JP3143832B2 - 感光性ガラスの加工方法 - Google Patents
感光性ガラスの加工方法Info
- Publication number
- JP3143832B2 JP3143832B2 JP30344291A JP30344291A JP3143832B2 JP 3143832 B2 JP3143832 B2 JP 3143832B2 JP 30344291 A JP30344291 A JP 30344291A JP 30344291 A JP30344291 A JP 30344291A JP 3143832 B2 JP3143832 B2 JP 3143832B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive glass
- etching
- exposure
- laser
- depth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims description 54
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 49
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/04—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性ガラスをエッチ
ングにより加工する方法に関する。
ングにより加工する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、感光性ガラスにエッチングにより
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなど微細な
形状を形成する方法がある。この方法は、紫外線ランプ
の照射により感光性ガラスの所望の部分を露光し（露光
工程）、感光性ガラスを５００〜７００℃に加熱して露
光部を結晶化させ（熱現像工程）、結晶化した露光部を
エッチング液（フッ化水素酸溶液）により溶解させて除
去する（エッチング工程）方法である。なお、紫外線ラ
ンプとしては、高圧水銀ランプなどが用いられている。
加工を施し、インクジェットプリンタヘッドなど微細な
形状を形成する方法がある。この方法は、紫外線ランプ
の照射により感光性ガラスの所望の部分を露光し（露光
工程）、感光性ガラスを５００〜７００℃に加熱して露
光部を結晶化させ（熱現像工程）、結晶化した露光部を
エッチング液（フッ化水素酸溶液）により溶解させて除
去する（エッチング工程）方法である。なお、紫外線ラ
ンプとしては、高圧水銀ランプなどが用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では、感光
性ガラス板に形成した結晶化した露光部をエッチングし
て溝などを加工する時のエッチング深さの制御は、エッ
チング時間やエッチング液の温度や濃度などエッチング
条件で行っていた。しかし結晶化した露光部のエッチン
グ速度は、エッチング条件だけでなく、露光強度や熱現
像条件など他の要因でも変動する。更にエッチング液の
疲労や、エッチングによって溶解した感光性ガラスのエ
ッチング液中への混入などや、エッチング液の当り方な
どの諸々の影響によりエッチング速度が変化するため、
エッチング深さの制御は極めて難しかった。
性ガラス板に形成した結晶化した露光部をエッチングし
て溝などを加工する時のエッチング深さの制御は、エッ
チング時間やエッチング液の温度や濃度などエッチング
条件で行っていた。しかし結晶化した露光部のエッチン
グ速度は、エッチング条件だけでなく、露光強度や熱現
像条件など他の要因でも変動する。更にエッチング液の
疲労や、エッチングによって溶解した感光性ガラスのエ
ッチング液中への混入などや、エッチング液の当り方な
どの諸々の影響によりエッチング速度が変化するため、
エッチング深さの制御は極めて難しかった。
【０００４】また、結晶化した露光部のエッチング面の
表面粗さが大きいという問題があった。インクジェット
ヘッドへ利用する場合、表面粗さの大きい面でのインク
流路では、インクに混入した気泡が停滞し、インク射出
特性に悪影響を及ぼす問題があり、更にマイクロマシー
ニングなどへの利用の場合には、摩擦が大きく、機械的
駆動部が動き難くなるという問題があった。
表面粗さが大きいという問題があった。インクジェット
ヘッドへ利用する場合、表面粗さの大きい面でのインク
流路では、インクに混入した気泡が停滞し、インク射出
特性に悪影響を及ぼす問題があり、更にマイクロマシー
ニングなどへの利用の場合には、摩擦が大きく、機械的
駆動部が動き難くなるという問題があった。
【０００５】更に複数の異なるエッチング深さの加工
を、１回のエッチングで行うことは困難であった。そこ
で本発明の目的は、感光性ガラスの加工に際して、エッ
チング深さの制御を容易にし、エッチング面の表面粗さ
を小さくすることを可能にし、さらに１回のエッチング
によって深さの異なるエッチング加工を可能にすること
にある。
を、１回のエッチングで行うことは困難であった。そこ
で本発明の目的は、感光性ガラスの加工に際して、エッ
チング深さの制御を容易にし、エッチング面の表面粗さ
を小さくすることを可能にし、さらに１回のエッチング
によって深さの異なるエッチング加工を可能にすること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の感光性ガラスの加工方法は、感光性ガラスを
レーザーによって所定のパターンに露光する露光工程
と、露光部を結晶化する熱現像工程と、結晶部を除去す
るエッチング工程を経て、上記感光性ガラスに上記パタ
ーンに対応した溝を形成する加工方法であって、上記レ
ーザーとして上記 感光性ガラスの感度波長域を含むパル
ス発振制御型のものを用い、 上記露光工程は、上記レ
ーザーから複数パルスを上記感光性ガラスに照射するこ
とにより、上記結晶部を所定深さに形成するのに必要な
総露光量を与えることを特徴とする。上記露光手段の感
光性ガラスの感度波長域を含むパルス発振制御型のレー
ザーは、ＸｅＣｌエキシマレーザーが望ましい。
に本発明の感光性ガラスの加工方法は、感光性ガラスを
レーザーによって所定のパターンに露光する露光工程
と、露光部を結晶化する熱現像工程と、結晶部を除去す
るエッチング工程を経て、上記感光性ガラスに上記パタ
ーンに対応した溝を形成する加工方法であって、上記レ
ーザーとして上記 感光性ガラスの感度波長域を含むパル
ス発振制御型のものを用い、 上記露光工程は、上記レ
ーザーから複数パルスを上記感光性ガラスに照射するこ
とにより、上記結晶部を所定深さに形成するのに必要な
総露光量を与えることを特徴とする。上記露光手段の感
光性ガラスの感度波長域を含むパルス発振制御型のレー
ザーは、ＸｅＣｌエキシマレーザーが望ましい。
【０００７】また上記の露光工程は感光性ガラス板表面
の複数の位置に対し行われるものであり、各位置によっ
て総露光量はそれぞれ異なる量とすると、深さの異なる
溝を加工するのに好適である。
の複数の位置に対し行われるものであり、各位置によっ
て総露光量はそれぞれ異なる量とすると、深さの異なる
溝を加工するのに好適である。
【０００８】本発明者は、感光性ガラスを、好ましくは
エキシマレーザーで露光し熱現像する際に、エッチング
速度が非結晶部分と比べエッチングを受け易い結晶を形
成する最小限程度の露光量の時に、エッチングを受け易
い結晶を、薄い板厚の感光性ガラスにおいても板厚を貫
通しない深さで形成できることを発見した。
エキシマレーザーで露光し熱現像する際に、エッチング
速度が非結晶部分と比べエッチングを受け易い結晶を形
成する最小限程度の露光量の時に、エッチングを受け易
い結晶を、薄い板厚の感光性ガラスにおいても板厚を貫
通しない深さで形成できることを発見した。
【０００９】この結論に至る実験データを図９、図１０
に示している。図１０に感光性ガラスの透過率と相対露
光感度を示す。例えば感光性ガラスの感度波長域の３０
８nmの発信波長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーを使用
する場合、図１０からわかるように感光性ガラスの透過
率は板厚１mmで約３０％である。よって感光性ガラス板
の裏面に及ぶ総露光量は表面の３０％である。よって裏
面ではエッチングを受け易い結晶部を形成するのに必要
な総露光量に達しない。
に示している。図１０に感光性ガラスの透過率と相対露
光感度を示す。例えば感光性ガラスの感度波長域の３０
８nmの発信波長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーを使用
する場合、図１０からわかるように感光性ガラスの透過
率は板厚１mmで約３０％である。よって感光性ガラス板
の裏面に及ぶ総露光量は表面の３０％である。よって裏
面ではエッチングを受け易い結晶部を形成するのに必要
な総露光量に達しない。
【００１０】よって露光量を決定し所定の深さだけエッ
チングを受けやすい結晶部を形成することができる。図
９からわかるように１パルス当りのエネルギー強度が８
０mJ／cm2のＸｅＣｌエキシマレーザーで露光し、総露
光量１６０mJ／cm2及び３２０mJ／cm2とし、フッ化水素
酸（ＨＦ）６％溶液からなる液温２５℃のエッチング液
を用いて、シャワー圧力３ｋｇ／cm2でエッチングし、
エッチング深さを調べた結果、総露光量１６０mJ／cm2
ではエッチング深さが約１．０mm，総露光量３２０mJ／
cm2ではエッチング深さが約１．３mmとそれぞれ深さが
変ることが判る。
チングを受けやすい結晶部を形成することができる。図
９からわかるように１パルス当りのエネルギー強度が８
０mJ／cm2のＸｅＣｌエキシマレーザーで露光し、総露
光量１６０mJ／cm2及び３２０mJ／cm2とし、フッ化水素
酸（ＨＦ）６％溶液からなる液温２５℃のエッチング液
を用いて、シャワー圧力３ｋｇ／cm2でエッチングし、
エッチング深さを調べた結果、総露光量１６０mJ／cm2
ではエッチング深さが約１．０mm，総露光量３２０mJ／
cm2ではエッチング深さが約１．３mmとそれぞれ深さが
変ることが判る。
【００１１】このことから、所望のエッチング深さを決
定すると、照射すべき総露光量が決まるので、これを露
光し、その後で熱現像し、エッチングを行えば良いこと
が明らかとなった。
定すると、照射すべき総露光量が決まるので、これを露
光し、その後で熱現像し、エッチングを行えば良いこと
が明らかとなった。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。 実施例１ まず、図１〜図４に基づいて、本発明に係る加工方法に
より感光性ガラス製のインクジェットプリンタヘッドの
流路基板を製造する方法を工程順に説明する。図１に示
すように、第１の工程では、板厚２mmの感光性ガラス板
１０の表面１０ａを研磨し、上方にレーザー発振器１を
配置して、レーザー１ａを露光マスク２を介して感光性
ガラス板の表面１０ａに照射する。露光マスク２には感
光性ガラス板１０の表面に形成すべき溝に対応した露光
パターン（アパーチャー）２ａ，２ａと、その他の部分
の遮光部２ｂとが形成してある。
て説明する。 実施例１ まず、図１〜図４に基づいて、本発明に係る加工方法に
より感光性ガラス製のインクジェットプリンタヘッドの
流路基板を製造する方法を工程順に説明する。図１に示
すように、第１の工程では、板厚２mmの感光性ガラス板
１０の表面１０ａを研磨し、上方にレーザー発振器１を
配置して、レーザー１ａを露光マスク２を介して感光性
ガラス板の表面１０ａに照射する。露光マスク２には感
光性ガラス板１０の表面に形成すべき溝に対応した露光
パターン（アパーチャー）２ａ，２ａと、その他の部分
の遮光部２ｂとが形成してある。
【００１３】使用されるレーザーとしては、感光性ガラ
スの感度波長域１５０〜４００nmを含むパルス発振制御
型のレーザーが選ばれ、この例では、３０８nmの発振波
長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーを使用した。またこ
の露光の際のＸｅＣｌエキシマレーザーの１パルス当り
のエネルギー強度は、８０mJ／cm2とし、２パルス程度
照射し、総露光量を１６０mJ／cm2程度を与えた。この
照射によって感光性ガラス板１０の表面１０ａには、露
光パターン２ａに対応した露光部１１，１１が形成され
るが、総露光量が少なくかつ等しいので、いずれも裏面
１０ｂまでは露光部は形成されず、所定の深さまでに止
まる。
スの感度波長域１５０〜４００nmを含むパルス発振制御
型のレーザーが選ばれ、この例では、３０８nmの発振波
長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーを使用した。またこ
の露光の際のＸｅＣｌエキシマレーザーの１パルス当り
のエネルギー強度は、８０mJ／cm2とし、２パルス程度
照射し、総露光量を１６０mJ／cm2程度を与えた。この
照射によって感光性ガラス板１０の表面１０ａには、露
光パターン２ａに対応した露光部１１，１１が形成され
るが、総露光量が少なくかつ等しいので、いずれも裏面
１０ｂまでは露光部は形成されず、所定の深さまでに止
まる。
【００１４】図２に示すように、感光性ガラス板１０を
５００〜７００℃程度に加熱し、露光部１１を結晶化す
る熱現像を行って、結晶部１１ａを形成する。結晶部１
１ａの下方は非結晶部１１ｂである。
５００〜７００℃程度に加熱し、露光部１１を結晶化す
る熱現像を行って、結晶部１１ａを形成する。結晶部１
１ａの下方は非結晶部１１ｂである。
【００１５】次に図３に示すように、この感光性ガラス
板１０にフッ化水素酸（ＨＦ）６％溶液を２５℃の液温
に保ったエッチング液を用いて、シャワー圧力３kgｆ／
cm2でエッチングを行い、結晶部１１ａ，１１ａを溶解
除去させて溝部１２，１２を形成する。このエッチング
により、図９に示すように、等しい深さ約１．０mmの溝
部１２，１２となるので、これをインク流路とするイン
クジェットプリンタヘッドの流路基板が形成される。
板１０にフッ化水素酸（ＨＦ）６％溶液を２５℃の液温
に保ったエッチング液を用いて、シャワー圧力３kgｆ／
cm2でエッチングを行い、結晶部１１ａ，１１ａを溶解
除去させて溝部１２，１２を形成する。このエッチング
により、図９に示すように、等しい深さ約１．０mmの溝
部１２，１２となるので、これをインク流路とするイン
クジェットプリンタヘッドの流路基板が形成される。
【００１６】図４に示すインクジェットプリンタヘッド
は、上記のようにして形成した感光性ガラスからなる基
板の表面に振動板３を貼着し、振動板の外面の所定位置
に圧電素子４を設けたものである。このインクジェット
プリンタヘッドは、図示しないインク供給手段からイン
ク流路１２内にインクが充填されており、圧電素子４に
電圧が印加されたときに、振動板３が内方へ変形して流
路内のインクが加圧され、インクがインク射出口から噴
出して印字が行われる。
は、上記のようにして形成した感光性ガラスからなる基
板の表面に振動板３を貼着し、振動板の外面の所定位置
に圧電素子４を設けたものである。このインクジェット
プリンタヘッドは、図示しないインク供給手段からイン
ク流路１２内にインクが充填されており、圧電素子４に
電圧が印加されたときに、振動板３が内方へ変形して流
路内のインクが加圧され、インクがインク射出口から噴
出して印字が行われる。
【００１７】実施例２ 次に、図５〜図８に示す実施例では、感光性ガラス板の
表面に深さの異なる複数の溝を形成する方法を示してい
る。図５に示すように、第１の露光工程では、板厚３mm
の感光性ガラス板２０の表面２０ａを研磨し、上方に実
施例１と同じレーザー発振器１を配置して、レーザー１
ａを露光マスク５を介して感光性ガラス板の表面２０ａ
に照射する。露光マスク５には感光性ガラス２０の表面
に形成される浅い溝の形状の露光パターン５ａと、その
他の部分に遮光部５ｂとが形成してある。
表面に深さの異なる複数の溝を形成する方法を示してい
る。図５に示すように、第１の露光工程では、板厚３mm
の感光性ガラス板２０の表面２０ａを研磨し、上方に実
施例１と同じレーザー発振器１を配置して、レーザー１
ａを露光マスク５を介して感光性ガラス板の表面２０ａ
に照射する。露光マスク５には感光性ガラス２０の表面
に形成される浅い溝の形状の露光パターン５ａと、その
他の部分に遮光部５ｂとが形成してある。
【００１８】使用されるレーザーは実施例１と同じ３０
８nmの発振波長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーで、１
パルス当りのエネルギー強度は８０mJ／cm2とし、２パ
ルス程度照射し、総露光量を１６０mJ／cm2程度を与え
た。この照射によって感光性ガラス板２０の表面２０ａ
には、露光パターン５ａに対応した露光部２１が形成さ
れるが、総露光量が少ないので、裏面２０ｂまでは露光
部は形成されず、所定の深さまでに止まり、所定の深さ
より深くには露光部は形成されない。
８nmの発振波長を持つＸｅＣｌエキシマレーザーで、１
パルス当りのエネルギー強度は８０mJ／cm2とし、２パ
ルス程度照射し、総露光量を１６０mJ／cm2程度を与え
た。この照射によって感光性ガラス板２０の表面２０ａ
には、露光パターン５ａに対応した露光部２１が形成さ
れるが、総露光量が少ないので、裏面２０ｂまでは露光
部は形成されず、所定の深さまでに止まり、所定の深さ
より深くには露光部は形成されない。
【００１９】図６に示すように、第２の露光工程では、
レーザー１ａを露光マスク６を介して感光性ガラス板の
表面２０ａに照射する。露光マスク６には感光性ガラス
２０の表面の別の位置に形成される深い溝の形状の露光
パターン６ａと、その他の部分に遮光部６ｂとが形成し
てある。この度の照射では、レーザー１ａの１パルス当
りのエネルギー強度は８０mJ／cm2とし、４パルス程度
照射して、総露光量を３２０mJ／cm2程度を与えた。こ
の照射によって感光性ガラス板２０の表面２０ａには、
露光パターン６ａに対応した露光部２２が形成される
が、総露光量が第１の露光工程の場合よりも多いので、
露光部２１の深さよりは深いが裏面２０ｂまでは露光部
が形成されず、所定の深さまでに止まり、所定の深さよ
り深くには露光部は形成されない。
レーザー１ａを露光マスク６を介して感光性ガラス板の
表面２０ａに照射する。露光マスク６には感光性ガラス
２０の表面の別の位置に形成される深い溝の形状の露光
パターン６ａと、その他の部分に遮光部６ｂとが形成し
てある。この度の照射では、レーザー１ａの１パルス当
りのエネルギー強度は８０mJ／cm2とし、４パルス程度
照射して、総露光量を３２０mJ／cm2程度を与えた。こ
の照射によって感光性ガラス板２０の表面２０ａには、
露光パターン６ａに対応した露光部２２が形成される
が、総露光量が第１の露光工程の場合よりも多いので、
露光部２１の深さよりは深いが裏面２０ｂまでは露光部
が形成されず、所定の深さまでに止まり、所定の深さよ
り深くには露光部は形成されない。
【００２０】図７に示すように、感光性ガラス板２０を
５００〜７００℃程度に加熱し、露光部２１，２２を結
晶化する熱現像を行って、結晶部２１ａ，２２ａを形成
する。これらの結晶部２１ａ，２２ａの下方はいずれも
非結晶部２１ｂ，２２ｂである。
５００〜７００℃程度に加熱し、露光部２１，２２を結
晶化する熱現像を行って、結晶部２１ａ，２２ａを形成
する。これらの結晶部２１ａ，２２ａの下方はいずれも
非結晶部２１ｂ，２２ｂである。
【００２１】次に図８に示すように、実施例１と同様の
エッチングを行い、結晶部２１ａ，２２ａを溶解除去さ
せて溝部２３，２４を形成する。このエッチングによ
り、図９に示すように、溝部２３では深さ約１．０mm
に、また溝部２４では深さ約１．３mmになり、１度のエ
ッチングにより深さの異なる溝部が形成される。
エッチングを行い、結晶部２１ａ，２２ａを溶解除去さ
せて溝部２３，２４を形成する。このエッチングによ
り、図９に示すように、溝部２３では深さ約１．０mm
に、また溝部２４では深さ約１．３mmになり、１度のエ
ッチングにより深さの異なる溝部が形成される。
【００２２】実施例１，２のいずれにおいても、エッチ
ング工程では、結晶部１１ａまたは２１ａ，２２ａの下
方の非結晶部も僅かながらエッチングされるが、そのエ
ッチング速度は結晶部の２０分の１程度であるので、こ
のエッチング深さをも予め考慮して総露光量を定めれば
良い。
ング工程では、結晶部１１ａまたは２１ａ，２２ａの下
方の非結晶部も僅かながらエッチングされるが、そのエ
ッチング速度は結晶部の２０分の１程度であるので、こ
のエッチング深さをも予め考慮して総露光量を定めれば
良い。
【００２３】上記実施例においては、露光手段としてＸ
ｅｃｌエキシマレーザーを用いているが、レーザーとし
てはその他にもＸｅＦ（発振波長３５１nm），ＫｒＦ
（発振波長２４８nm），ＡｒＦ（発振波長１９３nm）エ
キシマレーザまたはＮ2レーザー（発振波長３３７nm）
等を用いてもよく、またＮｄ+とＹＡＧ（イットリウム
・アルミニウム・ガーネット）とを混合したレーザー，
色素レーザー，Ｋｒイオンレーザー，Ａｒイオンレーザ
ーまたは銅蒸気レーザーの基本発振波長光を非線形光学
素子などにより紫外域に変換したレーザーを用いてもよ
い。
ｅｃｌエキシマレーザーを用いているが、レーザーとし
てはその他にもＸｅＦ（発振波長３５１nm），ＫｒＦ
（発振波長２４８nm），ＡｒＦ（発振波長１９３nm）エ
キシマレーザまたはＮ2レーザー（発振波長３３７nm）
等を用いてもよく、またＮｄ+とＹＡＧ（イットリウム
・アルミニウム・ガーネット）とを混合したレーザー，
色素レーザー，Ｋｒイオンレーザー，Ａｒイオンレーザ
ーまたは銅蒸気レーザーの基本発振波長光を非線形光学
素子などにより紫外域に変換したレーザーを用いてもよ
い。
【００２４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明では、レ
ーザーとして感光性ガラスの感度波長域を含むパルス発
振制御型のものを用い、露光工程は、上記レーザーから
複数パルスを上記感光性ガラスに照射することにより、
結晶部を所定深さに形成するのに必要な総露光量を与え
るものであるため、時間管理が不要であり、かつ総露光
量の管理が容易になり、所望の深さにエッチングを受け
易い結晶部を形成することができる。エッチングにより
非結晶部が現れるので、エッチング面が滑らかとなり、
インクジェットプリンタヘッドのインク流路やマイクロ
マシーンの加工などに有効である。また複数パルスの照
射による露光工程の総露光量を変えて行うことにより、
異なる深さの溝を１回のエッチングにより精密に形成す
ることができ、加工が容易となる。
ーザーとして感光性ガラスの感度波長域を含むパルス発
振制御型のものを用い、露光工程は、上記レーザーから
複数パルスを上記感光性ガラスに照射することにより、
結晶部を所定深さに形成するのに必要な総露光量を与え
るものであるため、時間管理が不要であり、かつ総露光
量の管理が容易になり、所望の深さにエッチングを受け
易い結晶部を形成することができる。エッチングにより
非結晶部が現れるので、エッチング面が滑らかとなり、
インクジェットプリンタヘッドのインク流路やマイクロ
マシーンの加工などに有効である。また複数パルスの照
射による露光工程の総露光量を変えて行うことにより、
異なる深さの溝を１回のエッチングにより精密に形成す
ることができ、加工が容易となる。
【図１】本発明の実施例１の露光工程を示す正面図であ
る。
る。
【図２】同上の熱現像工程後の感光性ガラスの正面図で
ある。
ある。
【図３】同上のエッチング工程後の感光性ガラスの断面
図である。
図である。
【図４】同上の方法により製造した感光性ガラス製の基
板を用いたインクジェットプリンタヘッドの断面図であ
る。
板を用いたインクジェットプリンタヘッドの断面図であ
る。
【図５】本発明の実施例２の第１の露光工程を示す正面
図である。
図である。
【図６】同上の第２の露光工程を示す正面図である。
【図７】同上の熱現像工程後の感光性ガラスの正面図で
ある。
ある。
【図８】同上のエッチング工程後の感光性ガラスの断面
図である。
図である。
【図９】感光性ガラスのエッチング時間とエッチング深
さの関係図である。
さの関係図である。
【図１０】感光性ガラスの透過率と相対露光感度を示す
特性図である。
特性図である。
１ａ 露光手段 １０，２０ 感光性ガラス １１ａ，２１ａ，２２ａ 結晶部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−232731（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−139784（ＪＰ，Ａ) 実公 昭29−7327（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (3)
- 【請求項１】 感光性ガラスをレーザーによって所定の
パターンに露光する露光工程と、露光部を結晶化する熱
現像工程と、結晶部を除去するエッチング工程を経て、
上記感光性ガラスに上記パターンに対応した溝を形成す
る加工方法であって、上記レーザーとして上記感光性ガラスの感度波長域を含
むパルス発振制御型のものを用い、 上記露光工程は、上記レーザーから複数パルスを上記感
光性ガラスに照射することにより、上記結晶部を所定深
さに形成するのに必要な総露光量を与えることを特徴と
する感光性ガラスの加工方法。 - 【請求項２】 請求項１において、上記レーザーは、Ｘ
ｅＣ１エキシマレーザーであることを特徴とする感光性
ガラスの加工方法。 - 【請求項３】 請求項１において、上記露光工程は上記
感光性ガラス板表面の複数の位置に対し行われるもので
あり、各露光工程における総露光量は、それぞれ異なる
ことを特徴とする感光性ガラスの加工方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30344291A JP3143832B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの加工方法 |
| US07/975,196 US5314522A (en) | 1991-11-19 | 1992-11-12 | Method of processing photosensitive glass with a pulsed laser to form grooves |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30344291A JP3143832B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05139786A JPH05139786A (ja) | 1993-06-08 |
| JP3143832B2 true JP3143832B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=17921049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30344291A Expired - Fee Related JP3143832B2 (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | 感光性ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3143832B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4635480B2 (ja) * | 2004-06-14 | 2011-02-23 | 富士ゼロックス株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
| CN115745415A (zh) * | 2022-10-31 | 2023-03-07 | 信利光电股份有限公司 | 一种防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板及显示模组 |
-
1991
- 1991-11-19 JP JP30344291A patent/JP3143832B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05139786A (ja) | 1993-06-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5314522A (en) | Method of processing photosensitive glass with a pulsed laser to form grooves | |
| JP4532785B2 (ja) | 構造体の製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| EP0624471B1 (en) | Mask design for forming tapered inkjet nozzles | |
| JP5371992B2 (ja) | レーザーエッチングを用いたガラスクリシェの製造方法及びそのためのレーザー照射装置 | |
| JP4280574B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JPH05139787A (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JPH0679486A (ja) | インクジェットヘッドの加工方法 | |
| US6693656B1 (en) | Laser processing method, method for manufacturing ink jet recording head using such method of manufacture, and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture | |
| EP1380423B1 (en) | Method for producing fine structured member, method for producing fine hollow structured member and method for producing liquid discharge head | |
| KR20050030990A (ko) | 모놀리틱 잉크젯 프린트헤드의 제조방법 | |
| JP2873412B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP3143832B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP3041551B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| US8869401B2 (en) | Method for manufacturing microstructure, and method for manufacturing liquid jetting head | |
| JP2544266B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| JP2521893B2 (ja) | ワイヤガイドの製造方法 | |
| JP2873413B2 (ja) | 感光性ガラスの露光方法 | |
| JP3154005B2 (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| KR100509481B1 (ko) | 일체형 잉크젯 프린트헤드의 제조 방법 | |
| JPH0597455A (ja) | 感光性ガラスの加工方法とそれに使用するフオトマスク | |
| JPH0825639A (ja) | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法、レーザ加工装置ならびにインクジェット記録装置 | |
| JPH0867522A (ja) | 感光性ガラスの加工方法 | |
| HK1038714A (en) | Laser processing method, method for manufacturing ink jet recording head using such method of manufacture, and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture | |
| JPH06226984A (ja) | 液体噴射記録ヘッドの製造方法および液体噴射記録ヘッド | |
| JPH0818846B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090105 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090105 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |