JP5249033B2 - 不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法 - Google Patents
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Description
(2)蒸留および抽出とも高温の下で行うため、オキシム溶液の安定性は比較的に悪く、後続の転位反応の中で微量の不純物を生成し、精製過程は困難になる。
(3)後続の転位反応に供給する物質は溶融状態のオキシムであり、製造中における管通路の保温とトレーシングが必要で、詰まりやすく、スイッチの開閉および生産操作には不便になる。
(1)高次転位反応の副生成物の低減幅は小さく、低酸量および低温の条件下で、物質の粘度が大きく、質量移行および反応に不利である。
(2)アンモニウム塩の複分解法および硫酸循環プロセスのエネルギー消費は大きく、コストは高いので、不経済性である。
(2)溶媒は転位反応の過程中において、全て気化且つ凝縮によってすべて回収でき、または一部が気化し、反応した後に加水分解で得られた溶媒と凝縮液とを一緒に回収する。
(3)回収した溶媒はアンモニアオキシム化反応まで循環することができる。
(2)アンモニアオキシム化反応から得られたシクロヘキサノンオキシムは、溶融方式ではなく溶液方式で後続の転位反応に供給し、従来のプロセスが詰まりやすい欠点を克服し、同時に、ベックマン転位反応の温度をさらに低下することが可能である。
(3)溶媒の転位反応には低温、低酸量の下で物質粘度の上昇に伴う質量移行の効果は良くないなどの問題が解決され、反応の品質を改善し、さらに硫酸の消費および副生成物を低減できる。
Claims (13)
- パラフィン炭化水素、またはシクロパラフィン、またはそれらの混合物から選択される発煙硫酸系にて不活性を呈する溶媒の存在下、ケトン、過酸化水素水およびアンモニアを用いて触媒の作用下で不均一系オキシム化反応を行い、ケトキシムを生成することと、
オキシム化反応の水性層生成物は、オキシム化反応中に使用された不活性溶媒と同様の不活性溶媒で抽出し、その抽出層をオキシム化反応の有機層生成物に混合した後、ケトキシムの不活性溶媒の溶液が得られ、当該溶液が発煙硫酸の作用下、不均一系ベックマン転位反応を行い、アミドを生成することと、
を含む不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記ケトンは、脂肪族ケトン、または環状脂肪族ケトン、または芳香族ケトンである、
請求項1記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - チタンシリコン分子篩の存在下、シクロヘキサノン、過酸化水素水およびアンモニアを原料とし、発煙硫酸系で不活性となる物質であるパラフィン炭化水素、またはシクロパラフィン、またはそれらの混合物を不活性溶媒として、不均一系触媒反応によってシクロヘキサノンオキシムを生成することと、
生成物は不活性溶媒によって抽出した後、一定の遊離基SO3を含んでいる発煙硫酸の作用下、ベックマン転位反応を行い、一定の時間を経過して加水分解を行い、軽層と重層を生成することと、
前記軽層は不活性溶媒であり、前記重層はカプロラクタムと硫酸の溶液であり、アンモニアまたはアンモニア液で重層を中和し、硫酸アンモニウムが結晶分離され、カプロラクタムが得られることと、を含む、
請求項1記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記軽層の不活性溶媒は、オキシム化反応まで循環する、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記不活性溶媒は、炭素数4〜8のパラフィン炭化水素、またはシクロパラフィン、またはそれらの混合物から選ばれる、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - オキシム化反応においては、不活性溶媒の濃度は20〜80重量%であり、過酸化水素水とシクロヘキサノンのモル比は1.0〜5.0であり、アンモニアとケトンのモル比は0.5〜10である、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - オキシム化反応の温度は10〜120℃である、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 過酸化水素水とシクロヘキサノンのモル比は1.0〜1.2であり、オキシム化反応の温度は60〜80℃である、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 不活性溶媒とシクロヘキサノンを一回にまとめて投入し、過酸化水素水とアンモニア液はそれぞれ徐々に滴下する方式又は混合して滴下する方式で、滴下時間は10分〜5時間であり、原料添加を終了した後、反応を中止するか、または10分〜2時間延長してから中止する、
請求項3〜7のいずれか1項に記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記転位反応においては、発煙硫酸とシクロヘキサノンオキシムのモル比は0.5〜4.0であり、発煙硫酸中のSO3を硫酸に換算したもので、使用される発煙硫酸中の遊離基SO3の濃度は2%〜65%である、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記転位反応においては、発煙硫酸とシクロヘキサノンオキシムのモル比は1.0〜1.3であり、発煙硫酸中のSO3を硫酸に換算したもので、使用される発煙硫酸中の遊離基SO3の濃度は5%〜20%である、
請求項10記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記転位反応の温度は30〜150℃であり、反応滞在時間は1分〜2時間である、
請求項3記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。 - 前記転位反応の温度は60〜80℃であり、前記反応滞在時間は10〜30分である、
請求項12記載の不均一系オキシム化および転位によるアミドを生産する方法。
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