JP7282885B2 - 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7282885B2
JP7282885B2 JP2021528292A JP2021528292A JP7282885B2 JP 7282885 B2 JP7282885 B2 JP 7282885B2 JP 2021528292 A JP2021528292 A JP 2021528292A JP 2021528292 A JP2021528292 A JP 2021528292A JP 7282885 B2 JP7282885 B2 JP 7282885B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lithographic printing
compound
printing plate
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021528292A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020262685A1 (ja
JPWO2020262685A5 (ja
Inventor
和朗 榎本
洋平 石地
俊佑 柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2020262685A1 publication Critical patent/JPWO2020262685A1/ja
Publication of JPWO2020262685A5 publication Critical patent/JPWO2020262685A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7282885B2 publication Critical patent/JP7282885B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
    • B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/06—Lithographic printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B41N1/14—Lithographic printing foils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Methods (AREA)

Description

本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（すなわち、インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（すなわち、画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（「ＰＳ版」とも称される。）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版において、簡易化又は無処理化が指向されている。平版印刷版の簡易な作製方法の一つとして、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
従来の平版印刷版原版としては、例えば、特開２００５－１０３９６８号公報又は特開２００６－００１１４４号公報に記載されたものが挙げられる。
特開２００５－１０３９６８号公報には、支持体上に、（Ａ）酸化電位が０．４５Ｖ（ｖｓ．ＳＣＥ）以下である赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル発生剤と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物とを含有し、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版が開示されている。
特開２００６－００１１４４号公報には、支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）オニウムカチオンとカルボン酸アニオンから形成されるオニウム塩であって、上記カルボン酸アニオンが、酸基、ヘテロ原子、及び、芳香族基を有する重合開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、を含有し、赤外線の照射により記録可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を、赤外線レーザーで画像様に露光する工程と、露光後の平版印刷版原版に、なんらの現像処理を施すことなく、印刷機上で、油性インキと水性成分とを供給して平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷方法が開示されている。
本開示に係る一実施形態は、版飛び抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することに関する。
本開示に係る他の一実施形態は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することに関する。
本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ アルミニウム支持体、画像記録層、及び、水溶性オーバーコート層をこの順で有し、
上記画像記録層が、ＨＯＭＯが－５．２ｅＶ以下である赤外線吸収性ポリメチン色素、重合開始剤、重合性化合物、及び、ポリマーを含み、
上記ポリマーが、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する、
平版印刷版原版。
＜２＞ 上記ポリメチン色素が、両末端の芳香環の少なくとも一方に電子求引性基又は重原子含有基を持つシアニン色素を含む、＜１＞に記載の平版印刷版原版。
＜３＞ 上記ポリメチン色素のＨＯＭＯが、－５．３ｅＶ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の平版印刷版原版。
＜４＞ 上記水溶性オーバーコート層の厚さが、上記画像記録層の厚さより大きい、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜５＞ 上記画像記録層におけるポリマーが、ポリマー粒子を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜６＞ 上記ポリマー粒子が、親水性基を有するポリマー粒子を含む、＜５＞に記載の平版印刷版原版。
＜７＞ 上記ポリマー粒子が、上記親水性基として、下記式Ｚで表される基を有する＜６＞に記載の平版印刷版原版。
＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
＜８＞ 上記ポリマー粒子が、上記親水性基として、ポリアルキレンオキシド構造を有する＜６＞又は＜７＞に記載の平版印刷版原版。
＜９＞ 上記ポリアルキレンオキシド構造が、ポリプロピレンオキシド構造を含む、＜８＞に記載の平版印刷版原版。
＜１０＞ 上記ポリアルキレンオキシド構造が、ポリエチレンオキシド構造とポリプロピレンオキシド構造とを含む、＜８＞又は＜９＞に記載の平版印刷版原版。
＜１１＞ 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、１１０°以下である＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１２＞ 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、８０°以下である＜１１＞に記載の平版印刷版原版。
＜１３＞ 上記アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、５０°以下である＜１２＞に記載の平版印刷版原版。
＜１４＞ 上記アルミニウム支持体上の層が、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の印刷版原版。
＜１５＞ 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を２個以上有する化合物を含む＜１４＞に記載の平版印刷版原版。
＜１６＞ 上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩が、ヒドロキシ基を３個以上有する化合物を含む＜１４＞又は＜１５＞に記載の平版印刷版原版。
＜１７＞ 上記画像記録層が、上記重合開始剤として、電子供与型重合開始剤を含む、＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１８＞ 上記ポリメチン色素のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、＜１７＞に記載の平版印刷版原版。
＜１９＞ 上記画像記録層が、発色剤を更に含む＜１＞～＜１８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜２０＞ 上記発色剤が、酸発色剤である、＜１９＞に記載の平版印刷版原版。
＜２１＞ 上記酸発色剤が、ロイコ色素である、＜２０＞に記載の平版印刷版原版。
＜２２＞ 上記ロイコ色素が、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素である、＜２１＞に記載の平版印刷版原版。
＜２３＞ 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物である、＜２２＞に記載の平版印刷版原版。
Figure 0007282885000001
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
＜２４＞ 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物である、＜２２＞又は＜２３＞に記載の平版印刷版原版。
Figure 0007282885000002
式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
＜２５＞上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物である＜２２＞～＜２４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
Figure 0007282885000003
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。
＜２６＞ Ｒａ１～Ｒａ４がそれぞれ独立に、アルコキシ基である＜２５＞に記載の平版印刷版原版。
＜２７＞ 上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素が、上記式（Ｌｅ－５）で表される化合物である、＜２５＞又は＜２６＞に記載の平版印刷版原版。
＜２８＞ Ｘ１～Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１及びＹ２がＣである＜２７＞に記載の平版印刷版原版。
＜２９＞ Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、アルキル基である＜２７＞又は＜２８＞に記載の平版印刷版原版。
＜３０＞ 上記ポリメチン色素が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６以上３２以下であり、かつδｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有する＜１＞～＜２９＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３１＞ 上記画像記録層が、電子受容型重合開始剤を含み、
上記電子受容型重合開始剤が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６以上３２以下であり、かつδｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有する＜１＞～＜３０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３２＞ 上記重合開始剤が電子受容型重合開始剤を含み、
上記電子受容型重合開始剤が、下記式（Ｉ）で表される化合物を含む＜１＞～＜３１＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
Figure 0007282885000004

式（Ｉ）中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ３はアリール基を表す。
＜３３＞ 上記重合性化合物が、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物を含む＜１＞～＜３２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３４＞ 上記エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物である＜３３＞に記載の平版印刷版原版。
式（ＩＩ） ： Ｘ－（Ｙ）ｎ
式（ＩＩ）中、Ｘは水素結合性基を有するｎ価の有機基を表し、Ｙは２以上のエチレン性不飽和基を有する１価の基を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）が１以下である。
＜３５＞ 上記エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物が、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも１種の構造を有する＜３３又は＜３４＞に記載の平版印刷版原版。
＜３６＞ 上記重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１つ又は２つ有する化合物を含む＜１＞～＜３５＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３７＞ 上記画像記録層が、ポリビニルアセタール樹脂を更に含有する＜１＞～＜３６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３８＞
上記画像記録層が、フルオロ脂肪族基含有共重合体を更に含有する＜１＞～＜３８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜３９＞ 上記記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、下記式（Ｆ１）及び下記式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有する＜３８＞に記載の平版印刷版原版。
Figure 0007282885000005
式（Ｆ１）及び（Ｆ２）中、ＲＦ１は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は－Ｎ（ＲＦ２）－を表し、ｍは１～６の整数を表し、ｎは１～１０の整数を表し、ｌは０～ 10の整数を表し、ＲＦ２は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
＜４０＞ 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の化合物により形成される構成単位を更に有する＜３９＞に記載の平版印刷版原版。
＜４１＞ 上記水溶性オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む＜１＞～＜４０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜４２＞ 上記水溶性オーバーコート層が、変色性化合物を含む＜１＞～＜４１＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜４３＞ 上記変色性化合物が、赤外線吸収剤である＜４２＞に記載の平版印刷版原版。
＜４４＞ 上記変色性化合物が、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む＜４２＞又は＜４３＞に記載の平版印刷版原版。
＜４５＞ 上記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、
上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、
上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が、７０～１００である＜１＞～＜４４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜４６＞ 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１５ｎｍ～１００ｎｍであり、
上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、１３ｎｍ以下である＜４５＞に記載の平版印刷版原版。
＜４７＞ 機上現像用平版印刷版原版である、＜１＞～＜４６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜４８＞ ＜１＞～＜４７＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
＜４９＞ ＜１＞～＜４７＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
本開示に係る一実施形態によれば、版飛び抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示に係る他の一実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 アルミニウム支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本開示における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本開示において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本開示中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
以下、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法を詳細に説明する。
（平版印刷版原版）
本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム支持体、画像記録層、及び、水溶性オーバーコート層をこの順で有し、画像記録層が、ＨＯＭＯが－５．２ｅＶ以下である赤外線吸収性ポリメチン色素、重合開始剤、重合性化合物、及び、ポリマーを含み、上記ポリマーが、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であり、また、機上現像用平版印刷版原版として好適に用いることができる。
平版印刷版においては、版の印刷可能な枚数（以下、「耐刷性」ともいう。）に優れた平版印刷版が求められている。
特に、近年においては、印刷におけるインクとして、紫外線（ＵＶ）の照射により硬化するインキ（「紫外線硬化型インキ、又は、ＵＶインキ」ともいう。）が用いられる場合がある。
ＵＶインキは、瞬間乾燥可能なため生産性が高い、一般に溶剤の含有量が少ない、又は、無溶剤であるため環境汚染が低減されやすい、熱による乾燥を行わないか、又は、熱による乾燥を短時間として画像を形成できる。このため、ＵＶインキは、印刷対象などの応用範囲が広がる等の利点を有している。
そのため、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版を提供することができる平版印刷版原版は、産業上非常に有用であると考えられる。
本発明者らは、鋭意検討した結果、特開２００５－１０３９６８号公報又は特開２００６－００１１４４号公報に記載の平版印刷版原版では、特にインキとしてＵＶインキを用いた場合に、得られる平版印刷版の耐刷性（すなわち、ＵＶ耐刷性）が不十分であることを見出した。
本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、版飛び抑制性にも優れる平版印刷版が得られる平版印刷版原版を提供できることを見出した。
上記の効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
画像記録層が、特定の酸化電位を有するポリメチン色素を有することで、ラジカル発生効率高くなり、水溶性オーバーコートを有することで、酸素遮断効果により重合効率が向上し、画像記録層が、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを有するので、版飛び抑制性に優れ、また、耐刷性（特にＵＶ耐刷性）にも優れやすいと推定している。
また、画像記録層が、水溶性オーバーコート層を有することにより、湿し水に溶解、又は、膨潤しやすく、機上現像性に優れると推定している。
なお、「版飛び」とは、紙の繊維、作業者の衣類の糸くず等が平版印刷版の表面に付着した際に、局所的に平版印刷版への圧力が高まることにより、画像部が破壊(硬化膜が除去)され、インキが着肉しなくなる刷了現象を示す。
平版印刷版においては、「版飛び」を起こすまでの刷了枚数が多いほど、「版飛びが発生しにくい」ことを示す。
＜画像記録層＞
本開示における画像記録層は、ＨＯＭＯが－５．２ｅＶ以下である赤外線吸収性ポリメチン色素、重合開始剤、重合性化合物、及び、ポリマーを含み、ポリマーが、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する。本開示における画像記録層は、機上現像型画像記録層であることが好ましい。
以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。
＜＜赤外線吸収性ポリメチン色素＞＞
画像記録層は、ＨＯＭＯ（最高被占軌道）が－５．２ｅＶ以下である赤外線吸収性ポリメチン色素（「特定ポリメチン色素」ともいう。）を含む。
特定ポリメチン色素のＨＯＭＯは、－５．２ｅＶ以下であり、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、－５．２５ｅＶ以下であることが好ましく、－５．３ｅＶ以下であることがより好ましく、－６．０ｅＶ以上－５．３ｅＶ以下であることが更に好ましく、－５．６ｅＶ以上－５．３ｅＶ以下であることが特に好ましい。
本開示において、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）の計算は、以下の方法により行う。
まず、計算対象となる化合物における対アニオンは無視する。
量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ０９を用い、構造最適化はＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１Ｇ（ｄ））で行う。
ＭＯ（分子軌道）エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）／ＣＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））で行う。
上記ＭＯエネルギー計算で得られたＭＯエネルギーＥｂａｒｅ（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）を以下の公式により、本開示においてＨＯＭＯ及びＬＵＭＯの値として用いるＥｓｃａｌｅｄ（単位：ｅＶ）へ変換する。
Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２３１６８×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０７６３４
なお、２７．２１１４は単にｈａｒｔｒｅｅをｅＶに変換するための係数であり、０．８２３１６８と－１．０７６３４とは調節係数であり、計算対象となる化合物のＨＯＭＯとＬＵＭＯとを計算が実測の値に合うように定める。
特定ポリメチン色素としては、ポリメチン鎖を有する色素が挙げられる。中でも、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。
また、特定ポリメチン色素は、顔料であっても、染料であってもよい。
特定ポリメチン色素は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、両末端の芳香環の少なくとも一方に電子求引性基又は重原子含有基を有するシアニン色素を含むことが好ましく、両末端の芳香環の少なくとも一方にハロゲン原子、アルコキシカルボニル基又はアリーロキシカルボニル基を有するシアニン色素を含むことがより好ましく、両末端の芳香環の少なくとも一方にハロゲン原子を有するシアニン色素を含むことが更に好ましく、両末端の芳香環の少なくとも一方に塩素原子を有するシアニン色素を含むことが特に好ましい。
また、特定ポリメチン色素は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、両末端の芳香環それぞれに電子求引性基又は重原子含有基を有するシアニン色素を含むことが好ましい。
更に、特定ポリメチン色素は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、両末端の芳香環の少なくとも一方に電子求引性基を有するシアニン色素を含むことが好ましい。
なお、本開示において、電子求引性基及び重原子含有基の両方に該当する基である場合、重原子を含有する電子求引性基は、電子求引性基として扱うものとする。
電子求引性基としては、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐａｒａ値が０．０１以上である基が好ましく、σｐａｒａ値が０．０５以上である基がより好ましく、σｐａｒａ値が０．２０以上である基が更に好ましく、σｐａｒａ値が０．３０以上である基が特に好ましい。
σｐａｒａ値が０．０５以上の基としては、例えば、フッ素原子（０．０６）、塩素原子（０．３０）、臭素原子（０．２７）、ヨウ素原子（０．３０）等のハロゲン原子；－ＣＨＯ（０．２２）、－ＣＯＣＨ３（０．５０）、－ＣＯＣ６Ｈ５（０．４６）、－ＣＯＮＨ２（０．３６）、－ＣＯＯ－（０．３０）、－ＣＯＯＨ（０．４１）、－ＣＯＯＣＨ３（０．３９）、－ＣＯＯＣ２Ｈ５（０．４５）等のカルボニル置換基；－ＳＯＣＨ３（０．４９）、－ＳＯ２ＣＨ３（０．７２）、－ＳＯ２Ｃ６Ｈ５、－ＳＯ２ＣＦ３（０．９３）、－ＳＯ２ＮＨ２（０．５７）、－ＳＯ２ＯＣ６Ｈ５、－ＳＯ３ －（０．０９）、－ＳＯ３Ｈ（０．５０）等のスルホニル置換基またはスルフィニル置換基；－ＣＮ（０．０１）、－Ｎ（ＣＨ３）３ ＋（０．８２）、－Ｎ（ＣＦ３）２（０．５３）等の含窒素置換基；－ＣＣｌ３、－ＣＨ２Ｃｌ（０．１８）、－ＣＨＣｌ２、－ＣＦ３（０．５４）等のハロゲン原子含有置換基が挙げられる。なお、上記括弧内の数値は各化合物のσｐａｒａ値である。
このような電子求引性基の好適な具体例としては、例えば、非共有電子対を有する置換基が挙げられる。非共有電子対を有する置換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基を有する基、スルホニル基を有する基、スルフィニル基を有する基、及びエーテル結合を有する基が挙げられる。中でも、ハロゲン原子、又は、カルボニル基を有する基が好ましく、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、又は、アリーロキシカルボニル基がより好ましく、ハロゲン原子が更に好ましく、塩素原子が特に好ましい。
カルボニル基を有する基としては、具体的には、例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基；メトキシカルボニル基、トルイルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基；ジエチルアミノカルボニル基等のアミド基；カルボキシ基が挙げられる。これらは二価以上の連結基を介して、シアニン色素の芳香環またはヘテロ環に結合していてもよい。
本開示において、「重原子含有基」とは、原子量２８以上の原子を含む基を意味する。原子量２８以上の原子としては、例えば、ケイ素原子（２８．０９）、リン原子（３０．９７）、硫黄原子（３２．０７）、塩素原子（３５．４５）、ゲルマニウム原子（７２．６１）、ヒ素原子（７４．９２）、セレン原子（７８．９６）、臭素原子（７９．９０）、スズ原子（１１８．７１）、アンチモン原子（１２１．７６）、テルル原子（１２７．６０）、ヨウ素原子（１２６．９０）が好適に挙げられる。なお、上記括弧内の数値は、各原子の原子量である。
中でも、安全性及び原料入手性の観点から、ケイ素原子、リン原子、又は、ハロゲン原子を含む基が好ましい。
これらの原子量２８以上の原子を含む基（重原子含有基）は、単独で、又は、他の原子と組み合わされて、シアニン色素の芳香環上の置換基となることが好ましい。また、そのような置換基は二価以上の連結基を介して、シアニン色素の芳香環に結合していてもよい。
ケイ素原子を含む基としては、例えば、トリメチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基等のアルキル基又はアリール基をケイ素原子上に有する基が挙げられる。
リン原子を含む基としては、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基等のアルキル基又はアリール基をリン原子上に有する基；フォスフォノ基が挙げられる。
硫黄原子を含む基としては、上記した電子求引性基と一部重複するが、例えば、メチルスルホニル基、フェニルスルホニル基等のアルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基；エチルスルフィニル基、トルイルスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基又はアリールスルフィニル基；スルホ基、スルフィノ基、スルフェノ基等の硫黄酸基又はその塩若しくはそのエステル誘導体；メチルチオ基、フェニルチオ基等のアルキルチオ基又はアリールチオ基が挙げられる。
ハロゲン原子を含む基としては、上記した電子求引性基と一部重複するが、例えば、ハロゲン原子、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基が挙げられる。
特定ポリメチン色素の具体例としては、下記の示すもののうち、ＨＯＭＯが－５．２ｅＶ以下であるものが挙げられる。
シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。
また、特定ポリメチン色素として、赤外線露光により分解するポリメチン色素（「分解性ポリメチン色素」ともいう。）も好適に用いることができる。
赤外線露光により分解するポリメチン色素としては、特表２００８－５４４３２２号公報、国際公開第２０１６／０２７８８６号、国際公開第２０１７／１４１８８２号、又は、国際公開第２０１８／０４３２５９号に記載のものを好適に用いることができる。
特定ポリメチン色素は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、特定ポリメチン色素として顔料と染料とを併用してもよい。
画像記録層中の特定ポリメチン色素の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。
＜＜重合開始剤＞＞
本開示における画像記録層は、重合開始剤を含有する。
重合開始剤としては、特に制限はなく、電子受容型重合開始剤、電子供与型重合開始剤等が挙げられる。
〔電子受容型重合開始剤〕
画像記録層は、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱又はその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、（ａ）有機ハロゲン化物、（ｂ）カルボニル化合物、（ｃ）アゾ化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）メタロセン化合物、（ｆ）アジド化合物、（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）ジスルホン化合物、（ｊ）オキシムエステル化合物、及び（ｋ）オニウム化合物が挙げられる。
（ａ）有機ハロゲン化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２２～００２３に記載の化合物が好ましい。
（ｂ）カルボニル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２４に記載の化合物が好ましい。
（ｃ）アゾ化合物としては、例えば、特開平８－１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
（ｄ）有機過酸化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２５に記載の化合物が好ましい。
（ｅ）メタロセン化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２６に記載の化合物が好ましい。
（ｆ）アジド化合物としては、例えば、２，６－ビス（４－アジドベンジリデン）－４－メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２７に記載の化合物が好ましい。
（ｉ）ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭６１－１６６５４４号、特開２００２－３２８４６５号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
（ｊ）オキシムエステル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２８～００３０に記載の化合物が好ましい。
電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、（ｊ）オキシムエステル化合物及び（ｋ）オニウム化合物が挙げられる。中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が更に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、及びビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が４以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）－４－メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝３，５－ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、及びトリス（２，４－ジクロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンとしては、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示におけるスルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンはこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、それぞれ表す。
Figure 0007282885000006
また、電子受容型重合開始剤は、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、下記式（Ｉ）で表される化合物を含んでいてもよい。
Figure 0007282885000007
式（Ｉ）中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ３はアリール基を表す。
式（Ｉ）におけるＸとしては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
また、式（Ｉ）において、Ｒ３としては、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基が好ましい。
式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記式に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007282885000008
Figure 0007282885000009
Figure 0007282885000010
Figure 0007282885000011
Figure 0007282885000012
Figure 0007282885000013
Figure 0007282885000014
電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、機上現像性及びＵＶ耐刷性の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯの下限は、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．６０ｅＶ以上であることがより好ましい。
－電子受容型重合開始剤の含有量－
電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
〔電子供与型重合開始剤（重合助剤）〕
画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤（「重合助剤」ともいう。）を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
本開示における電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
画像記録層は、平版印刷版における耐刷性向上の観点から、以下に説明する電子供与型重合開始剤を含有することがより好ましく、その例として以下の５種が挙げられる。
（i）アルキル又はアリールアート錯体：酸化的に炭素－ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
（ii）Ｎ－アリールアルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ－Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、Ｎ－フェニルグリシン類（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）、Ｎ－フェニルイミノジ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iii）含硫黄化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。）が挙げられる。
（iv）含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
（v）スルフィン酸塩類：酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
これらの中でも、画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。
以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－９を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。
Figure 0007282885000015
また、本開示における電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。
－電子供与型重合開始剤の含有量－
画像記録層は、電子供与型重合開始剤は、１種のみを含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～２５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～２０質量％であることが更に好ましい。
本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むものとする。
また、本開示における好ましい態様の一つは、電子受容型重合開始剤と、電子供与型重合開始剤と、が塩を形成している態様である。
具体的には、例えば、オニウム化合物が、オニウムイオンと、電子供与型重合開始剤におけるアニオン（例えば、テトラフェニルボレートアニオン）との塩である態様が挙げられる。また、より好ましくは、ヨードニウム塩化合物におけるヨードニウムカチオン（例えば、ジ－ｐ－トリルヨードニウムカチオン）と、電子供与型重合開始剤におけるボレートアニオンとが塩を形成した、ヨードニウムボレート化合物が挙げられる。
電子受容型重合開始剤と電子供与型重合開始剤とが塩を形成している態様の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007282885000016
本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むものとする。
－電子供与型重合開始剤と特定ポリメチン色素との関係－
本開示における画像記録層は、感度の向上及びＵＶ版飛び抑制性の観点から、電子供与型重合開始剤及び特定ポリメチン色素を含有し、特定ポリメチン色素のＨＯＭＯ－電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶが０．７０ｅＶ以下であることが好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることがより好ましい。
特定ポリメチン色素のＨＯＭＯ－電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値とは、すなわち、特定ポリメチン色素のＨＯＭＯの値（ｅＶ）から電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値を引いた値（ｅＶ）を意味する。
なお、マイナスの値は、電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、特定ポリメチン色素のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。
－特定ポリメチン色素及び電子受容型重合開始剤の好ましい態様－
本開示における特定ポリメチン色素としては、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
本開示における電子受容型重合開始剤としては、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
ここで、本開示におけるハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄ、δｐ、及び、δｈは、ハンセン（Hansen）の溶解度パラメータにおける分散項δｄ［単位：ＭＰａ０．５］及び極性項δｐ［単位：ＭＰａ０．５］を用いる。ここで、ハンセン（Hansen）の溶解度パラメータは、ヒルデブランド（Hildebrand）によって導入された溶解度パラメータを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものである。
ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）の溶解度パラメータの詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters;A Users Handbook(CRC Press,2007)」に記載されている。
本開示において、有機アニオンのハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄ、δｐ、及び、δｈは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値である。
ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６～３２であり、且つ、δｈがδｐの６０％以下である有機アニオンの具体例としては、既述の電子受容型重合開始剤におけるスルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例Ｉ－）～Ｉ－２６が好適に挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。
＜＜重合性化合物＞＞
画像記録層は、重合性化合物を含む。
本開示において、重合性化合物は、後述する特定ポリマー（粒子形態であってもよい。）及びバインダーポリマーを包含しない。
本開示における重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。
重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）及び、そのエステル類又はアミド類が挙げられ、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が好ましい。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表２００６－５０８３８０号公報、特開２００２－２８７３４４号公報、特開２００８－２５６８５０号公報、特開２００１－３４２２２２号公報、特開平９－１７９２９６号公報、特開平９－１７９２９７号公報、特開平９－１７９２９８号公報、特開２００４－２９４９３５号公報、特開２００６－２４３４９３号公報、特開２００２－２７５１２９号公報、特開２００３－６４１３０号公報、特開２００３－２８０１８７号公報、特開平１０－３３３３２１号公報等に記載されている。
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｍ）で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（ＲＭ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＲＭ５）ＯＨ 式（Ｍ）
式（Ｍ）中、ＲＭ４及びＲＭ５はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
また、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報、特開２００３－３４４９９７号公報、特開２００６－６５２１０号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報、特開２０００－２５０２１１号公報、特開２００７－９４１３８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第７１５３６３２号明細書、特表平８－５０５９５８号公報、特開２００７－２９３２２１号公報、特開２００７－２９３２２３号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。
（特定化合物Ａ１）
重合性化合物のある態様は、露光による画像記録層の硬化反応を促進し、耐刷性を高める観点から、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物（以下、特定化合物Ａ１ともいう）であってもよい。本開示においては、エチレン性不飽和基を「Ｃ＝Ｃ基」ともいい、エチレン性不飽和結合価を「Ｃ＝Ｃ価」ともいう。
特定化合物Ａ１のエチレン性不飽和結合価は、５．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。特定化合物Ａ１のエチレン性不飽和結合価の上限は、例えば、１０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が挙げられ、８．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。
ここで、本開示において、エチレン性不飽和結合を有する化合物のエチレン性不飽和結合価は、以下の方法にて求める。まず、所定のサンプル量（例えば、０．２ｇ）の化合物について、例えば、熱分解ＧＣ／ＭＳ、ＦＴ－ＩＲ、ＮＭＲ、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ等を用いて、化合物の構造を特定し、エチレン性不飽和基の総量（ｍｍｏｌ）を求める。求められたエチレン性不飽和基の総量（ｍｍｏｌ）を、化合物のサンプル量（ｇ）にて除することで、化合物におけるエチレン性不飽和結合価が算出される。
特定化合物Ａ１は、上記Ｃ＝Ｃ価を満たす観点から、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
式（ＩＩ） ： Ｘ－（Ｙ）ｎ
式（ＩＩ）中、Ｘは水素結合性基を有するｎ価の有機基を表し、Ｙは２以上のエチレン性不飽和基を有する１価の基を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）が１以下である。
式（ＩＩ）のＸにおける水素結合性基としては特に制限はなく、水素結合可能な基であればよく、水素結合供与性基であっても、水素結合受容型基であっても、その両方であってもよい。水素結合性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、スルホニル基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、スルホンアミド基等が挙げられる。中でも、水素結合性基としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことが好ましく、ウレタン基、ウレア基、イミド基、及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことがより好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることが更に好ましく、ウレタン基及びウレア基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことが特に好ましい。
式（ＩＩ）におけるＸは、エチレン性不飽和結合を有しない有機基であることが好ましい。
また、式（ＩＩ）におけるＸは、機上現像性及び耐刷性の観点から、１価～ｎ価の脂肪族炭化水素基、１価～ｎ価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、ビウレット結合、及びアロファネート結合からなる群より選ばれた２種以上の構造を組み合わせた基であることが好ましく、１価～ｎ価の脂肪族炭化水素基、１価～ｎ価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、及びビウレット結合からなる群より選ばれた２種以上の構造を組み合わせた基であることがより好ましい。
式（ＩＩ）におけるＸは、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（トリメチロールプロパンアダクト体等の多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることが好ましく、二官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることがより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることが特に好ましい。
式（ＩＩ）におけるＸの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、１００～１，０００が好ましく、１５０～８００であることがより好ましく、１５０～５００であることが特に好ましい。
式（ＩＩ）のＹにおけるエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることが好ましい。上記と同様の観点から、式（ＩＩ）のＹにおけるエチレン性不飽和基としては、ビニルフェニル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることがより好ましく、（メタ）アクリロキシ基であることが更に好ましい。即ち、式（ＩＩ）のＹにおけるエチレン性不飽和基は、機上現像性及び耐刷性の観点から、（メタ）アクリロキシ基を含むことが好ましい。
式（ＩＩ）におけるＹは、３つ以上の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることが好ましく、５つ以上の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることがより好ましく、５つ以上１２つ以下の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることが更に好ましい。
式（ＩＩ）におけるＹは、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）で表される構造を有していてもよい。
Figure 0007282885000017
式（Ｙ－１）及び式（Ｙ－２）中、Ｒは、それぞれ独立に、アクリル基又はメタクリル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）においては、Ｒは全て同じ基であることが好ましい。また、式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）においては、Ｒは、アクリル基であることが好ましい。
更に、式（ＩＩ）におけるｎ個のＹは、全て同じ基であることが好ましい。
式（ＩＩ）におけるＹの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、２００以上１，０００以下であることが好ましく、２５０以上８００以下であることがより好ましい。
式（ＩＩ）におけるｎは２以上の整数であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、２～３であることがより好ましい。
Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）は１以下であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、０．０１～０．８であることが好ましく、０．１～０．５であることがより好ましい。
特定化合物Ａ１の構造は、上述のように、多官能イソシアネート化合物の多量化体（アダクト体を含む。）の末端イソシアネート基を、エチレン性不飽和基を有する化合物により封止した構造が好ましく挙げられる。中でも、多官能イソシアネート化合物の多量化体としては、２官能イソシアネート化合物の多量化体が好ましい。
また、特定化合物Ａ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基（水酸基ともいう）を末端に有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが好ましい。また、上記と同様の観点から、特定化合物Ａ１は、２官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む）の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることがより好ましい。更に、上記と同様の観点から、特定化合物Ａ１は、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む）の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが特に好ましい。
多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができ、脂肪族多官能イソシアネート化合物であってもよいし、芳香族多官能イソシアネート化合物であってもよい。上記多官能イソシアネート化合物としては、具体的には、例えば、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－シクロペンタンジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－２，７－ジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－９－オン－２，７－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアナート、１，３－フェニレンジイソシアナート、トリレン－２，４－ジイソシアナート、トリレン－２，６－ジイソシアナート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－イソシアナトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，５－ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー（イソシアヌレート結合）等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。
また、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、ヒドロキシ基を有する５官能以上のエチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
特定化合物Ａ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造を有することが好ましい。上記と同様の観点から、特定化合物Ａ１は、トリメチロールプロパンアダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造を有することがより好ましく、トリメチロールプロパンアダクト構造を有することが特に好ましい。
特定化合物Ａ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式（Ａ－１）～式（Ａ－３）のいずれかで表される構造を有することが好ましく、下記式（Ａ－１）で表される構造を有することがより好ましい。
Figure 0007282885000018
式（Ａ－１）中、ＲＡ１は、水素原子、又は、炭素数１～８のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
式（Ａ－１）におけるＲＡ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。
特定化合物Ａ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基を有する（メタ）アクリレート化合物、即ち、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーであることが好ましい。
特定化合物Ａ１は、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であれば、ポリエステル結合を有するオリゴマー（以降、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーともいう）であってもよいし、エポキシ残基を有するオリゴマー（以降、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーともいう）であってもよい。
ここで、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー中のエポキシ残基は、既述の通りである。
特定化合物Ａ１であるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。
特定化合物Ａ１であるエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。また、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。上記エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
特定化合物Ａ１の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）としては、１，０００超であればよく、１，１００～１０，０００が好ましく、１，１００～５，０００がより好ましい。
特定化合物Ａ１は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
特定化合物Ａ１の具体例としては、例えば、以下に挙げる市販品が挙げられるが、本開示にて用いられる特定化合物Ａ１はこれらに限定されるものではない。なお、カッコ内には、エチレン性不飽和基の官能基数（又は平均官能基数）及びＣ＝Ｃ価を示した。
特定化合物Ａ１の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＵ－１０ＨＡ（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：８ｍｍｏｌ／ｇ）、Ｕ－１５ＨＡ（官能基数：１５、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）、共栄社化学（株）製のＵＡ－５１０Ｈ（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：８ｍｍｏｌ／ｇ）、ダイセル・オルネクス（株）製のＫＲＭ８４５２（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：７ｍｍｏｌ／ｇ）、サートマー社製のＣＮ８８８５ＮＳ（官能基数：９、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）、ＣＮ９０１３ＮＳ（官能基数：９、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）等のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
また、特定化合物Ａ１の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴ ＥＡ－７４２０／ＰＧＭＡｃ（官能基数：１０～１５、Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）、サートマー社製のＣＮ１５３（Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）等のエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
更に、特定化合物Ａ１の具体例としては、サートマー社製のＣＮ２２６７（Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）等のポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
重合性化合物が特定化合物Ａ１を含む場合、画像記録層における重合性化合物の全質量に対する特定化合物Ａ１の含有量は、１０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。
（特定化合物Ａ２）
重合性化合物のある態様は、エチレン性不飽和結合基を１つ又は２つ有する化合物（以下、特定化合物Ａ２ともいう）であってもよい。
特定化合物Ａ２が有するエチレン性不飽和基の好ましい態様は、特定化合物Ａ１におけるエチレン性不飽和基と同様である。
また、特定化合物Ａ２は、機上現像性の低下を抑制する観点から、エチレン性不飽和結合基を２つ有する化合物（即ち、２官能の重合性化合物）であることが好ましい。
特定化合物Ａ２としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、メタクリレート化合物、即ち、メタクリロキシ基を有する化合物であることが好ましい。
特定化合物Ａ２としては、機上現像性の観点から、アルキレンオキシ構造又はウレタン結合を含むことが好ましい。
特定化合物Ａ２の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）としては、５０以上１，０００未満であることが好ましく、２００～９００であることがより好ましく、２５０～８００であることが更に好ましい。
特定化合物Ａ２の具体例を以下に挙げるが、本開示にて用いられる特定化合物Ａ２はこれらに限定されるものではない。なお、下記（２）の化合物中、例えば、ｎ＋ｍ＝１０である
Figure 0007282885000019
特定化合物Ａ２としては、以下に示す市販品を用いてもよいが、本開示にて用いられる特定化合物Ａ２はこれらに限定されるものではない。
特定化合物Ａ２の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＢＰＥ－８０Ｎ（上記（１）の化合物）、ＢＰＥ－１００、ＢＰＥ－２００、ＢＰＥ－５００、サートマー社製のＣＮ１０４（上記（１）の化合物）等のエトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレートが挙げられる。
また、特定化合物Ａ２の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＡ－ＢＰＥ－１０（上記（２）の化合物）、Ａ－ＢＰＥ－４等のエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートが挙げられる。
更に、特定化合物Ａ２の具体例としては、ＡＺ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製のＦＳＴ ５１０等の２官能メタクリレートが挙げられる。
ここで、上記「ＦＳＴ ５１０」は、１モルの２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと２モルのヒドロキシエチルメタクリレートの反応生成物あって、上記（３）の化合物のメチルエチルケトン８２質量％溶液である。
重合性化合物が特定化合物Ａ２を含む場合、画像記録層における特定化合物Ｂの全質量に対する特定化合物Ａ２の含有量は、１０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。
重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
＜＜ポリマー＞＞
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層に含まれるポリマーは、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する（以下、特定ポリマーとも称する）。ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層における特定ポリマーは、ポリマー粒子を含むことが好ましい。即ち、特定ポリマーは、粒子形態であることが好ましい。
〔芳香族ビニル化合物により形成される構成単位〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層に含まれる特定ポリマーは、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有する。
芳香族ビニル化合物は、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよい。芳香族ビニル化合物としては、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、１－ビニルナフタレン、メチル－１－ビニルナフタレン、β－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メトキシ－１－ビニルナフタレン等が挙げられ、１－ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ａ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
Figure 0007282885000020
式Ａ１中、ＲＡ１、ＲＡ２及びＲＡ２’はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａｒは芳香環基を表し、ＲＡ３は置換基を表し、ｎはＡｒの最大置換基数以下の整数を表す。
式Ａ１中、ＲＡ１、ＲＡ２及びＲＡ２’はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式Ａ１中、Ａｒはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式Ａ１中、ＲＡ３はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式Ａ１中、ＲＡ３が複数存在する場合、複数のＲＡ３は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式Ａ１中、ｎは０～２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
特定ポリマーにおける、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、３５質量％～７５質量％であることが更に好ましく、３０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
〔アクリロニトリル化合物により形成される構成単位〕
特定ポリマーは、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する。
アクリロニトリル化合物としては、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられ、アクリロニトリルが好ましく挙げられる。
また、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｂ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
Figure 0007282885000021
式Ｂ１中、ＲＢ１は水素原子又はアルキル基を表す。
式Ｂ１中、ＲＢ１は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
特定ポリマーにおける、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、２０質量％～７０質量％であることが更に好ましく、３０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。
－Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位－
特定ポリマーは、耐刷性及び耐薬品性の観点から、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位をさらに有することが好ましい。
Ｎ－ビニル複素環化合物としては、例えば、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルフェノチアジン、Ｎ－ビニルコハク酸イミド、Ｎ－ビニルフタルイミド、Ｎ－ビニルカプロラクタム、及びＮ－ビニルイミダゾールが挙げられ、Ｎ－ビニルピロリドンが好ましい。
また、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｃ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
Figure 0007282885000022
式Ｃ１中、ＡｒＮは窒素原子を含む複素環構造を表し、ＡｒＮ中の窒素原子が＊で示した炭素原子と結合する。
式Ｃ１中、ＡｒＮにより表される複素環構造は、ピロリドン環、カルバゾール環、ピロール環、フェノチアジン環、スクシンイミド環、フタルイミド環、カプロラクタム環、及びイミダゾール環であることが好ましく、ピロリドン環であることがより好ましい。
また、ＡｒＮにより表される複素環構造は公知の置換基を有していてもよい。
特定ポリマーにおける、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、５質量％～４０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
－エチレン性不飽和基を有する構成単位－
特定ポリマーは、エチレン性不飽和基を有する構成単位を更に有していてもよい。
エチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられ、反応性の観点から、（メタ）アクリロイルオキシ基であることが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位は、高分子反応又は共重合によりポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、メタクリル酸等のカルボキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、エポキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（例えば、グリシジルメタクリレートなど）を反応させる方法、ヒドロキシ基等の活性水素を有する基を有する構成単位を導入した重合体に対し、イソシアネート基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（２－イソシアナトエチルメタクリレートなど）を反応させる方法等により導入することができる。
また、エチレン性不飽和基を有する構成単位は、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、カルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させる等の方法によりポリマーに導入されてもよい。
更に、エチレン性不飽和基を有する構成単位は、例えば下記式ｄ１又は下記式ｄ２により表される部分構造を含む単量体を用いることによりポリマー中に導入されてもよい。具体的には、例えば、上記単量体を少なくとも用いた重合後に、下記式ｄ１又は下記式ｄ２により表される部分構造に対し、塩基化合物を用いた脱離反応によってエチレン性不飽和基を形成することにより、エチレン性不飽和基を有する構成単位がポリマー中に導入される。
Figure 0007282885000023
式ｄ１及び式ｄ２中、Ｒｄは水素原子又はアルキル基を表し、Ａｄはハロゲン原子を表し、Ｘｄは－Ｏ－又は－ＮＲＮ－を表し、ＲＮは水素原子又はアルキル基を表し、＊は他の構造との結合部位を表す。
式ｄ１及び式ｄ２中、Ｒｄは水素原子又はメチル基であることが好ましい。
式ｄ１及び式ｄ２中、Ａｄは塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であることが好ましい。
式ｄ１及び式ｄ２中、Ｘｄは－Ｏ－であることが好ましい。Ｘｄが－ＮＲＮ－を表す場合、ＲＮは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、例えば、下記式Ｄ１により表される構成単位が挙げられる。
Figure 0007282885000024
式Ｄ１中、ＬＤ１は単結合又は二価の連結基を表し、ＬＤ２はｍ＋１価の連結基を表し、ＸＤ１及びＸＤ２はそれぞれ独立に、－Ｏ－又は－ＮＲＮ－を表し、ＲＮは水素原子又はアルキル基を表し、ＲＤ１及びＲＤ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。
式Ｄ１中、ＬＤ１は単結合であることが好ましい。ＬＤ１が二価の連結基を表す場合、アルキレン基、アリーレン基又はこれらの２以上が結合した二価の基が好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基又はフェニレン基がより好ましい。
式Ｄ１中、ＬＤ２は下記式Ｄ２～下記式Ｄ６のいずれかにより表される基が好ましい。
式Ｄ１中、ＸＤ１及びＸＤ２はいずれも－Ｏ－であることが好ましい。また、ＸＤ１及びＸＤ２の少なくとも一つが－ＮＲＮ－を表す場合、ＲＮは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
式Ｄ１中、ＲＤ１はメチル基であることが好ましい。
式Ｄ１中、ｍ個のＲＤ２のうち少なくとも１つはメチル基であることが好ましい。
式Ｄ１中、ｍは１～４の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
Figure 0007282885000025
式Ｄ２～式Ｄ６中、ＬＤ３～ＬＤ７は二価の連結基を表し、ＬＤ５とＬＤ６は異なっていてもよく、＊は式Ｄ１中のＸＤ１との結合部位を表し、波線部は式Ｄ１中のＸＤ２との結合部位を表す。
式Ｄ３中、ＬＤ３はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
式Ｄ４中、ＬＤ４はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
式Ｄ５中、ＬＤ５はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
式Ｄ５中、ＬＤ６はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
式Ｄ６中、ＬＤ７はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位の具体例を下記に示すが、特定ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基を有する構成単位は、これに限定されるものではない。下記具体例中、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Figure 0007282885000026
特定ポリマーにおける、エチレン性不飽和基を有する構成単位の含有量は、ポリマーの全質量に対し、１０質量％～７０質量％であることが好ましく、２０質量％～５０質量％であることがより好ましい。
－酸基を有する構成単位－
特定ポリマーは、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、特定ポリマーにおける酸性基を有する構成単位の含有量は、４０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。酸基を有する構成単位の含有量の下限は特に限定されず、０質量％であってもよい。
また、特定ポリマーの酸価は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
本開示において、酸価はＪＩＳ Ｋ００７０：１９９２に準拠した測定法により求められる。
－疎水性基を有する構成単位－
特定ポリマーは、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
アルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
アリール（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール（メタ）アクリレート化合物としては、フェニル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル（メタ）アクリレート化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
特定ポリマーにおける疎水性基を有する構成単位の含有量としては、ポリマーの全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
－その他の構成単位－
特定ポリマーは、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
アクリルアミド化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ－ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４－メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２－ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、２－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、４－ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。
特定ポリマーにおけるその他の構成単位の含有量としては、特定ポリマーの全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
画像記録層における特定ポリマーが、ポリマー粒子を含む場合、ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基は、親水性を有する構造であれば、特に制限はない。親水性基としては、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
親水性基の中でも、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
また、ポリマー粒子に含まれるポリマーは、付加重合型樹脂であることが好ましい。ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリマー粒子に含まれるポリマーは、芳香族ビニル化合物より形成される構成単位、及び、シアノ基を有する構成単位を有することが好ましく、芳香族ビニル化合物より形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物より形成される構成単位を有する付加重合型樹脂であることがより好ましい。
芳香族ビニル化合物より形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物より形成される構成単位としては、上述の芳香族ビニル化合物より形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物より形成される構成単位と同義である、好ましい態様も同様である。
ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）構造であることが好ましい。
また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、２以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、５～２００であることが更に好ましく、８～１５０であることが特に好ましい。
また、機上現像性の観点から、ポリマー粒子は、親水性基として、下記式Ｚで表される基を含むことが好ましく、下記式Ｚで表される基を有するポリマーを含むことがより好ましく、式Ｚで表される基を有する構成単位を有する付加重合型樹脂であることが更に好ましい。
－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、ただし、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有する。
Ｑは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の２価の連結基であることがより好ましい。
また、Ｑは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
Ｗにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２ＮＲＷ－が結合した基であることが好ましい。なお、ＲＷは、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｗにおける疎水性構造を有する二価の基は、－ＲＷＡ－、－Ｏ－ＲＷＡ－Ｏ－、－ＲＷＮ－ＲＷＡ－ＮＲＷ－、－ＯＯＣ－ＲＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＯＣ－ＲＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、ＲＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。
式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、ＯＨ、ＣＯＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）－が結合した基であることが好ましい。
式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、ＯＲＷＢ、ＣＯＯＲＷＢ、又は、ＯＯＣＲＷＢであることが好ましい。なお、ＲＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。
式Ｚで表される基を有するポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑが、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗが、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、下記式（Ｄ）で表される構成単位を有するポリマーであることが好ましい。
Figure 0007282885000027
式Ｄ中、Ｌ１ｄはエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ１ｄは、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ２ｄは、水素原子又はメチル基を表し、ｍｃは２～２００の整数を表す。
Ｌ１ｄは、エチレン基又は１，２－プロピレン基であることが好ましい。
Ｒ１ｄは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることが更に好ましい。
ｍｃは、２～２００の整数であることが好ましく、２～１００の整数であることがより好ましく、２～５０の整数であることが更に好ましい。
上記した親水性基の具体例としては、以下に示す親水性基を有する構成単位が好ましく挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。
なお、ｎｃは、２以上の整数を表し、２～２００の整数であることが好ましい。
Figure 0007282885000028

親水性基を有する構成単位の含有量は、機上現像性の観点から、ポリマー粒子に含まれるポリマーの全質量に対し、１質量％以上２０質量％未満であることが好ましく、１質量％～１８質量％であることがより好ましく、２質量％～１５質量％であることが特に好ましい。
親水性基を有する構成単位は、１種単独であってもよいし、２種以上であってもよい。
ポリマー粒子に含まれるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限はないが、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～２，０００，０００であることが更に好ましい。
ポリマー粒子に含まれるポリマーの含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、ポリマー粒子の全質量に対し、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。ポリマー粒子は、ポリマーを１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）よりなる群から選ばれる粒子を含んでいてもよい。これらの中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子であることが好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９－１２３３８７号公報、同９－１３１８５０号公報、同９－１７１２４９号公報、同９－１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は０．０１μｍ～３．０μｍが好ましい。
熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。
また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。
分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落００３２～００９５に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
ペンダントシアノ基の例としては、－［ＣＨ２ＣＨ（Ｃ≡Ｎ）－］又は－［ＣＨＣ（ＣＨ３）（Ｃ≡Ｎ）－］が好ましく挙げられる。
また、ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、１０～１００であることが好ましく、２５～７５であることがより好ましく、４０～５０であることが更に好ましい。
疎水性主鎖を有し、ｉ）疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表２００８－５０３３６５号公報の段落００３９～００６８に記載のものが好ましく挙げられる。
また、特定ポリマーは、耐刷性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。
ポリマー粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。ポリマー粒子の平均粒径がこの範囲であると、良好な解像度と経時安定性が得られる。ポリマー粒子の平均粒径は、平均一次粒径である。
本開示におけるポリマー粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、ポリマー粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上でポリマー粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
－含有量－
画像記録層は、特定ポリマーを、１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
また、画像記録層における特定ポリマーとして、ポリマー粒子を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
また、画像記録層における特定ポリマーの含有量は、機上現像性、及びＵＶ耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、２０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
また、画像記録層における上記ポリマー粒子の含有量は、機上現像性、及びＵＶ耐刷性の観点から、画像記録層中の分子量３，０００以上の成分の全質量に対し、２０質量％～１００質量％が好ましく、３５質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、８０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
－特定ポリマーの製造方法－
上記画像記録層に含まれる特定ポリマーの製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
例えば、スチレン化合物と、アクリロニトリル化合物と、必要に応じて、Ｎ－ビニル複素環化合物、エチレン性不飽和基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、酸性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、疎水性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、及び、その他の構成単位の形成に用いられる化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物、とを、公知の方法により重合することにより得られる。
特定ポリマーの重量平均分子量は、３，０００～３００，０００であることが好ましく、５，０００～１００，０００であることがより好ましい。
－具体例－
特定ポリマーの具体例を下記表に示すが、本開示に係る平版印刷版原版において用いられる特定ポリマーはこれに限定されるものではない。
Figure 0007282885000029
Figure 0007282885000030
Figure 0007282885000031
Figure 0007282885000032
＜＜バインダーポリマー＞＞
画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。画像記録層のある態様では、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、バインダーポリマーを含まない態様とすることも好ましい。
バインダーポリマーは、上記特定ポリマーに包含されない。
バインダーポリマーは、粒子形状ではない重合体である。すなわち、バインダーポリマーは、上記ポリマー粒子に該当しない。
バインダーポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
中でも、バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、当該ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、スチリル基が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
バインダーポリマーのある態様は、例えば、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましく、８０℃以上であることが更に好ましく、９０℃以上であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーのガラス転移温度の上限としては、画像記録層への水の浸み込みやすさの観点から、２００℃が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。
上記のガラス転移温度を有するバインダーポリマーとしては、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化させて得られた樹脂である。
特に、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基を、ブチルアルデヒドでアセタール化（即ち、ブチラール化）したポリビニルブチラールが好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化することで、下記（ａ）で表される構成単位を含むことが好ましい。
Figure 0007282885000033
ここで、Ｒとしては、アセタール化に用いられたアルデヒドの残基を表す。
Ｒとしては、水素原子、アルキル基等の他、後述するエチレン性不飽和基が挙げられる。
上記（ａ）で表される構成単位の含有量（上記（ａ）で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量ともいう。また、アセタール化度ともいう。）としては、ポリビニルアセタール樹脂の全構成単位（主鎖の全エチレン基量）に対して、５０ｍｏｌ％～９０ｍｏｌ％が好ましく、５５ｍｏｌ％～８５ｍｏｌ％がより好ましく、５５ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％が更に好ましい。
なお、アセタール化度とは、アセタール基が結合しているエチレン基量（上記（ａ）で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量）を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率を百分率で示した値である。
また、後述のポリビニルアセタール樹脂の各構成単位の含有量においても、同様である。
ポリビニルアセタールは、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂は、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
ここで、ポリビニルアセタール樹脂が有するエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基（スチリル基）、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることがより好ましく、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基等が好ましい。
ポリビニルアセタールが、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を含むことが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、上述のアセタール環を有する構成単位であってもよいし、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位であってもよい。
中でも、露光時の架橋密度増加の観点から、ポリビニルアセタール樹脂は、アセタール環にエチレン性不飽和基が導入された化合物であることが好ましい。即ち、上述の（ａ）で表される構成単位において、Ｒにエチレン性不飽和基を有することが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位が、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、例えば、アクリレート基を有する構成単位、具体的には、下記（ｄ）で表される構成単位であってもよい。
Figure 0007282885000034
エチレン性不飽和基を有する構成単位がアセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、この構成単位の含有量（アクリレート基量ともいう）としては、ポリビニルアセタール樹脂の全構成単位に対して、１ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％が好ましく、１ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％がより好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂としては、更に、機上現像性等の観点から、ヒドロキシ基を有する構成単位を含むことが好ましい。つまり、上記ポリビニルアセタール樹脂は、ビニルアルコールに由来する構成単位を含むことが好ましい。
ヒドロキシ基を有する構成単位としては、下記（ｂ）で表される構成単位が挙げられる。
Figure 0007282885000035
上記（ｂ）で表される構成単位の含有量（水酸基量ともいう）としては、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタール樹脂の全構成単位に対して、５ｍｏｌ％～５０ｍｏｌ％が好ましく、１０ｍｏｌ％～４０ｍｏｌ％がより好ましく、２０ｍｏｌ％～４０ｍｏｌ％が更に好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂としては、更に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位としては、例えば、アセチル基を有する構成単位、具体的には、以下（ｃ）で表される構成単位が挙げられる。
Figure 0007282885000036
上記（ｃ）で表される構成単位の含有量（アセチル基量ともいう）としては、ポリビニルアセタール樹脂の全構成単位に対して、０．５ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％が好ましく、０．５ｍｏｌ％～８ｍｏｌ％がより好ましく、１ｍｏｌ％～３ｍｏｌ％が更に好ましい。
ここで、上記アセタール化度、アクリレート基量、水酸基量、及びアセチル基量、は、以下のようにして求めることができる。
即ち、１Ｈ ＮＭＲ測定によって、アセタールのメチル又はメチレン部位、アクリレート基のメチル部位、水酸基及びアセチル基のメチル部位のプロトンピーク面積比からｍｏｌ含有率を算出する。
ポリビニルアセタール樹脂の重量平均分子量としては、１８，０００～１５０，０００が好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂の溶解度パラメータ（ＳＰ値ともいう）は、１７．５ＭＰａ０．５～２０．０ＭＰａ０．５であることが好ましく、１８．０ＭＰａ０．５～１９．５ＭＰａ０．５であることがより好ましい。
ここで、本開示における「溶解度パラメータ（単位：ＭＰａ０．５」は、既述のハンセン（Hanseｎ）溶解度パラメータを用いるものとする。
ポリビニルアセタール樹脂の具体例［Ｐ－１～Ｐ－３］を以下に挙げるが、本開示に用いられるポリビニルアセタール樹脂はこれらに限定されるものではない。
下記構造中、「ｌ」は５０ｍｏｌ％～９０ｍｏｌ％であり、「ｍ」は０．５ｍｏｌ％～１０質量％であり、「ｎ」は５ｍｏｌ％～５０ｍｏｌ％であり、「ｏ」は１ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％である。
Figure 0007282885000037
ポリビニルアセタール樹脂としては、市販品を用いることができる。
ポリビニルアセタール樹脂の市販品としては、積水化学工業（株）製のエスレックＢＬシリーズ（具体的には、エスレック ＢＬ－１０，ＢＬ－１，ＢＬ－５Ｚ，ＢＬ－７Ｚ等）、エスレックＢＭシリーズ（具体的には、エスレック ＢＭ－１，ＢＭ－Ｓ（Ｚ），ＢＭ－５等）、エスレックＢＨシリーズ（具体的には、エスレック ＢＨ－Ｓ，ＢＨ－６，ＢＨ－３（Ｚ））、エスレックＢＸシリーズ（エスレック ＢＸ－Ｌ、ＢＸ－１、ＢＸ－５等）、エスレックＫＳシリーズ（エスレック ＫＳ－１０等）が挙げられる。
バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。
必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。
－含有量－
画像記録層においては、バインダーポリマーを１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え３５質量％以下であることが好ましく、バインダーポリマーを含まないか、又は、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え２０質量％以下であることがより好ましく、バインダーポリマーを含まないか、又は、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え１０質量％以下であることが更に好ましく、バインダーポリマーを含まないか、又は、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、０質量％を超え５質量％以下であることが特に好ましく、バインダーポリマーを含まないことが最も好ましい。
＜＜発色剤＞＞
画像記録層は、視認性の観点から、発色剤を含むことが好ましく、酸発色剤を含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触したときに、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
このような酸発色剤の例としては、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド（“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。）、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１，２－ジメチルインドール－３－イル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－５－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（９－エチルカルバゾール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（２－フェニルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１－メチルピロール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、
３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ピロリジノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラブロモフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ジメチルアミノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ピロリジノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－ジエチルアミノフェニル）フタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアミノフェニル）フタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド等のフタリド類、
４，４－ビス－ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ－ハロフェニル－ロイコオーラミン、Ｎ－２，４，５－トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン－Ｂ－アニリノラクタム、ローダミン－（４－ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン－Ｂ－（４－クロロアニリノ）ラクタム、３，７－ビス（ジエチルアミノ）－１０－ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４ーニトロベンゾイルメチレンブルー、
３，６－ジメトキシフルオラン、３－ジメチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６，７－ジメチルフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－７－メチルフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジベンジルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－オクチルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジ－ｎ－ヘキシルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’，３’－ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、
３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－エトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－モルホリノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジメチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ペンチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－プロピルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ヘキシルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－オクチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、
３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－イソブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－テトラヒドロフルフリル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（４’－メチルフェニル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－エチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（３’－メチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２－ビス〔４’－（３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチルフルオラン）－７－イルアミノフェニル〕プロパン、３－〔４’－（４－フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－〔４’－（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ－５，７－ジメチルフルオラン等のフルオラン類、
３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－ｎ－プロポキシカルボニルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチル－４－ジｎ－ヘキシルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４，７－ジアザフタリド、３，３－ビス（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－４－アザフタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ヘキシルオキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ブトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド３－メチル－スピロ－ジナフトピラン、３－エチル－スピロ－ジナフトピラン、３－フェニル－スピロ－ジナフトピラン、３－ベンジル－スピロ－ジナフトピラン、３－メチル－ナフト－（３－メトキシベンゾ）スピロピラン、３－プロピル－スピロ－ジベンゾピラン－３，６－ビス（ジメチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド、３，６－ビス（ジエチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、
その他、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－イソペンチル）アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン－３－オン、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、３’－Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ－６’－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、２’－（Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル）アミノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オンなどが挙げられる。
中でも、本開示における発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
また、酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
ロイコ色素は、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はない。ロイコ色素としては、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure 0007282885000038
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（Ｌｅ－２）又は式（Ｌｅ－３）におけるＸ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ１及びＹ２は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ１及びＹ２の両方がＣであることがより好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ１は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
また、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることが更に好ましい。
Figure 0007282885000039
式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
更に、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。
Figure 0007282885000040
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｘ１～Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１及びＹ２がＣであることが好ましい。
更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。
また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure 0007282885000041
Figure 0007282885000042
Figure 0007282885000043
Figure 0007282885000044
酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
これらの発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。
＜＜連鎖移動剤＞＞
本開示における画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点（揮発し難さ）の観点で炭素数７以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物（芳香族チオール化合物）が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。
Figure 0007282885000045
Figure 0007282885000046
Figure 0007282885000047
Figure 0007282885000048
画像記録層は、連鎖移動剤を、１種のみを含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％が好ましく、０．０５質量％～４０質量％がより好ましく、０．１質量％～３０質量％が更に好ましい。
＜＜低分子親水性化合物＞＞
画像記録層は、耐刷性の低下を抑制させつつ機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物は、分子量１，０００未満の化合物が好ましく、分子量８００未満の化合物がより好ましく、分子量５００未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
低分子親水性化合物としては、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類から選ばれる少なくとも１つを含有させることが好ましい。
有機スルホン酸塩類の具体例としては、ｎ－ブチルスルホン酸ナトリウム、ｎ－ヘキシルスルホン酸ナトリウム、２－エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、ｎ－オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩；５，８，１１－トリオキサペンタデカン－１－スルホン酸ナトリウム、５，８，１１－トリオキサヘプタデカン－１－スルホン酸ナトリウム、１３－エチル－５，８，１１－トリオキサヘプタデカン－１－スルホン酸ナトリウム、５，８，１１，１４－テトラオキサテトラコサン－１－スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩；ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム、ｐ－ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、ｐ－スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル－５－スルホン酸ナトリウム、１－ナフチルスルホン酸ナトリウム、４－ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、１，５－ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、１，３，６－ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開２００７－２７６４５４号公報の段落００２６～００３１及び特開２００９－１５４５２５号公報の段落００２０～００４７に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩又はリチウム塩でもよい。
有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は１～４が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開２００７－２７６４５４号公報の段落００３４～００３８に記載の化合物が挙げられる。
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が１～５である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、３－ヒドロキシ－４－トリメチルアンモニオブチラート、４－（１－ピリジニオ）ブチラート、１－ヒドロキシエチル－１－イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、３－トリメチルアンモニオ－１－プロパンスルホナート、３－（１－ピリジニオ）－１－プロパンスルホナート等が挙げられる。
低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部（画像部）へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。
低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．５質量％～２０質量％が好ましく、１質量％～１５質量％がより好ましく、２質量％～１０質量％が更に好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
低分子親水性化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
＜＜感脂化剤＞＞
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
ホスホニウム化合物としては、特開２００６－２９７９０７号公報及び特開２００７－５０６６０号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、１，４－ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート）、１，７－ビス（トリフェニルホスホニオ）ヘプタン＝スルファート、１，９－ビス（トリフェニルホスホニオ）ノナン＝ナフタレン－２，７－ジスルホナート等が挙げられる。
含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム＝ｐ－トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、特開２００８－２８４８５８号公報の段落００２１～００３７、特開２００９－９０６４５号公報の段落００３０～００５７に記載の化合物等が挙げられる。
アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として５モル％～８０モル％含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開２００９－２０８４５８号公報の段落００８９～０１０５に記載のポリマーが挙げられる。
アンモニウム塩含有ポリマーは、特開２００９－２０８４５８号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度（単位：ｍｌ／ｇ）の値が、５～１２０の範囲のものが好ましく、１０～１１０の範囲のものがより好ましく、１５～１００の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量（Ｍｗ）に換算した場合、１０，０００～１５０，００００が好ましく、１７，０００～１４０，０００がより好ましく、２０，０００～１３０，０００が特に好ましい。
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
（１）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比１０／９０、Ｍｗ４．５万）
（２）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（３）２－（エチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比３０／７０、Ｍｗ４．５万）
（４）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／２－エチルヘキシルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（５）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝メチルスルファート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比４０／６０、Ｍｗ７．０万）
（６）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２５／７５、Ｍｗ６．５万）
（７）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルアクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．５万）
（８）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝１３－エチル－５，８，１１－トリオキサ－１－ヘプタデカンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ７．５万）
（９）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート／２－ヒドロキシ－３－メタクリロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体（モル比１５／８０／５、Ｍｗ６．５万）
感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．０１質量％～３０．０質量％が好ましく、０．１質量％～１５．０質量％がより好ましく、１質量％～１０質量％が更に好ましい。
＜＜フッ素含有共重合体＞＞
本開示における画像記録層には、フッ素含有共重合体を含有することが好ましく、フッ素含有モノマーにより形成される構成単位を有するフッ素含有共重合体がより好ましい。フッ素含有共重合体の中でも、フルオロ脂肪族基含有共重合体が好ましい。
フッ素含有共重合体（好ましくはフルオロ脂肪族基含有共重合体）を用いることで、画像記録層の形成時の発泡による面質異常を抑制し、塗布面状を高めることができ、更に、形成された画像記録層のインキの着肉性を高められる。
また、フッ素含有共重合体（好ましくはフルオロ脂肪族基含有共重合体）を含む画像記録層は、階調が高くなり、例えば、レーザー光に対して高感度となり、散乱光、反射光等によるかぶり性が良好で耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基含有モノマーにより形成される構成単位を有することが好ましく、中でも、下記式（Ｆ１）及び下記式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有することが好ましい。
Figure 0007282885000049
式（Ｆ１）及び（Ｆ２）中、ＲＦ１は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は－Ｎ（ＲＦ２）－を表し、ｍは１～６の整数を表し、ｎは１～１０の整数を表し、ｌは０～１０の整数を表し、ＲＦ２は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
式（Ｆ１）及び（Ｆ２）におけるＲＦ２で表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はｎ－ブチル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
式（Ｆ１）及び（Ｆ２）におけるＸは、酸素原子であることが好ましい。
式（Ｆ１）におけるｍは１又は２が好ましく、２がより好ましい。
式（Ｆ１）におけるｎは、２、４、６、８、又は１０が好ましく、４又は６がより好ましい。
式（Ｆ１）におけるｌは、０が好ましい。
式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物の具体例を以下に示すが、式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007282885000050
Figure 0007282885000051
Figure 0007282885000052
Figure 0007282885000053
Figure 0007282885000054
Figure 0007282885000055
Figure 0007282885000056
Figure 0007282885000057
Figure 0007282885000058
Figure 0007282885000059
Figure 0007282885000060
Figure 0007282885000061
フッ素含有共重合体は、フッ素含有モノマーから形成される構成単位に加え、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
また、フルオロ脂肪族基含有共重合体は、上記式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物から形成される構成単位に加え、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレート中のポリオキシアルキレン基は、－（ＯＲＦ３）ｘ－で表すことができ、ＲＦ３はアルキル基を表し、ｘは２以上の整数を表す。ＲＦ３としては、直鎖状又は分岐状の炭素数２～４のアルキレン基であることが好ましい。直鎖状又は分岐状の炭素数２～４のアルキレン基としては、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、又は－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－であることが好ましい。ｘは、２～１００の整数が好ましい。
上記ポリオキシアルキレン基中、ｘ個の「ＯＲＦ３」は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。つまり、上記ポリオキシアルキレン基は、２種以上の「ＯＲＦ３」が規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。例えば、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖状又は分岐状のオキシプロピレン単位とオキシエチレン単位とが規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。より具体的には、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロックとオキシエチレン単位のブロックとが結合したものであってもよい。
なお、ポリオキシアルキレン基中には、１つ又は複数の連結基（例えば、－ＣＯＮＨ－Ｐｈ－ＮＨＣＯ－、－Ｓ－等、ここで、Ｐｈはフェニレン基を表す。）を含んでいてもよい。
上記ポリオキシアルキレン基の分子量は、２５０～３，０００が好ましい。
上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートとしては、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。
上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートは、例えば、ヒドロキシポリ（オキシアルキレン）化合物と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド、無水アクリル酸等とを公知の方法で反応させることによって合成することができる。
上記ヒドロキシポリ（オキシアルキレン）化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカ（登録商標） プルロニック、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカポリエーテル、ユニオン・カーバイド社製のＣａｒｂｏｗａｘ（登録商標）、ダウ・ケミカル社製のＴｒｉｔｏｎ）、第一工業製薬（株）製のＰＥＧ等が挙げられる。
なお、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートとしては、公知の方法で合成した、ポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いてもよい。
＜＜その他の成分＞＞
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開２００８－２８４８１７号公報の段落０１１４～０１５９の記載を参照することができる。
－画像記録層の形成－
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１質量％～５０質量％程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２程度が好ましい。
＜オーバーコート層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層の上にオーバーコート層（以下、「保護層」と呼ばれることもある。）を有する。
オーバーコート層の膜厚は、画像記録層の膜厚よりも厚いことが好ましい。
オーバーコート層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
このような特性のオーバーコート層については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特公昭５５－４９７２９号公報に記載されている。オーバーコート層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできるが、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
＜＜水溶性ポリマー＞＞
本開示において、水溶性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇ以上溶解し、かつ、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇのポリマーが溶解した溶液を２５℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
オーバーコート層が含む水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が好ましく挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
水溶性ポリマーは、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、及び、ポリエチレングリコールよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、ポリビニルアルコール、水溶性セルロース誘導体、及び、ポリエチレングリコールよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましく、ポリビニルアルコールを含むことが更に好ましく、けん化度が５０％以上であるポリビニルアルコールを含むことが特に好ましい。
けん化度は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、１００％以下であればよい。
けん化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６：１９９４に記載の方法に従い測定される。
また、オーバーコート層の一態様として、ポリビニルアルコールと、ポリエチレングリコールとを含む態様も好ましく挙げられる。
本開示におけるオーバーコート層が水溶性ポリマーを含む場合、オーバーコート層の全質量に対する水溶性ポリマーの含有量は、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、４０質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。
＜＜無機層状化合物＞＞
オーバーコート層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有してもよい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）２－５Ｄ４Ｏ１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ３（ＡｌＳｉ３Ｏ１０）Ｆ２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ２．５Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ２．５（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ２Ｌｉ（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）１／８Ｍｇ２／５Ｌｉ１／８（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。
上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å～１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ＋、Ｎａ＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。
雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ～２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは１μｍ～５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ～５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ～２０μｍ程度である。
無機層状化合物の含有量は、オーバーコート層の全固形分に対して、１質量％～６０質量％が好ましく、３質量％～５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。
＜＜疎水性ポリマー＞＞
オーバーコート層は、疎水性ポリマーを含んでいてもよい。
疎水性ポリマーとは、１２５℃、１００ｇの純水に対し５ｇ未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル等）、これらの樹脂の原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン－アクリル共重合体（スチレンアクリル樹脂ともいう）を含むことが好ましい。
更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。
疎水性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
オーバーコート層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～８０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましい。
本開示において、疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率が３０面積％以上であることが好ましく、４０面積％以上であることがより好ましく、５０面積％以上であることが更に好ましい。
疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率の上限としては、例えば、９０面積％が挙げられる。
疎水性ポリマーのオーバーコート層層表面における占有面積率は、以下のようにして測定することができる。
アルバック・ファイ社製ＰＨＩ ｎａｎｏ ＴＯＦII型飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）を用い、オーバーコート層表面に加速電圧３０ｋＶでＢｉイオンビーム（一次イオン）を照射し、表面から放出される疎水部（即ち、疎水性ポリマーによる領域）に相当するイオン（二次イオン）のピークを測定することで、疎水部のマッピングを行い、１μｍ２あたりに占める疎水部の面積を測定し、疎水部の占有面積率を求め、これを「疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率」とする。
例えば、疎水性ポリマーがアクリル樹脂である場合は、Ｃ６Ｈ１３Ｏ－のピークにより測定を行う。また、疎水性ポリマーがポリ塩化ビニリデンである場合は、Ｃ２Ｈ２Ｃｌ＋のピークにより測定を行う。
上記占有面積率は、疎水性ポリマーの添加量等によって、調整しうる。
＜＜変色性化合物＞＞
オーバーコート層は、露光部の視認性を高める観点から、変色性化合物を含んでいてもよい。
オーバーコート層が変色性化合物を含むことで、後述する、平版印刷版原版における明度変化ΔＬを２．０以上とすることが容易になる。
ここで、本開示に係る平版印刷版原版は、露光部の視認性を高める観点から、エネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ２にて波長８３０ｎｍの赤外線による露光を行った場合の、露光前後の明度変化ΔＬが、２．０以上であることが好ましい。
上記明度変化ΔＬは、３．０以上であることがより好ましく、５．０以上であることが更に好ましく、８．０以上であることが特に好ましく、１０．０以上であることが最も好ましい。
明度変化ΔＬの上限としては、例えば、２０．０が挙げられる。
明度変化ΔＬの測定は、以下の方法により行う。
平版印刷版原版を、波長８３０ｎｍの赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム グラフィックシステムズ（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－９８００により、出力９９．５％、外面ドラム回転数２２０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（dots per inch、1inch＝２５．４ｍｍ）の条件（エネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ２）で露光する。露光は２５℃、５０％ＲＨの環境下で行う。
露光前後の平版印刷版原版の明度変化を測定する。
測定には、Ｘ－Ｒｉｔｅ社製分光測色計ｅＸａｃｔを用いる。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値（明度）を用い、露光後の画像記録層のＬ＊値と露光前の画像記録層のＬ＊値との差の絶対値を明度変化ΔＬとする。
本開示において「変色性化合物」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化する化合物をいう。つまり、本開示において「変色」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化することをいう。
具体的には、本開示における変色性化合物は、（１）赤外線露光に起因して赤外線露光前より可視光領域の吸収が増加する化合物、（２）赤外線露光に起因して可視光領域の吸収を有するようになる化合物、（３）赤外線露光に起因して可視光領域に吸収を有しないようになる化合物が挙げられる。
なお、本開示における赤外線は、７５０ｎｍ～１ｍｍの波長の光線であり、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長の光線であることが好ましい。
変色性化合物としては、赤外線露光に起因して発色する化合物を含むことが好ましい。
また、変色性化合物としては、赤外線吸収剤であることが好ましい。上記の特定ポリメチン色素を、赤外線吸収剤として用いてもよい。
更に、変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含むことが好ましく、中でも、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解する分解性化合物を含むことが好ましい。
より具体的に言えば、本開示における変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解し（より好ましくは、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解し）、赤外線露光前に比べて、可視光領域における吸収が増加するか、又は、吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになる化合物であることが好ましい。
ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって変色性化合物のＨＯＭＯ（最高被占軌道）からＬＵＭＯ（最低空軌道）に励起した電子が、分子内の電子受容基（ＬＵＭＯと電位が近い基）に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。
以下、変色性化合物の一例である分解性化合物について説明する。
分解性化合物は、赤外線波長域（７５０ｎｍ～１ｍｍの波長域、好ましくは７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域）の少なくとも１部の光を吸収し、分解するものであればよいが、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する化合物であることが好ましい。
より具体的には、分解性化合物は、赤外線露光に起因して分解し、５００ｎｍ～６００ｎｍの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
分解性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、赤外線露光により分解する基（具体的には、下記式１－１～式１－７におけるＲ１）を有する、シアニン色素であることが好ましい。
分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式１－１で表される化合物であることがより好ましい。
Figure 0007282885000062
式１－１中、Ｒ１は下記式２～式４のいずれかで表される基を表し、Ｒ１１～Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ａ１、Ａ２及び複数のＲ１１～Ｒ１８が連結して単環又は多環を形成してもよく、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、ｎ１１及びｎ１２はそれぞれ独立に、０～５の整数を表し、但し、ｎ１１及びｎ１２の合計は２以上であり、ｎ１３及びｎ１４はそれぞれ独立に、０又は１を表し、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
Figure 0007282885000063
式２～式４中、Ｒ２０、Ｒ３０、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
式１－１で表される化合物は、赤外線で露光されると、Ｒ１－Ｌ結合が開裂し、Ｌは、＝Ｏ、＝Ｓ、又は＝ＮＲ１０となって、変色する。
式１－１において、Ｒ１は上記式２～式４のいずれかで表される基を表す。
以下、式２で表される基、式３で表される基、及び式４で表される基についてそれぞれ説明する。
式２中、Ｒ２０は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Ｒ２０で表されるアルキル基としては、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
Ｒ２０で表されるアリール基としては、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。
Ｒ２０としては、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ２０で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ２０で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
ここで、Ｒ２０で表されるアルキル基は、ハロゲン原子（例えば、クロロ基）等にて置換された置換アルキル基であってもよい。
以下に、上記式２で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure 0007282885000064
式３中、Ｒ３０は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Ｒ３０で表されるアルキル基及びアリール基としては、式２中のＲ２０で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基は、置換アルキル基であることが好ましく、フルオロ置換アルキル基であることがより好ましく、パーフルオロアルキル基であることが更に好ましく、トリフルオロメチル基であることが特に好ましい。
分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ３０で表されるアリール基は置換アリール基であることが好ましく、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～４のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基）等が挙げられる。
以下に、上記式３で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure 0007282885000065
式４中、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Ｒ４１又はＲ４２で表されるアルキル基及びアリール基としては、式２中のＲ２０で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｒ４１としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
Ｒ４２としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ４１で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ４２で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、Ｒ４２で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又は、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
式４におけるＺｂは、電荷を中和するための対イオンであればよく、化合物全体として、式１－１におけるＺａに含まれてもよい。
Ｚｂは、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は過塩素酸塩イオンが好ましく、テトラフルオロボレートイオンがより好ましい。
以下に、上記式４で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure 0007282885000066
式１－１において、Ｌは、酸素原子、又は－ＮＲ１０－が好ましく、酸素原子が特に好ましい。
また、－ＮＲ１０－におけるＲ１０は、アルキル基が好ましい。Ｒ１０で表されるアルキル基としては、炭素数１～１０のアルキル基が好ましい。また、Ｒ１０で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
アルキル基の中では、メチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
－ＮＲ１０－におけるＲ１０がアリール基の場合、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。また、これらアリール基は、置換基を有していてもよい。
式１－１において、Ｒ１１～Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅであることが好ましい。
Ｒａ～Ｒｅで表される炭化水素基は、炭素数１～３０の炭化水素基が好ましく、炭素数１～１５の炭化水素基がより好ましく、炭素数１～１０の炭化水素基が更に好ましい。
上記炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
上記炭化水素基としては、アルキル基が特に好ましい。
上記アルキル基としては、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、２－ノルボルニル基が挙げられる。
アルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
式１－１におけるＲ１１～Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、以下の場合を除き、水素原子であることが更に好ましい。
中でも、Ｌが結合する炭素原子と結合する炭素原子に結合するＲ１１及びＲ１３は、アルキル基が好ましく、両者が連結して環を形成することがより好ましい。上記形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環、インドール環等の多環が挙げられる。
また、Ａ１ ＋が結合する炭素原子に結合するＲ１２はＲ１５又はＲ１６（好ましくはＲ１６）と連結して環を形成することが好ましく、Ａ２が結合する炭素原子に結合するＲ１４はＲ１７又はＲ１８（好ましくはＲ１８）と連結して環を形成することが好ましい。
式１－１において、ｎ１３は１であり、Ｒ１６は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましい。
また、Ｒ１６は、Ａ１ ＋が結合する炭素原子に結合するＲ１２と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドリウム環、ピリリウム環、チオピリリウム環、ベンゾオキサゾリン環、又はベンゾイミダゾリン環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドリウム環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式１－１において、ｎ１４は１であり、Ｒ１８は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましい。
また、Ｒ１８は、Ａ２が結合する炭素原子に結合するＲ１４と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドール環、ピラン環、チオピラン環、ベンゾオキサゾール環、又はベンゾイミダゾール環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドール環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式１－１におけるＲ１６及びＲ１８は同一の基であることが好ましく、それぞれが環を形成する場合、Ａ１ ＋及びＡ２を除き、同一の構造の環を形成することが好ましい。
式１－１におけるＲ１５及びＲ１７は同一の基であることが好ましい。また、Ｒ１５及びＲ１７は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、置換アルキル基であることが更に好ましい。
式１－１により表される化合物において、水溶性を向上させる観点からは、Ｒ１５及びＲ１７は置換基アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１５又はＲ１７で表される置換アルキル基としては、下記式（ａ１）～式（ａ４）のいずれかで表される基が挙げられる。
Figure 0007282885000067
式（ａ１）～式（ａ４）中、ＲＷ０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗは単結合又は酸素原子を表し、ｎＷ１は１～４５の整数を表し、ＲＷ１は炭素数１～１２のアルキル基又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＲＷ５を表し、ＲＷ５は炭素数１～１２のアルキル基を表し、ＲＷ２～ＲＷ４はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１２のアルキレン基を表し、Ｍは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子、又は、オニウム基を表す。
式（ａ１）において、ＲＷ０で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又はｎ－ブチレン基が好ましく、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
ｎＷ１は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。
ＲＷ１で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又はｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が好ましく、メチル基、又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
ＲＷ５で表されるアルキル基は、ＲＷ１で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様もＲＷ１で表されるアルキル基の好ましい態様と同様である。
式（ａ１）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。
Figure 0007282885000068
式（ａ２）～式（ａ４）において、ＲＷ２～ＲＷ４で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又は、ｎ－ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
式（ａ３）において、２つ存在するＭは同じでも異なってもよい。
式（ａ２）～式（ａ４）において、Ｍで表されるオニウム基としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。
式（ａ２）におけるＣＯ２Ｍ、式（ａ２）におけるＰＯ３Ｍ２、及び式（ａ４）におけるＳＯ３Ｍは、いずれもＭが解離したアニオン構造を有していてもよい。アニオン構造の対カチオンは、Ａ１ ＋であってもよいし、式１－１中のＲ１－Ｌに含まれうるカチオンであってもよい。
式（ａ１）～式（ａ４）で表される基の中で、式（ａ１）、式（ａ２）、又は式（ａ４）で表される基が好ましい。
式１－１におけるｎ１１及びｎ１２は同一であることが好ましく、いずれも、１～５の整数が好ましく、１～３の整数がより好ましく、１又は２が更に好ましく、２が特に好ましい。
式１－１におけるＡ１及びＡ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を表し、窒素原子が好ましい。
式１－１におけるＡ１及びＡ２は同一の原子であることが好ましい。
式１－１におけるＺａは、電荷を中和する対イオンを表す。
Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌの全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンとなる。但し、Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌに２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
なお、式１－１で表されるシアニン色素が、Ｚａを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Ｚａは必要ない。
Ｚａが対アニオンである場合、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、テトラフルオロボレートイオンが好ましい。
Ｚａが対カチオンである場合、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、スルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンがより好ましい。
分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式１－２で表される化合物（即ち、シアニン色素）であることがより好ましい。
Figure 0007282885000069
式１－２中、Ｒ１は上記式２～式４のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
式１－２におけるＲ１は、式１－１におけるＲ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
式１－２において、Ｒ１９～Ｒ２２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、又は－ＣＮであることが好ましい。
より具体的には、Ｒ１９及びＲ２１は、水素原子、又は－Ｒａであることが好ましい。
また、Ｒ２０及びＲ２２は、水素原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、又は－ＣＮであることが好ましい。
Ｒ１９～Ｒ２２で表される－Ｒａとしては、アルキル基、又はアルケニル基が好ましい。
Ｒ１９～Ｒ２２のすべてが－Ｒａである場合、Ｒ１９とＲ２０及びＲ２１とＲ２２が連結して単環又は多環を形成することが好ましい。
Ｒ１９とＲ２０又はＲ２１とＲ２２が連結して形成される環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
式１－２において、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成していることが好ましい。
Ｒ２３とＲ２４が連結して形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環等の多環が挙げられる。
式１－２において、Ｒｄ１～Ｒｄ４は、無置換アルキル基であることが好ましい。また、Ｒｄ１～Ｒｄ４は、いずれも同一の基であることが好ましい。
無置換アルキル基としては、炭素数１～４の無置換アルキル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。
式１－２において、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、式１－２で表される化合物に水溶性を高める観点から、置換アルキル基であることが好ましい。
Ｗ１及びＷ２で表される置換アルキル基としては、式１－１における式（ａ１）～式（ａ４）のいずれかで表される基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
また、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、機上現像性の観点から、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、－（ＯＣＨ２ＣＨ２）－、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基であることが好ましい。
Ｚａは、分子内の電荷を中和する対イオンを表す。
Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌの全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンとなる。但し、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌに２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
なお、式１－２で表される化合物が、Ｚａを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Ｚａは必要ない。
Ｚａが対アニオンである場合の例は、式１－１におけるＺａと同様であり、好ましい態様も同様である。また、Ｚａが対カチオンである場合の例も、式１－１におけるＺａと同様であり、好ましい態様も同様である。
分解性化合物としてのシアニン色素は、分解性、及び、発色性の観点から、下記式１－３～式１－７のいずれかで表される化合物であることが更に好ましい。
特に、分解性、及び、発色性の観点から、式１－３、式１－５、及び式１－６のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
Figure 0007282885000070
式１－３～式１－７中、Ｒ１は上記式２～式４のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２５とＲ２６は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
式１－３～式１－７におけるＲ１、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及びＬは、式１－２におけるＲ１、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及びＬと同義であり、好ましい態様も同様である。
式１－７におけるＲ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
以下に、分解性化合物のシアニン色素の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007282885000071
また、分解性化合物であるシアニン色素は、国際公開第２０１９／２１９５６０号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。
また、変色性化合物としては、酸発色剤を用いてもよい。
酸発色剤としては、画像記録層において酸発色剤として記載したものを用いることができ、好ましい態様も同様である。
変色性化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
変色性化合物としては、既述の酸発色剤と後述の酸発生剤とを組み合わせて使用してもよい。
オーバーコート層中の変色性化合物の含有量は、発色性の観点から、オーバーコートの全質量に対し、０．１０質量％～５０質量％が好ましく、０．５０質量％～３０質量％がより好ましく、１．０質量％～２０質量％が更に好ましい。
オーバーコート層の上記変色性化合物の含有量ＭＸと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量ＭＹとの比ＭＸ／ＭＹが、発色性の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上３．０以下が特に好ましい。
オーバーコート層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤をオーバーコート層に含有させてもよい。
オーバーコート層の形成方法としては特に制限はなく、公知の方法で形成することができる。オーバーコート層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～１ｇ／ｍ２が特に好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、０．８μｍ～３μｍであることが好ましく、１μｍ～２μｍであることがより好ましい。
また、オーバーコート層の厚さは、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、上記画像記録層の厚さよりも大きいことが好ましい。
－膜厚比－
ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、上記画像記録層の膜厚に対し、０．５～５倍であることが好ましく、１．１倍～４倍であることがより好ましく、１．１倍～３倍であることが更に好ましく、１．１倍～２倍であることが特に好ましい。
オーバーコート層及び画像記録層の膜厚は、平版印刷版原版をオスミニウム染色した後に、平版印刷版原版の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察し、ランダムに抽出した２０点の各層の膜厚の平均値を求めることで、それぞれの膜厚が求められる。
＜アルミニウム支持体＞
本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体としては、公知の平版印刷版原版用アルミニウム支持体から適宜選択して用いることができる。以下、アルミニウム支持体を単に「支持体」ともいう。
アルミニウム支持体としては、親水性表面を有するアルミニウム支持体（以下、「親水性アルミニウム支持体」ともいう）が好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、１１０°以下であることが好ましく、９０°以下であることがより好ましく、８０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることがより更に好ましく、３０°以下であることが特に好ましく、２０°以下であることがより特に好ましく、１０以下であることが最も好ましい。
本開示において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を画像記録層を除去可能な溶媒（例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒）に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計（例えば、協和界面化学（株）製ＤＭ－５０１）によって、２５℃における表面上の水滴の接触角（０．２秒後）として測定される。
本開示におけるアルミニウム支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。
〔支持体の好ましい態様〕
本開示において用いられるアルミニウム支持体の好ましい態様の一例（本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体（１）」ともいう。）を以下に示す。
即ち、支持体（１）は、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、陽極酸化皮膜が、アルミニウム板よりも画像記録層側に位置し、陽極酸化皮膜が、画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、陽極酸化皮膜の画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が、７０～１００である。
図１は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以後、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも称する）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａが、アルミニウム板１８よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及びオーバーコート層（すなわち、水溶性樹脂層）をこの順で少なくとも有することが好ましい。
－陽極酸化皮膜－
以下、陽極酸化被膜２０ａの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有する。マイクロポア２２ａは、画像記録層側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。
陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０ｎｍ超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、１５ｎｍ～６０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ～５０ｎｍが更に好ましく、２５～４０ｎｍが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が１０ｎｍを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が１００ｎｍ以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００×６００ｎｍ2の範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
マイクロポア２２ａの深さは特に制限されないが、１０ｎｍ～３０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ～２０００ｎｍがより好ましく、３００ｎｍ～１６００ｎｍが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ａの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上のマイクロポア２２ａの深さを測定し、平均した値である。
マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図２では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。
アルミニウム支持体１２ａの画像記録層側の表面（陽極酸化皮膜２０ａの画像記録層側の表面）のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は、７０～１００であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、７５～１００が好ましく、７５～９０がより好ましい。
上記明度Ｌ＊の測定は、エックスライト（株）製、色彩色差計Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｅｙｅを用いて測定する。
支持体（１）において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５ｎｍ～１５０ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である態様（以下、上記態様に係る支持体を、「支持体（２）」ともいう。）も好ましく挙げられる。
図２は、アルミニウム支持体１２ａの、図１に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。支持体Ｂは、図２に示すアルミニウム支持体１２ａの一態様である。
図２において、アルミニウム支持体１２ｂは、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む。
陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１０００ｎｍ（深さＤ：図２参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ２０ｎｍ～２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。
以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、１０ｎｍ超１００ｎｍ以下であり、好適範囲も同じである。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍ（以後、深さＤとも称する）に位置する。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる孔部である。上記深さは、１０ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上の大径孔部２４の深さを測定し、平均した値である。
大径孔部２４の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
小径孔部２６は、図２に示すように、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である。
小径孔部２６の連通位置における平均径は、１３ｎｍ以下が好ましい。中でも、１１ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５ｎｍ以上の場合が多い。
小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０ｂ上部（大径孔部のある領域）を切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０ｂ表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向に２０ｎｍ～２０００ｎｍのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部２６は、上記大径孔部２４との連通位置から更に深さ方向（厚み方向）にのびる孔部であり、小径孔部２６の深さは２０ｎｍ～２０００ｎｍである。なお、上記深さは、５００ｎｍ～１５００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（５万倍）をとり、２５個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
小径孔部２６の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
［アルミニウム支持体の製造方法］
本開示におけるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程：アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程：粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程：陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
（粗面化処理工程）
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び／又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭５０－４００４７号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理（以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。）が挙げられる。
アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．０１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、また、３０質量％以下が好ましい。
アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理（以下、「デスマット処理」ともいう。）を施すのが好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、２０℃～８０℃が好ましい。
粗面化処理工程としては、Ａ態様又はＢ態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。
－Ａ態様－
（２）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（４）硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第１電気化学的粗面化処理）
（５）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（７）塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第２電気化学的粗面化処理）
（８）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第３アルカリエッチング処理）
（９）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第３デスマット処理）
－Ｂ態様－
（１０）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第４アルカリエッチング処理）
（１１）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第４デスマット処理）
（１２）塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理（第３電気化学的粗面化処理）
（１３）アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理（第５アルカリエッチング処理）
（１４）酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第５デスマット処理）
上記Ａ態様の（２）の処理前、又は、Ｂ態様の（１０）の処理前に、必要に応じて、（１）機械的粗面化処理を実施してもよい。
第１アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．５ｇ／ｍ２～３０ｇ／ｍ２が好ましく、１．０ｇ／ｍ２～２０ｇ／ｍ２がより好ましい。
Ａ態様における第１電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１～１００ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
Ａ態様における第２電気化学的粗面化処理及びＢ態様における第３電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硫酸を０ｇ／Ｌ～３０ｇ／Ｌ添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。
電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は０．１Ｈｚ～２５０Ｈｚが好ましい。
図３は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図３において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡはアルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓ～１０ｍｓが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１～２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３～２０、アノード反応時間ｔａが５ｍｓ～１０００ｍｓ、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０Ａ／ｄｍ２～２００Ａ／ｄｍ２が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは、０．３～２０が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、２５Ｃ／ｄｍ２～１０００Ｃ／ｄｍ２が好ましい。
交流を用いた電気化学的な粗面化には図４に示した装置を用いることができる。
図４は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図４において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａ及び５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。図４中、矢印Ａ１は電解液の給液方向を、矢印Ａ２は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａ及び５３ｂにより電解処理される。電解液５５は、電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａ及び５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは、次いで、補助陽極槽６０で電解処理される。この補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。
第２アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、１．０ｇ／ｍ２以上が好ましく、２．０ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２がより好ましい。
第３アルカリエッチング処理及び第４アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、０．０１ｇ／ｍ２～０．８ｇ／ｍ２が好ましく、０．０５ｇ／ｍ２～０．３ｇ／ｍ２がより好ましい。
酸性水溶液を用いた化学エッチング処理（第１～第５デスマット処理）では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの２以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液の酸の濃度は、０．５質量％～６０質量％が好ましい。
（陽極酸化処理工程）
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００ｇ／Ｌ～３００ｇ／Ｌが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ2）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）、及び、皮膜量０．１ｇ／ｍ2～５ｇ／ｍ２（好ましくは０．２ｇ／ｍ2～３ｇ／ｍ2）が挙げられる。
（ポアワイド処理）
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
＜下塗り層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。
下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＰＯ３Ｈ２、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－、－ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。
＜＜親水性化合物＞＞
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など）が好ましく挙げられる。
親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物（好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩）は、傷汚れ抑制性の観点から、下塗り層に限らず、アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
アルミニウム支持体上の層としては、アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物（例えば、水溶液等）により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層（例えば、画像記録層又は下塗り層）に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を１１０°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
ヒドロキシカルボン酸とは、１分子中に１個以上のカルボキシ基と１個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる（岩波理化学辞典第５版、（株）岩波書店発行（１９９８）参照）。
ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式（ＨＣ）で表されるものが好ましい。
ＲＨＣ（ＯＨ）ｍｈｃ（ＣＯＯＭＨＣ）ｎｈｃ 式（ＨＣ）
式（ＨＣ）中、ＲＨＣはｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基を表し、ＭＨＣはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、ｍｈｃ及びｎｈｃはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｍは同じでも異なってもよい。
式（ＨＣ）において、Ｒで表されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基としては、ｍｈｃ＋ｎｈｃ価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び／又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシル基及びカルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２－ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、１－メチル－１－フェニルエチル基、ｐ－メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１－プロペニルメチル基、２－ブテニル基、２－メチルアリル基、２－メチルプロペニルメチル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは１～５０である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの２価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
ＭＨＣで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、ＭＨＣは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
ｍｈｃとｎｈｃとの総数は、３以上が好ましく、３～８がより好ましく、４～６が更に好ましい。
ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が６００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、３００以下であることが特に好ましい。また、分子量は、７６以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸（２－ヒドロキシ酪酸、３－ヒドロキシ酪酸、γ－ヒドロキシ酪酸等）、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体（サリチル酸、クレオソート酸（ホモサリチル酸、ヒドロキシ（メチル）安息香酸）、バニリン酸、シリング酸等）、ジヒドロキシ安息香酸誘導体（ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等）、トリヒドロキシ安息香酸誘導体（没食子酸等）、フェニル酢酸誘導体（マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等）、ヒドロケイヒ酸誘導体（メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等）等が挙げられる。
これらの中でも、ヒドロキシカルボン酸、又は、ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を２個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を３個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を５個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を５個～８個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を１個、ヒドロキシ基を２個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を２個以上、ヒドロキシ基を１個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
親水性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３０質量％であることが好ましく、０．１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．０質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
下塗り層は、上記した下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１ｍｇ／ｍ２～３０ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を、画像様に露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程（以下、「機上現像工程」ともいう。）と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（印刷工程）と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
＜露光工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ２～３００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
＜機上現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は３００ｎｍ～４５０ｎｍ又は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源としては、半導体レーザーが好適である。
＜現像液現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（「現像液現像工程」ともいう。）と、を含む方法であってもよい。
また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
現像液のｐＨは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、ｐＨ２～１１の現像液が好ましく挙げられる。ｐＨ２～１１の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも１種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像－ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、１液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
＜印刷工程＞
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）が好ましく挙げられる。
また、印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、印刷工程は、印刷機を停止することなく、機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。
以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。また、平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径を意味する。平均粒径の測定は、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（（株）堀場製作所製）により行った。
〔ポリマー粒子の合成〕
＜＜Ｒ－１の合成＞＞
１０００ｍｌの４つ口フラスコに、下記表１に示すＢ－１（ｎ＝４５） １０．０ｇ、蒸留水８５．０ｇ及びｎ－プロパノール２４０．０ｇを加えて窒素雰囲気下７０℃で加熱撹拌した。
次に、予め混合されたスチレン（ｓｔｙｒｅｎｅ）：（Ａ－１） ２０．０ｇ、アクリロニトリル（ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）：（Ａ－２） ７０．０ｇ及び２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．７ｇの混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後５時間そのまま反応を続けた後、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇを添加し、８０℃に昇温した。６時間おきに２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを０．４ｇずつ添加し、合計１９時間反応させた。
反応液を室温（２５℃）に放冷し、粒子Ｒ－１の分散液（固形分：２３質量％）を得た。粒子Ｒ－１の平均粒径は１５０ｎｍであった。
＜＜Ｒ－６の合成＞＞
三口フラスコに、２－ブタノン ２０ｇを秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（カレンズ－ＭＯＩ、（昭和電工（株）製）：１２．６ｇ、スチレン（ｓｔｙｒｅｎｅ）：（Ａ－１） １５ｇ、アクリロニトリル（ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）：（Ａ－２） １５．０ｇ、Ｂ－１（ｎ＝４５） ：１０ｇ、メタクリル酸：４ｇ、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（製品名：Ｖ－６５、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．６ｇ、２－ブタノン：４４ｇから成る混合溶液を２時間かけて滴下した。
滴下終了後、更に２時間反応を続けた。２時間後、Ｖ－６５：０．１ｇを加え、８０℃に昇温して２時間反応を続けた。
反応終了後、室温まで反応液を冷却したのち、上記の反応溶液に２－ブタノン： ３０ｇ、テトラメチルピペリジンＮ－オキシド：０．１ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（製品名：ＳＲ－３９９、サートマー社製）：４３ｇ、トリス（２－エチルヘキサン酸）ビスマス（ＩＩＩ）（製品名：ネオスタンＵ－６００（日東化成（株）製）：０．２ｇを加えてよく攪拌した後、７０℃にて加熱した。６時間後、室温まで反応ポリマー溶液を冷却した。
１Ｌステンレスビーカーに水４００ｍｌを添加し、メカニカルスターラーを用いて攪拌しているところに、上記反応ポリマー溶液を１ｍｌ／ｍｉｎの速度で全量添加した。得られた白色沈殿を残して上澄みを除去し、水で洗浄を２回繰り返し、乾燥工程を経ずに、ステンレスビーカーへ０．１Ｎ ＮａＯＨ水溶液を２００ｍｌ、純水１００ｍｌを添加し、攪拌することで白色分散液を得た。得られた分散液をホモジナイザーを用いて１８，０００ｒｐｍ、 １２分間乳化させて、粒子水溶液Ｒ－６を得た。粒径は１４０ｎｍ、固形分：２１質量％であった。
＜＜Ｒ－２～Ｒ－５、Ｒ－７～Ｒ－８の合成＞＞
使用するモノマーを表１のように変更した以外は、粒子Ｒ－１の合成と同様にして、粒子Ｒ－２～Ｒ－５、Ｒ－７～Ｒ－８をそれぞれ作製した。
Figure 0007282885000072
表１における略記の詳細は、以下の通りである。また、各ユニット組成の種類は、モノマーにより記載しているが、作製した粒子におけるポリマー（付加重合型樹脂）においては、対応する構成単位（上述した構成単位）となっている。更に、各ユニットにおける量の単位は、質量部であり、構成単位としての量である。
ユニットＡ：芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位
ユニットＢ：親水性基を有する構成単位
ユニットＣ：ユニットＡ及びユニットＢ以外の構成単位
Ａ－１～Ａ－２：下記化合物
Figure 0007282885000073
Ｂ－１及びＢ－２：下記化合物
Figure 0007282885000074
Ｂ－３：下記化合物：ブレンマー（登録商標）ＡＰ－５５０（日油（株）製）
Figure 0007282885000075
Ｃ－１～Ｃ－５：下記化合物。なお、下記Ｃ－５は、上記Ｒ－６の合成に用いられる、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのＯＨ基と、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネートのＮＣＯ基とが反応することによって得られるモノマーである。
Figure 0007282885000076
（支持体Ａの作製）
＜処理（Ａ）＞
（Ａ－ａ）アルカリエッチング処理
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％およびアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ２であった。
（Ａ－ｂ）酸性水溶液を用いたデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｃ）電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、および、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％およびアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｅ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌおよびアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。
（Ａ－ｆ）陽極酸化処理
図５に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解液の硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、温度５０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ陽極酸化処理を行い、皮膜量２．４ｇ／ｍ３の陽極酸化皮膜を形成した。
なお、陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図５中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向転換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８により、山型及び逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。
（Ａ－ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度４０℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に３秒間にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行い、アルミニウム支持体Ａを得た。
支持体Ａの各物性値を、以下に示す。
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径：１２ｎｍ
陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値：８１
（支持体Ｂの作製）
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム合金板に対し、特開２０１２－１５８０２２号公報の段落０１２６に記載の（Ａ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）から段落０１３４に記載の（Ａ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理を実施した。
次に、特開２０１２－１５８０２２号公報の段落０１３５に記載の（Ａ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理から段落０１３８に記載の（Ａ－ｍ）第３段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、
平均径３５ｎｍ、深さ１００ｎｍの大径孔部と、平均径１０ｎｍ、深さ１,０００ｎｍの小径孔部を有し、大径孔部の平均径に対する大径孔部の深さの比が２．９である陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体Ｂを得た。
なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
支持体Ｂの各物性値を、以下に示す。
陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値：８３
なお、上記にて作製した支持体において、マイクロポアの平均径は、表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ２×６００ｎｍ２の範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、平均した値である。
なお、マイクロポアの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
また、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ２×６００ｎｍ２の範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を５０箇所測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
更に、マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
また、得られたアルミニウム支持体中の陽極酸化皮膜の表面（陽極酸化皮膜のアルミニウム板側とは反対側の表面）のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は、エックスライト（株）製、色彩色差計Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｅｙｅを用いて測定した。
（実施例１～２３、及び、比較例１～６）
＜平版印刷版原版の作製＞
下記の方法により、実施例１～２３、及び、比較例１～６の平版印刷版原版をそれぞれ作製した。
＜＜下塗り層の形成＞＞
表２～表４に記載の各支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液（１）を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して下塗り層を形成した。
－下塗り層塗布液（１）－
・ポリマー（Ｐ－１）〔下記構造〕：０．１８部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．１０部
・水：６１．４部
Figure 0007282885000077
－ポリマー（Ｐ－１）の合成－
＜＜モノマーＵＭ－１の精製＞＞
ライトエステル Ｐ－１Ｍ（２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学（株）製）４２０部、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部及び蒸留水１，０５０部を分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部を加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーＵＭ－１の水溶液（固形分換算１０．５質量％）を１，３００部得た。
＜＜ポリマー（Ｐ－１）の合成＞＞
三口フラスコに、蒸留水を５３．７３部、以下に示すモノマーＵＭ－２を３．６６部加え、窒素雰囲気下で５５℃に昇温した。次に、以下に示す滴下液１を２時間掛けて滴下し、３０分撹拌した後、ＶＡ－０４６Ｂ（富士フイルム和光純薬（株）製）０．３８６部を加え、８０℃に昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を室温（２５℃）に戻した後、３０質量％水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを８．０に調整したのち、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル（４－ＯＨ－ＴＥＭＰＯ）を０．００５部加えた。以上の操作により、ポリマー（Ｐ－１）の水溶液を１８０部得た。ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリエチレングリコール換算値とした重量平均分子量（Ｍｗ）は２０万であった。
Figure 0007282885000078
＜＜滴下液１の組成＞＞
・上記モノマーＵＭ－１水溶液：８７．５９部
・上記モノマーＵＭ－２：１４．６３部
・ＶＡ－０４６Ｂ（２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルフェートジハイドレート、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．３８６部
・蒸留水：２０．９５部
＜＜画像記録層の形成＞＞
下塗り層上に、表２～表４に記載の組成を有する画像記録層を形成するための各画像記録層塗布液を表２～表４に記載の塗布量になるように、バー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して画像記録層を形成した。
＜＜オーバーコート層（ＯＣ層）の形成＞＞
画像記録層上に、表２～表３に記載の組成を有するオーバーコート層を形成するためのオーバーコート層塗布液を、表２～表３に記載の塗布量になるように、バー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥してオーバーコート層を形成した。
表２～表３中のオーバーコート層塗布液に用いた化合物の詳細を以下に示す。
〔水溶性ポリマー〕
ＷＰ－１：セルロース（信越化学工業（株）、製品名：６０ＳＨ－１５）
ＷＰ－２：ＰＶＡ（日本合成化学（株）、製品名：６ゴーセランＣＫＳ－５０）
ＷＰ－３：ビニルピロリドン（ＢＡＳＦ社製、製品名：ルビスコール Ｋ－１７）
ＷＰ－４：ＰＥＧ（（株）ＡＤＥＫＡ、製品名：プルロニック Ｌ－４４）
なお、以降の表中では、水溶性ポリマーを親水性ポリマーと表記する。
〔界面活性剤〕
ラピゾールＡ－８０（日油（株）製）
画像記録層及びオーバーコート層の膜厚は、画像記録層塗布液、及び、オーバーコート層塗布液を塗布後の平版印刷版原版をオスミニウム染色した後に、平版印刷版原版の断面をＳＥＭ観察し、ランダムに抽出した２０点の各層の膜厚の平均値を、画像記録層、又は、オーバーコート層膜厚として求め、画像記録層の膜厚に対するオーバーコートの膜厚の比（ＯＣ層／画像記録層）を算出した。
（平版印刷版原版の評価）
〔ＵＶ耐刷性〕
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００ Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２相当）した。露光画像にはベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Ａｍｐｌｉｔｕｄｅ Ｍｏｄｕｌａｔｅｄ Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ）３％網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ－Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を行った。
印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるＡＭスクリーン３％網点の網点面積率をグレタグ濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）で計測した値が、印刷５００枚目の計測値よりも１％低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。印刷枚数が５万枚の場合を１００とする相対耐刷性により評価した。数値が大きいほど、ＵＶ耐刷性が良好であることを示す。
相対耐刷性＝（対象平版印刷版原版の印刷枚数）／５０，０００×１００
〔機上現像性〕
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００IIIにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャート及び非画像部を含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とスペースカラーフュージョンＧ黄インキ（ＤＩＣグラフィックス（株）製）とを用い、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を５００枚行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。枚数が少ないほど、機上現像性に優れるといえる。
〔視認性（発色性）〕
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにより、出力１１．７Ｗ、外面ドラム回転数２５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈ＝２５．４ｍｍ）の条件で露光した。露光は２５℃、５０％ＲＨの環境下で行った。
露光直後、平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ２６００ｄとオペレーションソフトＣＭ－Ｓ１００Ｗとを用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式で行った。発色性は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値（明度）を用い、露光部のＬ＊値と未露光部のＬ＊値との差ΔＬにより評価した。
表２及び表３には、ΔＬの数値を記載した。ΔＬの値が大きいほど、発色性が優れるといる。発色性は視認性の指標となる。また、発色性が優れる平版印刷版は、検版性にも優れるといえる。
〔版飛び抑制性〕
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００ Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２相当）した。露光画像にはベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Ａｍｐｌｉｔｕｄｅ Ｍｏｄｕｌａｔｅｄ Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ）３％網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版の網点部に、直径０．４ｍｍのピアノ線((株）エスコ)を版胴の回転方向に対して垂直方向に貼り付け、現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ－Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を行った。
印刷枚数が２，０００枚に達したところで、版からピアノ線を取り外し、再度印刷機にセットし、印刷を開始した。再開後１００枚目の印刷物を確認し、ピアノ線の位置に対応する画像部を確認し、着肉不良が生じているか５０倍拡大鏡を用いて目視で確認した。同様に２，０００枚ごとに確認を行い、着肉不良が生じた段階で評価を終了した。
なお、着肉不良が生じるまでの印刷枚数が多いほど、「版飛び抑制性」に優れるといえる。
－評価基準－
Ａ：着肉不良が生じるまでの印刷枚数が２０，０００枚以上である。
Ｂ：着肉不良が生じるまでの印印刷枚数が４，０００枚以上２０，０００枚未満である。
Ｃ：着肉不良が生じるまでの印印刷枚数が４，０００枚未満である。
〔機上現像カス抑制性〕
上記ＵＶ耐刷性の評価において印刷を行った後、同時に水着けローラ上の除去カスの付着状況を評価し、機上現像時における現像カスの評価を行った。
指標は以下の通りであり、数値が大きいほど、現像カスが抑制されていることを示す。
５：水着けローラ上にカスは見られない。
４：かすかに水着けローラ上にカスが見られる。
３：水着けローラ上にカスが見られる。
２：水着けローラ上にカスが多く見られる。
１：水着けローラ上にカスが非常に多く見られる。
Figure 0007282885000079
Figure 0007282885000080
Figure 0007282885000081
表２～表４における各成分欄の数値の単位は、質量部であり、固形分量を表す。表２～表４中の「－」は、該当成分を含まないことを意味する。なお、表２中の実施例１３のΔＨＯＭＯの値「－」は、マイナスの値を示すことを意味している。表２～表４中の「ΔＨＯＭＯ」とは、にポリメチン色素のＨＯＭＯの値から電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値を引いた値を意味する。
また、上述した以外の表２～表４に記載した各化合物の詳細を、以下に示す。
〔カチオン性ポリメチン色素〕
Ｄ－１～Ｄ－８：下記構造の化合物
Figure 0007282885000082
〔電子受容型重合開始剤〕
Ｉ－１～Ｉ－４：下記構造の化合物
Figure 0007282885000083
上記構造中、ＴｓＯ－はトシラートアニオンを表す。
〔電子供与型重合開始剤（重合助剤）〕
Ｂ－１～Ｂ－５：下記構造の化合物
Figure 0007282885000084

〔発色剤（酸発色剤）〕
Ｓ－１４：Ｒｅｄ－４０（山本化成（株）製）
Ｓ－１５：Ｓ－２０５（福井山田化学工業（株）製）
Ｓ－１６：Ｂｌａｃｋ－ＸＶ（山本化成（株）製）
Ｓ－１、Ｓ－４、Ｓ－１０、Ｓ－１１及びＳ－１４は、上述のＳ－１、Ｓ－４、Ｓ－１０、Ｓ－１１及びＳ－１４と同様の化合物である。
〔重合性化合物（モノマー）〕
Ｍ－１：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステル Ａ－９３００、新中村化学工業（株）製
Ｍ－２：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＳＲ－３９９、サートマー社製
Ｍ－３：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、Ａ－ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製
Ｍ－４：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー、ＵＡ－５１０Ｈ、共栄社化学（株）製
〔バインダーポリマー〕
バインダーポリマーＰ－１（下記構造、Ｍｗ：６０，０００、ｎ＝２（ＥＯ単位数））
バインダーポリマーＰ－２（下記構造、Ｍｗ：３５，０００、ｎ＝２（ＥＯ単位数））
Figure 0007282885000085
Figure 0007282885000086
〔ポリマー粒子〕
Ｒ－１～Ｒ－８：上述のＲ－１～Ｒ－８と同様の構造を有するポリマー粒子
ＭＧ－１：Ｃ＝Ｃ価 ４．０ｍｍｏｌ／ｇ、下記ミクロゲル（１）、なお、ポリマー粒子Ｇ－１（ミクロゲル（１））を含む画像記録層塗布液の調製は、下記ミクロゲル液以外の表３に記載の成分を混合した組成物と、下記ミクロゲル液とを表３に記載の組成となるように塗布直前に混合し撹拌することにより、画像記録層塗布液を調製した。
－ミクロゲル液の調製－
・ミクロゲル（１）（ポリマー粒子Ｇ－１）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル（１）の調製法を以下に示す。
－多価イソシアネート化合物（１）の調製－
イソホロンジイソシアネート１７．７８ｇ（８０ｍｍｏｌ）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５ｇ（２０ｍｍｏｌ）との酢酸エチル（２５．３１ｇ）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン Ｕ－６００、日東化成（株）製）４３ｍｇを加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。
Figure 0007282885000087
－ミクロゲル（１）の調製－
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲル（１）の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。
～油相成分～
（成分１）酢酸エチル：１２．０部
（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部
～水相成分～
蒸留水：４６．８７部
〔親水性化合物〕
Ｔ－１：トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート

Ｔ－３：ヒドロキシプロピルセルロース、Ｋｌｕｃｅｌ Ｍ、Ｈｅｒｃｕｌｅｓ社製
Figure 0007282885000088
〔疎水性化合物（感脂化剤）〕
Ｃ－１：下記構造の化合物
Ｃ－２：ベンジルジメチルオクチルアンモニウム・ＰＦ６塩
Ｃ－３：下記構造の化合物
Figure 0007282885000089
〔界面活性剤〕
Ｆ－７８１Ｆ：フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製
表２及び表３に記載の結果から、実施例に示す本開示に係る平版印刷版原版は、比較例の平版印刷版原版に比べて、ＵＶ耐刷性及び機上現像性に優れることが明らかである。
また、表２及び表３に記載の結果から、実施例に示す本開示に係る平版印刷版原版は、視認性にも優れることが明らかである。
表４に記載の結果から、実施例２、２２及び２４の本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像時における現像カス抑制性にも優れることが明らかである。
（実施例２４～２９）
＜下塗り層塗布液（２）及び（３）の調製＞
下記組成の下塗り層塗布液（２）及び（３）をそれぞれ調製した。
－下塗り層塗布液（２）の組成－
・ポリマー（Ｐ－１）〔上記構造〕：０．１８部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．０３質量部
・水：２８．０質量部
－下塗り層塗布液（３）の組成－
・ポリマー（Ｐ－１）〔上記構造〕：０．１８質量部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．０３質量部
・親水性化合物：表５に記載の量
・水：２８．０質量部
＜画像記録層の作製＞
支持体Ａ上に、下記表５に記載の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるように塗布して下塗り層を形成した。
下塗り層上に、表５に記載の組成を有する画像記録層を形成するための画像記録層塗布液をバー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ２の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液は、ポリマー粒子を塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
次いで、画像記録層上に、表５に記載の組成を有するオーバーコート層を形成するためのオーバーコート層塗布液を、表５に記載の塗布量になるように、バー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥してオーバーコート層を形成した。
＜傷汚れ抑制性評価＞
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ（revolutions per minute）、レーザー出力７０％、及び、解像度２，４００ｄｐｉ（dot per inch）の条件で露光した。露光処理後に、温度２５℃、湿度７０％の環境下にて得られた平版印刷版に引っかき試験機によってキズを付けた。
この引っかき試験機としては、ＨＥＩＤＯＮ ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｉｎｔｅｒｓｉｔｙ ＴＥＳＴＥＲ ＨＥＩＤＥＮ－１８を使用し、直径０．１ｍｍのサファイア針を用いて、引っ掻き荷重は５０（ｇ）とした。キズ付け後の版を現像処理することなく、三菱重工業（株）製ダイヤＩＦ２印刷機の版胴に取り付けた。ＩＦ１０２（富士フイルム（株）製）／水道水＝３／９７（容量比）の湿し水とＶａｌｕｅｓ－Ｇ（Ｎ）墨インキ（ＤＩＣ（株）製）とを用い、ダイヤＩＦ２の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（連量７６．５ｋｇ）紙を用いて印刷を行い、キズ付け部が印刷汚れにならないか評価した。また、９点、７点等の中間点については、上限の評価基準の中間である場合に中間点の評価とした。評価基準１０点～６点であることが好ましい。結果を表５に示す。
－評価基準－
１０点：キズ付け部が印刷汚れにならない。
８点：目視では判別できないわずかな印刷汚れがキズ付け部に認められる。
６点：目視によりわずかな印刷汚れがキズ付け部に認められる。
４点：目視により印刷汚れがキズ付け部に認められる。
２点：キズ付け部に明らかな印刷汚れが認められる
Figure 0007282885000090
なお、表５に記載の「表面接触角」は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を表す。上記接触角は、上述した方法により測定した。表５中の「ΔＨＯＭＯ」とは、にポリメチン色素のＨＯＭＯの値から電子供与性基のＨＯＭＯの値を引いた値を意味する。
表５中、画像記録層及びオーバーコート層（ＯＣ層）に用いた化合物の詳細は、既述のとおりである。
また、表５記載の下塗り層に用いた親水性化合物の詳細を以下に示す。
Figure 0007282885000091

（実施例３０～３６）
＜平版印刷版原版の作製＞
下記の方法により、実施例３０～３６の平版印刷版原版をそれぞれ作製した。
（支持体Ｘの作製）
（Ｘ－ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ２であった。
（Ｘ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
（Ｘ－ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
（Ｘ－ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
（Ｘ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｘ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図５に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。具体的には、下記表６に示す「第１陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
（Ｘ－ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に下記表６に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｘ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
図５に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。具体的には、下記表６に示す「第２陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
以上の各処理を経て、支持体Ｘを得た。
得られた支持体Ｘについて、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径、小径孔部の連通位置における平均径（ｎｍ）、大径孔部及び小径孔部の深さ（ｎｍ）、ピット密度（マイクロポアの密度、単位；個／μｍ２）、並びに小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の皮膜量（ｎｍ）を、表７にまとめて示す。
なお、支持体Ｘにおいて、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
なお、表６中、「第１陽極酸化処理」欄の皮膜量と「第２陽極酸化処理」欄の皮膜量とは、各処理で得られた皮膜量を表す。また、使用される電解液は、表６中の液成分を含む水溶液である。
Figure 0007282885000092
Figure 0007282885000093
（支持体Ｙの作製）
－アルカリエッチング処理－
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、３ｇ／ｍ２であった。
－酸性水溶液を用いたデスマット処理（第１デスマット処理）－
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１７０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
－電気化学的粗面化処理－
次に、塩酸濃度電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は４０℃であった。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で３００Ｃ／ｄｍ２で行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
－アルカリエッチング処理－
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度３５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング量が０．１ｇ／ｍ２以下となるようエッチング処理を行った。その後、水洗処理を行った。
－酸性水溶液を用いたデスマット処理－
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１７０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
－陽極酸化処理－
硫酸液１７０g／L、液温度４０℃にて、直流電流を用いて、陽極酸化皮膜量が３ｇ／ｍ２となるよう陽極酸化処理を行った。
以上の各処理を経て、支持体Ｙを得た。
（下塗り層の形成）
表８に記載の支持体上に、表８に記載の下塗り層塗布液Ａ及びＢのいずれかを乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して１００℃のオーブンで３０秒間乾燥し、下塗り層を形成した。
－下塗り層塗布液Ａの組成－
・ポリマー（Ｐ－１）〔上記構造〕：０．１４部
・キレスト４００（ＥＤＴＡ・４Ｎａ・４Ｈ２Ｏ、キキレスト（株）製）：０．０３５部
・キレスト３ＥＡＦ（N-(2-Hydroxyethyl)iminodiacetic Acid(CAS 93-62-9）、キレスト（株）製）：０．０３５部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１６部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１５部
・水：３．２９部
－下塗り層塗布液Ｂの組成－
上記下塗り層塗布液（１）と同じ組成の塗布液。
（画像記録層の形成）
下塗り層上に、表８に記載の組成を有する画像記録層を形成するための画像記録層塗布液を、表８に記載の乾燥塗布量になるように、バー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して画像記録層を形成した。
画像記録層に使用した各成分を以下に示す。
〔カチオン性ポリメチン色素〕
Ｄ’－１：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ：－５．３５ｅＶ）
Ｄ’－２：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ：－５．３１ｅＶ）
Ｄ’－３：下記構造の化合物（ＨＯＭＯ：－５．３２ｅＶ）
Figure 0007282885000094
上記構造中、ＴｓＯ－はトシラートアニオンを表す。
〔電子受容型重合開始剤〕
Ｉ’－１：下記構造の化合物
Ｉ’－２：下記構造の化合物
Figure 0007282885000095
〔発色剤（酸発色剤素）〕
Ｓ’－１：下記構造の化合物
Ｓ’－２：下記構造の化合物
Figure 0007282885000096
〔電子供与型重合開始剤（重合助剤）〕
Ｂ’－１：上記構造の電子供与型重合開始剤Ｂ－１（ＨＯＭＯ：－５．９２ｅＶ）
〔重合性化合物（モノマー）〕
Ｍ’－１：下記の方法で合成した化合物（Ｃ＝Ｃ価：６．８ｍｍｏｌ／ｇ、重量平均分子量：１５０，０００、Ｃ＝Ｃ当量：１４７ｇ／ｍｏｌ）
－Ｍ’－１の合成－
ポリイソシアネートとしてのタケネート（登録商標） Ｄ－１１６Ｎ（三井化学（株）製）４．７質量部、水酸基含有多官能アクリレートとしてのアロニックス（登録商標） Ｍ－４０３（東亞合成（株）製）：ポリイソシアネートのＮＣＯ価と水酸基含有多官能アクリレートの水酸基価が１：１となる量、ｔ－ブチルベンゾキノン０．０２質量部、メチルエチルケトン１１．５質量部の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタン Ｕ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製）０．１１質量部を加え、同温度で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート溶液を合成した。
続いて、リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０及び２Ｈ－４０（日本分析工業（株）製））で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶離液にて、ウレタンアクリレート溶液の分子量分画を実施した。
そして、重量平均分子量：１５０，０００、エチレン性不飽和結合価：６．８ｍｍｏｌ／ｇの化合物Ｍ’－１を得た。
化合物Ｍ’－１の重量平均分子量は、下記の測定機器、方法により測定した。
ＧＰＣ測定機器：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ、ＧＰＣ流動相：ＴＨＦ
検査器：示差屈折率検出器（ＲＩ）、流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、及び、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００を連結して使用した。
カラム温度：４０℃
分子量検量線用標準サンプル：ポリスチレン（ＰＳ）
また、化合物Ｍ’－１のエチレン性不飽和結合価（Ｃ＝Ｃ価）は、１Ｈ－ＮＭＲ測定より化合物の（モデル）構造を解析し、得られた構造をもとに算出した。
Ｍ’－２：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、新中村化学工業（株）製 Ａ－９３００、Ｃ＝Ｃ価：７．０９ｍｍｏｌ／ｇ
Ｍ’－３：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：４．２５ｍｍｏｌ／ｇ）
Ｍ’－４：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：４．４２ｍｍｏｌ／ｇ）
Figure 0007282885000097
〔ポリマー粒子〕
Ｒ’－１：上述のＲ－１と同様の構造を有するポリマー粒子
Ｒ’－２：上述のＲ－２と同様の構造を有するポリマー粒子
〔バインダーポリマー〕
Ｐ’－１：エスレック ＢＬ－１０、一部アセチル化されたポリビニルブチラール、積水化学（株）製
〔親水性化合物〕
Ｔ’－２：上記構造の親水性化合物Ｔ－１
〔添加剤〕
Ｏ’－１：下記構造の化合物（連鎖移動剤）
Figure 0007282885000098
〔界面活性剤〕
Ｕ’－１：下記構造の化合物
Figure 0007282885000099

Ｕ’－２：下記構造の化合物
Figure 0007282885000100
（オーバーコート層（ＯＣ層）の形成）
画像記録層上に、表８に記載の組成を有するオーバーコート層を形成するためのオーバーコート層塗布液を、表８に記載の塗布量になるように、バー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥してオーバーコート層を形成した。表８中のオーバーコート層塗布液に用いた化合物の詳細を以下に示す。
オーバーコート層に使用した各成分を以下に示す。
〔水溶性ポリマー〕
ＷＰ’－１：ポリビニルアルコール（ゴーセノール（登録商標） Ｌ－３２６６、三菱ケミカル（株）製、けん化度８６～８８モル％）
ＷＰ’－２：ポリビニルアルコール（Ｍｏｗｉｏｌ（登録商標） ４－８８、シグマアルドリッチ社製、けん化度８８モル％）
ＷＰ’－３：ポリビニルアルコール（Ｍｏｗｉｏｌ（登録商標） ８－８８、シグマアルドリッチ社製、けん化度８８モル％）
〔疎水性ポリマー粒子〕
ＷＲ’－１：スチレンアクリル樹脂粒子（ファインスフィア（登録商標）ＦＳ－１０２、日本ペイント・インダストリアルコーティングス（株）製、Ｔｇ＝１０３℃）
ＷＲ’－２：ポリ塩化ビニリデン水性ディスパージョン（Ｄｉｏｆａｎ（登録商標） Ａ５０、Ｓｏｌｖｉｎ社製）
〔界面活性剤〕
Ｖ’－１：エマレックス７１０（日本エマルジョン（株）製）
〔変色性化合物〕
ｗＩＲ’－１：下記構造の赤外線吸収剤
Figure 0007282885000101
得られた各平版印刷版原版について、実施例１と同様にして、ＵＶ耐刷性、機上現像性、視認性（ΔＬ）及び版飛び抑制性を評価した。
結果を表８に示す。
Figure 0007282885000102
表８における各成分欄の数値の単位は、質量部であり、固形分量を表す。表８中の「－」は、該当成分を含まないことを意味する。表８中の「ΔＨＯＭＯ」とは、にポリメチン色素のＨＯＭＯの値から電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値を引いた値を意味する。
表８に記載の結果から、実施例に示す本開示に係る平版印刷版原版は、ＵＶ耐刷性、機上現像性、視認性（ΔＬ）及び版飛び抑制性のいずれにおいても優れることが明らかである。
（符号の説明）
１８：アルミニウム板、１２ａ，１２ｂ：アルミニウム支持体、２０ａ，２０ｂ：陽極酸化皮膜、２２ａ，２２ｂ：マイクロポア、２４：大径孔部、２６：小径孔部、Ｄ：大径孔部の深さ、ｔａ：アノード反応時間、ｔｃ：カソード反応時間、ｔｐ：電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａ：アノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃ：カソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡ：アルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡ：アルミニウム板のカソード反応の電流、５０：主電解槽、５１：交流電源、５２：ラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂ：主極、５４：電解液供給口、５５：電解液、５６：スリット、５７：電解液通路、５８：補助陽極、６０：補助陽極槽、Ａ１：電解液の給液方向、Ａ２：電解液の排出方向、Ｗ：アルミニウム板、６１０：陽極酸化処理装置、６１６：アルミニウム板、６１８：電解液、６１２：給電槽、６１４：電解処理槽、６１６：アルミニウム板、６２０：給電電極、６２２：ローラ、６２４：ニップローラ、６２６：電解液、６２８：ローラ、６３０：電解電極、６３４：直流電源
２０１９年６月２８日に出願された日本国特許出願２０１９－１２２４９０、２０１９年８月３０日に出願された日本国特許出願２０１９－１５８８０６、及び、２０１９年９月１８日に出願された日本国特許出願２０１９－１６９７９８の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (22)

  1. アルミニウム支持体、画像記録層、及び、水溶性オーバーコート層をこの順で有し、
    前記画像記録層が、ＨＯＭＯが－５．２ｅＶ以下である赤外線吸収性ポリメチン色素、重合開始剤、重合性化合物、及び、ポリマー粒子を含み、
    前記ポリマー粒子に含まれるポリマーが、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位を有する付加重合型樹脂であり、
    前記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量が、前記画像記録層中の分子量３，０００以上の成分の全質量に対し、８０質量％～１００質量％である、
    平版印刷版原版。
  2. 前記ポリメチン色素が、両末端の芳香環の少なくとも一方に電子求引性基又は重原子含有基を持つシアニン色素を含む、請求項１に記載の平版印刷版原版。
  3. 前記ポリメチン色素のＨＯＭＯが、－５．３ｅＶ以下である、請求項１又は請求項２に記載の平版印刷版原版。
  4. 前記水溶性オーバーコート層の厚さが、前記画像記録層の厚さより大きい、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  5. 前記水溶性オーバーコート層の膜厚が、前記画像記録層の膜厚に対し、１．１倍～４倍である、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  6. 前記ポリマー粒子が、親水性基を有するポリマー粒子を含む、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  7. 前記ポリマー粒子が、前記親水性基として、下記式Ｚで表される基を有する請求項６に記載の平版印刷版原版。
    ＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
    式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
  8. 前記ポリマー粒子が、前記親水性基として、ポリアルキレンオキシド構造を有する請求項６又は請求項７に記載の平版印刷版原版。
  9. 前記ポリアルキレンオキシド構造が、ポリプロピレンオキシド構造を含む、請求項８に記載の平版印刷版原版。
  10. 前記ポリアルキレンオキシド構造が、ポリエチレンオキシド構造とポリプロピレンオキシド構造とを含む、請求項８又は請求項９に記載の平版印刷版原版。
  11. 前記画像記録層が、前記重合開始剤として、電子供与型重合開始剤を含む、請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  12. 前記ポリメチン色素のＨＯＭＯ－前記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、請求項１１に記載の平版印刷版原版。
  13. 前記画像記録層が、発色剤を更に含み、
    前記発色剤が、酸発色剤である、請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  14. 前記ポリメチン色素が、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδｄが１６以上であり、δｐが１６以上３２以下であり、かつδｈがδｐの６０％以下である有機アニオンを有する請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  15. 前記重合開始剤が電子受容型重合開始剤を含み、
    前記電子受容型重合開始剤が、下記式（I）で表される化合物を含む請求項１～請求項１４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
    Figure 0007282885000103
    式（I）中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ３はアリール基を表す。
  16. 前記重合性化合物が、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物を含む請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  17. 前記水溶性オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  18. 前記水溶性オーバーコート層が、変色性化合物を含む請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  19. 前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
    前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板よりも前記画像記録層側に位置し、
    前記陽極酸化皮膜が、前記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
    前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、
    前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が、７０～１００であり、
    前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
    前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１５ｎｍ～１００ｎｍであり、
    前記小径孔部の前記連通位置における平均径が、１３ｎｍ以下である、請求項１～請求項１８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  20. 機上現像用平版印刷版原版である、請求項１～請求項１９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  21. 請求項１～請求項２０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
    平版印刷版の作製方法。
  22. 請求項１～請求項２０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
    平版印刷方法。
JP2021528292A 2019-06-28 2020-06-26 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Active JP7282885B2 (ja)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019122490 2019-06-28
JP2019122490 2019-06-28
JP2019158806 2019-08-30
JP2019158806 2019-08-30
JP2019169798 2019-09-18
JP2019169798 2019-09-18
PCT/JP2020/025407 WO2020262685A1 (ja) 2019-06-28 2020-06-26 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2020262685A1 JPWO2020262685A1 (ja) 2020-12-30
JPWO2020262685A5 JPWO2020262685A5 (ja) 2022-04-07
JP7282885B2 true JP7282885B2 (ja) 2023-05-29

Family

ID=74061284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021528292A Active JP7282885B2 (ja) 2019-06-28 2020-06-26 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20220111630A1 (ja)
EP (1) EP3991985A4 (ja)
JP (1) JP7282885B2 (ja)
CN (1) CN114126889B (ja)
WO (1) WO2020262685A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114096914A (zh) * 2019-06-28 2022-02-25 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN114051454B (zh) 2019-06-28 2023-12-15 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN118046659B (zh) * 2019-09-30 2026-04-17 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
EP4039476B1 (en) * 2019-09-30 2024-10-09 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7430788B2 (ja) * 2020-05-29 2024-02-13 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN119968276A (zh) * 2022-09-30 2025-05-09 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
JP2025132837A (ja) 2024-02-29 2025-09-10 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び化合物

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171974A (ja) 1998-12-09 2000-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた感光感熱記録材料
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2013504084A (ja) 2009-09-04 2013-02-04 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版の単一工程処理後の乾燥方法及び装置
WO2016027886A1 (ja) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤
US20180207925A1 (en) 2015-07-23 2018-07-26 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor comprising graphite oxide
WO2018159640A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
WO2018221133A1 (ja) 2017-05-31 2018-12-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、ポリマー粒子、及び、組成物
WO2019013268A1 (ja) 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP2019064269A (ja) 2017-03-31 2019-04-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版原版積層体、並びに、平版印刷方法

Family Cites Families (99)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5040047B2 (ja) 1971-09-06 1975-12-22
JPS5549729B2 (ja) 1973-02-07 1980-12-13
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5311314B2 (ja) 1974-09-25 1978-04-20
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JPH0714670B2 (ja) * 1987-02-18 1995-02-22 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版用支持体の製造方法
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2988756B2 (ja) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JPH08505958A (ja) 1993-01-20 1996-06-25 アグファ−ゲヴェルト ナームロゼ ベンノートチャップ 高感度の光重合性組成物及びそれで像を得るための方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08286362A (ja) * 1995-04-13 1996-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷材料
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
DE69620336T2 (de) 1995-10-24 2002-10-24 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
EP0931647B1 (en) 1998-01-23 2003-04-02 Agfa-Gevaert A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4092055B2 (ja) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4073345B2 (ja) * 2003-03-24 2008-04-09 富士フイルム株式会社 平版印刷方法および印刷装置
JP2005103968A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
EP1500498B1 (en) 2003-07-22 2010-12-15 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursour and lithographic printing method
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005119129A (ja) * 2003-10-16 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷原版、平版印刷版の製版方法および平版印刷方法
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP2006015740A (ja) * 2004-05-31 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成方法
JP2006001144A (ja) 2004-06-17 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷方法及びそれに用いる平版印刷版原版
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4448781B2 (ja) * 2005-01-25 2010-04-14 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP2006256132A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc ネガ型感光性平版印刷版材料及び平版印刷版の製版方法
ATE391014T1 (de) 2005-06-21 2008-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindliches bildaufzeichnungselement
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
EP2006738B1 (en) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US20090263746A1 (en) * 2008-04-17 2009-10-22 Ray Kevin B Method of making lithographic printing plates with simple processing
JP5588887B2 (ja) * 2010-01-29 2014-09-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5645743B2 (ja) 2010-04-30 2014-12-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、その製版方法、及び、多価イソシアネート化合物
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5205480B2 (ja) 2011-01-31 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版
BR112015006578A2 (ja) * 2012-09-26 2019-12-17 Fujifilm Corp A planographic printing original plate and a platemaking method
JP2014079960A (ja) * 2012-10-17 2014-05-08 Eastman Kodak Co 平版印刷版用組成物及び平版印刷版原版
JP6785295B2 (ja) 2016-02-19 2020-11-18 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び発色性化合物
EP3409499B1 (en) * 2016-02-29 2022-12-07 FUJIFILM Corporation Lithographic printing original plate and plate making method for lithographic printing plates
JP6408191B2 (ja) * 2016-03-30 2018-10-17 富士フイルム株式会社 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3508553B1 (en) 2016-08-31 2022-01-12 FUJIFILM Corporation Color-assuming composition, lithographic printing plate precursor, method for forming lithographic printing plate, and compound
CN110998439B (zh) * 2017-07-25 2023-09-19 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及显色组合物
JP6461447B1 (ja) * 2017-09-29 2019-01-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
JP2019122490A (ja) 2018-01-12 2019-07-25 株式会社サンヤマト 調理用成形型およびそれを用いた加熱用調理器具
JP2019158806A (ja) 2018-03-16 2019-09-19 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 受光装置及び測距装置
JP7049876B2 (ja) 2018-03-22 2022-04-07 アイホン株式会社 インターホン機器
WO2019219574A1 (en) 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
CN112638657A (zh) * 2018-08-31 2021-04-09 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及固化性组合物
EP3858629B1 (en) * 2018-09-28 2024-10-30 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and method for making a printing plate
EP3904100B1 (en) * 2019-01-31 2025-09-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2020158288A1 (ja) * 2019-01-31 2020-08-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000171974A (ja) 1998-12-09 2000-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及びそれを用いた感光感熱記録材料
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2013504084A (ja) 2009-09-04 2013-02-04 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版の単一工程処理後の乾燥方法及び装置
WO2016027886A1 (ja) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤
US20180207925A1 (en) 2015-07-23 2018-07-26 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor comprising graphite oxide
WO2018159640A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
JP2019064269A (ja) 2017-03-31 2019-04-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版原版積層体、並びに、平版印刷方法
WO2018221133A1 (ja) 2017-05-31 2018-12-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、ポリマー粒子、及び、組成物
WO2019013268A1 (ja) 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2020262685A1 (ja) 2020-12-30
CN114126889A (zh) 2022-03-01
EP3991985A1 (en) 2022-05-04
EP3991985A4 (en) 2022-09-07
WO2020262685A1 (ja) 2020-12-30
CN114126889B (zh) 2024-01-26
US20220111630A1 (en) 2022-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6621570B2 (ja) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP7282885B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP6832431B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、発色組成物
JP7372324B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7293356B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7640639B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7464691B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262686A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2023171431A (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2023016860A (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7084503B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7669148B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7293377B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7321261B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7321115B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7184931B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7062064B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP7064595B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262688A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262695A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020262690A1 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2019187728A1 (ja) 感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
WO2018159626A1 (ja) 硬化性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
WO2018199316A1 (ja) 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、塩化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211006

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220330

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230425

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230517

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7282885

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250