JPH08505958A - 高感度の光重合性組成物及びそれで像を得るための方法 - Google Patents
高感度の光重合性組成物及びそれで像を得るための方法Info
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
本発明は請求の範囲及び詳細な記述において規定した式(I)によるウレタン型モノマー混合物を含有する光重合性組成物を含む感光性層を支持体上に含む像形成材料を提供する。さらにそれで平版印刷版及び/又は像を得るための方法を提供する。
Description
【発明の詳細な説明】
高感度の光重合性組成物及び
それで像を得るための方法
1.発明の分野
本発明は光重合による像の形成に関する。さらに詳しくは本発明は像の多数の
コピーを製造するための方法に関する。
2.発明の背景
化学線に情報に従って露光することにより像を製造するために光重合性組成物
を使用することは良く知られている。光重合性組成物を用いて像を形成するため
の幾つかの方法が知られている。これらの方法の全てが、光重合性組成物の露光
部分と非露光部分の間の性質における差異、例えば混入された物質例えば染料等
の拡散性、透過性、粘着性、屈折率、導電性、接着性、溶解度における差異を混
入する原理に基づいている。このようにして作られた差異は続いて現像工程で使
用されて、可視像及び/又は印刷用マスター例えば平版印刷又は静電印刷マスタ
ーを作ることができる。
光重合性組成物の露光部分及び非露光部分の間の溶解度における差異はしばし
ば平版印刷版の製造のために使用される。この場合、親水性基体が光重合性組成
物で被覆され、続いて露光され、溶媒を用いて現像されて、非露光部分又は不充
分露光部分を除去する。かかる方法は例えばロンドン及びニューヨークのFocal
Press1978年発行、E.Brinckman、G.Delzenne、A.Poot及びJ.Willems著、Un
co
nventional imaging Processes第1版、33〜39頁に記載されている。
像を得るため粘着度の差異の使用は例えばUS−P3060024、US−P
3085488及びUS−P3649268に記載されている。これらの米国特
許に記載された方法によれば、像に従って露光された光重合性組成物は露光され
た部分でその粘着性を失い、一方非露光部分はそれらの粘着性を維持する。従っ
て非露光部分は乾燥染料顔料で着色され、像を可視化することができる。
例えばUS−P3245796及びEP−A362827に記載の方法によれ
ば、染料の拡散性は光重合性組成物の露光部分で妨げられ、かくして露光に続い
て行う全面加熱中に非露光部分の染料物質を受容材料に拡散できるようにする。
US−P4587198に記載の同じ方法によれば光重合性組成物は光重合性組
成物を含む層に隣接する層に存在する昇華性染料又は染料顔料のために露光部分
では不透過性にされている。
US−P3060023に記載された方法によれば、光重合性組成物の接着性
は像に従って露光されたときに変性される。像に従って露光した後、非露光部分
は全面的な加熱工程中に、受容シートへ粘着又は接着し、かくして非露光部分の
受容シートへの転写を可能にする。
EP−A−502562では像形成材料に使用するためのウレタン型多官能モ
ノマーが開示されている。開示された像形成材料は高スピードであり、得られた
像は高品質である。しかしながら、特に像形成材料が熱転写法に使用さ
れる場合には、これらの像形成材料のスピードをさらに改良することが望まれて
いる。
3.発明の概要
本発明の目的は高感度の光重合性組成物を使用して便利なかつ生態学的な方法
で像を再現するための方法を提供する。
さらに本発明の目的は高感度の光重合性組成物を使用して便利なかつ生態学的
な方法で平版印刷版を製造するための方法を提供する。
さらに本発明の目的は以下の記述から明らかになるだろう。
本発明によれば、下記式(I)によるモノマー混合物を含有する光重合性組成
物を含む感光性層を支持体上に含む像形成材料が提供される:
式中、Aは2〜6価である下記性質の有機基を表す:
a)1以上のエーテル、エステル又はアミド官能によって中断されてもよい5〜
25の炭素原子を含有する炭化水素残基;
b)2又は3価の縮合したウレア残基;
X,X1,X2はそれぞれ独立して−O−又は−NR−を表し、Rは1〜12の
炭素原子のアルキル基を表し、それを置換することができ、
R1,R4,R5はそれぞれ独立して1〜25の炭素原子を有する2価の炭化水
素残基を表し、
R2は2〜18の炭素原子を含有する2〜6価の線状又は枝分れした炭化水素
残基を表し、
R3は水素又はメチルを表し、
nは1〜5の整数を表し、
Z1は少なくとも一つの下記官能基を含有する非イオン又はイオン性親水性基
を表す:
−ポリアルキレンオキシ基、
−酸基又はその塩、
−アンモニウム基
Z2は下記意味の一つを有する疎水性基を表す:
−アルキル、シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール又はアリ
ール基(それぞれ置換されてもされなくてもよく、少なくとも四つの炭素原子を
有する)、
−アルコキシ基(置換されてもされなくてもよく、少なくとも四つの炭素原子
を有する)、
−フルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基(少なくとも四つの炭素原
子を有する)、
−シリコーン基、
m,a及びbは式(I)の前記指数m,a及びbによって示された基の前記モ
ノマー混合物中の相対量をそれぞれ表す小部分の指数であり、それによって前記
モノマー混合物100g中のメタ(アクリレート)基の量は0.1〜0.8mol
であり、さらに好ましくは0.15〜0.6molであり、a又はbの少なくとも
一つは0ではなく、mも0
ではない。
本発明によれば上記像形成材料を使用して像及び/又は平版印刷版を作るため
の方法も提供される。
4.発明の詳細な記述
本発明による像形成材料は高スピードを示し、高品質の像を生成する。最も高
いスピードは高いポリアルキレンオキサイド含有量を有するモノマー混合物で得
られる。好ましくは一般式(I)によるモノマー混合物中のアルキレンオキシ含
有量がモノマー混合物100gあたり0.04〜2.5molであり、さらに好ま
しくはモノマー混合物100gあたり0.1〜1.5molである。本発明に従っ
た像形成材料は像受容材料への本発明に従った光重合性組成物の非露光又は不充
分露光部分の熱転写を使用して像を現像する方法に使用する場合に特に好適であ
る。
さらに本発明による光重合性組成物の利点は親水性基Z1の存在のために水溶
液で被覆できる光重合性組成物を製造できることである。
式(I)によるモノマー混合物の規定はその混合物が各基の全含有量がその規
定に従っているようなm,a,及び/又はbによって示された基を有するモノマ
ーからなり、それによってm,a及びbはそれぞれの異なる基の相対的な含有量
を表すことを意味する。従って一般式(I)による混合物は例えば基bとともに
基mを有するモノマー、aによって示される基とともにmによって示される基を
有するモノマー、bによって示される基とともにaによって示される基を有する
モノマー、bによって示されmによって
示される基とともにaによって示される基を有するモノマーなどから構成するこ
とができる。
式(I)による炭化水素残基Aは好ましくは脂肪族であり又はそれらは芳香族
炭化水素残基又は芳香族及び脂肪族炭化水素残基の組合せであってもよい。本発
明に関連する炭化水素残基という言葉は炭素及び水素原子だけからなる基を意味
する。例えば、アルキル基、アルキルアリール基、二重又は三重結合を含有する
アルキル基又は以下のR2のために例示されるような6〜24C原子を有する単
又は多環式飽和又は芳香族炭化水素残基が挙げられる。好適な炭化水素基Aは下
記のものが挙げられる:
式中、R6及びR7はそれぞれ独立して1〜6の炭素原子を有する低級アルキル
の水素を表し、S及びtは独立して1〜6の整数を表し、脂肪族炭化水素残基(
Ib)〜(Id)は2〜6の自由原子を含む。
式(I)による縮合ウレア基Aの例は下記のとおりである:
式(I)においてX,X1又はX2は好ましくは酸素架橋(−O−)を表す。X
,X1又はX2が−NR−を表す場合には、Rは線状又は枝分れしたアルキレン例
えばメチレン、エチレン、プロピレン及びt−ブチレンであることが好ましい。
R1,R4及びR5によって表される炭化水素残基は(シクロ)脂肪族又は芳香
族炭化水素残基又はその組合せであることが好ましい。それらは1以上の酸素架
橋によって中断されてもよい。
炭化水素残基R1,R4及びR5の例は1〜12の炭素原子を含有する(シクロ
)脂肪族炭化水素残基である。特別な例はエチレン、プロピレン、1,4−テト
ラメチレン、1,6−ヘキサメチレン、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキ
サメチレン、式(Ia)〜(Id)の一つによる炭化水素基又は例えば下記のような
6〜24C原子、好ましくは6〜14C原子を有する単又は多環式飽和又は芳香
族炭化水素残基である:
式中(I)によるR2は好ましくは2〜18の炭素原子を有する2〜4価の炭
化水素残基であり、好ましくは線状又は枝分れしたアルキレンである。例として
は、上記のR1のために与えたような単又は多環式飽和又は芳香族炭化水素残基
、エチレン、プロピレン、1,2−ブチレン又は下記残基の一つがある:
本発明と関連して使用するための好ましい親水性基Z1は少なくとも5のアル
キレンオキシ単位、より好ましくは少なくとも8のアルキレンオキシ単位、さら
に好ましくは少なくとも10のアルキレンオキシ単位を含有するポリアルキレン
オキシ基である。本発明に従って使用するための親水性基Z1の例はポリエチレ
ンオキシ、ポリプロピレンオキシ及びそのコポリマー、例えば下記のようなもの
がある:
式中、x及びyはそれらの合計が4以上であるような整数を表し、好ましくは
Xは5〜70の整数であり、yは1〜20の整数であり、zは0〜3の整数であ
り、Yは水素、アルキル基、アルコキシ基、アミン、アミド、カルボキシレート
、エステル、ヒドロキシル、スルホネート、スルフェート、ホスフェート、ホス
ホネート、又はメタ(アクリレート)基を表す。さらに親水性基Z1の例はカル
ボキシレート、スルホネート、スルフェート、ホスホネート、ホスフェート、カ
ルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基などである。アンモニウム基は親水性
基Z1として使用してもよい。好ましいアンモニウム基は下記のものである:
式中、R8,R9及びR10はそれぞれ独立して水素又はアルキル基を表し、W-
はアニオン例えばC1-、Br-、I-、スルホネート、スルファイド、ホスフェート
、カーボネート、ニトレート、OH-を表す。
本発明に関連して使用するために好適な疎水性基Z2は例えばヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、ミリス
チル、ペンタデシル、セチル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシ
ル、エイコシル、セリル、セロチル、2−ヘキシルデシル、2−ヘプチルデシル
、2−デシルテトラデシル、2−ヘキサデシルエイコシル、ウンデセニル、9−
オクタデセニル、9,12−オクタデカジエニル、9−エイコセニル、シクロヘ
キシルなどのような長鎖アルキル、例えばベンジル、ナプチル、4−ブチル−フ
ェニルのようなアリール基、イソシアネートとの縮合物から誘導された基、次の
アルコールの一つ:グリシリン−ジオレエート、グリセリン−モノヒドロキシ−
ステアレート、メチル−12−ヒドロキシステアレート、3,n.ペンタデシル
フェノール、エイスコソフルオロ−1−ウンデカノール、ヘプタデカフルオロ−
デカノール、ヘキサデカフルオロ−1−ノナノール、トリデカフルオローオクタ
ノール、ドデカフルオロ−1−ヘプタノール、ヒドロキシ基を末端基とするポリ
ジメチルシロキサンなどがある。
本発明に従って使用するために好適なモノマー混合物の特別な例は表1,2及
び3に記載されている。
上記表においてu,v,w,p及びqは単量体混合物で示された基の相対量(mo
l%)を表す。Fはモノマー混合物の100gあたりの(メタ)アクリレート基
の量(mol)を表し、PAOはモノマー混合物の100gあたりのアルキレンオキシ
単位の量(mol)を表す。表1ではW1及びW2が異なる場合のみにv及びwの記
号が与えられる。異なる混合物において与えた略字の意味は下記のとおりである
:
上記モノマー混合物は下記のようにして製造することができる:
製造において次のポリイソシアネートを使用した(全ての百分率は重量によっ
て与えられ、VALはグラム当量を表す):
A1:21.5%のイソシアネート含有量及び3.8の平均イソシアネート官能
度を有する1,6−ジイソシアネートヘキサンに基づいたポリイソシアネートを
含有するイソシアネート。その粘度は23℃で3000mPasであった。
A2:17.3%のイソシアネート含有量及び11.3%のエチレンオキサイド
含有量を有する1,6−ジイソシアネートヘキサンに基づいたポリイソシアネー
トを含有するポリエーテル。その粘度は23℃で3050mPasであった。この無
色の生成物は上記基S1に相当する350の平均分子量を有するモノヒドロキシ
官能ポリエチレ
ンオキサイドポリエーテルの0.08VAL及びA1の1VALの混合物を100℃で
攪拌することによって得られた。
A3:15.9%のイソシアネート含有量及び15.3%のエチレンオキサイド
含有量を有する1,6−ジイソシアネートヘキサンに基づいたポリイソシアネー
トを含有するポリエーテル。その粘度は23℃で4900mPasであった。この無
色の生成物は上記基S1に相当する350の平均分子量を有するモノヒドロキシ
官能ポリエチレンオキサイドポリエーテルの0.11VAL及びA1の1VALの混合
物を100℃で攪拌することによって得られた。
A4:20.0%のイソシアネート含有量及び4.8%のエチレンオキサイド含
有量を有する1,6−ジイソシアネートヘキサンに基づいたポリイソシアネート
を含有するポリエーテル。その粘度は23℃で4750mPasであった。この無色
の生成物は上記基S4に相当する750の平均分子量を有するモノヒドロキシ官
能ポリエチレンオキサイドポリエーテルの0.013VAL及びA1の1VALの混合
物を100℃で攪拌することによって得られた。
A5:21.9%のイソシアネート含有量及び2.4の平均イソシアネート官能
を有する1,6−ジイソシアネートヘキサンに基づいたポリイソシアネートを含
有するウレトジオン−及びイソシアヌレート。その粘度は23℃で150mPasで
あった。
下記アルコールを製造に使用した。
B1:グリセリン−ジメタクリレート(Nippon Oil and Fatsから商業的に入手
可能なBlemmer GMR)
B2:5.75%のOH−含有量を有するエトキシル化メタクリル酸
B3:2−ヒドロキシ−3−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメチルアン
モニウムクロライド
B4:2−ヒドロキシ−スルホン酸のナトリウム塩
B5:80のOH数を有するエトキシル化3−ヒドロキシプロピル−スルホン酸ナ
トリウム塩
B6:28のOH数を有する、最初にプロポキシル化され、次いでエトキシル化さ
れた(EO: PO=7:1)3−ヒドロキシプロピル−スルホン酸ナトリウム塩
B7:2−[(2′−ジメチルアミノ)エトキシ]エタノール
B8:セチルアルコール
B9:ドデカノール
B10:アクリル及びメタクリル酸の混合グリセリンエステル(Nippon Oil and
Fatsから商業的に入手可能なBlemmer GAM)
表1に記載のモノマー混合物は次の一般的手順に従って製造された:
ポリイソシアネートA、アルコール及びポリイソシアネートの量に基づいた60
0ppm Sn(II)−イソオクタノエート、及びアルコール及びポリイソシアネート
の量に基づいた1000ppm2,6−ジ−ターシャリ−ブチルクレゾー
ルを室温でブタノンにもたらす。次いでこの混合物に液滴状に20分間アルコー
ルBを加え、続いてその混合物を60℃に加熱した。ヒドロキシル及びイソシア
ネート基の当量を反応混合物に使用するときに(ポリイソシアネートのIR−スペ
クトル中のイソシアネート帯によって測定すると)全てのイソシアネート基が反
応するまでこの加熱を続けた。アルコールの量がOH基が少なくなるにつれてイソ
シアネート基が存在するようなものである場合は、イソシアネート含有量が一定
になるまで反応を続けた。次いで2番目のアルコールを液滴状に30分間加え、
次に全てのイソシアネート基が反応するまでその混合物を攪拌した。
表1に記載の混合物を得るための詳細な反応条件は以下の通りである:
表2に記載の生成物は以下の通りである。2.5VALのポリイソシアネートA
5をヒドロキシ及びメトキシ末端基を有するポリエチレンオキサイドポリエーテ
ルC(次表参照)と混合し、次いで100℃で2.5時間攪拌した。ポ
リイソシアネートDはかくして得られた(次表参照)。次いでこのポリイソシア
ネートDを、ポリイソシアネート及びアルコールの量に基づいた600ppmのSn
(II)−イソオクタノエート及びポリイソシアネート及びアルコールの量に基づ
いた1000ppmの2,6−ジ−ターシャリ−ブチル−クレゾールとともに25
0mlのブタノンにもたらした。次に20分間液滴状にアルコールB(次表参照)
を加え、その混合物を全てのイソシアネート基が反応するまで60℃で加熱した
。
上記表ではC(EO)はポリイソシアネートDにおけるエチレンオキサイド単位の
量(重量%)を表す。MはポリエーテルCの分子量である。アルコールBとポリ
イソシアネートDの反応のため、それぞれのために与えた量はNCO及びOHの量が
0.24molであるようなものである。
本発明に関連する光重合性組成物は一般式(I)の混合
物によるもの以外の付加的なモノマーを含むことができる。本発明によるモノマ
ー混合物と混合されるべき好適なモノマーは例えばEP−A502562に開示
されるようなウレタン型モノマー、ポリオールの不飽和エステル、特にアルファ
−メチレンカルボン酸のかかるエステル、例えばエチレンジアクリレート、グリ
セロールトリ(メタ)アクリレート、エチレンジメタクリレート、1,3−プロ
パンジオールジ(メタ)アクリレート1,2,4−ブタントリオールトリ(メタ
)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1
,4−ベンゼンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、分
子量200−500のポリエチレングリコールのビスアクリレート及びメタアク
リレートなど:不飽和アミド、特にアルファメチレンカルボン酸のもの、及びと
りわけアルファ−オメガ−ジアミン及び酸素中断されたオメガジアミンのもの、
例えばメチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタアクリルアミド、1
,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス−メ
タアクリルアミド、ビス(ガンマ−メタアクリルアミドプロポキシ)エタン、ベ
ーターメタアクリルアミドエチルメタアクリレート、N−(ベータ−ヒドロキシ
エチル)−ベータ−(メタアクリルアミド)エチルアクリレート及びN,N−ビ
ス(ベータ−メタアクリロイルオキシエチル)アクリルアミド;ビニルエスエル
例えばジビニルスクシネート、ジビニルアジペート、ジビニル
フタレート、ジビニルブタン−1,4−ジスルホネート;及び不飽和アルデヒド
、例えばソルブアルデヒド(ヘキサジエナール)である。また2以上の重合性官
能例えばアクリレートエポキシ、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレ
ートなどを含むポリマー及び/又はオリゴマーを加えることができる。
一般式(I)のモノマー混合物に相当するモノマー及び上記の任意のコモノマ
ーの量は用途の種類に従って変化することができる。
本発明に従って使用される光重合性組成物は少なくとも1種の光開始剤を含む
ことが好ましい。好ましく使用される光開始剤は化学線によって活性化され、1
85℃以下で熱的に不活性である重合開始剤である。かかる開始剤の例としては
共役6員炭素環式環内で環内炭素原子に結合した二つの環内カルボニル基を有す
る化合物である置換又は置換されていない多核キノンが挙げられ、それはカルボ
ニル基を含有する環に融合した少なくとも一つの芳香族炭素環式環が存在する。
かかる開始剤としては9−10−アントラキノン、1−クロロアントラキノン、
2−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチ
ルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,
10−フェナントレンキノン、1−2ベンザアントラキノン、2,3−ジクロロ
ナフトキノン、アントラキノンアルファースルホン酸のナトリウム塩、3−クロ
ロ−2−メチルアントラキノン、及び1,2,3,4−テトラヒドロベンゼンア
ントラセン−7,12
−ジオンが含まれる。有用な光開始剤はPlambeck U.S.特許2760863に記
載され、ビシナルケタールドニル化合物、例えばベンゾイン、ピバロンなど、ア
シロインエーテル例えばベンゾインメチル及びエチルエーテルなど;メチルベン
ゾイン、アルファ−アリルベンゾイン、及びアルファ−フェニルベンゾインを含
むアルファ−炭化水素置換芳香族アシロインが含まれる。さらに本発明に従って
有用な光開始剤は“Photoreactive Polymers”Arnost Reiser著、“Organic pho
tochemical imaging systems”G.A.Delzenne著、“UV-Curing Chemistry:Past
, Present,and Future”Christian Decker著、J.of Coatings Technology出
版、Vo1.59,No751,1987年8月,97−106頁,EP−A3628
27、及びUS−A3558309に開示されたものがある。好適な水溶性又は
水分散性開始剤は例えばWard & Blenkinsop(英国)からのQuantacure QTX及びQ
uantacure BTC又はMerckからDarocure2959である。
本発明によれば熱重合開始剤は光重合性組成物に添加することもできる。本発
明に従って使用するための開始剤はp−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ア
ルキル及びアシル置換ヒドロキノン及びキノン、ターシャリ−ブチルカテコール
、ピロガロール、銅レジネート、ナフチルアミン、ベータ−ナフトール、塩化銅
、2,6−ジ−ターシャリ−ブチルp−クレゾール、フォトチアジン、ピリジン
、トロベンゼン及びジニトロベンゼン、p−トルキノン及びクロラニルがある。
様々な染料、顔料、サーモグラフ化合物、UV−吸収剤、酸化防止剤及び色形成
成分を光重合性組成物又は像形成材料の別の層に添加して様々な効果を与えるこ
とができる。しかしながら、これらの添加材料は露光波長において過度の量の光
を吸収すべきでなく又は重合反応を阻止すべきでない。
本発明の有用な染料としてはFuchsine(C.I.42510),Auramine Base
(C.I.410003),Calcocid Green S(C.I.44000),Para Magen
ta(C.I.42500),Tryparosan(C.I.42505),New Magenta(C.
I.42520),Acid Violet RRL(C.I.42425),Red Violet 5RS(
C.I.42960),C.I.Solvent Blue36(C.I.61551),Nile Blu
e 2B(C.I.51185),New Methylene BLue GG(C.I.51195),C
.I.Basic Blue 20(C.I.42585,Iodine Green(C.I.42556
),Night Green B(C.I.42415),C.I.Direct Yellow 9(C.I.1
9540),C.I.Acid Yellow17(C.I.18965),C.I.Acid Yellow
29(C.I.18900),Tartrazine(C.I.19140),Supramine Yell
ow G(C.I.19300),Buffalo Black 10B(C.I.27790),Napht
alene Black 12R(C.I.20350),Fast Black L(C.I.51215)
,及びEthyl Violet(C.I.42600)がある。
好適な顔料は例えばTiO2、コロイドカーボン、グラファイト、燐光物質粒子、
セラミックス、クレー、金属粉末例えばアルミニウム、銅、磁性鉄及び青銅など
を含む。顔料
は感光性層又は隣接非感光性層例えばハレーション防止層又は支持体と感光性層
の間の接着性を改良する層に設けられる場合に有用である。
有用なサーモグラフ添加剤、例えば3シアノ−4,5−ジメチル−5−ヒドロ
キシ−3−ピロリン−2−オン、及び活性剤、例えば酢酸銅はHolland and Wayr
ynenの出願、Ser.No.807761(1959年4月21日出願)及び次のUS
特許:2825494,2637657,2665654,2663655,2
663656,及び2663657に開示されている。
また本発明と関連する像形成材料の感光性層は熱可塑性になることができ又は
用途のタイプによらない重合体結合剤を含むことが好ましいだろう。本発明に従
って使用するための好適な熱可塑性重合体は以下のものを含む:
(A)コポリエステル、例えばアルキレングリコールの反応生成物から製造さ
れたもの例えば式HO(CH2)vOHのポリメチレングリコール(式中vは2〜10の
整数である)、及び(1)ヘキサヒドロテレフタル、セバシン及びテレフタル酸
、(2)テレフタル、イソフタル及びセバシン酸、(3)テレフタル及びセバシ
ン酸、(4)テレフタル及びイソフタル酸、及び(5)前記グリコールから製造
されたコポリエステル及び(i)テレフタル、イソフタル及びセバシン酸及び(
ii)テレフタル、イソフタル、セバシン及びアジピン酸の混合物。
(B)ナイロン又はポリアミド、例えばN−メトキシメチルポリヘキサメチレ
ンアジパミド;
(C)塩化ビニリデンコポリマー、例えば塩化ビニリデン/アクリロニトリル
;塩化ビニリデン/メチルアクリレート及び塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリ
マー;
(D)エチレン/酢酸ビニルコポリマー;
(E)セルロースエーテル、例えばメチルセルロース、エチルセルロース及び
ベンジルセルロース;
(F)ポリエチレン;
(G)合成ゴム、例えばブタジエン/アクリロニトリルコポリマー、及びクロ
ロ−2−ブタジエン−1,3ポリマー;
(H)セルロースエステル、例えば酢酸セルロース、セルロースアセテートス
クシネート及びセルロースアセテートブチレート、硝酸セルロース;
(I)ポリビニルエステル、例えばポリ酢酸ビニル/アクリレート、ポリ酢酸
ビニル/メタクリレート及びポリ酢酸ビニル;
(J)ポリアクリレート及びアルファ−アルキルポリアクリレートエステル、
例えばポリメチルメタクリレート及びポリ酢酸ビニル;
(K)約4000〜1000000の平均分子量を有するポリグリコールの高
分子量ポリエチレンオキサイド;
(L)ポリ塩化ビニル及びコポリマー例えばポリ塩化ビニル/アセテート、ポ
リ塩化ビニル/アセテート/アルコール;
(M)ポリビニルアセタール、例えばポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マン;
(N)ポリホルムアルデヒド;
(O)ポリウレタン及びコポリマー;
(P)ポリカーボネート及びコポリマー;
(Q)ポリスチレン及びコポリマー例えばポリスチレン/アクリロニトリル、
ポリスチレン/アクリロニトリル/ブタジエン。
好ましい非熱可塑性重合体化合物はポリビニルアルコール、セルロース、無水
ゼラチン、フェノール樹脂及びメラミン−ホルムアルデヒド樹脂などがある。
もし望むなら、感光性層は所望の特性の感光性層で変化する量の様々なタイプ
の染料及び顔料と同様に光重合性材料の露光のために使用される波長で本質的に
透明である不混和性重合性又は非重合性有機又は無機充填剤又は補強材、例えば
親有機性シリカ、ベントナイト、シリカ、粉末ガラス、コロイドカーボンを含む
こともできる。充填剤は組成物の強さを改良し、粘着性を減じ、さらに着色剤と
して有用である。
湿潤性を改良しかつ/又は感光性層の接着性を調整するための薬剤を加えても
よい。好適な薬剤は例えばシリコン、シリコン含有重合体例えばポリ(ジメチル
シロキサン)−ポリエーテルコポリマー、ポリ(ジメチルシロキサン)−ポリエ
ステル、シリコン含有界面活性剤、フッ素含有コポリマー及びフッ素含有界面活
性剤などである。
本発明と関連する像形成材料はさらに例えば支持体又は下塗り層、保護層など
に対する感光性層の接着性を改良する追加の層を含んでもよい。感光性層に隣接
する、重合性
基を含むポリマーを含有する、ベース層を含むことが特に有利である。重合性基
を含むポリマーの例はビニル基、アリル基、(メタ)アクリレート基、ブタジエ
ン基、イソプレン基などを含むポリマー、例えばアクリルエポキシ、ポリエステ
ルアクリレート、ウレタンアクリレートなどである。
前記重合性基を含むポリマーはポリマーの変性によって例えばヒドロキシル基
を含むポリマー例えばヒドロキシル官能を有するポリエステル、ポリビニルアル
コール、スチレン及びアリルアルコールのコポリマー、フェノキシ樹脂、セルロ
ース、デキストランなどのカルボン酸又は酸ハロゲン化物での変性、エポキシ基
を含むポリマーのジアリルアミンでの変性、アミノ基、イソシアネート基、無水
物基、アルキルクロライド基、シラノール基などを含むポリマーの変性によって
製造することができる。本発明に従って使用するための像形成材料の好適な支持
体は例えばポリエステルフィルム支持体例えばポリエチレンテレフタレート、ガ
ラス、木、紙、ポリエチレン被覆紙、セルロースエステル例えば酢酸セルロース
、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、ポリカーボネート、ポリ
塩化ビニル、ポリイミド、ポリプロピレンなどである。
像を得るための本発明の方法によれば像形成材料は像に従って露光され次いで
現像される。本発明と関連する像形成材料は化学線の像に従った分布に露光され
、前記化学線の像に従った分布に一致するパターンに従って前記重合性組成物を
硬化することが好ましい。露光は例えば紫外線、
カメラ露光、走査露光又はレーザー露光を使用する密着露光であることができる
。露光工程を実施するのに使用される放射線源は例えば日光、白熱灯、水銀灯、
ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光ランプ、光放出ダイオード、レーザー、
電子線及びX線を含む。
別の方法として像に従った露光は例えば感熱ヘッドによって加熱する露光であ
ることができる。
像形成材料の現像は感光性層の不充分又は非硬化部分を溶解できる現像液を使
用することによって実施してもよい。生態学的理由及び/又は便宜上のため乾式
現像工程が好ましい。
かかる乾式現像工程は像に従った露光が化学線で行われた場合には像形成材料
の全面加熱であることができ又はそれは像に従った露光が加熱で行われた場合に
は全面露光であることができる。乾式現像は剥離層(露光及び非露光部分は剥離
層又は像形成材料のベースのいずれかに選択的に接着する)を使用して感光性層
の露光及び非露光部分を離層することによっても実施することができる。かかる
離層は加熱現像と組合せることもできる。
従って像を得るための好ましい方法によれば本発明に従った感光性層を含有す
る像形成材料は像に従って化学線に露光することができ、続いて又は同時に像受
容材料と密着している間に加熱することができる。感光性層の不充分又は非露光
部分はそれによって像受容材料に転写され、かくして両材料を剥離した後像形成
材料上と同様に受容材料上に像が得られる。
この方法で使用するための好ましい像形成材料は、全体露光のために使用され
る温度で安定な支持体上に、40℃未満の温度で好ましくは固体であり、40℃
〜250℃の温度で非露光又は不充分露光部分で転写可能である熱可塑性感光性
層を含有する像形成材料である。
像が転写される受容材料は処理温度においても安定でなければならない。特に
使用される材料は像形成材料の支持体に対する像の接着性に左右される。好適な
受容材料は紙、厚紙、金属シートホイル及びメッシュ例えばアルミニウム、銅、
青銅など、ポリエチレン、ポリエステルフィルム支持体例えばポリエチレンテレ
フタレート、不透明発泡又は着色ポリエステル、セルロースエステル、絹、綿、
ビスコースレーヨン繊維又はスクリーン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、
ポリプロピレン、ポリエチレン被覆紙を含む。
受容材料の表面は親水性表面、即ち光重合性組成物を含有する層の非露光部分
に対して好ましい接着性を示す層であっても良く又は露光及び非露光部分に相当
する受容材料の表面において色、親水性、導電性などの違いを生みだすように転
写される化合物と反応する化合物をその表面に含有してもよい。
像形成材料及び受容材料は露光前に接触するようにもたらすこともでき又は一
つの材料に存在させることもできる。かかる材料はモノシート材料と称せられ、
その後面又はその前面が光重合性組成物の露光のために使用される放射線に対し
て透明であることを要求する。
特に好ましい変形例では受容材料は親水性表面を含む。光重合性組成物の非露
光又は不充分露光部分を親水性表面を有する受容材料に転写することにより、オ
イル状又はグリス状インクで印刷するために使用できる親水性と疎水性部分の間
に像に従った違いを生じるだろう。疎水性部分は平版インクを受容し、一方親水
性領域は水で湿潤させるとインクを受容しなくなるだろう。インクを受容する領
域は印刷像領域を形成し、インク拒絶領域は背景領域を形成する。
光重合性組成物の非露光又は不充分露光部分を受容材料に転写した後、転写像
の安定性を増大するために転写像を光及び/又は熱に対して全体露光することが
有利である。かかる手順は転写像が上記印刷マスターとして使用される場合に特
に好ましい。
親水性表面を有する受容材料は例えばAl又はZnのような金属支持体、ポリエス
テルフィルム支持体及び紙ベースである。これらの支持体はもし単独で親水性が
不充分であるなら、まず親水性層で被覆される。特に好適な親水性層はテトラア
ルキルオルトシリケート例えばUS−P3971660に記載されるようなTiO2
を含有するテトラメチルオルトシリケート又はテトラエチルオルトシリケートで
硬化したポリビニルアルコールの層である。
好ましく使用される金属支持体はアルミニウムである。本発明に従って使用す
るための好適なアルミニウム支持体は純粋なアルミニウム又はアルミニウム含有
量が少なくとも95%であるアルミニウム合金から作られたアルミ箔である。有
用な合金は例えばAl99.55%,Fe0.29%,Si0.10%,Cu0.004
%,Mn0.002%,Ti0.02%及びZn0.03%からなるものである。その
箔の厚さは通常約0.13〜約0.50mmの範囲である。
平版オフセット印刷のためのアルミニウム又はアルミニウム箔の製造は下記工
程を含む:しぼ付、陽極酸化、及び所望により箔の封止。
箔のしぼ付及び陽極酸化は本発明に従って高品質印刷を生成できる平版印刷版
を得るために必要である。封止は必須ではないが、印刷結果をさらに改良するこ
とができる。
アルミニウム表面のしぼ付は公知の方法で機械的に又は電気的に実施すること
ができる。しぼ付によって生みだされた粗さは中央線平均値(μm)で測定され
、好ましくは約0.2〜約1.5μmである。
アルミニウム箔の陽極酸化は電解液、例えばクロム酸、シュウ酸、炭酸ナトリ
ウム、水酸化ナトリウム及びそれらの混合物で行うことができる。好ましくは、
アルミニウムの陽極酸化は陽極酸化層の望ましい厚さに達するまで希硫酸溶液で
行われる。アルミニウム箔は両面に陽極酸化してもよい。陽極酸化層の厚さは顕
微鏡写真を作ることによって最も正確に測定されるが、陽極酸化された層を溶解
し、
溶解処理前及び処理後の版を秤量することによって同様に測定することができる
。約0.4〜約2.0μmの陽極酸化層で良好な結果が得られる。像シャープネ
スを促進し、その結果として最後に印刷されたコピーのシャープネスを促進する
ために、陽極酸化層は例えば特願昭58−14797に記載のようにハレーショ
ン防止染料又は顔料を含む材料で着色することができる。かかる材料で着色する
ために使用される染料又は顔料又は染料又は顔料の組合せはそれらがアリールジ
アゾスルホネートを含有するポリマーを含む層のハレーションを防止又は減ずる
ように選択される。
陽極酸化工程後陽極面を封止してもよい。陽極酸化によって形成された酸化ア
ルミニウム層の細孔の封止はアルミニウム陽極酸化の分野で当業者に公知の技術
である。この技術は例えば“Belgisch-Nederlands tijdschrift voor Oppervlak
tetechnieken van materialen”,24ste jaargang/januari1980,表題“
Sealing-Kwaliteit en sealing-controle van geanodiseerd Aluminium”に記載
されている。様々なタイプの多孔質陽極酸化表面の封止が存在する。有利な封止
方法は水和−封止法であり、その方法によれば細孔は水受容を通して閉じられ又
は部分的に閉じられ、かくして水和された針状の酸化アルミニウム結晶
−100℃の水で又は蒸気でリンスすることができる。熱い封止水は封止効果を
改良するために添加剤、例えばニッケル塩を含むことができる。封止は燐酸イオ
ン又はシリケ
ートを含む水溶液で陽極面を処理することによっても実施できる。封止処理のお
かげで陽極層は実質的に非孔質にされ、かくして得られた印刷版でより長い圧力
試験を行うことができる。封止の結果として印刷版の非印刷領域にかぶりが生じ
ることを実質的に避けることができる。
アルミニウム箔のしぼ付、陽極酸化及び封止は例えばUS−A3861917
、及びその中で関連する文献に記載しているように実施することができる。
上記の熱転写法は静電印刷マスターを製造するために使用することもできる。
この方式によれば本発明に従って使用される像に従って露光された光重合性組成
物は像に従った導電性の違いを生みだすように導電性表面又は転写される化合物
と反応する化合物を含有する表面を有する受容材料に転写される。好ましくは導
電性表面を担持する受容材料、例えばアルミニウムの金属層を設けたポリエチレ
ンテレフタレート支持体が使用される。かかる材料に像に従って露光された光重
合性組成物を転写した後、像形成材料に含有される光重合性組成物の露光部分に
相当する、転写が全く起こらない部分は導電性のままであり、一方他の部分は非
導電性になる。かくして静電印刷マスターが得られる。
受容材料は金属層例えば銅を設けた支持体であってもよい。印刷回路は像に従
って転写される光重合性組成物がレジストとして作用する連続腐蝕処理で製造す
ることができる。
上記のように熱転写法のさらなる具体例によればカラー
像を製造することができる。この方式によれば本発明に従って使用される光重合
性組成物に黄色、マゼンタ、及びシアン染料又は染料顔料をそれぞれ含む少なく
とも三つの像形成材料は像の青、緑及び赤色のそれぞれの選択で像に従って露光
される。所望により黒色染料又は染料顔料を含む四つの像形成材料を使用できる
。これらの像形成材料のそれぞれは同じ受容材料例えば紙材料に接触して連続的
に加熱され、それぞれの像の異なる色選択の転写を可能にする。像に異なる色部
分の転写はオリジナル像の忠実な再現を得るためレジスターで実施されなければ
ならないことは明らかである。
別の変形例によれば像形成材料の多孔質層は感光性層の上部に設けられ、かく
して像形成材料の非露光又は不充分露光領域で多孔質層は感光性層とともに像受
容材料に転写される。本発明に関連する多孔質層という言葉は主に像形成材料の
粒子からなる層を意味し、それは多孔質層中で全固形分の30重量%まで結合剤
を含有してもよい。好適な像形成顔料の例は上述の顔料であり、特にカーボンブ
ラックである。さらに多孔質層が充分に透明でないためにそれに対して化学線に
よって像に従った露光ができない場合には前記像に従った露光は透明支持体の後
側を通して実施すべきであることは理解されるだろう。
本発明と関連する光重合性組成物は染料プリカーサーとの会合反応をもたらさ
れたときに色を発現する現像液及び染料プリカーサー(例えばロイコ染料)を互
いに分離して有する像形成材料において使用することもできる。染料プ
リカーサー及び現像液はそれらを互いに異なる層に設けることによって互いに分
離することができる。像形成材料に熱を適用することによって染料プリカーサー
及び現像液を互いに会合反応にもたらし、色を形成することができる。本発明に
従った光重合性組成物はこれらの層の一つに又は両方に添加することができ又は
両層の間に設けることもできる。
かかる像形成材料の化学線に対する像に従った露光は露光部分で光重合性組成
物を硬化し、結果として染料プリカーサー及び/又は現像液を動けなくするだろ
う。像形成材料が続いて全面加熱される場合には色は非露光部分において発現す
るだけだろう。
他の方法として像に従った露光は露光部分において色が発現するように加熱露
光であってもよい。化学線への全面露光は染料プリカーサーの現像液へ又は逆に
熱によって露光されていない領域への拡散を阻止するので像を安定化するだろう
。
好適な染料プリカーサーとしては例えばトリアリールメタンラクトン化合物、
例えば3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタ
ライド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)フタライド、3−(p−
ジメチルアミノフェニル)−3−(1,2−ジメチルインドール−3−イル)フ
タライド、3−(p−ジメチルアミノフェニル)−3−(2−メチルインドール
−3−イル)フタライド、3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イ
ル)−5−ジメチルアミノフタライド、
3,3−ビス(1,2−ジメチルインドール−3−イル)−6−ジメチルアミノ
フタライド、3,3−ビス(9−エチルカルバゾール−3−イル)−6−ジメチ
ルアミノフタライド、3,3−ビス(2−フェニルインドール−3−イル)−6
−ジメチルアミノフタライド、3−p−ジメチルアミノフェニル−3−(1−メ
チルアミノフタライド)など;ジフェニルメタン化合物、例えば4,4−ビス−
ジメチルアミノベンズヒドリルベンジルエーテル、N−ハロフェニル−ロイコオ
ーラミン、N−2,4,5−トリクロロフェニル−ロイコオーラミンなど;チア
ジン化合物、例えばベンゾイル−ロイコメチレンブルー、p−ニトロベンゾイル
−ロイコメチレンブルーなど;スピロ化合物、例えば3−メチル−スピロ−ジナ
フトピラン、3−エチル−スピロ−ジナフトピラン、3−ベンジル−スピロ−ジ
ナフトピラン、3−メチル−ナフト−(6−メトキシベンゾ)スピロピラン、3
−プロピル−スピロ−ジベンゾピランなど;ラクタム化合物、例えばローダミン
−B−アニリンラクタム、ローダミン(p−ニトロアニリノ)ラクタム、ローダ
ミン(o−クロロアニリノ)ラクタムなど;及びフルオラン化合物、例えば3−
ジメチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メトキシ
フルオラン、3−ジエチルアミノ−7−メトキシフルオラン、3−ジエチルアミ
ノ−6−メチル−7−クロロフラン、3−ジエチルアミノ−6,7−ジメチルフ
ルオラン、3−(N−エチル−p−トルイジノ)−7−メチルフルオラン、3−
ジエチルアミノ−7−N−アセチル−N−メチルアミノフルオ
ラン、3−ジエチルアミノ−7−N−メチルアミノフルオラン、3−ジエチルア
ミノ−7−ジベンジルアミノ−7−N−メチル−N−ベンジルアミノフルオラン
、3−ジエチルアミノ−7−N−クロロエチル−N−メチルアミノフルオラン、
3−ジエチルアミノ−7−N−ジエチルアミノフルオラン、3−(N−エチル−
p−トルイジノ)−6−メチル−7−フェニルーアミノフルオラン、3−(N−
エチル−p−トルイジノ)−6−メチル−7−(p−トルイジノ)−フルオラン
、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−ジ−
n−ブチルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(2−カルボメトキシ
−フェニルアミノ)フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ
)−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−(N−シクロペンチル−
N−メチルアミノ)−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−(N−
シクロペンチル−N−エチルアミノ)−6−メチル−7−フェニルアミノフルオ
ラン、3−(N−シクロヘキシル−N−エチルアミノ)−6−メチル−7−フェ
ニルアミノフルオラン、3−(N−3′,3′,5′−トリメチルシクロヘキシ
ル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−ピ
ロリジノ−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−ピペリジノ−6−
メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7
−キシリジノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−クロロフェニルアミ
ノ)−フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−クロロフ
ェニルアミノ)フルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−p−ブチルフェ
ニルアミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−フルオロフェニルアミ
ノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−フルオロフェニルアミノ)フ
ルオラン、3−(N−メチル−N−n−アミル)アミノ−6−メチル−7−フェ
ニルアミノフルオラン、3−(N−エチル−N−n−アミル)アミノ−6−メチ
ル−7−フェニルアミノフルオラン、3−(N−メチル−N−n−ヘキシル)ア
ミノ−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−(N−エチル−N−n
−ヘキシル)アミノ−6−メチル−7−フェニルアミノフルオラン、3−(N−
エチル−N−6−エチルヘキシル)アミノ−6−メチル−7−フェニルアミノフ
ルオラン、3−(N−エチル−N−テトラヒドロフルフリルアミノ)−6−メチ
ル−7−フェニルフルオランなどがある。さらに染料プリカーサーは例えばUS
−P4803148、EP−A−302529、DE−A−3807744、D
E−A−3942227、DE−A−3810207、US−P4753759
及びそれらに引用された文献に記載されている。染料プリカーサーは単独又は組
合せて使用することができる。
カラー現像液の中には、上記染料プリカーサーと接触することによって色を発
現する多くの酸性化合物が存在する。例示すると、フェノール化合物、例えば4
−ターシャリ−ブチルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール、4−アセ
チルフェノール、4−フェニルフェノール、ヒドロキノン、4,4′−イソプロ
ピリデンジフェノール(ビ
スフェノールA)、2, 2′−メチレンビス(4−クロロフェノール)、4,
4′−シクロヘキシリデンジフェノール、4,4′−ジヒドロキシジフェニルー
スルファイド、ヒドロキノンモノベンジルエーテル、4−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジメチ
ル4−ヒドロキシフタレート、メチル−4−ヒドロキシベンゾエート、エチル4
−ヒドロキシベンゾエート、プロピル4−ヒドロキシベンゾエート、セク−ブチ
ル4−ヒドロキシベンゾエート、ペンチル4−ヒドロキシベンゾエート、フェニ
ル4−ヒドロキシベンゾエート、ベンジル4−ヒドロキシベンゾエート、トリイ
ル4−ヒドロキシベンゾエート、クロロフェニル4−ヒドロキシベンゾエート、
フェニルプロピル4−ヒドロキシベンゾエート、フェネチル4−ヒドロキシベン
ゾエート、p−クロロベンジル4−ヒドロキシベンゾエート、p−メトキシベン
ジル4−ヒドロキシベンゾエート、ノボラックフェノール樹脂、フェノールポリ
マーなど;芳香族カルボン酸、例えば安息香酸、p−ターシャリ−ブチル安息香
酸、トリクロロ安息香酸、テレフタル酸、3−セク−ブチル−4−ヒドロキシ安
息香酸、3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、3−イソプロピルサリチル酸、3−ベンジ
ルサリチル酸、3−(α−メチルベンジル)サリチル酸、3−クロロ−5−(α
−メチルベンジル)サリチル酸、3,5−ジ−ターシャリ−ブチ
ルサリチル酸、3−フェニル−5−(α,α−ジメチルベンジル)サリチル酸、
3,5−ジ(α−ジメチルベンジル)サリチル酸など;及び上記フェノール化合
物又は芳香族カルボン酸の亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、チ
タニウム、マンガン、錫及びニッケルのような多価金属との塩がある。
さらに4−ヒドロキシジフェニルスルホン誘導体、例えば4,4′−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン、3,3′−ジプロフェニル−4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−クロロジフェニルスルホン、4−
ヒドロキシ−4′−メチルジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−3′,4′−
ジメチルジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−エチルジフェニルスルホ
ン、4−ヒドロキシ−4′−ターシャリ−ブチルジフェニルスルホン、4−ヒド
ロキシ−4′−n−オクチルジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−メト
キシジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−エトキシジフェニルスルホン
、4−ヒドロキシ−4′−イソプロピルオキシジフェニルスルホン、4−ヒドロ
キシ−4′−n−ブトキシ−ジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−ター
シャリ−ブトキシジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−イソアミルオキ
シジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−n−オクチルオキシジフェニル
スルホン、4−ヒドロキシ−4′−ベンジルオキシジフェニルスルホン、4−ヒ
ドロキシ−4′−フェノキシジフェニルスルホン、3′,4′−トリメチレン−
4−ヒドロキシジフェニルスルホン
、3′,4′−トリメチレン−2,6−ジメチル−4−ヒドロキシジフェニルス
ルホン、3′,4′−テトラメチレン−4−ヒドロキシジフェニルスルホン、3
′,4′−テトラメチレン−2−メチル−4−ヒドロキシジフェニルスルホンな
どが使用できる。
4−ヒドロキシベンゼンスルホニルナフタレンをカラー現像液として使用する
ことができる。それは1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)ナフタレン、
1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−4−メチルナフタレン、1−(4
−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−4−メトキシナフタレン、1−(4−ヒド
ロキシベンゼンスルホニル)−4−クロロナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−
2−メチルベンゼンスルホニル)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−クロ
ロベンゼンスルホニル)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル
)−2−ジメチルナフタレン、1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−4
−ヒドロキシナフタレン、1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−2−ヒ
ドロキシナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−イソプロピルベンゼンスルホ
ニル)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−イソアミルベンゼンスルホニル
)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−イソプロピルオキシベンゼンスルホ
ニル)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)−4−ターシャ
リ−ブトキシナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−ベンジルオキシベンゼン
スルホニル)ナフタレン、1−(4−ヒドロキシ−2−フェノキシベンゼンスル
ホニル)ナフ
タレン、2−(4−ヒドロキシベンゼンスルホニル)ナフタレンなどが含まれる
。
ハロフタル酸モノエステルも使用することができる。例示すると、モノメチル
エステル、モノエチルエステル、モノシクロペンチルエステル、モノアリルエス
テル、モノベンジルエステル、モノ−p−メチルベンジルエステル、モノ−p−
クロロベンジルエステル、モノフェネチルエステル、モノフェニルエステル、モ
ノ−p−メチルフェニルエステル、モノ−2,4−ジメチルフェニルエステル、
モノ−p−クロロフェニルエステル、モノ−p−エトキシフェニルエステル、モ
ノ−1−ナフチルエステル、モノ−2−ナフチルエステル、モノ−2−ヒドロキ
シエチルエステル、モノ−2−ヒドロキシブチルエステル、モノ−3−ヒドロキ
シブチル−2−エステル、モノ−2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステ
ル、モノ−2−ヒドロキシプロピルエステル、モノ−4−ヒドロキシブテニルエ
ステル、モノ−4−ヒドロキシブチルエステル、モノ−2−ヒドロキシシクロヘ
キシルエステル、モノ−4−ヒドロキシシクロヘキシルエステル及びハロフタル
酸のモノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエステル、例えば4(又は5)−フル
オロフタル酸、4(又は5)−クロロフタル酸、4(又は5)−ブロモフタル酸
、3,6(又は4,5)−ジクロロフタル酸、3,6(又は4,5)−ジブロモ
フタル酸、3,4,5,6−テトラフルオロフタル酸、3,4,5,6−テトラ
クロロフタル酸、3,4,5,6−テトラブロモフタル酸などがある。上記エス
テルと多価金属塩を形成す
る多価金属化合物のうちには、マグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、ア
ルミニウム、錫、鉄、コバルト、ニッケルなどが含まれる。
さらに好適なカラー現像液は例えばUS−P4803148、EP−A−30
2529、DE−A−3807744、DE−A−3942227、DE−A−
3810207、US−P4753759及びそれらに引用される文献に開示さ
れている。
本発明を以下の実施例によって説明するが、これらに限定されるものではない
。全ての部は特記しない限り重量による。
実施例1
像形成法において剥離層として作用し5μmの厚さを有するポリエステルフィ
ルムにグラビア印刷を使用して下記3層をこの順序で適用した:
1)イソフタル酸(酸の全量の40mol%)、テレフタル酸(酸の全量の53mo
l%)、スルホイソフタル酸ナトリウム塩(酸の全量の7mol%)及びエチレング
リコールのコポリマーを含有する下塗り層、乾燥厚さ0.13g/m2
2)ヒドロキシル基の25mol%がメタクリロイルクロライドで変性したポリビ
ニルアルコールを含有するベース層、乾燥厚さ1g/m2
3)上記モノマー混合物1を2.38g/m2、ビス−イミタゾールを1.64
g/m2、メルカプトベンズオキサゾールを0.096g/m2、ミヒラーケトン
を0.048g
/m2及び青色染料(C.I.61551)を0.14g/m2含有し、全層厚さで
4.3g/m2を有する感光性層。
100μmの厚さを有するポリエステルフィルムからなる支持体に、4%のカ
ーボンブラック、0.8%のポリビニルピロリドン及び0.6%の湿潤剤を含有
する水性分散液を1g/m2の乾燥層厚さで、かつ1.5%のゼラチンを含有す
る水溶液を0.2g/m2の乾燥層厚さで、この順序でスライドホッパー被覆を
使用して同時に被覆した。
両材料を60℃の温度、0.6m/minの速度でLPP650ラミネーター(Dorn
edから商業的に入手可能)で互いに同時に積層した。
かくして得られた像形成材料を、200照度の出力でDupliphot装置(Agfa-Ge
vaert N.V.から商業的に入手可能)で5μmのポリエステルフィルム剥離層を
通して情報に従って露光した。情報に従って露光された像形成材料を次いで70
℃、0.6m/minの速度で上記LPP650ラミネーターに案内した。ポリエステ
ルフィルム剥離層を次いで剥離し、高品質の像が支持体上に得られた。
実施例2〜10
モノマー混合物2,4,7,9,10,11,13,14及び17それぞれを
モノマー混合物1の代わりに使用した以外は像形成材料2〜10を実施例1に記
載のように製造した。各像形成材料で良好な品質の像を得ることができた。
実施例11
受容材料の製造:
21.5%のTiO2(平均粒径0.3〜0.5μm)及び2.5%のポリビニル
アルコールを脱イオン水に含有する分散液418gに、撹拌しながら、220g
の5%ポリビニルアルコール水溶液、95gの加水分解された22%テトラメチ
ルオルトシリケート乳剤を含む水及び22gの10%湿潤剤の溶液を連続的に加
えた。次いでこの混合物に245mlの脱イオン水を加え、pHをpH=4に調整した
。
生じた分散液を(親水性接着層で被覆した)ポリエステル支持体上に55g/
m2の未乾燥被覆厚さで被覆し、30℃で乾燥した。
像形成材料の製造:
像形成法において剥離層として作用し5μmの厚さを有するポリエステルフィ
ルムに、グラビア印刷を使用して下記3層をこの順序で適用した:
1)イソフタル酸(酸の全量の40mol%)、テレフタル酸(酸の全量の53mo
l%)、スルホイソフタル酸ナトリウム塩(酸の全量の7mol%)及びエチレング
リコールのコポリマーを含有する下塗り層、乾燥厚さ0.13g/m2
2)ヒドロキシル基の25mol%がメタクリロイルクロライドで変性したポリビ
ニルアルコールを含有するベース層、乾燥厚さ1g/m2
3)上記モノマー混合物1を2.38g/m2、ビス−イミダゾールを1.64
g/m2、メルカプトベンズオキサゾールを0.096g/m2、ミヒラ−ケトン
を0.048g/m2及び青色染料(C.I.61551)を0.14g/m2含
有し、全層厚さで4.3g/m2を有する感光性層。
平版印刷版の製造
上記の像形成材料をテストターゲットに密着して置き、それを通して紫外線に
露光した。露光された像形成材料を次いで上記のように製造した親水性受容材料
と向かい合うように密着して置いた。密着している材料を、約80℃で0.6m
/minのスピードでロールラミネーター装置に通した。次にその材料を剥離した
。
かくして得られた印刷版を紫外線に全面露光し、感光性層の転写部分を硬化さ
せた。続いてその印刷版を、通常使用するインク及び湿し液を用いて一般的なオ
フセト印刷に使用することができた。良好なコピーが得られた。
実施例12〜15
モノマー混合物1をモノマー混合物2,11,14及び17にそれぞれ置き換
えた以外は実施例11に記載のように印刷版を製造した。それぞれの場合におい
て良好な品質の印刷版が得られた。
実施例16
像受容材料を次の像受容材料によって置き換えた以外は実施例1に記載のよう
に平版印刷版を製造した。使用した転写温度は80℃の代わりに90℃であった
。
0.15mmの厚さを有するアルミ箔をUS−A3861917の実施例1に記
載の方法に従ってしぼ付し、陽極酸化し、そして封止した。しぼ付によって得ら
れた中央線平均値は0.5μmであった。かくしてm2あたり2.7gの重量の
陽極酸化層を有するアルミニウム支持体が得られ
た。
良好なコピーを生みだす平版印刷版を得ることができた。
実施例17
100μmの厚さを有するポリエステルフィルムに、2.38g/m2の量の
上記モノマー混合物4、1.64g/m2の量のビス−イミダゾール、0.09
6g/m2の量のメルカプトベンズオキサゾール及び0.048g/m2の量のミ
ヒラ−ケトンを含有し、4.3g/m2の全層厚さを有する感光性層を適用した
。
かくして得られた像形成材料を、200照度の出力でDupliphot装置(Agfa-Ge
vaert N.V.から商業的に入手可能)で像に従って露光した。像に従って露光さ
れた像形成材料を次いでメチルエチルケトンで15秒間現像し、続いて乾燥した
。得られた像は良好な品質を有し、像を得るために要求されるエネルギーは10
J/m2であった。
実施例18及び19
モノマー混合物4の代わりにモノマー混合物9及び10をそれぞれ使用した以
外は実施例17のように像形成材料を製造した。像形成材料を実施例17のよう
に処理し、良好な品質の像を得た。これらの像を得るために要求されるエネルギ
ーはそれぞれ0.7J/m2及び0.9J/m2であった。
実施例20及び21
モノマー混合物4の代わりにモノマー混合物23及び24をそれそれ使用した
以外は実施例17のように像形成材
料を製造した。像形成材料を実施例17のように処理し、良好な品質の像を得た
。これらの像を得るために要求されるエネルギーはそれぞれ24J/m2及び4
8J/m2であった。
モノマー混合物23は表1の式においてW1及びW2がG2に等しい以外はモノ
マー混合物4と同じである。100gあたりの(メタ)アクリレート基の量は0
.48molであった。
モノマー混合物24は表2の式においてW3及びW4がG2に等しい以外はモノ
マー混合物15と同じである。100gあたりの(メタ)アクリレート基の量は
0.48molであった。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ミュラー, ミヒャエル
ベルギー, ベ―2640 モートゼール,
セプテストラート 27, ディエ 3800
アグファ―ゲヴェルト ナームロゼ ベン
ノートチャップ内
(72)発明者 ポッツン, ヴォルフガンク
ベルギー, ベ―2640 モートゼール,
セプテストラート 27, ディエ 3800
アグファ―ゲヴェルト ナームロゼ ベン
ノートチャップ内
(72)発明者 ヴァン ダム, マルク イレン
ベルギー, ベ―2640 モートゼール,
セプテストラート 27, ディエ 3800
アグファ―ゲヴェルト ナームロゼ ベン
ノートチャップ内
(72)発明者 ラース, ハンス−ヨゼフ
ベルギー, ベ―2640 モートゼール,
セプテストラート 27, ディエ 3800
アグファ―ゲヴェルト ナームロゼ ベン
ノートチャップ内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.下記式(I)によるモノマー混合物を含有する光重合性組成物を含む感光 性層を支持体上に含む像形成材料が提供される: 式中、Aは2〜6価である下記性質の有機基を表す: a)1以上のエーテル、エステル又はアミド官能によって中断されてもよい5〜 25の炭素原子を含有する炭化水素残基; b)2又は3価の縮合したウレア残基; X,X1,X2はそれぞれ独立して−O−又は−NR−を表し、Rは1〜12の 炭素原子のアルキル基を表し、それを置換することができ、 R1,R4,R5はそれぞれ独立して1〜25の炭素原子を有する2価の炭化水 素残基を表し、 R2は2〜18の炭素原子を含有する2〜6価の線状又は枝分れした炭化水素 残基を表し、 R3は水素又はメチルを表し、 nは1〜5の整数を表し、 Z1は少なくとも一つの下記官能基を含有する非イオン又はイオン性親水性基 を表す: −ポリアルキレンオキシ基、 −酸基又はその塩、 −アンモニウム基 Z2は下記意味の一つを有する疎水性基を表す: −アルキル、シクロアルキル、アリールアルキル、アルキルアリール又はアリ ール基(それぞれ置換されてもされなくてもよく、少なくとも四つの炭素原子を 有する)、 −アルコキシ基(置換されてもされなくてもよく、少なくとも四つの炭素原子 を有する)、 −フルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基(少なくとも四つの炭素原 子を有する)、 −シリコーン基、 m,a及びbは式(I)の前記指数m,a及びbによって示された基の前記モ ノマー混合物中の相対量をそれぞれ表す小部分の指数であり、それによって前記 モノマー混合物100g中のメタ(アクリレート)基の量は0.1〜0.8mol であり、a又はbの少なくとも一つは0ではなく、mも0ではない。 2.前記モノマー混合物が前記モノマー混合物100gあたり0.04〜2. 5molのアルキレンオキサイド含有量を有する請求の範囲第1項記載の像形成材 料。 3.前記感光性層がさらに熱可塑性ポリマーを含む請求の範囲第1項又は第2 項記載の像形成材料。 4.前記像形成材料が前記感光性層に隣接するベース層を含み、前記ベース層 が重合可能な基を含有するポリマーを含有する請求の範囲第1項、第2項又は第 3項記載の像形成材料。 5.前記感光性層の上部に顔料を含有する多孔質層を設 けている請求の範囲第1項〜第4項のいずれか記載の像形成材料。 6.請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに規定の像形成材料を像に従って化 学線に露光し、かくして得られた像に従って露光された像形成材料を現像液を使 用して現像し、前記感光性層の非露光又は不充分露光部分を除去する工程を含む 像を得るための方法。 7.請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに規定の像形成材料を像に従って化 学線に露光し、かくして得られた像に従って露光された像形成材料を熱によって 現像する工程を含む像を得るための方法。 8.熱による前記現像中に前記感光性層の非露光又は不充分露光部分を前記像 形成材料と向かいあって接触している像受容材料に転写する請求の範囲第7項記 載の像を得るための方法。 9.平版印刷版が得られるように前記像受容材料が親水性表面を有する請求の 範囲第8項記載の像を得るための方法。
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|---|---|---|---|
| EP93200140.7 | 1993-01-20 | ||
| EP93200140 | 1993-01-20 | ||
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|---|---|
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