JP4632332B2 - 高分子量反応生成物の製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
本発明は、
少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び以下に定義された化合物(I)の存在下、水性相において少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)をフリーラジカル条件下で反応させることにより反応生成物(A)を製造する方法、
上記反応生成物それ自体、
上記反応生成物を使用するポリマーの製造方法、及び
重合体分散液におけるこれらの使用法、
に関する。
【0002】
本発明は、リビング重合系に特有の性質を有する、フリーラジカル付加重合の技術分野に属し、本発明の方法により、原則として反応生成物、或いは狭い分子量分布(M/M)を有することができるポリマーの提供が可能となる。さらに、モノマーを適当に選択し、必要により種々のモノマーを連続添加することにより、枝分かれしていても良い単独重合体及び共重合体の両方、さらにブロック共重合体を製造することができる。これに関連して、本発明はポリマーそれ自体のみならず、第1工程で得られる反応生成物に関する。
【0003】
長年にわたって、極めて多数のポリマーの製造に適当な方法及び方法の概念に対する興味が示されてきており、これにより、予定の構造、分子量及び分子量分布を有するような種類のポリマーの製造が可能となる。
【0004】
例えば、WO98/01478では、特にビニルモノマー及び不飽和基を有する酸誘導体、例えば(メタ)アクリル酸の例えば無水物、エステル及びイミドから選択されるモノマーを、フリーラジカル開始剤及び連鎖移動剤としてチオカルボイルチオ化合物の存在下にて反応させる、ポリマーの製造方法を開示している。
【0005】
WO92/13903では、低分子量のポリマーを、そこに定義されたC−S二重結合を含む原子団転移剤(group transfer agent)の存在下、1種以上のモノマーのフリーラジカル連鎖重合により製造する方法を開示している。この文献による証拠に基づいて、そこに開示されたC−S二重結合を含む化合物は、連鎖移動剤としてばかりでなく、成長調整剤として作用し、この文献に従って、この化合物の存在下にて低い分子量のポリマーのみを製造することができる。
【0006】
−CH−C(X)=CH末端基を含む高分子モノマーの存在下、水性媒体中で不飽和モノマーをフリーラジカル連鎖重合する方法が、WO93/22351に明確に開示され、これはXであるとも明示されている。この出願の実施例に基づいて、種々の(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸、必要によりスチレン等のモノマーを、乳濁又は懸濁重合条件下で反応させる。
【0007】
WO93/22355は、WO93/22351に開示された高分子モノマーを用いた架橋性ポリマーの製造方法に関する。
【0008】
WO96/15157にも同様に、そこに明示されているビニルモノマーを、フリーラジカル開始剤の存在下にてさらにビニル末端高分子モノマーと反応させる、比較的狭い分子量分布を有するポリマーの製造方法が開示されている。
【0009】
さらに、WO98/37104は、この文献により詳細に明示され、かつC−C二重結合を有する連鎖移動剤及びモノマーをフリーラジカル付加反応する観点からその二重結合を活性化するラジカルを用いて、アクリレート基礎ポリマーを含み制御された分子量のポリマーを対応するモノマーのフリーラジカル重合により製造する方法に関する。
【0010】
コモノマーとして酢酸エチル、スチレン、メタクリル酸メチル、アクリロニトリル及び酢酸ビニルを含むω−不飽和オリゴ(メチルメタクリレート)とのフリーラジカル連鎖重合又は共重合は、J. Macromol. Sci.-Chem., A 23(7), 839〜852頁 (1986)の科学記事(scientific article)に開示されている。
【0011】
従って、本発明の目的は、特に高分子開始剤としても使用でき、かつそれ自体まず最初に乳化剤又は分散剤として使用できる反応生成物の新規な製造方法を提供し、この生成物を用いて、フリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマーをさらに反応させて、組成が可能な限り異なる別のポリマーを得ることができるようにすることにある。さらに本発明の目的は、ポリマーの性質の特定の調整を提供し、そしてこのように調整されて、簡易なフリーラジカル重合、特にフリーラジカル重合によってブロック構造を形成することにより得られるポリマーの多様な使用を可能にすることにある。
【0012】
本発明者等は、上記目的が以下の工程(i):即ち、
(i)少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び下式:
【0013】
【化3】
Figure 0004632332
【0014】
[但し、R〜Rが相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR〜Rの2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す]で表される化合物(I)の存在下、水性相において、少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)を含む反応混合物をフリーラジカル条件下で反応させる工程、
を含む反応生成物(A)の本発明による方法により達成されることを見出した。
【0015】
さらに本発明は、以下の工程(i):即ち、
(i)少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び下式:
【0016】
【化4】
Figure 0004632332
【0017】
[但し、R〜Rが相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR〜Rの2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す]で表される化合物(I)の存在下、水性相において、少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)を含む反応混合物をフリーラジカル条件下で反応させる工程、
を含む方法により製造可能な反応生成物(A)を提供する。
【0018】
上記本発明の範囲内で、モノマー(a)としてフリーラジカル反応性モノマー全てを使用することができる。モノマー(a)として、例えばカルボキシル基等の親水性基を含む、フリーラジカル単独重合性又は共重合性化合物を使用するのが好ましい。モノマー(a)は、親水性で、フリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー、即ち水に対する溶解性がスチレンのそれより大きいモノマーを含んでいるのがさらに好ましい。勿論、異なる親水性モノマーの混合物、及び少なくとも1種の親水性モノマーと少なくとも1種の疎水性モノマーの混合物を、工程(i)の反応混合物中に含ませることも可能である。
【0019】
モノマー(a)の特定の代表例としては、以下のものが挙げられる:
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート(全ての異性体)、ブチルメタクリレート(全ての異性体)、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、メタクリル酸、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メタクリロニトリル、α−メチルスチレン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(全ての異性体)、アクリル酸ブチル(全ての異性体)、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリロニトリル、スチレン、
官能価メタクリレート;グリシジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルメタクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリエチレングリコールメタクリレート、無水イタコン酸、イタコン酸、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルアクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルアクリレート、トリエチレングリコールアクリレート、メタクリルアミド、N−tert−ブチルメタクリルアミド、N−n−ブチルメタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチロールメタクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチロールアクリルアミド、ビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノスチレン(全ての異性体)、α−メチルビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノ−α−メチルスチレン(全ての異性体)、p−メチルスチレン、p−ビニルベンゼンスルホン酸、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、トリブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジメトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレート、トリブトキシシリルプロピルアクリレート、ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジメトキシシリルプロピルアクリレート、ジエトキシシリルプロピルアクリレート、ジブトキシシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルアクリレート、酢酸ビニル及び酪酸ビニルから選択される、
塩化ビニル、フッ化ビニル、臭化ビニル、及び上述のモノマーの混合物である。
【0020】
第1のモノマー(a’)として、アクリル酸若しくはメタクリル酸、C〜Cアルキル若しくはC〜Cヒドロキシアルキルアクリレート若しくはメタクリレート、酢酸ビニル、置換されていても良いビニルピロリドン、これら2個以上の混合物、又は上記第1のモノマー(a)と少なくとも1種の他のフリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー(a)との混合物を使用するのが好ましい。
【0021】
本発明に従い、反応生成物(A)の製造に関連して、下式:
【0022】
【化5】
Figure 0004632332
【0023】
[但し、R〜Rが相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR〜Rの2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す必要がある]
で表される化合物(I)も使用する。
【0024】
ここで再び、本発明に従い、上述の式で表される全ての化合物を原則として使用することができる。化合物(I)として、ジフェニルエチレン、ジナフタレンエチレン、4,4−ビニリデンビス(N,N’−ジメチルアニリン)、4,4−ビニリデンビス(アミノベンゼン)、cis−及びtrans−スチルベン又はこれらの2個以上の混合物を使用するのが好ましく、さらにジフェニルエチレンを使用するのが好ましい。置換ジフェニルエチレンを使用することも可能であり、これは芳香族炭化水素基のどちらか一方又は両方にて、電子吸引基又は電子供与基、例えばtert−ブチル、ベンジル又はCN基、或いはアルコキシジフェニルエチレン、例えばメトキシ−、エトキシ−又はtert−ブトキシジフェニルエチレン、或いはチオ又はアミン化合物の類似物で置換されている。
【0025】
さらに、本発明の方法は、少なくとも1種のフリーラジカル開始剤の存在下にて行われ、ここでは酸化フリーラジカル開始剤が好ましい。この開始剤は、水溶性であるのが好ましい。しかしながら、一般に、フリーラジカル連鎖重合で一般的に使用されるアゾ及び/又はペルオキソ化合物全てを使用することができる。好適な開始剤は、WO98/01478の10頁17〜34行目に開示され、これについて、その全てを本発明の明細書に取り込む。酸化フリーラジカル開始剤、例えばカリウム、ナトリウム及びアンモニウムペルオキソジスルフェートを使用するか、或いは一般的な、−即ち非酸化の−開始剤をHと組み合わせて使用するのが好ましい。
【0026】
本発明の方法の好ましい一態様において、比較的多量の開始剤を添加し、その際フリーラジカル開始剤は、反応混合物に対する割合として、モノマー(a)及び開始剤の全量に対して0.5〜50質量%が好ましく、1〜20質量%が特に好ましい。開始剤の化合物(I)に対する割合は、3:1〜1:3が好ましく、2:1〜1:2がさらに好ましく、1.5:1〜1:1.5が特に好ましい。
【0027】
工程(i)に従う上述の反応は水性相にて行われ、この場合、水或いは水と水混和性溶剤、例えばTHF及びエタノールとの混合物が好ましい。しかしながら、水と水非混和性溶剤、例えば芳香族溶剤(例えば、トルエン)との混合物の存在下で反応を行っても良い。
【0028】
別の態様において、工程(i)に従う上述の反応は、少なくとも1種の塩基の存在下で行われる。これに関して、低分子量の塩基全てを原則として使用することができ、NaOH、KOH、アンモニア、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ−、ジ−及びトリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン又はこれらの2個以上の混合物が好ましく、アンモニア及びジ−及びトリエタノールアミンが特に好ましい。
【0029】
工程(i)に従い行われる反応温度は、一般に室温を超え、かつモノマーの分解温度未満であり、選択される温度は50〜150℃の範囲が好ましく、70〜120℃の範囲がさらに好ましく、80〜110℃の範囲が特に好ましい。
【0030】
分子量分布に関する限定は何ら存在しないにもかかわらず、(i)に従う反応では、標準としてポリスチレンを用いてゲル透過クロマトグラフィにより測定され、4以下、好ましくは3以下、さらに好ましくは2以下、特に1.5以下、特定の場合1.3以下の分子量分布M/Mを有する反応生成物が得られる。反応生成物(A)の分子量は、化合物(I)へのモノマー(a)の、フリーラジカル開始剤に対する割合を選択することによって、広範囲に亘り制御可能となる。これに関して、分子量は、特に化合物(I)の量により決定されるので、特に化合物(I)の割合が大きくなれば、得られる分子量が小さくなる。
【0031】
工程(i)に従う反応は、界面活性剤の存在下において行うことも可能である。
【0032】
(i)に従う反応により得られた反応生成物は、一般に水性混合物の形態で製造され、その場合にこれをさらに分散液として直接処理するか、或いはその他に、後ほど以下に定義される、次の工程(ii)に従う反応用の高分子量開始剤として使用することができる。工程(i)の反応生成物を固体として単離し、その後これをさらに反応させるか、又はこれを使用に送ることも可能である。
【0033】
工程(ii)に従う反応では、自由選択性の、フリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー(b)を少なくとも1種反応させることができる。このモノマー(b)は、工程(i)で使用されるモノマー(a)と同一又は異なっていても良い。原則として工程(ii)で製造されたポリマーの所望の構造に従うので、このポリマーの使用目的と相互関係を有して、モノマー(b)を選択することができる。
【0034】
モノマー(b)としての使用に好ましい特定のモノマーは、以下のものが特記に値する:
モノマー(b)は、
モノエチレン性不飽和C〜C10モノカルボン酸、そのアルカリ金属塩及び/又はアンモニウム塩、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ジメチルアクリル酸、エチルアクリル酸及びアリル酢酸及びビニル酢酸、
モノエチレン性不飽和C〜Cジカルボン酸、そのモノエステル、無水物、アルカリ金属塩及び/又はアンモニウム塩、例えばマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メサコン酸、メチレンマロン酸、シトラコン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸及び無水メチルマロン酸、
スルホン酸基を含むモノエチレン性不飽和モノマー、例えばアリススルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アシルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、メタリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、3−スルホプロピルアクリレート及び3−スルホプロピルメタクリレート、
ホスホン酸基を含むモノエチレン性不飽和モノマー、例えばビニルホスホン酸、アリルホスホン酸及びアシルアミドエチルプロパン−ホスホン酸、
モノエチレン性不飽和C〜C10モノカルボン酸又はC〜Cジカルボン酸のC〜C20アルキル及びヒドロキシアルキルエステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、ステアリルアクリレート、マレイン酸ジエチル、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート及びヒドロキシプロピルメタクリレート、
2〜50モルのエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド又はその混合物と反応させたアルコキシル化C〜C18アルコールの(メタ)アクリル酸エステル、
モノエチレン性不飽和C〜C10モノカルボン酸又はC〜Cジカルボン酸のアミド及びN−置換アミド、例えばアクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド及びアルキル基に1〜18個の炭素原子を有するN,N−ジアルキルアクリルアミド、例えばN−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド及びN−オクタデシルアクリルアミド、N−メチルヘキシルマレアミド、N−デカマレアミド、ジエチルアミノプロピルメタクリルアミド及びアクリル−アミドグリコール酸、
アルキルアミドアルキル(メタ)アクリレート、例えばジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、エチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレート及びジメチルアミノプロピルメタ−アクリレート、
ビニルエステル、例えばギ酸ビニル、酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル(重合後に加水分解状態であっても良い)、
N−ビニル化合物、例えばN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルホルムアミド、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、1−ビニルイミダゾール及び1−ビニル−2−メチルイミダゾール、
〜C18アルコールのビニルエーテル、アルコキシル化C〜C18アルコールのビニルエーテル及びポリアルキレンオキシド、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はポリブチレンオキシドのビニルエーテル、
スチレン又はその誘導体、例えばα−メチルスチレン、インデン及びジシクロペンタジエン、
から選択されるのが好ましい。
【0035】
アミノ又はイミノ基を含む、例えばジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノプロピルメタクリルアミド及びアリルアミン等のモノマー、
塩基性アミノ官能基を酸、例えば塩酸、硫酸、硝酸、ギ酸又は酢酸と反応させることにより得られるような、例えば塩の形態で、或いは4級化(好適な4級化剤の例はジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、塩化メチル、塩化エチル及び塩化ベンジル)の形態で、第4級アンモニウム基を含むモノマー、例えばジメチルアミノエチルアクリレートヒドロクロリド、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルアミノエチルアクリレートメチルクロリド、ジメチルアミノエチルアミノプロピルメタクリルアミドメソスルフェート、ビニルピリジニウム塩及び1−ビニルイミダゾリウム塩、
アミノ基及び/又はアンモニウム基を、重合し、次いで加水分解した後のみ遊離させるモノマー、例えばN−ビニルホルムアミド及びN−ビニルアセトアミド。
【0036】
従って、本発明は、以下の工程:即ち、
工程(i)で得られた反応生成物(A)を、少なくとも1種のフリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー(b)の存在下、フリーラジカル条件下で反応させる工程、
を含むポリマー(B)の製造方法を提供する。
【0037】
工程(ii)に従う反応は、原則としてフリーラジカル重合の通常の条件に従い行われ、その際適当な溶剤を存在させても良い。
【0038】
本発明の方法における工程(i)及び(ii)は、空間的及び時間的の両方で相互に別々に行われても良く、その場合、勿論工程(i)を最初に、その後工程(ii)を行う。しかしながら、さらに工程(i)及び(ii)を1つの反応器で連続して行う、即ちまず最初に式(I)で表される化合物を部分的に又は完全に、所望の使用及び/又は所望の性質の機能として、少なくとも1種のモノマー(a)と反応させ、その後少なくとも1種のモノマー(b)を添加し、そしてフリーラジカル重合を行うか、或いはまず最初に少なくとも1種のモノマー(a)及び少なくとも1種のモノマー(b)を含むモノマー混合物を使用し、そして化合物(I)と反応させる。これに関して、化合物(I)を最初に上記少なくとも1種のモノマー(a)と反応させ、その後これから形成された反応生成物(A)を、特定の分子量を超える、モノマー(b)と反応させる。
【0039】
反応の状況に応じて、本発明に従い、末端基官能化重合体、ブロック又は多ブロック及び傾斜状(共)重合体(gradient polymer)、星形重合体、グラフト共重合体、及び枝分かれ(共)重合体を製造することができる。
【0040】
上記から明らかなように、本発明は、上述したような方法により製造可能なポリマー(B)それ自体を提供する。これに関して、本発明の反応はブロック構造を有するポリマー(B)を得られるように行われるのが好ましい。これに関して、本発明に従い、まず最初に容易に入手可能な化合物(I)を用いて、簡易な方法でブロック共重合体を提供することができ、その際このブロック共重合体は、例えば親水性のブロック、例えば(メタ)アクリル酸又はC〜Cアルキル(メタ)アクリレートブロック、及びこの他に、好ましくは疎水性の、ポリマーブロック、例えばビニル芳香族モノマー(例えば、スチレン又は置換スチレン)、そしてさらに非芳香族ビニル化合物(例えば、酢酸ビニル)、そしてさらに高級(>C)アルキル(メタ)アクリレートを基礎としたブロックを有している。
【0041】
さらに、本発明に従い、以下の構造のポリマーを製造することもできる:
ポリ((メタ)アクリル酸−stat−(メタ)アクリレート−b(block)−(スチレン−stat−(メタ)アクリレート)であり、その際に用語「(メタ)アクリレート」は、メタクリル酸とアクリル酸のアルキルエステルを示す。
【0042】
特に、以下の、新規なブロック共重合体が特記に値する:
ポリ(アクリル酸−b−スチレン)、ポリ(メチルメタクリレート−b−スチレン)、ポリ(メタクリル酸−b−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(メチルメタクリレート−b−N−ビニルピロリドン)、ポリ(メチルメタクリレート−b−N−ビニルホルムアミド)、ポリ(メチルメタクリレート−b−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(メチルメタクリレート−b−(スチレン−stat−アクリロニトリル))、ポリ(n−ブチルアクリレート−b−スチレン−b−n−ブチルアクリレート)、ポリ(メチルメタクリレート−b−スチレン−b−メチルメタクリレート−b−スチレン)、及びポリ(n−ブチルアクリレート−b−スチレン−b−n−ブチルアクリレート−b−スチレン)。
【0043】
さらに、本発明は、本発明による反応生成物(A)、本発明によるポリマー(B)又はこれらの2個以上の組み合わせたものを含む水性混合物を提供することにある。
【0044】
反応生成物(A)を含む水性混合物を、特に主分散(液)として使用することができる。反応生成物(A)及び/又はポリマー(B)又はこれらの2個以上の混合物を、利用分野に従い、この目的に適当な形態で、特に重合体分散液中で使用することができる。
【0045】
以下の文章の意図は、本発明を多数の実施例によって説明するためのものである。
【0046】
【実施例】
[実施例1] ポリ(アクリル酸−b−スチレン)の合成
224gの水及び25%濃度アンモニア15.4gを、90℃まで加熱した。その後、45gのアクリル酸に溶解した3.3gの1,1−ジフェニルエチレン、及び22.4gの水に溶解した4.73gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、30分間に亘り2種類の滴下漏斗によって同時に滴下した。バッチを合計4時間90℃で保持した。
【0047】
このバッチ101gを、25gの水、25%濃度アンモニア溶液40ml及び38gのスチレンと混合し、その後13時間90℃で保持した。
【0048】
これにより、白色の、水膨潤性ポリマーが得られた。
【0049】
[実施例2] ポリ(メチルメタクリレート−b−スチレン)の合成
125gの水中の25%濃度アンモニア水溶液125gを最初に導入し、そして油浴を90℃の保持した。その後、125gのメチルメタクリレートに溶解した6gの1,1−ジフェニルエチレン、及び22.4gの水に溶解した4.73gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、60分間に亘り2種類の滴下漏斗によって同時に滴下した。次いで、22.4gの水に溶解した4.73gのアンモニウムペルオキソジスルフェートをさらに、1時間に亘り滴下した。その後、バッチを90℃で1時間以上保持した。
【0050】
65gのスチレンを、このバッチに添加し、そして油浴の温度を100℃に上昇させた。4時間後、白色で、水膨潤性のポリマーを、15000g/モルのM及び1.5の多分散性で得た。ブロック構造を、電子顕微鏡法により決定した。
【0051】
[実施例3] ポリ(メタクリル酸−b−ヒドロキシエチルアクリレート)の合成
112gの水及び25%濃度アンモニア溶液112gを最初に導入し、そして90℃に加熱した。その後、45gの水に溶解した9.46gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、30分間に亘り滴下し、そして107.5gのメタクリル酸に溶解した6gの1,1−ジフェニルエチレンを迅速に滴下した。
【0052】
次いで、45gの水に溶解した9.46gのアンモニウムペルオキソスルフェートをさらに30分間に亘り滴下した。
【0053】
この添加に次いで、バッチを90℃で5時間保持した。
【0054】
その後、1モルのヒドロキシエチルアクリレートを添加し、そしてバッチを85℃で5時間保持した。
【0055】
水溶性ポリマーを得た。
【0056】
[実施例4] ポリ(メチルメタクリレート−b−N−ビニルピロリドン)の合成
360gの水を最初に導入し、そして90℃の保持した。その後、同時に、200gのメチルメタクリレートに溶解した10gの1,1−ジフェニルエチレン、及び100gの水に溶解した10.3gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、60分間に亘り滴下し、そして100gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液9.2gを90分間に亘り滴下した。次いで、バッチを90℃で3時間保持した。
【0057】
その後、20.4gのN−ビニルピロリドンを、100gの上述した分散液に添加し、そしてバッチを75℃で6時間保持した。
【0058】
[実施例5] ポリ(メチルメタクリレート−b−N−ビニルホルムアミド)の合成
360gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、同時に、200gのメチルメタクリレートに溶解した10gの1,1−ジフェニルエチレン、及び100gの水に溶解した10.3gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、60分間に亘って滴下し、そして100gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液9.2gを90分間に亘り滴下した。次いで、バッチを90℃で3時間保持した。
【0059】
その後、25gのN−ビニルホルムアミドを、100gの上述した分散液に添加し、そしてバッチを75℃で6時間保持した。
【0060】
[実施例6] ポリ(メチルメタクリレート−b−ヒドロキシエチルアクリレート)の合成
360gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、同時に、200gのメチルメタクリレートに溶解した10gの1,1−ジフェニルエチレン、及び100gの水に溶解した10.3gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、60分間に亘って滴下し、そして100gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液9.2gを90分間に亘り滴下した。次いで、バッチを90℃で3時間保持した。
【0061】
その後、25gのヒドロキシエチルアクリレートを、100gの上述した分散液に添加し、そしてバッチを75℃で6時間保持した。
【0062】
[実施例7] ポリ(メチルメタクリレート−b−(スチレン−stat−アクリロニトリル))の合成
360gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、同時に、200gのメチルメタクリレートに溶解した10gの1,1−ジフェニルエチレン、及び100gの水に溶解した10.3gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを、60分間に亘って滴下し、そして100gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液9.2gを90分間に亘り滴下した。次いで、バッチを90℃で3時間保持した。
【0063】
その後、17.2gのスチレン及び1gのアクリロニトリルを、100gの上述した分散液に添加し、そしてバッチを75℃で6時間保持した。
【0064】
7100g/モルのM及び2.7の多分散性を有するポリマーを得た。
【0065】
[実施例8] ポリ(n−ブチルアクリレート−b−スチレン−b−n−ブチルアクリレート)の合成
360gの水を最初に導入し、そして油浴を90℃に加熱した。その後、3種類の滴下漏斗により、256gのn−ブチルアクリレートに溶解した11.1gの1,1−ジフェニルエチレン、及び100gの水に溶解した10.7gのナトリウムペルオキソジスルフェートを、同時に180分間に亘って滴下し、そして100gの水に溶解した2.3gの水酸化ナトリウムを120分間に亘り滴下した。次いで、油浴を90℃で合計6時間保持した。
【0066】
水性層を除去して、残ったポリマーに138gのスチレンを添加し、そして油浴を115℃で6時間保持した。
【0067】
次いで、169gのn−ブチルアクリレートを添加し、そして油浴を115℃で6時間保持した。
【0068】
366000g/モルのM及び2.6の多分散性を有するポリマーを得た。
【0069】
[実施例9] ポリ(メチルメタクリレート−b−スチレン)の合成
180gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、3種類の滴下漏斗により、50gのメチルメタクリレートに溶解した3gのcis−スチルベン、及び50gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液5gを、同時に60分間に亘って滴下し、そして50gの水に溶解した5.1gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを90分間に亘り滴下した。
【0070】
次いで、バッチを90℃でさらに4.5時間保持した。54200g/モルのM及び2.4の多分散性を有するポリマーを得た。
【0071】
上述した重合体分散液70gを115℃に加熱し、50gのスチレンを計量、導入した。その後、バッチを115℃で6時間保持した。
【0072】
207000g/モルのM及び3.1の多分散性を有するポリマーを得た。
【0073】
[実施例10] ポリ(メチルメタクリレート−b−スチレン)の合成
180gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、3種類の滴下漏斗により、50gのメチルメタクリレートに溶解した3gのtrans−スチルベン、及び50gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液5gを、同時に60分間に亘って滴下し、そして50gの水に溶解した5.1gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを90分間に亘り滴下した。
【0074】
次いで、バッチを90℃でさらに4.5時間保持した。46800g/モルのM及び2.9の多分散性を有するポリマーを得た。
【0075】
上述した重合体分散液70gを115℃に加熱し、50gのスチレンを計量、導入した。その後、バッチを115℃で6時間保持した。
【0076】
207000g/モルのM及び4.2の多分散性を有するポリマーを得た。
【0077】
[実施例11] ポリメチルメタクリレートの合成(第1工程のみ)
180gの水を最初に導入し、そして90℃で保持した。その後、3種類の滴下漏斗により、100gのメチルメタクリレートに溶解した5gの4,4−ビニリデンビス(N,N−ジメチルアニリン)、及び100gの水に溶解した25%濃度アンモニア水溶液4.6gを、同時に60分間に亘って滴下し、そして100gの水に溶解した5.1gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを90分間に亘り滴下した。
【0078】
次いで、バッチを90℃でさらに4時間保持した。
【0079】
2150g/モルのM及び1.2の多分散性を有するポリマーを得た。
【0080】
[実施例12]
反応容器に52.26gの脱イオン水を導入し、この最初の導入物を90℃に加熱した。次いで、90℃の一定の温度で、3種類の分離給送流を同時に均一の速度で計量、導入した。給送流1は、10.18gのアクリル酸、18.35gのメチルメタクリレート及び1.49gのジフェニルエチレンから構成されていた。給送流2として、9.9gの25質量%濃度アンモニア溶液を添加した。給送流3は、5.25gの脱イオン水中の2.25gのアンモニウムペルオキソジスルフェート水溶液から構成されていた。給送流I及びIIを1時間に亘り計量、導入し、給送流IIIを1.25時間に亘り計量、導入した。添加後、冷却しながら4時間の後重合段階に移った。得られたミセル溶液は、33質量%の固体含有量を有していた。
【0081】
[実施例13]
最初に実施例12により製造された生成物を、51.62gの脱イオン水に導入し、そしてこの最初の導入物を反応器中で撹拌しながら90℃に加熱した。次いで、16.19gのn−ブチルメタクリレート、14.21gのスチレン及び8.88gのエチルヘキシルメタクリレートから構成された給送流を、念入りに撹拌しながら6時間に亘って計量、導入した。得られた分散液は、42質量%の固体含有量を有していた。
【0082】
[実施例14]
5kgのスチール反応器に906.0gの脱イオン水を導入し、この最初の導入物を90℃に加熱した。次いで、90℃の一定な温度で、3種類の分離給送流を、4時間に亘り一定の速度で同時に計量、導入した。給送流Iは、457.6gのアクリル酸エチル、215.3gのアクリル酸及び20.2gのジフェニルエチレンから構成されていた。給送流IIは、40.4gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを94.2gの脱イオン水に溶解した水溶液であった。給送流IIIは、133.2gのジメチルエタノールアミン及び133.2gの脱イオン水から構成されていた。添加後、90℃で2時間の後重合段階に移った。これにより、僅かに橙色の、透明な溶液が得られ、これは5.2のpH、5.2dPasの粘度、40.3%の固体含有量(130℃で60分)及び固体1g当たり246mgの水酸化カリウムの酸価(アルコール処理により測定)を有していた。
【0083】
[実施例15]
5kgのスチール反応器に実施例14により製造した水溶液800gを導入し、この最初の導入物を90℃に加熱した。83.2gのアクリル酸エチル、67.2gのアクリル酸n−ブチル、80.0gのスチレン及び89.6gのメタクリル酸ヒドロキシプロピルから構成された構成された溶液を、30分間に亘って計量、導入し、その後バッチを90℃で5時間熱分解に付した。これにより、僅かに橙色の溶液が得られ、これは5.3のpH、8.4dPasの粘度、39.7%の固体含有量(130℃で60分)及び固体1g当たり133mgの水酸化カリウムの酸価(アルコール処理により測定)を有していた。
【0084】
[実施例16]
5kgのスチール反応器に528.7gの脱イオン水を導入し、この最初の導入物を90℃に加熱した。次いで、90℃の一定の温度で、3種類の分離給送流を4時間庭って均一の速度で同時に計量、導入した。給送流Iは、106.2gのMA−13、378.1gのメタクリル酸n−ブチル、159.3gのスチレン、54.5gのアクリル酸、332.4gのメタクリル酸メチル及び31.9gのジフェニルエチレンから構成されていた。給送流IIは、42.5gのアンモニウムペルオキソジスルフェートを170gの脱イオン水に溶解した水溶液であった。給送流IIIは、51.61gのジメチルエタノールアミンを含んでいた。添加後、90℃で2時間の後重合段階に移った。冷却することにより、白色分散液が得られ、これは5.5のpH、41%の固体含有量(130℃で60分)、固体1g当たり58mgの水酸化カリウムの酸価(アルコール処理により測定)及び0.9dPasの粘度(23℃、円錐/プレート(平板粘度計))を有していた。分子量は、標準としてのポリスチレンに対してGPCによって測定され、M4406g/モル、M8603g/モル、分散性1.95であった。
【0085】
MA−13:メタクリル酸エステル13.0Rohm

Claims (8)

  1. 以下の工程(i):即ち、
    i)少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び下式:
    Figure 0004632332
    [但し、R1〜R4が相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR1〜R4の2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す]で表される化合物(I)の存在下、且つ少なくとも1種の塩基の存在下に、水性相において、下記のモノマー:
    メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート(全ての異性体)、ブチルメタクリレート(全ての異性体)、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、メタクリル酸、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メタクリロニトリル、α−メチルスチレン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(全ての異性体)、アクリル酸ブチル(全ての異性体)、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリロニトリル、スチレン、グリシジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルメタクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリエチレングリコールメタクリレート、無水イタコン酸、イタコン酸、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルアクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルアクリレート、トリエチレングリコールアクリレート、メタクリルアミド、N−tert−ブチルメタクリルアミド、N−n−ブチルメタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチロールメタクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチロールアクリルアミド、ビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノスチレン(全ての異性体)、α−メチルビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノ−α−メチルスチレン(全ての異性体)、p−メチルスチレン、p−ビニルベンゼンスルホン酸、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、トリブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジメトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレート、トリブトキシシリルプロピルアクリレート、ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジメトキシシリルプロピルアクリレート、ジエトキシシリルプロピルアクリレート、ジブトキシシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルアクリレート、酢酸ビニル、酪酸ビニル、 塩化ビニル、フッ化ビニル及び臭化ビニル;
    から選択される少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)を含む反応混合物をフリーラジカル条件下で反応させる工程、を含む反応生成物(A)の製造方法。
  2. 前記化合物(I)が、ジフェニルエチレン、アルコキシジフェニルエチレン、ジナフタレンエチレン、4,4−ビニリデンビス(N,N−ジメチルアニリン)、4,4−ビニリデンビス(1−アミノベンゼン)、cis−若しくはtrans−スチルベン又はこれらの2個以上の混合物である請求項1に記載の方法。
  3. 低分子量の塩基がNaOH、KOH、アンモニア、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ−、ジ−若しくはトリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン又はこれらの2個以上の混合物である請求項1又は2に記載の方法。
  4. 以下の工程(ii):即ち、
    (ii)請求項1に記載の方法の工程(i)により得られた反応生成物(A)を、少なくとも1種のフリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー(b)の存在下、フリーラジカル条件下にて反応させる工程、を含むポリマー(B)の製造方法。
  5. 以下の工程(i):即ち、
    (i)少なくとも1種のフリーラジカル開始剤及び下式:
    Figure 0004632332
    [但し、R1〜R4が相互に独立して、水素、置換又は非置換のアルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基、或いは非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表し、かつR1〜R4の2個以上が非置換又は置換の芳香族炭化水素基を表す]で表される化合物(I)の存在下、且つ少なくとも1種の塩基の存在下に、水性相において、下記のモノマー:
    メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート(全ての異性体)、ブチルメタクリレート(全ての異性体)、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、メタクリル酸、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メタクリロニトリル、α−メチルスチレン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(全ての異性体)、アクリル酸ブチル(全ての異性体)、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリロニトリル、スチレン、グリシジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルメタクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリエチレングリコールメタクリレート、無水イタコン酸、イタコン酸、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート(全ての異性体)、ヒドロキシブチルアクリレート(全ての異性体)、ジエチルアミノエチルアクリレート、トリエチレングリコールアクリレート、メタクリルアミド、N−tert−ブチルメタクリルアミド、N−n−ブチルメタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチロールメタクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチロールアクリルアミド、ビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノスチレン(全ての異性体)、α−メチルビニル安息香酸(全ての異性体)、ジエチルアミノ−α−メチルスチレン(全ての異性体)、p−メチルスチレン、p−ビニルベンゼンスルホン酸、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、トリブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルメタクリレート、ジメトキシシリルプロピルメタクリレート、ジエトキシシリルプロピルメタクリレート、ジブトキシシリルプロピルメタクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルメタクリレート、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレート、トリブトキシシリルプロピルアクリレート、ジメトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジエトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジブトキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシメチルシリルプロピルアクリレート、ジメトキシシリルプロピルアクリレート、ジエトキシシリルプロピルアクリレート、ジブトキシシリルプロピルアクリレート、ジイソプロポキシシリルプロピルアクリレート、酢酸ビニル、酪酸ビニル、 塩化ビニル、フッ化ビニル及び臭化ビニル;
    から選択される少なくとも1種のフリーラジカル反応性モノマー(a)を含む反応混合物をフリーラジカル条件下で反応させる工程、を含む方法により製造可能な反応生成物(A)。
  6. 以下の工程(ii):即ち、
    (ii)請求項5に記載の反応生成物(A)を、少なくとも1種のフリーラジカル単独重合性又は共重合性モノマー(b)の存在下、フリーラジカル条件下にて反応させる工程、を含む方法により製造可能なポリマー(B)。
  7. 請求項5に記載の反応生成物(A)又は請求項6に記載のポリマー(B)或いはこれら2種以上の組み合わせを含む水性混合物。
  8. 請求項5に記載の反応生成物(A)又は請求項6に記載のポリマー(B)或いはこれら2種以上の組み合わせを含む水性混合物の分散液としての使用法。
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