JP4535687B2 - ワイヤ支持及び周面水分払拭装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は製紙技術の分野に属するものである．更に詳しくは、本発明は少なくとも１本のワイヤ(スクリーン)を有する製紙装置の該ワイヤと接触しかつ前記ワイヤ上に支持されかつその周面に滴る紙パルプ（ペーパーストック）または紙ウェブから出た水分を拭うためのセラミック材料の上面を有する多数の支持及び拭い要素を含むワイヤ支持及び周面水分払拭装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
その型の従来の装置は、ワイヤの運動方向に一方が他方の後ろに配置されるセラミック材料からなる複数の帯片を有している。帯片またはスクレーパはワイヤの幅全体にわたって延びかつそれらの上側がワイヤと接触する。これらの帯片はまずワイヤを支持するようにかつ第２にワイヤ上のペーパーストックから到来しかつワイヤを通過する水をワイヤの下側から拭い去るのに使用される。
【０００３】
ワイヤ装置の第１の領域において、紙パルプに含有される水はとくに重力によりワイヤを通過する。しかしながら、次の領域において、紙ウェブに含有される水及び回転密封ウェブ中の水分を抽出するために、ワイヤに真空を印加することが必要である。このために、吸い込みボックスがワイヤのさらに他の領域に設けられる。ワイヤに印加された真空によって、ワイヤは大きな圧力下で支持及び拭い帯片と接触させられる。工程中にワイヤに働かされる力を吸収可能にするために、支持及び拭い帯片は密接した間隔で互いに並んで配置されねばならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
支持及び拭い帯片の間で、まずワイヤから出ている水は除去され、かつ第２に吸い込みボックスによって印加された真空はワイヤに実施され、それによって紙パルプまたは紙ウェブに含有される水または水分は抽出される。支持及び拭い帯片は、これらが矛盾するけれども、工程において２つの条件を満足しなければならない。一方で、これらの帯片は、とくに真空がそれに印加されるそれらの領域において、ワイヤの所定の支持を実施するために、できるだけ互いに近接して配置されるべきである。他方で、支持及び拭い帯片は、ワイヤを通過する水の放出のための十分な空間をかつ加えて、真空中にワイヤを晒すことが可能な考え得る最大の空間を達成するために、出来得る限り最大の間隔に配置されるべきである。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、これまで公知の装置及びこの一般的な型の方法の上述した欠点を克服しかつ考え得る最良の方法において上述した条件に合致する製紙装置用のワイヤ支持及び周面水分払拭装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記及び他の目的に鑑みて、本発明によれば、前記支持及び拭い要素が、前記ワイヤの運動方向に沿って互いに離れた複数の列に多数負荷支持フレーム内に配置されており、前記複数の列の各々が複数の支持及び拭い要素を有しておりかつ前記ワイヤの幅全体にわたって延びていることを特徴とするワイヤ支持及び周面水分払拭装置が提供される。
【０００７】
言い換えれば、本発明の目的は、ワイヤの幅にわたって延びている複数の列において配置される、多数の支持及び拭い要素が設けられ、各列に複数の要素が存在している。
【０００８】
互いに並んでかつ一方が他方の後ろに配置された多数の支持及び拭い要素はまず、ワイヤが適切に支持されることを保証し、この良好な支持が、高い真空力がとくにワイヤに働かされるそれらの領域において要求される。第２に、互いに並んでかつ一方が他方の後ろに配置された多数の支持及び拭い要素間に、十分に多くの空間があり、それを通してペーパーストックまたは紙ウェブに含有された水が通りかつ真空ボックスによってワイヤに印加された吸い込み力がワイヤに実施される。
【０００９】
支持及び拭い要素は、好ましくは、ワイヤの運動方向に２つの連続する列において互いに関連してずれるように配置される。
【００１０】
好適な実施の形態によれば、例えば、平行に配置された負荷支持帯片の形の、負荷支持装置が設けられ、それに支持及び拭い要素が固定されかつそれからこれらの要素が突出する。この場合に、負荷支持装置は負荷支持フレームに固定されることができ、そのさい支持及び拭い要素が配置される。そのうえ、負荷支持フレームの上縁部は少なくともほぼ支持及び拭い要素の上側の区域に配置され得る。これは、ワイヤに対して所定の密封を実施するので、負荷支持フレームが吸い込みボックスと連係するあらゆる場合に要求される。これに対する代替物として、負荷支持フレームの上縁部は支持及び拭い要素の上側の区域の下に間隔を置いて配置され得る。この実施の形態は真空が支持及び拭い要素の領域においてワイヤに印加されないとき可能である。
【００１１】
ワイヤと接触するそれらの上側に、支持及び拭い要素は、好ましくは、ワイヤの運動方向に対して反対に前方に突出するクサビ形状の鼻延長部を形成している。この形状は要素の拭い及び掻き落とし作用を改善する。加えて、支持及び拭い要素はそれらの上側で凹上に屈曲され得る。
【００１２】
本発明に関する特徴として見なされる他の特徴は添付の特許請求の範囲に記載されている。
【００１３】
本発明によるワイヤ支持及び周面水分払拭装置は製紙用の少なくとも１本のワイヤを有する装置に適用されることにおいて具体化されるようにここでは例示されかつ説明されるけれども、それにも拘わらず、種々の変更及び構造的変化が本発明の精神から逸脱することなくかつ請求の範囲の同等物の範囲内でなされ得るので示された詳細に制限されるように意図されない。
【００１４】
本発明の構造及び作動方法は、しかしながら、その追加の目的及び利点とともに、添付の図面において関連して読まれるとき特別な実施の形態の以下の説明から最良に理解される。
【００１５】
【実施例】
次に図面の各図を詳細にかつまず、とくにその図１を参照すると、本発明によるワイヤ支持及び周面水分払拭装置は、例えば、吸い込みボックスに取り付けられるようになされる、負荷支持フレーム１を有する。負荷支持フレーム１はその上側にセラミック材料からなる接触支持体１１を形成し、それと製紙用装置の図示しないワイヤが接触する。ワイヤは矢印Ａの方向に負荷支持フレーム１上で動かされる。加えて、負荷支持フレーム１は複数の負荷支持帯片１２を形成し、それに上方に向かって突出している支持及び拭い要素２が固定される。この支持及び拭い要素２の上面は接触支持体１１の上側の平面に配置される。
【００１６】
負荷支持フレーム１及び多数の支持及び拭い要素２はこの場合にワイヤの幅全体にわたって延びている。また、スクレーパまたはスクレーパ要素２として言及され得る、支持及び拭い要素２は、ワイヤの運動方向Ａに関連して横方向に整列された多数の列において互いに並んでかつ一方が他方の後ろに密接して配置され、互いに並んでかつ一方が他方の後ろに配置された多数の支持及び拭い要素２間には非常に多数の空間があり、その空間を通ってまずワイヤ上のペーパーストックまたは紙ウェブから出る水が通貨しかつ、第２に、吸い込みボックスによってペーパーストックまたは紙ウェブに働かされた真空が実施される。結果として、支持及び拭い要素２間の空間の有効面積は非常に大きいけれども、その結果として水の通路は制限されず、かつ加えて、ワイヤへの真空の非常に有効な印加が保証され、ワイヤの所定の支持が多数の要素２のために保証される。この文脈において、参照したことは、この支持がワイヤの運動通路のそれらの領域においてとくに要求されそのさい非常に高い真空が紙ウェブの水分を除去するためにワイヤ上に載置している紙ウェブに印加されねばならないということである。
【００１７】
ワイヤの幅にわたって均一の支持及び拭い作用を達成するために、ワイヤの運動方向に連続する列において支持及び拭い要素２は互いに関連して横方向にずれるように配置される。
【００１８】
本発明による装置の図２に示される例示の実施の形態は、支持及び拭い要素２が異なる物理的形状を有することによって図１に示した例示の実施の形態と異なっている。ここでは、要素２はワイヤの運動方向Ａに対して反対にクサビ形状に傾斜している延長部２１を備えており、その延長部によってワイヤ周面に滴る水分に対する払拭作用が改善される。
【００１９】
図３に示される装置は、拭い要素２ａが負荷支持フレーム１ａを超えて突出しかつ負荷支持フレーム１ａがワイヤと接触する上側を形成しないことによって図２に示した例示の実施の形態と異なっている。この型の装置は、本発明がワイヤ用の支持及び拭い作用のみを達成するとき使用され、それに反して真空はワイヤに印加されない。
【００２０】
支持及び拭い要素２の８つの異なる実施の形態が図４に示される。これらの例示は支持及び拭い要素２が多数の設計を有することを示している。これらは平らなまたは凸状屈曲面を形成することができる。加えて、それらはワイヤの運動方向に対して反対に突出する延長部２１を備えることができる。
【００２１】
図５を参照して、支持及び拭い要素２は、この要素２がそれらの下側に、ネジ付きスリーブ２３が固定される、とくに接着結合される盲孔または穴を形成することによって負荷支持帯片１２に固定され得る。負荷支持帯片１２を貫通するネジ２４はその場合に要素２を負荷支持帯片１２に取着するためにネジ付きスリーブに螺入される。
【００２２】
上で議論されたように、本装置の顕著な特徴は非常に多数の支持及び拭い要素２設けられる教示に見出され、それによってワイヤの所定の支持が実施されかつそれによってワイヤ周面に滴る水分が掻き落とされ、または拭い去られるが、非常に大きな区域が水を放出するのにかつワイヤ上の真空作用に追加的に利用可能で、それは非常に有効な真空の印加を許容する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるワイヤ支持及び周面水分払拭装置の第１の実施の形態を示す部分破断不等角投影図である。
【図２】本発明によるワイヤ支持及び周面水分払拭装置の第２の実施の形態を示す同様な斜視図である。
【図３】本発明によるワイヤ支持及び周面水分払拭装置の第３の実施の形態を示す同様な斜視図である。
【図４】支持及び拭い要素の種々の実施の形態を集めて示す斜視図である。
【図５】付加支持帯片に固定される支持要素を示す軸方向断面図である。
【符号の説明】
１ 負荷支持フレーム
１ａ 負荷支持フレーム
２ 支持及び拭い要素
２ａ 拭い要素
１１ 接触支持体
１２ 負荷支持帯片
２１ 延長部

Claims (10)

1. 少なくとも１本のワイヤを有する製紙装置の該ワイヤと接触し、前記ワイヤ上に支持された紙パルプまたは紙ウェブから出て前記ワイヤを伝う水分を拭うための、セラミック材料の上面を備えた多数の支持及び拭い要素を含むワイヤ支持及び周面水分払拭装置において、
   前記多数の支持及び拭い要素が、前記ワイヤの運動方向に沿って互いに離れた複数の列に負荷支持フレーム内に配置されており、
   前記複数の列の各々が、複数の前記支持及び拭い要素を有し、前記ワイヤの幅全体にわたって延びており、
   前記複数の列の一の列に配置された隣り合う支持及び拭い要素間に空間があることを特徴とするワイヤ支持及び周面水分拭装置。
2. 前記支持及び拭い要素が実質上セラミック材料からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
3. 前記ワイヤの運動方向に沿って互いに連続する２列に配置された前記支持及び拭い要素が、前記ワイヤの運動方向に対して互いにずれた位置に配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
4. さらに、前記支持及び拭い要素を固定して支持するための負荷支持装置を含み、前記支持及び拭い要素が前記負荷支持装置の上面から突出していることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
5. 前記負荷支持装置が各々前記支持及び拭い要素を支持する複数の相互に平行な負荷支持帯片によって形成されることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
6. 前記負荷支持装置が前記負荷支持フレームに固定されそのさい、前記支持及び拭い要素が配置されることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
7. 前記負荷支持フレームが前記支持及び拭い要素の各々の前記上面と実質上水平に整列される上縁部を有することを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
8. 前記負荷支持フレームが前記支持及び拭い要素の各々の前記上面の下に整列される上縁部を有することを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
9. 前記支持及び拭い要素の少なくとも幾つかが前記ワイヤと接触している前記上面上にクサビ形状の延長部を形成していることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。
10. 前記支持及び拭い要素の前記上面が凸状に屈曲されることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のワイヤ支持及び周面水分払拭装置。

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