５ｍｌを加えて
室温で１時間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
法（クロロホルム−メタノール）で分離精製し、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−マルトシロキシ−２−メチルエト
キシ）ベンゾフェノンを１．１４ｇを得た。
トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 製造例１（１）で合成した２−ヒドロキシ−４−（２−
ヒドロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノン１ｇ
をトルエン４ｍｌに溶解し、アセチルマルトース３．２
４ｇ、モリブドリン酸３０ｍｇを加えた後、９０℃で３
０分間撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエン
で抽出、飽和食塩水で４回洗浄後、乾燥し濃縮した。得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ法（酢
酸エチル−ヘキサン）で精製し、２−ヒドロキシ−４−
（２−ヘプタアセチルマルトシロキシ−２−メチルエト
キシ）ベンゾフェノンを２．５７ｇ得た。続いてこれ
を、５０ｍｌのメタノールに溶解させた後、２８％ナト
リウムメチラート−メタノール溶液０．５ｍｌを加えて
室温で１時間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
法（クロロホルム−メタノール）で分離精製し、２−ヒ
ドロキシ−４−（２−マルトシロキシ−２−メチルエト
キシ）ベンゾフェノンを１．１４ｇを得た。
【００３４】得られた２−ヒドロキシ−４−（２−マル
トシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 （１）赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０ｃｍ-1に水酸基の伸縮振動、１６２６ｃｍ-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図５に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０２ppm、１６７ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０
ppm、１３７ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、
１１５ppm、１１４ppm、１０９ppm、１０５ppm、１０４
ppm、１０３ppm、１０３ppm、１０３ppm、７８ppm、７
７ppm、７７ppm、７５ppm、７５ppm、７５ppm、７５pp
m、７５ppm、７３ppm、７３ppm、７３ppm、７２ppm、６
３ppm、６２ppm、６２ppm、１９ppm、１８ppm、１７ppm
にシグナルが観察された。結果を図６に示す。
トシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 （１）赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３４０
０ｃｍ-1に水酸基の伸縮振動、１６２６ｃｍ-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図５に
示す。 （２）13Ｃ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
２０２ppm、１６７ppm、１６７ppm、１６７ppm、１４０
ppm、１３７ppm、１３３ppm、１３０ppm、１２９ppm、
１１５ppm、１１４ppm、１０９ppm、１０５ppm、１０４
ppm、１０３ppm、１０３ppm、１０３ppm、７８ppm、７
７ppm、７７ppm、７５ppm、７５ppm、７５ppm、７５pp
m、７５ppm、７３ppm、７３ppm、７３ppm、７２ppm、６
３ppm、６２ppm、６２ppm、１９ppm、１８ppm、１７ppm
にシグナルが観察された。結果を図６に示す。
【００３５】（３）1Ｈ−ＮＭＲ 日本電子株式会社製のＪＯＥＬ ＥＸ−４００により、
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．４９〜７．６４ppm、６．５１〜６．５７ppm、５．
１６〜５．１７ppm、３．２４〜４．５５ppm、１．１７
〜１．３７ppmにシグナルが観測された結果を図７に示
す。 （４）紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、２８８．０nm、３２６．０nmに極大吸収を示
した。結果を図８に示す。 （５）融点 ＡＲＴＨＵＲ Ｈ． ＴＨＯＭＳ ＣＯＭＰＡＮＹ製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、１１
７℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
ＣＤ3ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
７．４９〜７．６４ppm、６．５１〜６．５７ppm、５．
１６〜５．１７ppm、３．２４〜４．５５ppm、１．１７
〜１．３７ppmにシグナルが観測された結果を図７に示
す。 （４）紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、ＵＶＩＤＥＣ ６１０Ｃ紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、２８８．０nm、３２６．０nmに極大吸収を示
した。結果を図８に示す。 （５）融点 ＡＲＴＨＵＲ Ｈ． ＴＨＯＭＳ ＣＯＭＰＡＮＹ製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、１１
７℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
【００３６】試験例１ 溶解性 下記に示す本発明化合物１〜６と、比較化合物１〜４に
ついて、水−エタノール混合溶液中の各温度条件での溶
解性について試験した。すなわち、水とエタノールを体
積比１０：０、８：２、６：４、４：６、２：８に調製
した各混合溶媒に各化合物を加え１０重量％試験溶液を
調製した。これを２５℃と５℃で７日間放置した場合、
それぞれの温度条件での溶解性を試験した。ここで各溶
液が均一に溶解しているものを○、溶解せず固体が析出
しているものを×として評価した。
ついて、水−エタノール混合溶液中の各温度条件での溶
解性について試験した。すなわち、水とエタノールを体
積比１０：０、８：２、６：４、４：６、２：８に調製
した各混合溶媒に各化合物を加え１０重量％試験溶液を
調製した。これを２５℃と５℃で７日間放置した場合、
それぞれの温度条件での溶解性を試験した。ここで各溶
液が均一に溶解しているものを○、溶解せず固体が析出
しているものを×として評価した。
【００３７】結果を表１に示す。 化合物１：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノン（製造例１） (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：グルコース残基、ｎ＝１） 化合物２：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン（製造例２） (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物３：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3：メチル基、Ｒ4，Ｒ5，
Ｒ6：水素原子、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物４：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1,2-シ゛メチルエトキシ)ヘ゛ンソ
゛フェノン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ6：メチル基、Ｒ4，
Ｒ5：水素原子、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物５：2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)-2-メチ
ルエトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝２） 化合物６：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-エチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：エチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 比較化合物１：2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノン
ナトリウム塩 比較化合物２：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 比較化合物３：2-ヒト゛ロキシ-4-(3-マルトシロキシフ゜ロホ゜キシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノン 比較化合物４：2-ヒト゛ロキシ-4-(4-マルトシロキシフ゛トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
ノン（製造例１） (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：グルコース残基、ｎ＝１） 化合物２：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン（製造例２） (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物３：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3：メチル基、Ｒ4，Ｒ5，
Ｒ6：水素原子、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物４：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1,2-シ゛メチルエトキシ)ヘ゛ンソ
゛フェノン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ6：メチル基、Ｒ4，
Ｒ5：水素原子、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 化合物５：2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)-2-メチ
ルエトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：メチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝２） 化合物６：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-エチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (Ｒ1，Ｒ2：水素原子、Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5：水素原子、
Ｒ6：エチル基、Ａ：マルトース残基、ｎ＝１） 比較化合物１：2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノン
ナトリウム塩 比較化合物２：2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 比較化合物３：2-ヒト゛ロキシ-4-(3-マルトシロキシフ゜ロホ゜キシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノン 比較化合物４：2-ヒト゛ロキシ-4-(4-マルトシロキシフ゛トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
【００３８】
【表１】 ──────────────────────────────────── 化 合 物 比 較 化 合 物 １ ２ ３ ４ ５ ６ １ ２ ３ ４ ──────────────────────────────────── ［２５℃］ 水 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ 水:エタノール＝8:2 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ 水:エタノール＝6:4 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ 水:エタノール＝4:6 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ 水:エタノール＝2:8 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ ──────────────────────────────────── ［５℃］ 水 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × 水:エタノール＝8:2 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × 水:エタノール＝6:4 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × 水:エタノール＝4:6 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × 水:エタノール＝2:8 ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × ────────────────────────────────────
【００３９】表１の結果より明らかなように、本発明の
化合物１〜６はいずれの温度条件下においても水−エタ
ノール混合溶媒に対して１０重量％以上の優れた溶解性
を示した。これに対し、比較化合物１は水及び水−エタ
ノール混合溶媒に対していずれの温度条件下においても
固体の析出が認められた。また、比較化合物２〜４にお
いては、２５℃での溶解性は良いものの低温では固体の
析出が認められた。
化合物１〜６はいずれの温度条件下においても水−エタ
ノール混合溶媒に対して１０重量％以上の優れた溶解性
を示した。これに対し、比較化合物１は水及び水−エタ
ノール混合溶媒に対していずれの温度条件下においても
固体の析出が認められた。また、比較化合物２〜４にお
いては、２５℃での溶解性は良いものの低温では固体の
析出が認められた。
【００４０】すなわち、本発明の化合物２及び３と、比
較化合物２とを比較すると、本発明の化合物は４位のエ
トキシ基の１若しくは２位にメチル基を有している点で
相違する。両者の溶解性を比較すると、２５℃において
はいずれも高い溶解性を示すが、比較化合物２では低温
時において、固体の析出が認められる。また、本発明の
化合物２及び３と、比較化合物３とを比較すると、いず
れも４位のアルキル基の炭素数が３である点で共通す
る。両者の溶解性を比較すると、比較化合物３において
は、低温時の固体の析出が認められる。以上のことか
ら、低温時の溶解性は炭素数の増加に起因するものでは
なく、４位のエトキシ基が分岐を持つことに起因するこ
とが示唆される。
較化合物２とを比較すると、本発明の化合物は４位のエ
トキシ基の１若しくは２位にメチル基を有している点で
相違する。両者の溶解性を比較すると、２５℃において
はいずれも高い溶解性を示すが、比較化合物２では低温
時において、固体の析出が認められる。また、本発明の
化合物２及び３と、比較化合物３とを比較すると、いず
れも４位のアルキル基の炭素数が３である点で共通す
る。両者の溶解性を比較すると、比較化合物３において
は、低温時の固体の析出が認められる。以上のことか
ら、低温時の溶解性は炭素数の増加に起因するものでは
なく、４位のエトキシ基が分岐を持つことに起因するこ
とが示唆される。
【００４１】同様に、本発明化合物４と、比較化合物４
とを比較すると、いずれも４位のアルキル基の有する炭
素数が４である点で共通する。この場合においても分岐
を持たない比較化合物４では低温時における固体の析出
が認められた。このことからも分岐が低温時の溶解性の
改善に寄与していると示唆される。なお本発明の化合物
６のように、前記化２のｎを２とした場合であっても、
同様にいずれの温度条件下でも固体の析出は認められな
かった。以上のことから、本発明のベンゾフェノン誘導
体は水及び水−エタノール混合溶媒に対し、高い溶解度
を有し、低温で長期に渡って保存した場合であっても固
体が析出することがなく、よってこれを配合した皮膚外
用剤は従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比べ
て製品安定性に優れたものである。
とを比較すると、いずれも４位のアルキル基の有する炭
素数が４である点で共通する。この場合においても分岐
を持たない比較化合物４では低温時における固体の析出
が認められた。このことからも分岐が低温時の溶解性の
改善に寄与していると示唆される。なお本発明の化合物
６のように、前記化２のｎを２とした場合であっても、
同様にいずれの温度条件下でも固体の析出は認められな
かった。以上のことから、本発明のベンゾフェノン誘導
体は水及び水−エタノール混合溶媒に対し、高い溶解度
を有し、低温で長期に渡って保存した場合であっても固
体が析出することがなく、よってこれを配合した皮膚外
用剤は従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比べ
て製品安定性に優れたものである。
【００４２】試験例２ 日焼け止めテスト ［美容液の製造］表２に示す処方にて、紫外線吸収剤を
含まない美容液（比較例１）、本発明化合物を配合した
美容液（配合例１）と２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩を
配合した美容液（対照例１）の製造を行った。
含まない美容液（比較例１）、本発明化合物を配合した
美容液（配合例１）と２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩を
配合した美容液（対照例１）の製造を行った。
【００４３】
【表２】 ──────────────────────────────────── 成分 比較例１ 配合例１ 対照例１ ──────────────────────────────────── （アルコール相） エタノール ５．０ ５．０ ５．０ ＰＯＥオレイルアルコールエーテル ２．０ ２．０ ２．０ 香料 適 量 適 量 適 量 （水相） １，３−ブチレングリコール ５．０ ５．０ ５．０ ベンゾフェノン誘導体（製造例１） − ８．０ − 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノンナトリウム 塩 − − ８．０ トリエタノールアミン ０．１ ０．１ ０．１ カルボキシビニルポリマー ０．１５ ０．１５ ０．１５ 精製水 残 余 残 余 残 余 ──────────────────────────────────── 形状 ゲル状 ゲル状 液状 ────────────────────────────────────
【００４４】定法にて美容液の製造を行い、外観を観察
したところ、配合例１のものは比較例１の形状を保ちゲ
ル状を示し、対照例１のものはゲル状態が破壊された。
対照例１ではイオン性の２−ヒドロキシ−４−メトキシ
−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩
を配合するため、系のｐＨが変化してこれが形状の変化
を引き起こしたものと思われる。以上の結果から、本発
明の紫外線吸収剤は、非イオン性であるので、系の性状
を破壊することなく、良好な相溶性を示した。
したところ、配合例１のものは比較例１の形状を保ちゲ
ル状を示し、対照例１のものはゲル状態が破壊された。
対照例１ではイオン性の２−ヒドロキシ−４−メトキシ
−５−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩
を配合するため、系のｐＨが変化してこれが形状の変化
を引き起こしたものと思われる。以上の結果から、本発
明の紫外線吸収剤は、非イオン性であるので、系の性状
を破壊することなく、良好な相溶性を示した。
【００４５】［日焼け止めテスト］上記の通り製造した
配合例１及び対照例１の２つの美容液を用いて、海浜で
の実使用テストを行った。試験方法はサンプルをパネル
１０名の左右半々にそれぞれ塗布し、日焼けの程度を以
下の基準に従って評価した。 ○…ほとんど日焼け症状が認められなかった △…軽度の日焼け症状が認められた ×…強度の日焼け症状が認められた 結果を表３に示す。
配合例１及び対照例１の２つの美容液を用いて、海浜で
の実使用テストを行った。試験方法はサンプルをパネル
１０名の左右半々にそれぞれ塗布し、日焼けの程度を以
下の基準に従って評価した。 ○…ほとんど日焼け症状が認められなかった △…軽度の日焼け症状が認められた ×…強度の日焼け症状が認められた 結果を表３に示す。
【００４６】
【表３】 ──────────────────────────────────── 評価 配合例１ 対照例１ ──────────────────────────────────── ○ ７ ２ △ ３ ５ × ０ ３ ────────────────────────────────────
【００４７】上記結果より明らかなように、配合例１の
皮膚外用剤を塗布した場合、７０％のパネラーは日焼け
がほとんど認められず、残りの３０％のパネラーについ
ては軽度の日焼け症状が認められたに過ぎず、重度の日
焼け症状が認められたパネラーはいなかった。これに対
し、対照例１の皮膚外用剤を塗布した場合、８０％のパ
ネラーが重度または軽度の日焼け症状を訴え、３０％の
パネラーに重度の日焼け症状が認められた。また、配合
例１の塗布部では皮膚トラブルは全く見られなかった
が、対照例１の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といった
トラブルを生じたパネラーが認められた。
皮膚外用剤を塗布した場合、７０％のパネラーは日焼け
がほとんど認められず、残りの３０％のパネラーについ
ては軽度の日焼け症状が認められたに過ぎず、重度の日
焼け症状が認められたパネラーはいなかった。これに対
し、対照例１の皮膚外用剤を塗布した場合、８０％のパ
ネラーが重度または軽度の日焼け症状を訴え、３０％の
パネラーに重度の日焼け症状が認められた。また、配合
例１の塗布部では皮膚トラブルは全く見られなかった
が、対照例１の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といった
トラブルを生じたパネラーが認められた。
【００４８】以上のことから本発明のベンゾフェノン誘
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも高い紫外線防御効果を有
し、紫外線による日焼けを防止し、しかも皮膚トラブル
を生じることがないことが明らかとなった。
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも高い紫外線防御効果を有
し、紫外線による日焼けを防止し、しかも皮膚トラブル
を生じることがないことが明らかとなった。
【００４９】以下、本発明にかかる皮膚外用剤の配合例
を説明する。なお、各皮膚外用剤ともに優れた紫外線防
御効果を示し、長時間使用した場合にも皮膚トラブルを
生じることがなかった。また、ベンゾフェノン誘導体は
皮膚外用剤中に均一に溶解し、低温で長期に渡って保存
した場合にも固体が析出することはなかった。
を説明する。なお、各皮膚外用剤ともに優れた紫外線防
御効果を示し、長時間使用した場合にも皮膚トラブルを
生じることがなかった。また、ベンゾフェノン誘導体は
皮膚外用剤中に均一に溶解し、低温で長期に渡って保存
した場合にも固体が析出することはなかった。
【００５０】配合例２ クリーム Ａ．油相 ステアリン酸 １０．０％ ステアリルアルコール ４．０ ステアリン酸モノグリセリンエステル ８．０ ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ８．０ ビタミンＥアセテート ０．５ 香料 ０．４ エチルパラベン ０．１ ブチルパラベン ０．１ プロピルパラベン ０．１ Ｂ．水相 プロピレングリコール ８．０ グリセリン ２．０ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ６．２ 水酸化ナトリウム ０．４ エデト酸三ナトリウム ０．０５ 精製水 残 余 ＜製法＞Ａの油相部とＢの水相部をそれぞれ７０℃に加
熱し完全に溶解する。Ａ相をＢ相に加えて、乳化機で乳
化する。乳化物を熱交換機を用いて冷却してクリームを
得た。
熱し完全に溶解する。Ａ相をＢ相に加えて、乳化機で乳
化する。乳化物を熱交換機を用いて冷却してクリームを
得た。
【００５１】配合例３ クリーム Ａ．油相 セタノール ４．０％ ワセリン ７．０ イソプロピルミリステート ８．０ スクワラン １２．０ ジメチルポリシロキサン ３．０ ステアリン酸モノグリセリンエステル ２．２ ＰＯＥ（２０）ソルビタンモノステアレート ２．８ グリチルレチン酸ステアレートＢＨＴ ０．０２ エチルパラベン ０．１ ブチルパラベン ０．１ Ｂ．水相 １，３−ブチレングリコール ７．０ エデト酸二ナトリウム ０．０７ フェノキシエタノール ０．２ Ｌ−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩 ３．０ ポリアクリル酸アルキルエステル １．０ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ７．０ 精製水 残 余 ＜製法＞配合例２に準じてクリームを得た。
【００５２】配合例４ 乳液 Ａ．油相 スクワラン ５．０％ オレイルオレート ３．０ ワセリン ２．０ ソルビタンセスキオレイン酸エステル ０．８ ポリオキシエチレンオレイルエーテル（20E.O.） １．２ ｐ−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル ３．０ メチルパラベン ０．１５ 香料 ０．１２ Ｂ．水相 ジプロピレングリコール ５．０ エタノール ３．０ カルボキシビニルポリマー ０．１７ ヒアルロン酸ナトリウム ０．１ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ３．１ 水酸化カリウム ０．０８ ヘキサメタリン酸ナトリウム ０．０５ 精製水 残 余 ＜製法＞配合例２に準じて乳液を得た。
【００５３】配合例５ クリーム Ａ．油相 ベヘニルアルコール ０．５％ １２−ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル ２．０ スクワラン ７．０ ホホバオイル ５．０ 自己乳化型モノステアリン酸グリセリン ２．５ホ゜リオキシエチレンソルヒ゛タンモノステアリン 酸エステル(20E.O) １．５ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ３．０ エチルパラベン ０．２ ブチルパラベン ０．１ 香料 ０．１ Ｂ．水相 プロピレングリコール ６．０ グリセリン ５．０ ギーガム（モンモリロナイト） ３．０ 水酸化カリウム ０．３ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ラクトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン ７．０ エデト酸三ナトリウム ０．０８ 精製水 残 余 ＜製法＞配合例２に準じてクリームを得た。
【００５４】配合例６ 粉末入り化粧水 Ａ．油相 エタノール ８．０％ ＰＯＥ（６０）グリセリルモノイソステアレート ２．０ Ｌ−メントール ０．１ カンファー ０．１ メチルパラベン ０．１ 香料 ０．０３ Ｂ．水相 グリセリン ３．０ 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン １．７ カオリン ０．５ ベントナイト ０．３ ヘキサメタリン酸ナトリウム ０．０３ 精製水 残 余 ＜製法＞油相、水相を７０℃で混合して化粧水を得た。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、本発明にかかるベンゾフ
ェノン誘導体によれば、優れた紫外線吸収能及び温度に
依存しない優れた極性溶媒相溶性を有し、極性基剤に対
して配合することが可能である。また、本発明のベンゾ
フェノン誘導体を配合することにより高い紫外線防御効
果を発揮し、優れた製品安定性を有する皮膚外用剤が得
られる。特に、外用基剤として水及び低級アルコールを
用いた処方で好適に機能する。
ェノン誘導体によれば、優れた紫外線吸収能及び温度に
依存しない優れた極性溶媒相溶性を有し、極性基剤に対
して配合することが可能である。また、本発明のベンゾ
フェノン誘導体を配合することにより高い紫外線防御効
果を発揮し、優れた製品安定性を有する皮膚外用剤が得
られる。特に、外用基剤として水及び低級アルコールを
用いた処方で好適に機能する。
【図１】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
【図２】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
【図３】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
【図４】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
（２−グルコシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
【図５】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
【図６】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
【図７】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルの説明図である。
【図８】本発明の一実施例に係る２−ヒドロキシ−４−
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
（２−マルトシロキシ−２−メチルエトキシ）ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 英夫 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株 式会社資生堂第一リサーチセンター内
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式化１で表されるベンゾフェノ
ン誘導体。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜
４のアルコキシ基で表される。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は、
水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を表し、Ｒ3〜
Ｒ6のいずれか１つ以上がアルキル基を表すことを特徴
とする。Ａは保護基のない糖残基、ｎは１又は２を示
す。） - 【請求項２】 請求項１記載の化合物において、Ｒ1及
びＲ2が水素原子、Ｒ3〜Ｒ6のいずれか一つがメチル
基、Ａがグルコース残基又はマルトース残基、ｎが１で
あるベンゾフェノン誘導体。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載のベンゾフェノン誘
導体よりなる紫外線吸収剤。 - 【請求項４】 請求項３記載の紫外線吸収剤を一種又は
二種以上含有することを特徴とする皮膚外用剤。 - 【請求項５】 請求項４記載の皮膚外用剤において、外
用基剤として低級アルコール及び水を含むことを特徴と
する皮膚外用剤。 - 【請求項６】 請求項５記載の皮膚外用剤において、低
級アルコールがエタノールであることを特徴とする皮膚
外用剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8099243A JPH09255696A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8099243A JPH09255696A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09255696A true JPH09255696A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=14242264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8099243A Withdrawn JPH09255696A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09255696A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024058024A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | グリコシドの製造方法 |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP8099243A patent/JPH09255696A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024058024A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | グリコシドの製造方法 |
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