JP3285683B2 - ディスク基板の洗浄装置 - Google Patents
ディスク基板の洗浄装置Info
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- JP3285683B2 JP3285683B2 JP29881593A JP29881593A JP3285683B2 JP 3285683 B2 JP3285683 B2 JP 3285683B2 JP 29881593 A JP29881593 A JP 29881593A JP 29881593 A JP29881593 A JP 29881593A JP 3285683 B2 JP3285683 B2 JP 3285683B2
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- Japan
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- solvent
- cassette case
- disk
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスクなどのディ
スク基板表面の汚れを落とすためのディスク基板の洗浄
装置に関する。
スク基板表面の汚れを落とすためのディスク基板の洗浄
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に記録媒体として用いられる磁気デ
ィスクのようなディスク基板に対しては種々の加工がお
こなわれるが、その加工工程後に洗浄する工程が付随す
る。
ィスクのようなディスク基板に対しては種々の加工がお
こなわれるが、その加工工程後に洗浄する工程が付随す
る。
【０００３】ところでディスク基板の洗浄として２つの
方法が知られている。１つの方法はディスク基板をいれ
たカセットケースからディスク基板のみ抜き取り、ディ
スク基板の洗浄を行なう方法である。
方法が知られている。１つの方法はディスク基板をいれ
たカセットケースからディスク基板のみ抜き取り、ディ
スク基板の洗浄を行なう方法である。
【０００４】他の方法はディスク基板をカセットケース
に入れたまま洗浄を行なう洗浄方法である。従来のディ
スク基板の洗浄方法について後者の洗浄装置の構成を図
３および図４を参照しながら説明する。
に入れたまま洗浄を行なう洗浄方法である。従来のディ
スク基板の洗浄方法について後者の洗浄装置の構成を図
３および図４を参照しながら説明する。
【０００５】大きく分けて搬入コンベア１、搬出コンベ
ア２と浸漬槽３、蒸気乾燥槽４、廃液槽５、溶剤１２が
入ったキャニスター缶６、ディスク基板７を入れたカセ
ットケース８を移載する搬送ハンガー９に分類構成され
る。なお、前記溶剤１２にはたとえばイソプロピルアル
コール（ＩＰＡ）を使用している。
ア２と浸漬槽３、蒸気乾燥槽４、廃液槽５、溶剤１２が
入ったキャニスター缶６、ディスク基板７を入れたカセ
ットケース８を移載する搬送ハンガー９に分類構成され
る。なお、前記溶剤１２にはたとえばイソプロピルアル
コール（ＩＰＡ）を使用している。
【０００６】まず運転準備としてイソプロピルアルコー
ル（ＩＰＡ）の溶剤１２が入ったキャニスター缶６へ、
エアーパイプ２２からエアーを通し圧送して溶剤供給パ
イプ１７、フィルター１４ｂ，ｃを通して溶剤１２を浸
漬槽３、蒸気乾燥槽４へ水位高レベルセンサー２５ａ，
ｂまで注入する。
ル（ＩＰＡ）の溶剤１２が入ったキャニスター缶６へ、
エアーパイプ２２からエアーを通し圧送して溶剤供給パ
イプ１７、フィルター１４ｂ，ｃを通して溶剤１２を浸
漬槽３、蒸気乾燥槽４へ水位高レベルセンサー２５ａ，
ｂまで注入する。
【０００７】次に底面ヒータ１８と側面ヒータ１９の電
源を入れ、溶剤１２を加熱する。イソプロピルアルコー
ルの溶剤１２は８４℃が沸点であるため、底面ヒータ１
８と側面ヒータ１９の温度設定を１００℃〜１３０℃内
で行なう。溶剤１２が沸騰しだしたら準備完了である。
源を入れ、溶剤１２を加熱する。イソプロピルアルコー
ルの溶剤１２は８４℃が沸点であるため、底面ヒータ１
８と側面ヒータ１９の温度設定を１００℃〜１３０℃内
で行なう。溶剤１２が沸騰しだしたら準備完了である。
【０００８】次に各槽の機能を説明する。浸漬槽３は超
音波発振子１０により、ディスク基板７の汚れなどの付
着物を洗い落す。溶剤１２は循環ポンプ１１の動作によ
り、溶剤１２の汚れを取り除くため、循環パイプ１３か
らフィルター１４ａを通して不純物などを除去し、再び
浸漬槽３へ送り出す。運転中はその繰返しを行なう。溶
剤１２の量が運転中低下すると水位低レベルセンサー２
６ａが反応する。キャニスター缶６の溶剤１２を自動バ
ルブ１６ｃが開になりエアーパイプ２２よりエアーを圧
送、そして自動バルブ１６ａが開になりフィルター１４
ｂを通り溶剤供給パイプ１７から浸漬槽３へ供給する。
水位高レベルセンサー２５ａが反応するまで溶剤１２を
供給する。このように浸漬槽３の溶剤１２の量を常に一
定に保つことができる。
音波発振子１０により、ディスク基板７の汚れなどの付
着物を洗い落す。溶剤１２は循環ポンプ１１の動作によ
り、溶剤１２の汚れを取り除くため、循環パイプ１３か
らフィルター１４ａを通して不純物などを除去し、再び
浸漬槽３へ送り出す。運転中はその繰返しを行なう。溶
剤１２の量が運転中低下すると水位低レベルセンサー２
６ａが反応する。キャニスター缶６の溶剤１２を自動バ
ルブ１６ｃが開になりエアーパイプ２２よりエアーを圧
送、そして自動バルブ１６ａが開になりフィルター１４
ｂを通り溶剤供給パイプ１７から浸漬槽３へ供給する。
水位高レベルセンサー２５ａが反応するまで溶剤１２を
供給する。このように浸漬槽３の溶剤１２の量を常に一
定に保つことができる。
【０００９】蒸気乾燥槽４は底面ヒータ１８と側面ヒー
タ１９により、溶剤１２を常に蒸気炊き上げを行なって
いる。蒸気乾燥槽４の上部囲りに１０℃以下の水を通し
た冷却コイル１５により、凝集され液体となる。蒸気乾
燥槽４囲りに溶剤受皿２０ａがあり、一たん液体となっ
た溶剤１２をため、溶剤注入パイプ２１を通して、蒸気
乾燥槽４の底面まで送り出す。このように蒸気となった
溶剤１２を冷却により、液体として溶剤１２を補給す
る。しかし、溶剤１２が減って水位低レベルセンサー２
６ｂまで低下すると、自動バルブ１６ｃが開になり、エ
アーパイプ２２によりエアーを圧送し、自動バルブ１６
ｂが開になり、キャニスター缶６の溶剤１２をフィルタ
ー１４ｃを通り、溶剤供給パイプ１７により蒸気乾燥槽
４へ送り込む。水位高レベルセンサー２５ｂが反応する
まで供給し、常に蒸気乾燥槽４の溶剤１２を一定に保つ
ことができる。
タ１９により、溶剤１２を常に蒸気炊き上げを行なって
いる。蒸気乾燥槽４の上部囲りに１０℃以下の水を通し
た冷却コイル１５により、凝集され液体となる。蒸気乾
燥槽４囲りに溶剤受皿２０ａがあり、一たん液体となっ
た溶剤１２をため、溶剤注入パイプ２１を通して、蒸気
乾燥槽４の底面まで送り出す。このように蒸気となった
溶剤１２を冷却により、液体として溶剤１２を補給す
る。しかし、溶剤１２が減って水位低レベルセンサー２
６ｂまで低下すると、自動バルブ１６ｃが開になり、エ
アーパイプ２２によりエアーを圧送し、自動バルブ１６
ｂが開になり、キャニスター缶６の溶剤１２をフィルタ
ー１４ｃを通り、溶剤供給パイプ１７により蒸気乾燥槽
４へ送り込む。水位高レベルセンサー２５ｂが反応する
まで供給し、常に蒸気乾燥槽４の溶剤１２を一定に保つ
ことができる。
【００１０】ディスク基板７を蒸気乾燥槽４内で蒸気リ
ンスした溶剤１２は、溶剤受皿２０ｂにためられ、自動
バルブ１６ｅを開にして廃液パイプ２３ａを通して廃液
槽５にたまる。廃液になった溶剤１２が水位高レベルセ
ンサー２５ｃまでたまると、廃液搬出ポンプ２４が働
き、自動バルブ１６ｆが開になり外部へ搬出する。水位
低レベルセンサー２６ｃが反応すると、廃液搬出ポンプ
２４は停止し、自動バルブ１６ｆは閉になる。
ンスした溶剤１２は、溶剤受皿２０ｂにためられ、自動
バルブ１６ｅを開にして廃液パイプ２３ａを通して廃液
槽５にたまる。廃液になった溶剤１２が水位高レベルセ
ンサー２５ｃまでたまると、廃液搬出ポンプ２４が働
き、自動バルブ１６ｆが開になり外部へ搬出する。水位
低レベルセンサー２６ｃが反応すると、廃液搬出ポンプ
２４は停止し、自動バルブ１６ｆは閉になる。
【００１１】また、槽の清掃時で、液を抜くときは、浸
漬槽３は自動バルブ１６ｄを開にして、廃液槽５へ送り
出すか、手動バルブ３３ａを開にして排出パイプ３２ａ
を通して外部へ出す。蒸気洗浄槽４は、手動バルブ３３
ｂを開にして排出パイプ３２ｂを通して外部へ出す。図
中２７ａ〜ｃは水位レベルパイプである。
漬槽３は自動バルブ１６ｄを開にして、廃液槽５へ送り
出すか、手動バルブ３３ａを開にして排出パイプ３２ａ
を通して外部へ出す。蒸気洗浄槽４は、手動バルブ３３
ｂを開にして排出パイプ３２ｂを通して外部へ出す。図
中２７ａ〜ｃは水位レベルパイプである。
【００１２】洗浄の手順としてディスク基板７を入れた
カセットケース８が搬入コンベア１で送られてくる。搬
送ハンガー９により搬入コンベア１にセットされたカセ
ットケース８を第１槽の浸漬槽３へ移載する。この浸漬
槽３の溶剤１２の中へカセットケース８を沈め、溶剤１
２中で上下運動を繰り返す。浸漬槽３の底部に設けた超
音波発振子１０の動作により、ディスク基板７に付着し
ている汚れ、ごみ、ちりなどを洗い落す。
カセットケース８が搬入コンベア１で送られてくる。搬
送ハンガー９により搬入コンベア１にセットされたカセ
ットケース８を第１槽の浸漬槽３へ移載する。この浸漬
槽３の溶剤１２の中へカセットケース８を沈め、溶剤１
２中で上下運動を繰り返す。浸漬槽３の底部に設けた超
音波発振子１０の動作により、ディスク基板７に付着し
ている汚れ、ごみ、ちりなどを洗い落す。
【００１３】前記浸漬槽３での洗浄が終わるとディスク
基板７とそのカセットケース８は第２槽の蒸気洗浄槽４
へ搬送コンベア９により移載し、底面ヒータ１８と側面
ヒータ１９で加熱することにより、槽内部の溶剤１２を
炊き上げ、蒸気を発生させる。その蒸気の雰囲気内にカ
セットケース８を搬送ハンガー９で下降し、蒸気による
リンス洗浄を行なう。
基板７とそのカセットケース８は第２槽の蒸気洗浄槽４
へ搬送コンベア９により移載し、底面ヒータ１８と側面
ヒータ１９で加熱することにより、槽内部の溶剤１２を
炊き上げ、蒸気を発生させる。その蒸気の雰囲気内にカ
セットケース８を搬送ハンガー９で下降し、蒸気による
リンス洗浄を行なう。
【００１４】蒸気洗浄が終わると搬送ハンガー９が上昇
し、蒸気乾燥槽４の上部上で停止し、ディスク基板７の
乾燥を始める。乾燥終了後、搬出コンベア２へ移載し、
ディスク基板７の洗浄工程は終わり、外部へ搬出する。
し、蒸気乾燥槽４の上部上で停止し、ディスク基板７の
乾燥を始める。乾燥終了後、搬出コンベア２へ移載し、
ディスク基板７の洗浄工程は終わり、外部へ搬出する。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のディスク基板の洗浄装置ではディスク基板７
とカセットケース８が常に接触している箇所があり、接
触部に洗浄残りが発生し、シミの要因となる問題点があ
った。
うな従来のディスク基板の洗浄装置ではディスク基板７
とカセットケース８が常に接触している箇所があり、接
触部に洗浄残りが発生し、シミの要因となる問題点があ
った。
【００１６】そこで本発明はディスク基板の表面をより
確実に洗い落せることができ、シミの要因をなくしたデ
ィスク基板の洗浄装置を提供することを目的とする。
確実に洗い落せることができ、シミの要因をなくしたデ
ィスク基板の洗浄装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のディスク基板の洗浄装置は、蒸気乾燥槽内
に、ディスク基板入りカセットケースの下降手段と、前
記ディスク基板入りカセットケースの下降停止手前でデ
ィスク基板の外周部の下部に接触してディスク基板を固
定するディスクホルダーと、カセットケースのみを下降
しかつ停止する手段を設けた構成とする。
に本発明のディスク基板の洗浄装置は、蒸気乾燥槽内
に、ディスク基板入りカセットケースの下降手段と、前
記ディスク基板入りカセットケースの下降停止手前でデ
ィスク基板の外周部の下部に接触してディスク基板を固
定するディスクホルダーと、カセットケースのみを下降
しかつ停止する手段を設けた構成とする。
【００１８】
【作用】上記構成において、上記乾燥槽内で溶剤をヒー
タにより加熱して炊き上げ蒸気をつくり、その蒸気でデ
ィスクをリンスする際、ディスク基板とカセットケース
との接触部分を、ディスク基板の外周部の下部をディス
クホルダーにより固定し、前記ディスク基板をカセット
ケースに対し非接触にする。このためディスク基板の蒸
気乾燥がカセットケースに邪魔されることなく行なわ
れ、ディスク基板におけるシミとなる要因が解消され、
ディスクの特性上の問題が解決することとなる。
タにより加熱して炊き上げ蒸気をつくり、その蒸気でデ
ィスクをリンスする際、ディスク基板とカセットケース
との接触部分を、ディスク基板の外周部の下部をディス
クホルダーにより固定し、前記ディスク基板をカセット
ケースに対し非接触にする。このためディスク基板の蒸
気乾燥がカセットケースに邪魔されることなく行なわ
れ、ディスク基板におけるシミとなる要因が解消され、
ディスクの特性上の問題が解決することとなる。
【００１９】
【実施例】以下本発明の一実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。図１はディスク基板の洗浄装置の全体
図である。なお、蒸気乾燥槽４内の装置を除いては前述
の従来例と同じ構成であり、したがって、その同一の構
成部には同符号を付し、その説明は省略する。
詳細に説明する。図１はディスク基板の洗浄装置の全体
図である。なお、蒸気乾燥槽４内の装置を除いては前述
の従来例と同じ構成であり、したがって、その同一の構
成部には同符号を付し、その説明は省略する。
【００２０】本実施例の特徴とするところは、蒸気乾燥
槽４内の装置の構成にある。すなわち図２に示すように
溶剤受皿２０ｂの上部にディスクホルダーベース２８を
ベース固定ボルト３１により固定している。このディス
クホルダーベース２８はステンレス鋼材であり、廃液パ
イプへ通じるように開孔口をもうけている。ディスク基
板７の外周部の下を支えるために、ディスクホルダーベ
ース２８の両側面に上方に延びたホルダー板２９をボル
ト３０で固定している。ホルダー板２９は耐熱性、耐薬
品にすぐれたテフロン材を使用する。ホルダー板２９の
先端は４５°前後の鋭角にして、ディスク基板７の外周
部に接触面を小さくして、２枚のホルダー板２９でディ
スク基板７、２５枚を支え固定できる構成となってい
る。
槽４内の装置の構成にある。すなわち図２に示すように
溶剤受皿２０ｂの上部にディスクホルダーベース２８を
ベース固定ボルト３１により固定している。このディス
クホルダーベース２８はステンレス鋼材であり、廃液パ
イプへ通じるように開孔口をもうけている。ディスク基
板７の外周部の下を支えるために、ディスクホルダーベ
ース２８の両側面に上方に延びたホルダー板２９をボル
ト３０で固定している。ホルダー板２９は耐熱性、耐薬
品にすぐれたテフロン材を使用する。ホルダー板２９の
先端は４５°前後の鋭角にして、ディスク基板７の外周
部に接触面を小さくして、２枚のホルダー板２９でディ
スク基板７、２５枚を支え固定できる構成となってい
る。
【００２１】以下本発明の実施例の装置の運転における
洗浄機能を説明する。ディスク基板７を入れたカセット
ケース８が搬入コンベア１で送られてくる。このカセッ
トケースには２５枚のディスク基板７が２５枚セットで
きる。搬送ハンガー９により搬入コンベア１にセットさ
れたカセットケース８を第１槽の浸漬槽３へ移載する。
溶剤１２の中へカセットケース８を沈め溶剤１２中で上
下運動を繰り返す。超音波発振子１０の動作によりディ
スク基板７に付着している汚れ、ごみなどを洗い落す。
浸漬槽３での洗浄が終わると、ディスク基板入りのカセ
ットケース８は蒸気乾燥槽４へ搬送ハンガー９により移
載される。溶剤１２の炊上げにより蒸気となった雰囲気
中までカセットケース８を降す。ここでディスク基板７
と蒸気に炊上げられた溶剤１２が接すると、常温であっ
たディスク基板７が急速に温度が上昇する。また蒸気に
炊上げられた溶剤１２が一瞬に温度が低下する。凝集作
用が起こり、ディスク基板７がリンスされる状態にな
る。
洗浄機能を説明する。ディスク基板７を入れたカセット
ケース８が搬入コンベア１で送られてくる。このカセッ
トケースには２５枚のディスク基板７が２５枚セットで
きる。搬送ハンガー９により搬入コンベア１にセットさ
れたカセットケース８を第１槽の浸漬槽３へ移載する。
溶剤１２の中へカセットケース８を沈め溶剤１２中で上
下運動を繰り返す。超音波発振子１０の動作によりディ
スク基板７に付着している汚れ、ごみなどを洗い落す。
浸漬槽３での洗浄が終わると、ディスク基板入りのカセ
ットケース８は蒸気乾燥槽４へ搬送ハンガー９により移
載される。溶剤１２の炊上げにより蒸気となった雰囲気
中までカセットケース８を降す。ここでディスク基板７
と蒸気に炊上げられた溶剤１２が接すると、常温であっ
たディスク基板７が急速に温度が上昇する。また蒸気に
炊上げられた溶剤１２が一瞬に温度が低下する。凝集作
用が起こり、ディスク基板７がリンスされる状態にな
る。
【００２２】ここで本実施例の特徴的動作を説明する。
カセットケース８にディスク基板７を接触させないため
には、まず蒸気乾燥槽４へ搬送ハンガー９によりカセッ
トケース８を下降する。前記下降中にディスク基板７が
ホルダー板２９に接してディスク基板７が支えられ、か
つ固定される。搬送ハンガー９はこれより下降し、カセ
ットケース８のみ下降して定位置で停止する。この時点
で、ディスク基板７とカセットケース８との接触は無く
なる。この状態で蒸気によるリンス洗浄が行なわれる。
終了すると搬送ハンガー９が上昇し、同時にカセットケ
ース８も上昇する。ホルダー板２９で支え固定されたデ
ィスク基板７もカセットケース８の上昇にともない、デ
ィスク基板７はカセットケース８におさまり、上昇して
蒸気洗浄槽４の上部囲りにある冷却コイル１５付近で一
たん停止し、ディスク基板７の乾燥を行なう。乾燥が終
了後、搬出コンベア２まで搬送ハンガー９によりカセッ
トケース８を移載する。搬出コンベア２により外部へ搬
出して洗浄は終了する。
カセットケース８にディスク基板７を接触させないため
には、まず蒸気乾燥槽４へ搬送ハンガー９によりカセッ
トケース８を下降する。前記下降中にディスク基板７が
ホルダー板２９に接してディスク基板７が支えられ、か
つ固定される。搬送ハンガー９はこれより下降し、カセ
ットケース８のみ下降して定位置で停止する。この時点
で、ディスク基板７とカセットケース８との接触は無く
なる。この状態で蒸気によるリンス洗浄が行なわれる。
終了すると搬送ハンガー９が上昇し、同時にカセットケ
ース８も上昇する。ホルダー板２９で支え固定されたデ
ィスク基板７もカセットケース８の上昇にともない、デ
ィスク基板７はカセットケース８におさまり、上昇して
蒸気洗浄槽４の上部囲りにある冷却コイル１５付近で一
たん停止し、ディスク基板７の乾燥を行なう。乾燥が終
了後、搬出コンベア２まで搬送ハンガー９によりカセッ
トケース８を移載する。搬出コンベア２により外部へ搬
出して洗浄は終了する。
【００２３】上記動作において、ディスクホルダーベー
ス２８の両側面に取り付けたホルダー板２９の鋭角にな
った先端部でディスク基板７を支え固定することによ
り、ディスク基板７と接触面を小さくすることができ、
また、カセットケース８と分離することができる。この
ような状態で蒸気洗浄することで、ディスク基板７とカ
セットケース８の接触によるシミの発生が無くなる。
ス２８の両側面に取り付けたホルダー板２９の鋭角にな
った先端部でディスク基板７を支え固定することによ
り、ディスク基板７と接触面を小さくすることができ、
また、カセットケース８と分離することができる。この
ような状態で蒸気洗浄することで、ディスク基板７とカ
セットケース８の接触によるシミの発生が無くなる。
【００２４】
【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなよう
に、本発明によれば蒸気乾燥槽内での蒸気洗浄では、ホ
ルダー板でディスク基板を支え固定することでディスク
基板とカセットケースの接触をなくすことができる。よ
って洗浄残りが無く、シミの要因となる磁気ディスクの
特性上の問題も発生しない。また、他方式のディスク基
板のみ洗浄する方法は、カセットケースとの分離、ディ
スク基板の搬送機構に高い費用が発生する。
に、本発明によれば蒸気乾燥槽内での蒸気洗浄では、ホ
ルダー板でディスク基板を支え固定することでディスク
基板とカセットケースの接触をなくすことができる。よ
って洗浄残りが無く、シミの要因となる磁気ディスクの
特性上の問題も発生しない。また、他方式のディスク基
板のみ洗浄する方法は、カセットケースとの分離、ディ
スク基板の搬送機構に高い費用が発生する。
【００２５】本発明による洗浄装置はカセットケースご
と搬送するため、構造が簡単であり、かつ安価でコスト
メリットもある。
と搬送するため、構造が簡単であり、かつ安価でコスト
メリットもある。
【図１】本発明の一実施例のディスク基板の洗浄装置の
全体を示す構成図
全体を示す構成図
【図２】同ディスク基板の洗浄装置の蒸気乾燥槽内の要
部断面図
部断面図
【図３】従来のディスク基板の洗浄装置の全体を示す構
成図
成図
【図４】従来のディスク基板の洗浄装置における蒸気乾
燥槽部内の要部断面図
燥槽部内の要部断面図
１ 搬入コンベア ２ 搬出コンベア ３ 浸漬槽 ４ 蒸気乾燥槽 ５ 廃液槽 ６ キャニスター缶 ７ ディスク基板 ８ カセットケース ９ 搬送ハンガー １２ 溶剤 ２０ｂ 溶剤受皿 ２８ ディスクホルダーベース ２９ ホルダー板 ３０ ボルト ３１ ベース固定ボルト
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/84 - 5/858 C04B 33/30 F26B 13/10 F16F 15/36
Claims (1)
- 【請求項１】 蒸気乾燥槽内に、ディスク基板入りカセ
ットケースの下降手段と、前記ディスク入りカセットケ
ースの下降時に、ディスク基板のみを下降を停止させて
支え固定するディスクホルダーを設け、カセットケース
をディスク基板より分離させるようにしたことを特徴と
するディスク基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29881593A JP3285683B2 (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | ディスク基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29881593A JP3285683B2 (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | ディスク基板の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07153072A JPH07153072A (ja) | 1995-06-16 |
| JP3285683B2 true JP3285683B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=17864582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29881593A Expired - Lifetime JP3285683B2 (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | ディスク基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3285683B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8003350B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-08-23 | Bioenex Inc. | Mutant firefly luciferase, gene, recombinant vector, transformant, and method for production of mutant firefly luciferase |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP29881593A patent/JP3285683B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8003350B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-08-23 | Bioenex Inc. | Mutant firefly luciferase, gene, recombinant vector, transformant, and method for production of mutant firefly luciferase |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07153072A (ja) | 1995-06-16 |
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