JP3962499B2 - 半導体加速度センサ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、加速度センサチップ及び信号処理チップを含む構成要素がモールド樹脂で封止されてなる半導体加速度センサ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、例えば自動車に搭載されるシステムとして、エアバックシステム,アンチロックブレーキングシステム(ABS)及びナビゲーションシステムが広く普及しつつあるが、これらのシステムは、共に、車体に対する衝撃又は加速度を検出する半導体加速度センサを用いるものである。半導体加速度センサは、一般に、加速度センサチップ及び信号処理チップを備え、これらのチップがセンサ本体の外形をなすパッケージによって外部環境から保護されるような構造を有している。このパッケージ構造として、かつては金属製のカバー体が使用されていたが、上記各システムの低価格車への普及が進むにつれて、より小型且つ低コストのものが要求されるようになり、最近では、主として、モールド樹脂でチップが封止されてなるパッケージ構造が採用されている。
【0003】
図6に、従来の樹脂封止型の半導体加速度センサを示す。この半導体加速度センサ50では、加速度センサチップ53がダイパッド61上にダイボンド樹脂63を介して固着されるとともに、信号処理チップ55が加速度センサチップ53上に取り付けられ、金属ワイヤ59aを介して加速度センサチップ53と電気的に接続されている。また、これらのチップ53,55の周囲近傍には、外部端子となる複数のアウタリード57が設けられ、各アウタリード57は、金属ワイヤ59bを介して信号処理チップ55と電気的に接続されている。そして、これらの構成要素は、各要素が所定位置に保持されるとともに外部環境から保護されるように、モールド樹脂52により、上記アウタリード57の外側部分のみが露出した状態で封止されている。
【0004】
ところで、加速度センサチップは、一般に質量体の微量の変位により加速度又は衝撃を検出するため、検出の対象でない外部応力を受けることを好まない。前述したような樹脂封止型の半導体加速度センサについては、特に外部環境の温度変化による封止用のモールド樹脂の収縮又は膨張に起因する応力の影響が懸念される。かかる外部応力が所定以上加わった場合には、加速度センサの温度特性に基づく出力感度・オフセットの変化が大きくなり、検出対象である加速度又は衝撃を検出する上で、実質的に、良好な精度を確保することが難しくなる。
このため、従来の半導体加速度センサ50では、例えばゴムなどの弾性材料からなる緩衝部材54が、上記センサチップ53の外周面を取り囲むように設けられており、これによって、センサチップ53に対するモールド樹脂52からの応力が吸収されて緩和されるようになっている。この従来例において、上記緩衝部材54は、上記加速度センサチップ53の外周面にダイボンド樹脂63を介して固着されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
前述したように、従来の半導体加速度センサ50では、上記加速度センサチップ53に対するモールド樹脂52からの応力を吸収して緩和するために、加速度センサチップ53の外周面を取り囲む緩衝部材54が採用され、上記加速度センサチップ53及び信号処理チップ55とともにモールド樹脂で封止される。しかしながら、このモールド工程に際して、図7からよく分かるように、上記緩衝部材54と加速度センサチップ53との間に、モールド樹脂52が、ダイボンド樹脂を押し退けるようにして入り込むことがある。上記緩衝部材54と加速度センサチップ53との間に入り込んだモールド樹脂52aは、温度変化により収縮又は膨張して、上記加速度センサチップ53に対して直接的に応力をもたらすようになる。
【0006】
そこで、本発明は、上記技術的課題に鑑みてなされたもので、封止用のモールド樹脂から加速度センサチップを保護して、良好な検出精度を確保することができる半導体加速度センサを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本願の第1の発明は、加速度センサチップ及び信号処理チップを含む構成要素がモールド樹脂で封止されてなる半導体加速度センサにおいて、上記加速度センサチップに対するモールド樹脂からの応力を緩和するように、上記加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して配置される緩衝部材と、該緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆うカバー部材とを有していることを特徴としたものである。
【0008】
また、本願の第2の発明は、上記緩衝部材が、上記カバー部材と一体的に成形されていることを特徴としたものである。
【0009】
更に、本願の第3の発明は、上記緩衝部材が、その高さ方向に沿って、中空層を有していることを特徴としたものである。
【0010】
また、更に、本願の第4の発明は、上記中空層内にゲル状の補強充填剤が充填されていることを特徴としたものである。
【0011】
また、更に、本願の第5の発明は、上記補強充填剤がシリコンゲルであることを特徴としたものである。
【0012】
本願の第6の発明は、加速度センサチップ及び信号処理チップを含む構成要素がモールド樹脂で封止されてなる半導体加速度センサの製造方法において、上記加速度センサチップに対するモールド樹脂からの応力を緩和するように、上記加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して緩衝部材を設け、上記緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆うカバー部材を取り付けることを特徴としたものである。
【0013】
また、本願の第7の発明は、上記緩衝部材を上記カバー部材と一体的に成形することを特徴としたものである。
【0014】
また、更に、本願の第8の発明は、上記緩衝部材において、その高さ方向に沿って、中空層を形成することを特徴としたものである。
【0015】
また、更に、本願の第9の発明は、上記中空層内にゲル状の補強充填剤を充填することを特徴としたものである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照しながら説明する。
実施の形態1.
図1及び2は、それぞれ、本発明の実施の形態1に係る樹脂封止型の半導体加速度センサの縦断面説明図及び平面図である。尚、図2では、半導体加速度センサの内部構造を示すために、パッケージである樹脂を透明にしてその外形のみを仮想線(2点鎖線)であらわすようにした。
この半導体加速度センサ10は、質量体の変位量を検出する加速度センサチップ3(以下、センサチップと略す)と、検出された変位量に基づき加速度又は衝撃を算出する信号処理チップ5とを有している。上記センサチップ3は、ガラス−シリコン−ガラスの3層構造を有するもので、ダイパッド11上にダイボンド樹脂13を介して固着されている。他方、信号処理チップ5は、上記センサチップ3上に取り付けられている。これらセンサチップ3及び信号処理チップ5は、例えば金線などの金属ワイヤ9aで互いに電気的に接続されている。
また、この加速度センサ10では、図2からよく分かるように、その長手方向に沿った周縁部の両側(図2中の上下側)において、外部端子であるアウタリード7が複数配列されており、各アウタリード7は、金属ワイヤ9bで信号処理チップ5に対して電気的に接続されている。
【0017】
かかる加速度センサ10の構成要素は、各要素が所定位置に保持されるとともに外部環境から保護されるように、モールド樹脂2によって、アウタリード7の外側部分のみが外部に露出した状態で封止されている。このモールド樹脂2の材料としては、例えばエポキシ樹脂が用いられる。モールド樹脂2は、図2中の仮想線(2点鎖線)に示されるように、加速度センサ10の本体の外形をなしている。
【0018】
この加速度センサ10では、外部環境の温度変化によるモールド樹脂2の収縮又は膨張に起因する応力を吸収して緩和するために、従来知られるように、上記センサチップ3の外周面を取り囲む緩衝部材4が設けられている。この緩衝部材4はリング状に形成されるもので、その内周面はダイボンド樹脂13を介してセンサチップ3の外周面に固着されている。また、この緩衝部材4の高さは、その上端部がセンサチップ3の上面と略面一になるように設定されている。尚、この緩衝部材4の材料としては、例えばゴムなどの弾性材料が用いられる。
【0019】
この実施の形態1では、上記緩衝部材4の上端周縁部とセンサチップ3の上面周縁部とを覆うように、略平板状のカバー部材6が設けられている。このカバー部材6の材料としては、上記緩衝部材4と同様に、ゴムなどの弾性材料が用いられる。なお、図2では、上記緩衝部材4とセンサチップ3とが互いに接合する位置を破線Pで示すようにした。
【0020】
かかるカバー部材6を設けることにより、カバー部材6が上記緩衝部材4の上端周縁部とセンサチップ3の上面周縁部とを覆うため、各構成要素をモールド樹脂2で封止するモールド工程において、上記緩衝部材4とセンサチップ3との間に、モールド樹脂2が入り込む惧れをなくすることができる。この結果、上記センサチップ3が、それに応力をもたらし得るモールド樹脂2から保護されて、この加速度センサ10は、良好な検出精度を確保することができる。
【0021】
次に、本発明の他の実施の形態について説明する。尚、以下では、上記実施の形態1における場合と同じものには、同一の符号を付し、それ以上の説明は省略する。
実施の形態2.
図3は、本発明の実施の形態2に係る樹脂封止型の半導体加速度センサの縦断面説明図である。この半導体加速度センサ20では、前述した実施の形態1に係るカバー部材が一体的に成形された緩衝部材24が設けられている。すなわち、この実施の形態2では、外部環境の温度変化によるモールド樹脂2の収縮又は膨張に起因する応力を吸収して緩和するために、上記実施の形態1における場合と同様に、上記センサチップ3の外周面に沿って、緩衝部材24が設けられるが、この緩衝部材24は、その上端部から内方へ突出するフランジ部24aを形成されて、略L字状の断面を有している。なお、この緩衝部材24は、リング状に形成されるもので、この材料としては、例えばゴムなどの弾性材料が用いられる。
【0022】
上記フランジ部24aは、上記緩衝部材24がセンサチップ3に取り付けられた状態において、その先端側で上記センサチップ3の上面周縁部に当接する。これにより、各構成要素をモールド樹脂2で封止するモールド工程において、上記緩衝部材24とセンサチップ3の外周面との間に、モールド樹脂2が入り込む惧れをなくすることができる。
この結果、上記センサチップ3が、それに応力をもたらし得る封止用のモールド樹脂2から保護されて、この加速度センサ20は、良好な検出精度を確保することができる。更に、この実施の形態2では、前述したようなカバー部材が緩衝部材24と一体的に成形されるので、部品点数が少なくて済み、これにより、製造工程を簡略化することができる。
【0023】
実施の形態3.
図4は、本発明の実施の形態3に係る樹脂封止型の半導体加速度センサの縦断面説明図である。この半導体加速度センサ30では、外部環境の温度変化によるモールド樹脂2の収縮又は膨張に起因する応力を吸収して緩和するために、上記センサチップ3の外周面に沿って、緩衝部材34が設けられており、この実施の形態3では、上記緩衝部材34の高さ方向に沿って、中空層34aが形成されている。この中空層34aは、その開口側で、上記緩衝部材34の上端部とセンサチップ3の上面周縁部を覆うように取り付けられるカバー部材6により塞がれて、その内部にはエアが閉じ込められている。
【0024】
このように、上記緩衝部材34の高さ方向に沿って中空層34aが設けられることにより、緩衝部材34の横方向の弾性が大きくなり、センサチップ3に対してモールド樹脂から加わる応力を確実に吸収して緩和することができるようになる。
【0025】
実施の形態4.
図5は、本発明の実施の形態4に係る樹脂封止型の半導体加速度センサの縦断面説明図である。この半導体加速度センサ40では、上記実施の形態3に係る中空層34a内に、ゲル状の補強充填剤42が充填されている。これにより、緩衝部材34の横方向の弾性を大きく保ちつつ、エアが閉じ込められる場合に比べて、緩衝部材34の強度を向上させることができる。かかる補強充填剤42としては、例えばシリコンゲルを用いられるが、この場合には、耐老化性,耐熱性に優れ、温度による粘性の変化が少なくて済み、緩衝部材34において、安定した横方向の弾性及び強度を得ることができる。
【0026】
尚、本発明は、例示された実施の形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々の改良及び設計上の変更が可能であることは言うまでもない。例えば、前述した実施の形態では、緩衝部材及びカバー部材が、ゴムなどの弾性材料からなるものであるが、これに限定されることなく、緩衝部材及びカバー部材の材料として、モールド樹脂からの応力を吸収して緩和するのに、あるいは、上記緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とを覆うのに適している限り、プラスチックなどの硬質樹脂を用いてもよい。
【0027】
【発明の効果】
本願の請求項1の発明によれば、封止用のモールド樹脂からの応力を緩和するように加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して配置される緩衝部材と、該緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆うカバー部材とを有しているので、各構成要素をモールド樹脂で封止するモールド工程において、緩衝部材と加速度センサチップの外周面との間に、モールド樹脂が入り込む惧れをなくすることができる。この結果、加速度センサチップが、それに応力をもたらし得る封止用のモールド樹脂から保護されて、加速度センサは良好な検出精度を確保することができる。
【0028】
また、本願の請求項2の発明によれば、基本的には、本願の請求項1の発明と同様の効果を奏し、その上、緩衝部材がカバー部材と一体的に成形されるので、部品点数が少なくて済み、これにより、製造工程を簡略化することができる。
【0029】
更に、本願の請求項3の発明によれば、緩衝部材が、その高さ方向に沿って、中空層を有しているので、緩衝部材の横方向の弾性が大きく、センサチップに対してモールド樹脂から加わる応力を確実に吸収して緩和することができる。
【0030】
また、更に、本願の請求項4の発明によれば、緩衝部材の中空層内に、ゲル状の補強充填剤が充填されているので、緩衝部材の横方向の弾性を大きく確保しつつ、緩衝部材の強度を向上させることができる。
【0031】
本願の請求項5の発明によれば、補強充填剤がシリコンゲルであるため、耐老化性,耐熱性に優れ、温度による粘性の変化が少なくて済み、緩衝部材において、安定した横方向の弾性及び強度を得ることができる。
【0032】
本願の請求項6の発明によれば、封止用モールド樹脂からの応力を緩和するように加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して緩衝部材を配置するとともに、該緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆う略平板状のカバー部材を取り付けるので、各構成要素をモールド樹脂で封止するモールド工程において、緩衝部材と加速度センサチップの外周面との間に、モールド樹脂が入り込む惧れをなくすることができる。この結果、加速度センサチップが、それに応力をもたらし得る封止用のモールド樹脂から保護されて、加速度センサは良好な検出精度を確保することができる。
【0033】
また、本願の請求項7の発明によれば、基本的には、本願の請求項1の発明と同様の効果を奏し、その上、緩衝部材をカバー部材と一体的に成形するので、部品点数が少なくて済み、これにより、製造工程を簡略化することができる。
【0034】
また、更に、本願の請求項8の発明によれば、緩衝部材において、その高さ方向に沿って、中空層が形成されるので、緩衝部材の横方向の弾性が大きくなり、センサチップに対してモールド樹脂から加わる応力を確実に吸収して緩和することができる。
【0035】
また、更に、本願の請求項9の発明によれば、緩衝部材の中空層内に、ゲル状の補強充填剤を充填するので、緩衝部材の横方向の弾性を大きく確保しつつ、緩衝部材の強度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に係る半導体加速度センサの縦断面説明図である。
【図2】 上記実施の形態1に係る半導体加速度センサの平面図である。
【図3】 本発明の実施の形態2に係る半導体加速度センサの縦断面説明図である。
【図4】 本発明の実施の形態3に係る半導体加速度センサの縦断面説明図である。
【図5】 本発明の実施の形態4に係る半導体加速度センサの縦断面説明図である。
【図6】 従来の半導体加速度センサの縦断面説明図である。
【図7】 従来の半導体加速度センサを部分的に拡大して示す縦断面説明図である。
【符号の説明】
2 モールド樹脂,3 加速度センサチップ,4 緩衝部材,5 信号処理チップ,6 カバー部材,10 半導体加速度センサ,34a 中空層,42 補強充填剤
Claims (9)
- 加速度センサチップ及び信号処理チップを含む構成要素がモールド樹脂で封止されてなる半導体加速度センサにおいて、
上記加速度センサチップに対するモールド樹脂からの応力を緩和するように、上記加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して配置される緩衝部材と、
上記緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆うカバー部材とを有していることを特徴とする半導体加速度チップ。 - 上記カバー部材が、上記緩衝部材と一体的に成形されていることを特徴とする請求項1記載の半導体加速度チップ。
- 上記緩衝部材が、その高さ方向に沿って、中空層を有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体加速度チップ。
- 上記中空層内にゲル状の補強充填剤が充填されていることを特徴とする請求項3記載の半導体加速度チップ。
- 上記補強充填剤がシリコンゲルであることを特徴とする請求項4記載の半導体加速度チップ。
- 加速度センサチップ及び信号処理チップを含む構成要素がモールド樹脂で封止されてなる半導体加速度センサの製造方法において、
上記加速度センサチップに対するモールド樹脂からの応力を緩和するように、上記加速度センサチップの外周面に沿ってダイボンド樹脂を介して緩衝部材を配置するとともに、
上記緩衝部材の上端周縁部と加速度センサチップの上面周縁部とをダイボンド樹脂が介在する領域を含みつつ覆うカバー部材を取り付けることを特徴とする半導体加速度チップの製造方法。 - 上記カバー部材を上記緩衝部材と一体的に成形することを特徴とする請求項6記載の半導体加速度チップの製造方法。
- 上記緩衝部材において、その高さ方向に沿って、中空層を形成することを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体加速度チップの製造方法。
- 上記中空層内にゲル状の補強充填剤を充填することを特徴とする請求項8記載の半導体加速度チップの製造方法。
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