JP3147957B2 - 光スイッチ素子 - Google Patents

光スイッチ素子

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光を光導波路の主面外側
方向に出射させる制御を行う新規な光スイッチ素子、よ
り具体的には特定の液晶セルを用いて構成した2次元マ
トリクス配置の多素子を一体化した光スイッチ素子に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、情報処理の大容量化、高密度化、
高速化にともない、光配線をはじめとする光技術の開発
実用化が急速に進んでいる。光による情報の伝送、処理
は電磁障害がないので、多重通信や多重スイッチングな
どの高密度情報処理に極めて有効である。
【0003】このような処理を行うためには、光素子、
とくに、複数の光素子を一つにまとめた光素子、たとえ
ば、光導波路とスイッチング素子を一体化した光スイッ
チ素子が必要であり、種々の提案がなされている。たと
えば、強誘電体単結晶であるニオブ酸リチウム(LiN
bO3 )を基板として、その上に、たとえばTi拡散層
を形成して光導波路とし、電気光学効果を用いて電圧印
加の有無により光のスイッチを行わせる光スイッチ素子
や光変調器が開発され、一部に実用化されはじめてい
る。
【0004】このような強誘電体単結晶を用いる光スイ
ッチ素子は耐環境性に優れ、かつ、高速動作ができるな
どの点で大きな長所があり、用途によってはその将来性
が大いに注目されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の強
誘電体単結晶を用いる光スイッチ素子は、一般に製造技
術が難しく、また、多数のスイッチング素子をマトリク
ス状に配置して多重処理することが困難であるといった
問題があり、その解決が求められていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、透明電極と配向膜をそれぞれ積層した2
枚の透明基板を対面配置して形成された液晶注入空間
に、基板界面近傍では強誘電層を形成し中間部では常誘
電層を形成する液晶を注入して液晶セルを構成し、液晶
層の側面から光を入射させ、透明電極間に印加する電圧
を制御して、液晶層中を導波される光と液晶層の主面方
向に出射する光の間で制御を行うことを特徴とする光ス
イッチ素子を提供する。
【0007】この構成によれば、電極をX−Yマトリッ
クス配置してそのX−Yマトリッスクの交点において外
側層の屈折率を選択的に変化させ、その選択点で光スイ
ッチすることができる。また、本発明の好ましい態様で
は、前記液晶を動作温度範囲においてネマティック相で
あり、かつ、少なくともその1成分としてダイマー形成
能力を有するネマチック液晶で構成する。また、前記コ
ア層の側面から光を入力する手段、前記光スイッチ素子
から出力する光を受ける手段、前記電極に電圧を印加す
る手段を含むことができる。
【0008】さらに本発明の光スイッチ素子は複数個を
組合せて多段処理に利用できる。
【0009】
【作用】中心部の屈折率より十分に小さい屈折率を有す
る層で外側を覆えば、中心部内の光は外側層との境界面
で全反射されること、外側層の屈折率が中心部の屈折率
と同等あるいはより大きくなれば中心部内の光は外側層
を通過することは知られている。従って、外側層(又は
中心部)の屈折率を電気光学効果で変化させることによ
って、中心部内の光を外側層で反射させたり、またその
主面から出力するようにスイッチングすることが可能で
ある。また、外側層の一部分だけを電気光学効果(電圧
印加)で屈折率変化させれば、一体の素子内において複
数の箇所でスイッチ操作することが可能になる。本発明
者は、基板界面近傍では強誘電層を形成し中間部では常
誘電層を形成する液晶を注入して構成した液晶セルで
は、強誘電性液晶層の屈折率が常誘電性液晶層の屈折率
よりも小さいことを今回見出したので、この液晶セルを
用いて上記の光スイッチ素子を構成することにより、素
子の製造が容易であり、かつ低電圧駆動できる。
【0010】
【実施例】本発明の光学スイッチ素子は上記の如く特定
のタイプの液晶セルで構成する。本発明者らは既にネマ
チック液晶セルの基板界面近傍での液晶分子配向につい
て基礎的検討を行い、ある特定の液晶材料および液晶分
子配向膜を用いた場合にはパネル基板界面部と液晶層中
間部で液晶の分子配向に大きな差があることを発見して
いる(Jap.J.Appl.Phys., Vol.29, L322, 1990)。すな
わち、図1(イ)に示すごとく基板界面近傍では液晶分
子が垂直配向をなし、一方、液晶層中間部では水平配向
をなすような分子配向をとる現象である。
【0011】図1はこの態様の原理構成を示す図で、同
図(イ)は電圧無印加時、同図(ロ)は電圧印加時を示
した。図中、41,42は透明基板、43,44は透明
電極、45,46は配向膜、47は液晶、48は電源、
49はスイッチである。同図(イ)の電圧無印加時にお
いて、上記の如くある特定の条件を満たすと、液晶層中
間部でダイマーを形成している液晶47は基板界面近傍
では配向膜45,46との相互作用によりモノマーに分
離し、かつ、分極方向を揃えて、たとえば、配向膜4
5,46にマイナス極側を接するように分子配列して、
それぞれの界面に強誘電性液晶層(A)を形成する。こ
れに対して、中間部のダイマーを形成している液晶は常
誘電性液晶層(B)を形成している。
【0012】今回、本発明者らはこの強誘電性液晶層
(A)の屈折率(nA )が常誘電性液晶層(B)の屈折
率(nB )よりも小さいことを見出した。したがって、
図示した如く液晶47層の側面から光を入射させると、
強誘電性液晶層(A)と常誘電性液晶層(B)との界面
で全反射を繰り返しながら液晶層の中を伝播して行く。
すなわち、液晶層が光導波路を形成することになる。
【0013】一方、この状態でスイッチ4を閉じると同
図(ロ)に示したごとく、スイッチを閉状態にした瞬
間、バネルに印加する電圧の極性に応じて強誘電性液晶
層(A)の部分の分極が反転する。たとえば、印加する
電圧がプラスの場合、図1(ロ)に示したB′部分の分
極した液晶分子のうちの一部が分極反転を生じる。これ
に伴って、B′部分全体の平均屈折率(nB ′)はnA
よりも大きくなり、ほぼnB と同程度の大きさになる。
したがって、入射した光は界面で全反射せずにパルの外
に出射していくことになる。
【0014】図2は本発明の基本動作特性を示す図で、
縦軸に液晶セルの主面方向に出射する光強度を、横軸に
印加電圧をとってある。一般に、電圧印加にともなって
分極反転する液晶分子の数は印加電圧の大きさにしたが
って多くなるが、通常の液晶ディスプレイと同様に図示
した如くしきい値電圧が存在する。すなわち、ある電圧
に達するまでは殆ど透過光は得られず、しきい値電圧を
越えると印加電圧に対応して透過光強度が増加し、たと
えば、強誘電性液晶層の分極が全て分極反転すると透過
光強度は飽和する。
【0015】すなわち、この態様によれば極めて簡単な
素子構成で光導波路と一体化された光スイッチ素子、と
くに、2次元マトリクス配置の光スイッチ素子アレイが
構成されるので、並列光情報処理が可能となる。しか
も、液晶セルを用いているのでC−MOSレベルでの低
電圧駆動ができ極めて低価格で製造することができる。
液晶セルを用いたデバイスとしては液晶表示素子が広く
実用化され、すでに640×400ドット以上の大型X
−Yマトリクス構成の液晶表示装置が既に普及してお
り、大型・大容量の液晶セルの製造技術は高度の域に達
している。
【0016】図3は本発明の実施例を示す図で、同図
(イ)は素子構成の概略を示す斜視図、同図(ロ)は光
スイッチの状態を示す図であり、この実施例は3×3の
マトリクス構成の光スイッチ素子の場合である。図中、
51(51a,51b,51c)は透明電極で、走査電
圧を入力する3本のストライプ状電極から構成され、一
方、52(52a,52b,52c)は透明電極で、信
号電圧を入力する3本のストライプ状電極から構成され
ている。
【0017】具体的には、ガラス製の基板53および5
4の上に、巾5mm、間隔2mmの透明導電膜、たとえば、
ITO(In2 3 −SnO2)からなるストライプ状の
透明電極51(51a,51b,51c)および52
(52a,52b,52c)をそれぞれ形成する。その
上に図示してない配向膜として、たとえば、ポリイミド
樹脂をスピンコートし約350℃で焼成したあと、両基
板の透明電極53,54を交叉させてマトリクス配置に
構成したときに互いに平行あるいは反平行になるように
ラビング処理を施す。
【0018】配向膜は表面極性の高い膜、特にダイマー
をモノマーに分離することが可能な膜が好ましく、例え
ばアルキルアミン基を持つポリマーからなる膜を焼き付
けたものを挙げることができる。配向膜として有効なそ
の他の例はポリビニルアルコール、ポリアミドイミド、
ポリアミド、ポリピロリドン、ポリp−ビニルフェノー
ル、ポリビニルアセテート、これらの共重合体等であ
る。
【0019】両基板を上記のごとき配置でセルギャップ
30μmになるように液晶セルを形成し、セル空間に液
晶2として、たとえば、ダイマーを形成し易いシアノビ
フェニルを主成分とする混合ネマチック液晶組成物を注
入封止する。液晶セルに封入すべき液晶の好ましい例
は、ダイマーを形成可能な液晶である。ある液晶分子が
ダイマーを形成する能力は分子の構造から予見でき、か
つダイマーを形成したか否かは液晶セルに封入後容量を
測定することによって検知可能である。このような液晶
の例には4−アルキル−4−シアノビフェニル(例、4
−ペンチル−4−シアノビフェニル、4−ヘプチル−4
−シアノビフェニル、4−ヘキシル−4−シアノビフェ
ニル)、4−アルコキシ−4−シアノビフェニル、4−
アルキル−ジオキサン−4−シアノベンゼン(4−ペン
チル−ジオキサン−4−シアノベンゼン)、4−アルコ
キシ−ジオキサン−4−シアノベンゼン、4−アルキル
−4−フルオロビフェニル(4−ペンチル−4−フルオ
ロビフェニル)、4−アルコキシ−4−フルオロビフェ
ニル等がある。勿論、このような液晶の他、他の液晶や
溶媒を混合できる。
【0020】なお、液晶セルの封止部の、少なくとも、
一面側には光を入射させる透明窓を設けてある(図示せ
ず)。上記図示してない左側の透明窓から、たとえば、
3本の光ビームを液晶層に入射させると透明電極51,
52のマトリクス交点に印加される電圧により、図1で
示した基板界面近傍での強誘電体的液晶層Aから常誘電
体的液晶層B′への相転換にともなって、光は液晶セル
の主面下側への光(51a、52c)や上側への光(5
1b,52b)および光(51c,52a)へと光スイ
ッチが行われる。すなわち、本実施例の構成により液晶
層を光導波路とし液晶層の主面方向に光ビームを取り出
す3×3のマトリクス型の光スイッチ素子が得られるの
である。
【0021】本実施例の場合、直径20μmφ以下に絞
った光ビームを3本並列に入射させ光スイッチングを行
わせたところ、液晶層の主面方向で光強度のON/OF
F比として50:1以上の光スイッチが可能であること
を確認した。以上の実施例では3×3のマトリクス構成
のものを示したが、ストライプ状の透明電極数を多くす
ることにより、さらに並列処理数をふやした光スイッチ
素子が実現できることは言うまでもない。
【0022】図4はこの態様の実施例の駆動方法の例を
示す図で、図3の3×3のマトリクス構成の場合を例に
とってある。たとえば、走査側の透明電極51(51
a,51b,51c)に図示したごとき±2Vの走査電
圧パルス列を印加し、一方、信号側の透明電極52(5
2a,52b,52c)には+18Vの信号電圧を前記
走査電圧パルス列の,,の各パルスにそれぞれ同
期させて印加すると、マトリクス交点の(11a,21
c)、(11b,21b)、(11c,21a)で選択
電圧+20となって光は、たとえば、上側に反射スイッ
チされ、その他の交点では非選択もしくは半選択(+1
6V)となって光はそのまま液晶層の中を伝播される。
【0023】なお、ある信号電極の信号電圧を−18V
とすればその交点では光は反対側、すなわち、下側に反
射スイッチされることは言うまでもない。図5に本発明
の光スイッチ装置の具体的な例を示す。光スイッチ装置
11の光スイッチ素子12は、コア層及び外側層又はク
ラッド層(図示せず)の外に、4×4マトリックスから
なるX−Yマトリックス状に配置されたストリップ状透
明電極13,14を有する。光スイッチ素子12には信
号入力用光ファイバアレイ15が接続され、この光ファ
イバアレイ15は透明電極13の4本の平行ストリップ
にそれぞれ対応するように配置された4本の光ファイバ
を含む。同様に、光スイッチ素子12にはもう1つ信号
出力用光ファイバアレイ16が接続され、この光ファイ
バアレイ16も透明電極13の4本の平行ストリップに
それぞれ対応するように配置された4本の光ファイバを
含む。
【0024】光ファイバ素子12は透明電極13,14
が交差する16のスポットを有し、各スポットにおいて
光は3方向にスイッチされることができる。光スイッチ
装置11は、さらに、電極X−Yマトリックスの16個
のスポットに対応する16個の光センサを有する光セン
サアレイ17,18を有し、これらの光センサアレイ1
7,18は16本の信号出力用光ファイバを含む光ファ
イバアレイ19,20にそれぞれ接続されている。光セ
ンサアレイ17,18は光スイッチ素子12から空間的
に離れている必要はないし、また電極X−Yマトリック
スの16個のスポットにそれぞれ対応する光ファイバが
直接に接続されていてもよい。さらに、光センサは光信
号を電気信号に変換できるものでもよく、この場合光セ
ンサアレイ17,18には電気ケーブルアレイが接続さ
れる。
【0025】光スイッチ素子12、光センサアレイ1
9,20は支持体21によって一体に支持されている。
この光スイッチ素子12が多段に接続されることができ
ることは明らかである。すなわち、1つの光スイッチ素
子でスイッチされた出力信号たる光を、さらに別の光ス
イッチ素子に入力信号として入力し、そこでさらにスイ
ッチするわけである。
【0026】以上述べた実施例は例を示したもので、本
発明の趣旨に添うものである限り、その他使用する素材
や構成など上記以外の適宜好ましいもの、あるいはそれ
らの組み合わせを用いてよいことは言うまでもない。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば極
めて簡単な素子構成で光導波路と一体化された光スイッ
チ素子、とくに、2次元マトリクス配置の光スイッチ素
子アレイが構成されるので、並列光情報処理が可能とな
る。しかも、液晶セルを用いているので、C−MOSレ
ベルでの低電圧駆動が可能で極めて低価格で製造するこ
とができ、並列処理型の光スイッチ装置の性能の向上と
低価格化に寄与するところが極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶セルを用いた光スイッチ素子の原
理構成を示す図である。
【図2】図1の態様の基本動作特性を示す図である。
【図3】本発明の光スイッチ素子の具体例を示す図であ
る。
【図4】図3の具体例の駆動方法の例を説明する図であ
る。
【図5】本発明の光スイッチ素子の具体的例を示す図で
ある。
【符号の説明】
11…光スイッチ装置 12…光スイッチ素子 13,14…透明電極 15,16…光ファイバアレイ 17,18…光センサアレイ 19,20…光ファイバアレイ 31…コア層(常誘電体) 32…外側層(強誘電体) 33…透明電極 34…透明基板 41,42…透明基板 43,44…透明電極 45,46…配向膜 47…液晶 A…強誘電体液晶層 B…常誘電体液晶層 B′…強誘電体液晶層 48…電源 49…電源スイッチ 51(51a,51b,51c)、52(52a,52
b,52c)…透明電極53,54…透明基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−20931(JP,A) 特開 平1−185692(JP,A) 特開 昭61−56328(JP,A) 特開 昭63−153577(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/13 505 G02F 1/31

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明電極と配向膜をそれぞれ積層した2
    枚の透明基板を対面配置して形成された液晶注入空間
    に、基板界面近傍では強誘電層を形成し中間部では常誘
    電層を形成する液晶を注入して液晶セルを構成し、 前記液晶層の側面から光を入射させ、前記透明電極間に
    印加する電圧を制御して、前記液晶層中を導波される光
    と、前記液晶層の主面外側方向に出射する光との間で制
    御を行うことを特徴とする光スイッチ素子。
  2. 【請求項2】 前記液晶が動作温度範囲においてネマテ
    ィック相であり、かつ、少なくともその1成分としてダ
    イマー形成能力を有するネマチック液晶を含むことを特
    徴とした請求項1記載の光スイッチ素子。
  3. 【請求項3】 前記コア層の側面から光を入力する手
    段、前記光スイッチ素子から出力する光を受ける手段、
    前記電極に電圧を印加する手段を含む請求項1または2
    記載の光スイッチ素子。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3記載の光スイッチ素子の1
    つから出力される光を別の光スイッチ素子でさらにスイ
    ッチして多段に処理するように構成された光スイッチ素
    子。
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