JP3240316B2 - 臭化メチル分解触媒および臭化メチルを含む排ガスの処理方法 - Google Patents
臭化メチル分解触媒および臭化メチルを含む排ガスの処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、臭化メチル分解触媒お
よび臭化メチルを含む排ガスを分解触媒に接触させて処
理する方法に関する。
よび臭化メチルを含む排ガスを分解触媒に接触させて処
理する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】臭化メチルは、主に農薬や倉庫、サイロ
内の穀物等のくん蒸殺虫処理等の分野で利用されてい
る。その際、臭化メチルを含む排ガスは、多量の空気に
よって薄められて排出されており、他の特別な処理は行
われていないのが現状である。しかし、臭化メチルは人
体への有毒性があり、特定第２類物質に指定されてお
り、許容濃度15ppm と規定されている。さらに、最近で
はオゾン層破壊および地球温暖化の原因物質として排出
の削減が望まれている。したがって、臭化メチルの濃度
を薄めて排出するだけでは根本的な解決にはならず、よ
り確実な臭化メチルの処理が必要である。
内の穀物等のくん蒸殺虫処理等の分野で利用されてい
る。その際、臭化メチルを含む排ガスは、多量の空気に
よって薄められて排出されており、他の特別な処理は行
われていないのが現状である。しかし、臭化メチルは人
体への有毒性があり、特定第２類物質に指定されてお
り、許容濃度15ppm と規定されている。さらに、最近で
はオゾン層破壊および地球温暖化の原因物質として排出
の削減が望まれている。したがって、臭化メチルの濃度
を薄めて排出するだけでは根本的な解決にはならず、よ
り確実な臭化メチルの処理が必要である。
【０００３】排出ガス中の臭化メチルを除去する方法
は、吸着回収法、直接酸化法が考えられる。しかし、吸
着法の場合、装置が大型になり製作費が高価になるこ
と、操作が吸着・脱着の２工程となり複雑であること、
回収臭化メチルの純度が低くなり再利用が困難であるこ
と等問題点が多々ある。また、直接酸化法の場合、1000
℃以上の温度が必要となり、サーマルＮＯｘの発生によ
る二次公害の原因となる。また、臭化メチルは可燃性ガ
スであり、直接炎に触れることは出来ないため、間接加
熱方法を用いなければならず、ガス加熱のためには不利
であり、経済的でない。
は、吸着回収法、直接酸化法が考えられる。しかし、吸
着法の場合、装置が大型になり製作費が高価になるこ
と、操作が吸着・脱着の２工程となり複雑であること、
回収臭化メチルの純度が低くなり再利用が困難であるこ
と等問題点が多々ある。また、直接酸化法の場合、1000
℃以上の温度が必要となり、サーマルＮＯｘの発生によ
る二次公害の原因となる。また、臭化メチルは可燃性ガ
スであり、直接炎に触れることは出来ないため、間接加
熱方法を用いなければならず、ガス加熱のためには不利
であり、経済的でない。
【０００４】触媒分解方法としては、特公昭54-22792号
公報に、Ｎａ型ゼオライトにＣｏ，Ｃｕ等の遷移金属を
イオン交換または担持した触媒が記述されている。
公報に、Ｎａ型ゼオライトにＣｏ，Ｃｕ等の遷移金属を
イオン交換または担持した触媒が記述されている。
【０００５】しかし、上記特許に記載されているゼオラ
イトは、Ｘ型およびＹ型ゼオライト等で、酸に弱く、わ
ずかの酸が存在しても容易に結晶が破壊されてしまう。
臭化メチルの分解反応では臭化水素が発生するため、上
記ゼオライトは結晶構造を破壊され、長期間の使用によ
り分解活性が低下する。さらに、上記特許には、臭化メ
チルの分解によって生成する一酸化炭素の処理の記述が
なく、実質的な処理方法としては不完全である。
イトは、Ｘ型およびＹ型ゼオライト等で、酸に弱く、わ
ずかの酸が存在しても容易に結晶が破壊されてしまう。
臭化メチルの分解反応では臭化水素が発生するため、上
記ゼオライトは結晶構造を破壊され、長期間の使用によ
り分解活性が低下する。さらに、上記特許には、臭化メ
チルの分解によって生成する一酸化炭素の処理の記述が
なく、実質的な処理方法としては不完全である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、以上の
問題点に適応する臭化メチルの分解方法を検討した結
果、酸性ゼオライトに臭化銅を担持してなる触媒に、臭
化メチルを含む排ガスを接触させることにより、当該排
ガス中の臭化メチルを除去することに成功し、臭化メチ
ルを含む排ガスの処理方法として、本発明を完成した。
問題点に適応する臭化メチルの分解方法を検討した結
果、酸性ゼオライトに臭化銅を担持してなる触媒に、臭
化メチルを含む排ガスを接触させることにより、当該排
ガス中の臭化メチルを除去することに成功し、臭化メチ
ルを含む排ガスの処理方法として、本発明を完成した。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、酸性ゼオライ
トに臭化銅を担持してなる臭化メチル分解触媒と、該触
媒と臭化メチルを含む排ガスを接触させることにより、
排ガス中の臭化メチルを分解することを特徴とする臭化
メチルの除去方法に関するものである。以下に本発明を
詳述する。
トに臭化銅を担持してなる臭化メチル分解触媒と、該触
媒と臭化メチルを含む排ガスを接触させることにより、
排ガス中の臭化メチルを分解することを特徴とする臭化
メチルの除去方法に関するものである。以下に本発明を
詳述する。
【０００８】本発明で用いる触媒は酸性ゼオライトに臭
化銅を担持させたものである。ゼオライトは、ＳｉＯ4
四面体およびＡｌＯ4 四面体から構成されているが、Ｓ
ｉおよびＡｌの存在比と各四面体の結合様式の相違によ
り多くの種類が知られている。また、ゼオライトは、３
次元骨格構造を有しており、格子中に空洞（細孔）を形
成している。この細孔の大きさ、形状はゼオライトの種
類によって異なり、３〜12オングストロームの細孔径を
持ち、１次元〜３次元の細孔形状を持つものがある。
化銅を担持させたものである。ゼオライトは、ＳｉＯ4
四面体およびＡｌＯ4 四面体から構成されているが、Ｓ
ｉおよびＡｌの存在比と各四面体の結合様式の相違によ
り多くの種類が知られている。また、ゼオライトは、３
次元骨格構造を有しており、格子中に空洞（細孔）を形
成している。この細孔の大きさ、形状はゼオライトの種
類によって異なり、３〜12オングストロームの細孔径を
持ち、１次元〜３次元の細孔形状を持つものがある。
【０００９】さらに、ゼオライトはイオン交換能を有し
ており、通常はその骨格内にＮａ，Ｋ等のアルカリ金属
イオンを有しているが、種々の陽イオンと接触させるこ
とにより容易にイオンを交換することが可能で、このこ
とはゼオライトの特徴の一つとなっている。
ており、通常はその骨格内にＮａ，Ｋ等のアルカリ金属
イオンを有しているが、種々の陽イオンと接触させるこ
とにより容易にイオンを交換することが可能で、このこ
とはゼオライトの特徴の一つとなっている。
【００１０】本発明で用いるゼオライトは、フォージャ
サイト型、モルデナイト型、Ｌ型、オメガ型、ＺＳＭ−
５型、フェリエライト型等々のいずれでもよい。本発明
では、上述のゼオライトを酸性ゼオライトとして使用す
る。
サイト型、モルデナイト型、Ｌ型、オメガ型、ＺＳＭ−
５型、フェリエライト型等々のいずれでもよい。本発明
では、上述のゼオライトを酸性ゼオライトとして使用す
る。
【００１１】ここで酸性ゼオライトとする一つの方法
は、ゼオライトをアンモニウムイオン水溶液（ＮＨ4 Ｃ
ｌ，ＮＨ4 ＮＯ3 等の水溶液）と接触させ、アンモニウ
ムイオン型ゼオライトとした後、これを 300℃以上の温
度で焼成してアンモニアを除去しＨ型ゼオライトとする
方法である。また、他の方法は、塩酸等の強酸と接触さ
せ直接Ｈイオンとイオン交換しＨ型ゼオライトとする方
法である。このようにして調製したＨ型ゼオライトは酸
性を示すことから酸性ゼオライトと呼ばれるものであ
る。
は、ゼオライトをアンモニウムイオン水溶液（ＮＨ4 Ｃ
ｌ，ＮＨ4 ＮＯ3 等の水溶液）と接触させ、アンモニウ
ムイオン型ゼオライトとした後、これを 300℃以上の温
度で焼成してアンモニアを除去しＨ型ゼオライトとする
方法である。また、他の方法は、塩酸等の強酸と接触さ
せ直接Ｈイオンとイオン交換しＨ型ゼオライトとする方
法である。このようにして調製したＨ型ゼオライトは酸
性を示すことから酸性ゼオライトと呼ばれるものであ
る。
【００１２】本発明の処理方法では、後述するように臭
化水素ガスが発生するが、ゼオライトの中でもゼオライ
トを構成するＳｉとＡｌのモル比（Ｓｉ／Ａｌ）が５未
満の組成のものは酸に対して弱く、臭化水素ガスにより
容易に結晶が破壊されて触媒としての機能を失う。した
がって、Ｓｉ／Ａｌモル比が低いゼオライトを本発明に
用いるのは好ましくなく、その比率が５以上のものを用
いることが好ましい。また、本発明では、Ｓｉ／Ａｌモ
ル比が５未満のゼオライトを、脱アルミニウム処理を行
うことにより、Ｓｉ／Ａｌモル比を５以上にして、耐酸
性を高めたものを使用することもできる。
化水素ガスが発生するが、ゼオライトの中でもゼオライ
トを構成するＳｉとＡｌのモル比（Ｓｉ／Ａｌ）が５未
満の組成のものは酸に対して弱く、臭化水素ガスにより
容易に結晶が破壊されて触媒としての機能を失う。した
がって、Ｓｉ／Ａｌモル比が低いゼオライトを本発明に
用いるのは好ましくなく、その比率が５以上のものを用
いることが好ましい。また、本発明では、Ｓｉ／Ａｌモ
ル比が５未満のゼオライトを、脱アルミニウム処理を行
うことにより、Ｓｉ／Ａｌモル比を５以上にして、耐酸
性を高めたものを使用することもできる。
【００１３】ゼオライトのＳｉ／Ａｌモル比を高める方
法の一つとして、アンモニウムイオン型ゼオライトを水
蒸気雰囲気下で 400℃以上の温度で加熱する方法があ
り、通常フォージャサイト型ゼオライトの脱Ａｌに用い
られる方法である。また、ＳｉＣｌ4 を水蒸気が存在し
ない条件下でゼオライトと接触させる方法があり、この
方法はＳｉとＡｌを置換する方法で、Ａｌ原子が抜けて
できる格子欠陥が発生しないという利点がある。更に、
エチレンジアミン四酢酸等のキレート剤を用いる方法、
塩酸等の酸を用いる方法等がある。本発明では、本来Ｓ
ｉ／Ａｌモル比の高いものおよび上述のいずれの方法で
得たゼオライトも適用可能である。
法の一つとして、アンモニウムイオン型ゼオライトを水
蒸気雰囲気下で 400℃以上の温度で加熱する方法があ
り、通常フォージャサイト型ゼオライトの脱Ａｌに用い
られる方法である。また、ＳｉＣｌ4 を水蒸気が存在し
ない条件下でゼオライトと接触させる方法があり、この
方法はＳｉとＡｌを置換する方法で、Ａｌ原子が抜けて
できる格子欠陥が発生しないという利点がある。更に、
エチレンジアミン四酢酸等のキレート剤を用いる方法、
塩酸等の酸を用いる方法等がある。本発明では、本来Ｓ
ｉ／Ａｌモル比の高いものおよび上述のいずれの方法で
得たゼオライトも適用可能である。
【００１４】このような酢酸ゼオライトに臭化銅を担持
したものを触媒として用いることにより臭化メチルを好
適に処理することができる。ここで、銅以外の金属種で
は、活性が低く、また、活性劣化も起こるため不適であ
る。また、臭化銅以外の銅塩では、臭化メチル分解の初
期活性が低く、反応が進行すると共に活性が徐々に向上
してくる。このとき、銅は徐々に臭素化されており、最
終的に臭化銅を担持した場合と同じ条件となる。したが
って、臭化銅を担持することにより、初期活性から高活
性を示すこととなる。
したものを触媒として用いることにより臭化メチルを好
適に処理することができる。ここで、銅以外の金属種で
は、活性が低く、また、活性劣化も起こるため不適であ
る。また、臭化銅以外の銅塩では、臭化メチル分解の初
期活性が低く、反応が進行すると共に活性が徐々に向上
してくる。このとき、銅は徐々に臭素化されており、最
終的に臭化銅を担持した場合と同じ条件となる。したが
って、臭化銅を担持することにより、初期活性から高活
性を示すこととなる。
【００１５】臭化銅の担持方法は、特に制限されるもの
でなく、たとえば酸性ゼオライトを臭化銅を含む水溶液
と接触させ水分を除去し乾燥する方法がある。ここで、
臭化銅の担持量はゼオライトに対して 0.1〜30wt％であ
る。臭化銅の担持量が 0.1wt％未満であるときは、臭化
メチルの分解があまり進行せず、30wt％を越えてもそれ
に見合うだけの効果は得られない。
でなく、たとえば酸性ゼオライトを臭化銅を含む水溶液
と接触させ水分を除去し乾燥する方法がある。ここで、
臭化銅の担持量はゼオライトに対して 0.1〜30wt％であ
る。臭化銅の担持量が 0.1wt％未満であるときは、臭化
メチルの分解があまり進行せず、30wt％を越えてもそれ
に見合うだけの効果は得られない。
【００１６】本発明で用いるゼオライトの使用形態は、
粉末状でもよく、通常の方法で成形した成形体またはそ
れを解砕したもの等いずれでもよい。また、これらの使
用の際の大きさは、それらの使用規模によっても異なる
が、造粒した場合の造粒物の径は 0.2〜10mmであること
が好ましい。
粉末状でもよく、通常の方法で成形した成形体またはそ
れを解砕したもの等いずれでもよい。また、これらの使
用の際の大きさは、それらの使用規模によっても異なる
が、造粒した場合の造粒物の径は 0.2〜10mmであること
が好ましい。
【００１７】本発明で臭化メチルを含む排ガスとゼオラ
イトを接触させる方法は、粉体、粒体、ペレット状のゼ
オライトを充填した層または、ハニカム状とした層に前
記気体を導入する方法が一般的である。この際の接触温
度は、好ましくは 200℃以上である。また、ゼオライト
層に導入する処理気体中の臭化メチルの量は、好ましく
は20％以下、さらに好ましくは５％以下である。
イトを接触させる方法は、粉体、粒体、ペレット状のゼ
オライトを充填した層または、ハニカム状とした層に前
記気体を導入する方法が一般的である。この際の接触温
度は、好ましくは 200℃以上である。また、ゼオライト
層に導入する処理気体中の臭化メチルの量は、好ましく
は20％以下、さらに好ましくは５％以下である。
【００１８】本発明で、ゼオライト層に処理気体を導入
する方法での臭化メチルを含む処理気体の導入割合（空
間速度：ＳＶ）は、好ましくは100,000/hr以下、さらに
好ましくは 10,000/hr以下である。
する方法での臭化メチルを含む処理気体の導入割合（空
間速度：ＳＶ）は、好ましくは100,000/hr以下、さらに
好ましくは 10,000/hr以下である。
【００１９】さらに本発明においては、反応系に酸素源
を存在させる必要がある。酸素源は臭化メチルの組成で
ある炭素を酸化して一酸化炭素、二酸化炭素に変換する
のに使用される。酸素源としては酸素、水蒸気等を用い
ることができる。反応系に存在させる酸素源の量は、臭
化メチルが分解して二酸化炭素が生成するに充分な化学
量論以上の量を用いることが好ましい。
を存在させる必要がある。酸素源は臭化メチルの組成で
ある炭素を酸化して一酸化炭素、二酸化炭素に変換する
のに使用される。酸素源としては酸素、水蒸気等を用い
ることができる。反応系に存在させる酸素源の量は、臭
化メチルが分解して二酸化炭素が生成するに充分な化学
量論以上の量を用いることが好ましい。
【００２０】本発明で処理後の気体の成分中に、臭化水
素が含まれる。しかし、臭化水素の処理は容易であり、
ナトリウム、カリウム等の水酸化物、アンモニア、アミ
ン等のアルカリと接触させることにより容易に除去する
ことができる。
素が含まれる。しかし、臭化水素の処理は容易であり、
ナトリウム、カリウム等の水酸化物、アンモニア、アミ
ン等のアルカリと接触させることにより容易に除去する
ことができる。
【００２１】また、処理後の気体の成分中に一酸化炭素
が含まれるが、一酸化炭素の酸化触媒、例えばＰｔ−ア
ルミナ，Ｐｄ−アルミナ，Ｐｄ−チタニア，Ｐｔ−チタ
ニア，Ｐｄ−チタニアジルコニア等を分解触媒に混在さ
せるか、触媒分解装置の後に設置することにより、容易
に一酸化炭素を二酸化炭素に変換可能である。
が含まれるが、一酸化炭素の酸化触媒、例えばＰｔ−ア
ルミナ，Ｐｄ−アルミナ，Ｐｄ−チタニア，Ｐｔ−チタ
ニア，Ｐｄ−チタニアジルコニア等を分解触媒に混在さ
せるか、触媒分解装置の後に設置することにより、容易
に一酸化炭素を二酸化炭素に変換可能である。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、簡便な方法であり、操作も簡
単で大量処理用大型装置としてのみならず少量処理用の
小型装置としても利用可能である。また臭化メチルの分
解により、後の工程で処理が困難な分解物や、捕集困難
な有害副生物が少なく、この方法によると二次的な環境
汚染も発生することはない。
単で大量処理用大型装置としてのみならず少量処理用の
小型装置としても利用可能である。また臭化メチルの分
解により、後の工程で処理が困難な分解物や、捕集困難
な有害副生物が少なく、この方法によると二次的な環境
汚染も発生することはない。
【００２３】
（実施例１）Ｈ型モルデナイト型ゼオライト（東ソー株
式会社製、商品名「ＨＳＺ−６５０ＨＯＡ」Ｓｉ／Ａｌ
＝12.5）に10wt％臭化銅水溶液を滴下しながら含浸させ
て、臭化銅として15wt％含むものを触媒として用いた。
その 0.5ｇを、径12mm、長さ150mm の石英製反応管に充
填して、臭化メチルを1.0Vol％、及び水蒸気3.0Vol％を
含むガス（他の成分：空気）を被処理ガスとして 200ml
/minの速度で導入し、下に示した温度で反応させた。
式会社製、商品名「ＨＳＺ−６５０ＨＯＡ」Ｓｉ／Ａｌ
＝12.5）に10wt％臭化銅水溶液を滴下しながら含浸させ
て、臭化銅として15wt％含むものを触媒として用いた。
その 0.5ｇを、径12mm、長さ150mm の石英製反応管に充
填して、臭化メチルを1.0Vol％、及び水蒸気3.0Vol％を
含むガス（他の成分：空気）を被処理ガスとして 200ml
/minの速度で導入し、下に示した温度で反応させた。
【００２４】また、反応後のガスには一酸化炭素が含ま
れているので、チタニアを担体として、テトラミンジク
ロロパラジウムをパラジウム金属として１wt％担持させ
て得た一酸化炭素酸化触媒に通して酸化し、二酸化炭素
に変換した。処理ガスの分析はガスクロマトグラフによ
り行った。また、処理ガス中に一酸化炭素は含まれてい
なかった。
れているので、チタニアを担体として、テトラミンジク
ロロパラジウムをパラジウム金属として１wt％担持させ
て得た一酸化炭素酸化触媒に通して酸化し、二酸化炭素
に変換した。処理ガスの分析はガスクロマトグラフによ
り行った。また、処理ガス中に一酸化炭素は含まれてい
なかった。
【００２５】尚、臭化メチルの分解率は単位時間当たり
の次の量から求めた。 Ａ：導入臭化メチル量 Ｂ：未反応臭化メチル量 臭化メチル分解率＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×100 結果を下に示す。
の次の量から求めた。 Ａ：導入臭化メチル量 Ｂ：未反応臭化メチル量 臭化メチル分解率＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×100 結果を下に示す。
【００２６】
【００２７】（実施例２）Ｈ型モルデナイト型ゼオライ
ト成形体（東ソー株式会社製、商品名「ＨＳＺ−６５０
ＨＯＤ」，シリカバインダー20％）に10wt％臭化銅水溶
液を滴下しながら含浸させて、臭化銅として15wt％含む
ものを触媒として用いた以外は、実施例１と同様に処理
した。結果を下に示す。処理後のガスには、一酸化炭素
は含まれていなかった。
ト成形体（東ソー株式会社製、商品名「ＨＳＺ−６５０
ＨＯＤ」，シリカバインダー20％）に10wt％臭化銅水溶
液を滴下しながら含浸させて、臭化銅として15wt％含む
ものを触媒として用いた以外は、実施例１と同様に処理
した。結果を下に示す。処理後のガスには、一酸化炭素
は含まれていなかった。
【００２８】
【００２９】（実施例３）実施例１で用いたゼオライト
に臭化銅として10wt％含むものを触媒として使用した以
外は、同例と同様に処理した。処理後のガスには、一酸
化炭素は含まれていなかった。
に臭化銅として10wt％含むものを触媒として使用した以
外は、同例と同様に処理した。処理後のガスには、一酸
化炭素は含まれていなかった。
【００３０】
【００３１】（実施例４）実施例１で用いたゼオライト
に臭化銅として25wt％含むものを触媒として使用した以
外は、同例と同様に処理した。処理後のガスには、一酸
化炭素は含まれていなかった。
に臭化銅として25wt％含むものを触媒として使用した以
外は、同例と同様に処理した。処理後のガスには、一酸
化炭素は含まれていなかった。
【００３２】
【００３３】（実施例５）実施例１において、反応温度
300℃における臭化メチル分解率の時間変化を調べた。
300℃における臭化メチル分解率の時間変化を調べた。
【００３４】
【００３５】（比較例１）一酸化炭素分解触媒を混在さ
せなかった以外は、実施例１と同様の方法で行った。一
酸化炭素：二酸化炭素の生成割合は、９：１であった。
せなかった以外は、実施例１と同様の方法で行った。一
酸化炭素：二酸化炭素の生成割合は、９：１であった。
【００３６】（比較例２）実施例１で、臭化銅の代わり
に硝酸銅を使用した以外は、同例と同様に処理した。
に硝酸銅を使用した以外は、同例と同様に処理した。
【００３７】
【００３８】（比較例３）比較例２において、反応温度
300℃における臭化メチル分解率の時間変化を調べた。
300℃における臭化メチル分解率の時間変化を調べた。
【００３９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 悟 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術 院資源環境技術総合研究所内 (72)発明者 櫛山 暁 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術 院資源環境技術総合研究所内 (72)発明者 相澤 玲司 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術 院資源環境技術総合研究所内 (72)発明者 大内 日出夫 茨城県つくば市小野川16番３ 工業技術 院資源環境技術総合研究所内 (72)発明者 藤井 保士 山口県新南陽市道源町１番10号 (72)発明者 田島 政弘 山口県新南陽市宮の前２丁目６番10号 (72)発明者 森 武雄 神奈川県横浜市金沢区富岡東１丁目７番 ９号 審査官 瀬良 聡機 (56)参考文献 特開 昭52−7370（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−148334（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 21/00 - 38/74 B01D 53/86 B01D 53/94 C07C 19/075
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｓｉ／Ａｌモル比が５以上である酸性ゼ
オライトに臭化銅を0.1 〜30wt％担持してなることを特
徴とする臭化メチル分解触媒。 - 【請求項２】 臭化メチルを含む排ガスと請求項１に記
載の臭化メチル分解触媒を 200℃以上の温度で接触させ
ることにより、当該排ガス中の臭化メチルを分解し、そ
の分解時に発生する一酸化炭素を一酸化炭素酸化触媒に
よって二酸化炭素に酸化することを特徴とする臭化メチ
ルを含む排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17377992A JP3240316B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 臭化メチル分解触媒および臭化メチルを含む排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17377992A JP3240316B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 臭化メチル分解触媒および臭化メチルを含む排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337373A JPH05337373A (ja) | 1993-12-21 |
| JP3240316B2 true JP3240316B2 (ja) | 2001-12-17 |
Family
ID=15966997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17377992A Expired - Lifetime JP3240316B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 臭化メチル分解触媒および臭化メチルを含む排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3240316B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5961942A (en) * | 1995-06-05 | 1999-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Effluent gas treatment |
-
1992
- 1992-06-08 JP JP17377992A patent/JP3240316B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05337373A (ja) | 1993-12-21 |
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