JP7295373B2 - プリント回路板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
プリント回路板の構成について、図1、図2A,2B、及び図3A,3Bを参照して説明する。図1は、実施形態に係るプリント回路板の構成を拡大して模式的に示す斜視図である。図2Aは、実施形態に係るプリント回路板の構成を拡大して模式的に示す底面図である。図2Bは、図2AのIIB-IIB線における断面図である。図3Aは、実施形態に係るプリント回路板のプリント配線板の構成を模式的に示す平面図である。図3Bは、図3AのIIIB-IIIB線における断面図である。
発光装置60は、半導体発光素子(以下、発光素子)6を内蔵して、リード7a(アノード電極)とリード7c(カソード電極)を下面に備える表面実装型発光装置である。発光装置60は、薄型の直方体形状に形成されている。発光装置60は、リード7a,7c及び凹部を有する樹脂成型体81からなるパッケージ部材に、発光素子6を搭載し、発光素子6を封止するように透光性部材82が樹脂成型体81の凹部に形成されている。
プリント配線板1は、可撓性及び伸縮性を有するフィルム状のプリント配線板であり、基板11と、その下面にパターン形成された導電膜からなる配線2と、上面の発光素子の実装領域に形成された金属膜からなるパッド4と、パッド4及び基板11を連通するビア11vに充填されて下端で配線2に接続する導電性部材3と、下側表面全体を被覆する保護膜12と、を備える。なお、保護膜12は、図2B及びその他後記の断面図に示し、それ以外では省略する。プリント配線板1は、プリント回路板10の用途に応じた伸び率を有し、例えばウェアラブルデバイスに適用される場合には、伸び率10%(初期長さの1.1倍)以上とし、20%以上であることが好ましく、50%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましい。
保護膜12は、配線2を保護するカバーレイであり、必要に応じて設けられる。保護膜12は、基板11と同様に伸縮性を有する構成であり、基板11と同じ絶縁材料を適用することができる。
接合部材5は、発光装置60をプリント配線板1に実装するための導電性接着剤であり、導電性部材3及び発光装置60のリード7a,7cのそれぞれとの密着性の高い、前記の導電性部材3と同様の導電性ペーストや低融点のクリームはんだが適用される。接合部材5は、発光装置60のリード7a,7cとプリント配線板1のパッド4との間で、より広い面積に設けられることが好ましい。
プリント回路板の製造方法について、図4、図5A~5G、及び図3A,3Bを参照して説明する。図4は、実施形態に係るプリント回路板の製造方法の流れを示すフローチャートである。図5Aは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における金属膜形成工程を説明する図であり、基板の一面上に金属膜を設けた状態を示す拡大断面図である。図5Bは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における金属膜形成工程を説明する図であり、基板上の金属膜を所定の形状に成形した状態を示す拡大断面図である。図5Cは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における穿孔工程を説明する図であり、基板及び金属膜を連通するビアを形成した状態を示す拡大断面図である。図5Dは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における導電性部材充填工程を説明する図であり、基板及び金属膜を連通するビアに導電性部材を充填した状態を示す拡大断面図である。図5Eは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における配線形成工程を説明する図であり、基板の他面上に配線を形成した状態を示す拡大断面図である。図5Fは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における実装工程を説明する図であり、プリント配線板に導電性接合部材を付着させた状態を示す拡大断面図である。図5Gは、実施形態に係るプリント回路板の製造方法における実装工程を説明する図であり、プリント配線板に発光装置を載置した状態を示す拡大断面図である。
金属膜積層基板準備工程S11及びパッド成形工程S12は、基板11の一面上にパッド4を形成する一連の工程である。金属膜積層基板準備工程S11は、片面に銅箔等の金属膜を積層された基板11を準備する工程である。銅箔は、接着剤や熱圧着等によって基板11に貼り合わされている。また、この基板11は、作業し易くするために、図5Aに示すように、銅箔(図中、符号「4」を付して表す)を積層した側(同図の上側)とは反対側の面に、ポリエチレンテレフタレート(PET)等からなる非伸縮性の(伸縮性の低い)支持フィルム14が、剥離可能な状態で貼り合わされている。パッド成形工程S12は、銅箔をパッド4の形状に成形する工程である(図5B参照)。パッド成形工程S12は、例えば、銅箔からなる配線を有するフレキシブルプリント配線板の製造における配線形成方法を適用することができる。具体的には、パッド4を形成する領域を覆うレジストマスク(図示せず)を銅箔上に形成し、エッチングでパッド4以外の銅箔を除去する。その後、レジストマスクを除去する。
穿孔工程S13は、図5Cに示すように、パッド4及び基板11に孔を開けて、これらを連通するビア11vを形成する工程である。穿孔工程S13は、例えば、フレキシブルプリント配線板の製造におけるビア形成と同様に、NC(Numerical Control)ドリルやレーザを使用して、パッド4及び基板11、又はさらに支持フィルム14を連通するように孔を開ける。
導電性部材充填工程S14は、図5Dに示すように、パッド4及び基板11を連通するビア11vに、導電性ペーストを充填して導電性部材3を形成する工程である。導電性ペーストを、スクリーン印刷やディスペンサ等の導電性ペーストに対応した方法によってパッド4上のビア11vを形成された領域に付着させて、一面側からビア11vに埋め込む。そして、炉等で導電性ペーストに応じた所定の温度及び時間で加熱して、ビア11v内の導電性ペーストを硬化させて導電性部材3とする。
支持フィルム剥離工程S15は、基板11の他面側に貼り合わされている支持フィルム14を剥がして、基板11の他面を露出させる工程である。配線形成工程S16は、図5Eに示すように、基板11の他面上に伸縮性の導電性ペーストで配線2を形成する工程である。配線2は、例えばスクリーン印刷等でパターン形成される。
保護膜形成工程S17は、配線2を被覆するように基板11の他面上に保護膜12を形成する工程である。保護膜形成工程S17は、予めフィルム状とした保護膜12に伸縮性を有する接着剤で基板11と貼り合わせてもよいし、保護膜12を構成する塗料を基板11に塗布して乾燥させてもよい。これらの工程によって、図3A,3Bに示すプリント配線板1が得られる。
実装工程S20は、まず、図5Fに示すように、プリント配線板1のパッド4の表面に、導電性部材充填工程S14と同様に、スクリーン印刷やディスペンサ等の導電性ペーストに対応した方法によって、接合部材5を構成する導電性ペーストを付着させる(S21)。次に、図5Gに示すように、発光装置60を、下面のリード7a,7cとパッド4との位置を合わせて載置し、導電性ペーストを硬化させる(S22)。
プリント回路板の変形時の状態について、図6A,6B、及び図2A,2Bを参照して説明する。図6Aは、伸長した実施形態に係るプリント回路板の状態を拡大して模式的に示す底面図である。図6Bは、図6AのVIB-VIB線における断面図である。
プリント回路板は、前記した構成に限らず、以下のような構成であってもよい。
パッド4は、導電性部材3や接合部材5と同様に、導電性ペーストで形成することもでき、この場合には、スクリーン印刷でパターン形成することが好ましい。あるいは、パッド4は、スクリーン印刷やインクジェット法によって導電性ペーストを付着させた後、銅めっきで厚膜化してもよい。
プリント回路板は、実装領域及びその近傍においてプリント配線板を相対的に変形し難い構造とすることによって、発光装置の接続がより保持され易くなり、信頼性がいっそう向上する。以下、プリント回路板の他の構成について、図7、図8、及び図9を参照して説明する。図7は、実施形態に係るプリント回路板において第1の変形例の構成を模式的に示す底面図である。図8は、実施形態に係るプリント回路板において第2の変形例の構成を模式的に示す底面図である。図9は、実施形態に係るプリント回路板において第3の変形例の構成を模式的に示す斜視図である。
プリント回路板10Aは、図7に示すように、プリント配線板1Aと、プリント配線板1Aに実装された発光装置60と、接合部材5と、を備える。プリント配線板1Aは、前記のプリント配線板1の配線2に代えて配線2Aを備える。配線2Aは、平面視(底面視)形状の導電性部材3に接合する部分が、発光装置60の外周の外側まで大きく形成されている。このような構成によれば、プリント回路板10Aは、プリント配線板1Aの実装領域とその近傍が配線2Aによって厚膜化、幅広化されて、配線2を備えるプリント配線板1に比べて変形、伸縮し難く、また、配線2Aが幅広化されて、さらに分断され難くなって、発光装置60の接続がいっそう保持される。配線2Aは、プリント配線板1AのY方向両端までの範囲で大きく形成されていてもよい。
次に、プリント回路板10Bは、図8に示すように、プリント配線板1Bと、プリント配線板1Bに実装された発光装置60と、接合部材5と、を備える。プリント配線板1Bは、前記のプリント配線板1に、さらに低伸縮性部材13を備える。低伸縮性部材13は、平面視で、発光装置60を挟んでY方向に対向する2箇所に、互いに平行に設けられている。そして、低伸縮性部材13は、X方向に発光装置60の両外側に突出するように細長い形状に形成されている。低伸縮性部材13は、基板11及び配線2よりも伸縮性の低い部材であればよい。また、低伸縮性部材13は、基板11や配線2と同じ材料で厚く形成されてもよい。このような構成によれば、プリント回路板10Bは、プリント配線板1Bの実装領域とその近傍においてX方向への伸張が抑制されるので、発光装置60の接続がいっそう保持される。なお、低伸縮性部材13は、プリント配線板1Bの一面側、他面側のいずれに設けられてもよい。したがって、低伸縮性部材13は、例えば、プリント配線板1Bの他面側に、配線2と同じ導電性ペーストで同時に形成することもできるし、一面側に、接合部材5と同時に形成することもできる。
プリント回路板10Cは、図9に示すように、プリント配線板1Cと、プリント配線板1Cに実装された発光装置60と、を備える。プリント配線板1Cは、平面視で、半導体発光素子6又は半導体素子である発光素子6を有する発光装置60を挟んで対向する2箇所以外に、互いに平行なスリット孔1sが形成されている。すなわち、プリント配線板1Cは、互いに平行なスリット孔1sが、発光装置60を間に挟まない領域に形成されている。プリント配線板1Cは、プリント配線板1にスリット孔1sが形成されたものである。なお、接合部材5、プリント配線板1Cの導電性部材3及びパッド4は省略する(図2A,2B参照)。スリット孔1sは、1つ又は2つ以上設けることもでき、互いに平行な1組又は2組以上であることが好ましい。プリント配線板1Cは、発光装置60を挟んで対向する2箇所以外が、発光装置60を挟んでY方向に対向する2箇所よりもX方向の伸縮性が高いものである。プリント配線板1Cにスリット孔を形成することで、スリット孔1sを形成していない部分よりも伸縮性を持たせることができる。スリット孔1sは、X方向に細長い形状に形成され、平面視で、発光装置60よりも外側、かつ、配線2を挟んでY方向に対向する計4箇所に、2箇所ずつ互いに平行に配置されている。プリント配線板1Cは、スリット孔1sが発光装置60のない領域に形成されていることが好ましく、したがって、スリット孔1sは基板11A及び保護膜12(図2B参照)を貫通して形成されている。また、スリット孔1sは、一方向に細長い形状に限られず、円形、矩形、楕円形等の孔を波線状に並べてもよい。このような構成によれば、プリント回路板10Cは、スリット孔1s,1sに挟まれた領域が相対的に変形、伸長し易く、これに対して発光装置60近傍での変形、伸長が抑制されて、発光装置60の接続がいっそう保持される。
前記した各プリント回路板は、発光装置の実装のために、プリント配線板上に金属膜でパッドを備えているが、パッドのない構造とすることもできる。以下、プリント回路板の他の構成について、図10A,10Bを参照して説明する。図10Aは、実施形態に係るプリント回路板において他の構成を拡大して模式的に示す底面図である。図10Bは、図10AのXB-XB線における断面図である。
プリント回路板10Dの製造方法は、プリント回路板10の製造方法において、金属膜積層基板準備工程S11及びパッド成形工程S12以外を行う(図4参照)。
また、プリント回路板10Dの製造方法は、プリント回路板10の金属膜積層基板準備工程S11で説明したように、片面に非伸縮性の支持フィルム14が剥離可能な状態で貼り合わされた基板11を用いることができる。ここでは、支持フィルム14が貼り合わされている側を発光装置60の実装面とする。したがって、穿孔工程S13においては、基板11と共に支持フィルム14に孔を開けて、これらを連通するビア11vを形成する。また、導電性部材充填工程S14においては、導電性ペーストをビア11vに埋め込んで導電性部材3を形成する。そして、実装工程S20の前に支持フィルム剥離工程S15を行って、支持フィルム14を剥がして基板11を露出させる。実装工程S20においては、導電性ペーストを、プリント配線板1Dの、配線2と反対側の表面の導電性部材3及びその周囲の基板11に、発光装置60のリード7a,7cの配置及び形状に合わせて付着させる(S21)。そして、発光装置60を、下面のリード7a,7cと導電性ペーストとの位置を合わせて載置し、導電性ペーストを硬化させる(S22)。
プリント回路板10Dは、実装領域の近傍で曲げられたとき、プリント回路板10と同様に、導電性部材3が、その周囲の基板11がクッションとなって、破損せず、また、配線2や接合部材5と剥離し難い。したがって、リード7a,7cと配線2との接続が保持される。また、プリント回路板10Dは、強く引っ張られて伸長したとき、図6A,6Bに示すプリント回路板10と同様に、基板11が、ビア11vの周面のX方向外側の半分で導電性部材3から剥離し、ビア11vが外側へ伸長するように変形し、配線2がビア11vの周のX方向外側の半分に沿って破断する。このとき、接合部材5と基板11が剥離するが、接合部材5と導電性部材3の接合が保持されているので、配線2とリード7a,7cとの接続は同様に保持される。
プリント回路板10Dは、前記の変形例に係るプリント回路板10A,10B,10Cと同様に、プリント配線板1Dについて、大きく形成した配線2Aを備え、低伸縮性部材13を設け、あるいはスリット孔1sが形成されていてもよい。また、配線2に伸縮性の低い材料を適用して、ミアンダ配線パターンに形成することもでき、さらに、伸縮性を要しないフレキシブル回路板とすることもできる。
1,1A,1B,1C,1D プリント配線板
11,11A 基板
11v ビア(貫通孔)
12 保護膜
13 低伸縮性部材
1s スリット孔
2,2A 配線
3 導電性部材
4 パッド(金属膜)
5 接合部材(導電性接合部材)
60 発光装置
6 発光素子(半導体素子)
7a,7c リード(素子端子)
S10,S10A プリント配線板製造工程
S11 金属膜積層基板準備工程(金属膜形成工程)
S12 パッド成形工程(金属膜形成工程)
S13 穿孔工程
S14 導電性部材充填工程
S16 配線形成工程
S20 実装工程
Claims (10)
- 可撓性を有する絶縁性の基板の表面に配線が設けられたプリント配線板と、
素子端子を介して前記プリント配線板の上面に実装される半導体素子と、を備え、
前記プリント配線板は、前記素子端子毎に貫通孔を前記基板に有し、下面の前記貫通孔に対向する領域に前記配線が設けられ、
前記素子端子が、前記貫通孔に充填された導電性部材を介在して、前記配線に接続しており、
前記基板が、伸び率20%以上である伸縮性を有し、
前記配線が、導電性粒子を樹脂材料に混合した伸縮性の導電性ペースト、又は導電性ポリマーであり、
前記貫通孔が、前記素子端子の1個に対して2以上形成されており、
前記プリント配線板は、平面視で、前記半導体素子又は前記半導体素子が載置された発光装置を挟んで対向する領域を除き、互いに平行なスリット孔が、前記半導体素子を間に挟まない領域に形成されており、
前記プリント配線板は、上面の前記素子端子の直下の領域に、前記貫通孔が前記基板と連通した金属膜を備え、
前記素子端子と前記金属膜とが導電性接合部材で接合されているプリント回路板。 - 前記基板が、伸び率900%以下である請求項1に記載のプリント回路板。
- 前記素子端子と前記導電性部材とが導電性接合部材で接合されている請求項1又は請求項2に記載のプリント回路板。
- 前記導電性部材が導電性粒子を樹脂材料に混合した伸縮性の導電性ペーストである請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のプリント回路板。
- 前記配線は、前記半導体素子の直下において互いに対向する端部が、平面視で前記半導体素子の外周よりも大きく形成されている請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のプリント回路板。
- 前記プリント配線板は、平面視で前記半導体素子を挟んで対向する2箇所に、互いに平行な、細長い形状で前記基板及び前記配線よりも伸縮性の低い部材が設けられている請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のプリント回路板。
- 前記半導体素子は発光素子である請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のプリント回路板。
- 可撓性を有する絶縁性の基板に、貫通孔を形成する穿孔工程と、
前記貫通孔に導電性部材を充填する導電性部材充填工程と、
前記貫通孔に対向する領域を含む前記基板の一面の一部に、導電膜で配線を形成する配線形成工程と、
半導体素子を、素子端子が前記貫通孔に充填された導電性部材及び導電性接合部材を介在して前記配線に接続するように、前記基板の他面側に実装する実装工程と、を含み、
可撓性を有する絶縁性の前記基板の表面に前記配線が設けられたプリント配線板と、
前記素子端子を介して前記プリント配線板の上面に実装される前記半導体素子と、を備えるプリント回路板の製造方法であって、
前記基板が、伸び率20%以上である伸縮性を有し、
前記導電膜が、導電性粒子を樹脂材料に混合した伸縮性の導電性ペースト、又は導電性ポリマーであり、
前記貫通孔が、前記素子端子の1個に対して2以上形成されており、
前記プリント配線板は、平面視で、前記半導体素子又は前記半導体素子が載置された発光装置を挟んで対向する領域を除き、互いに平行なスリット孔が、前記半導体素子を間に挟まない領域に形成されており、
前記プリント配線板は、上面の前記素子端子の直下の領域に、前記貫通孔が前記基板と連通した金属膜を備え、
前記素子端子と前記金属膜とが導電性接合部材で接合されているプリント回路板の製造方法。 - 可撓性を有する絶縁性の基板の一面上に、金属膜を所定の形状に形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜及び前記基板を連通する貫通孔を形成する穿孔工程と、
前記貫通孔に導電性部材を充填する導電性部材充填工程と、
前記基板の他面の前記貫通孔に対向する領域を含む一部に、導電膜で配線を形成する配線形成工程と、
半導体素子の素子端子を前記金属膜に導電性接合部材で接合する実装工程と、を含み、
可撓性を有する絶縁性の前記基板の表面に前記配線が設けられたプリント配線板と、
前記素子端子を介して前記プリント配線板の上面に実装される前記半導体素子と、を備えるプリント回路板の製造方法であって、
前記基板が、伸び率20%以上である伸縮性を有し、
前記導電膜が、導電性粒子を樹脂材料に混合した伸縮性の導電性ペースト、又は導電性ポリマーであり、
前記貫通孔が、前記素子端子の1個に対して2以上形成されており、
前記プリント配線板は、平面視で、前記半導体素子又は前記半導体素子が載置された発光装置を挟んで対向する領域を除き、互いに平行なスリット孔が、前記半導体素子を間に挟まない領域に形成されており、
前記プリント配線板は、上面の前記素子端子の直下の領域に、前記貫通孔が前記基板と連通した金属膜を備え、
前記素子端子と前記金属膜とが導電性接合部材で接合されているプリント回路板の製造方法。 - 前記基板がエストラマーである請求項8又は請求項9に記載のプリント回路板の製造方法。
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