JP7760237B2 - 測色装置 - Google Patents

Description

本発明は、測定対象から届く光をもとに測色する測色装置に関する。

従来から、測定対象から届く光をもとに測色する測色装置が知られている。測色装置には、例えば測定対象から届く光を分光フィルターに入射させ、分光フィルターで所定波長成分を取り出してフォトダイオードで受光し、フォトダイオードから出力される電圧を検出することで測色する測色装置がある。この様な測色装置では、開口部が装置本体の底面に設けられる。この開口部を開いた状態のままにすると装置内部に塵埃等が入り込む為、特許文献１に示される様に開口部を覆う状態と露呈させる状態とを切り換え可能な部材が設けられる場合がある。

特許文献１において開口部を覆う部材は支持プレートと称されている。支持プレートは、開口部である測定窓を覆う位置と測定窓を露呈させる位置とを移動可能に設けられている。支持プレートには白色基準タイルが設けられており、支持プレートが測定窓を覆う状態において、白色基準値を取得できる様に構成されている。

米国特許出願公開第２０１０／０３２８６５６号明細書

特許文献１において白色基準値を取得する際、支持プレートが測定窓を開放する状態であると、適切な白色基準値を取得することができず、また支持プレートが測定窓を閉塞する状態であると、測定対象の色を適切に測ることができない。

上記課題を解決する為の、本発明の測色装置は、装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段とを備えることを特徴とする。

測色装置の機能を示すブロック図。 光学フィルターデバイスの断面図。 測色装置を上方から見た斜視図。 測色装置の下方から見た斜視図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を下方から見た平面図。 本体アセンブリの斜視図。 各回路基板とバッテリーの配置を上方から示す斜視図。 各回路基板とバッテリーの配置を下方から示す斜視図。 上の図はパネル基板の上面を示す斜視図、下の図はパネル基板の下面を示す斜視図。 上の図はバッテリー制御基板の上面を示す斜視図、下の図はバッテリー制御基板の下面を示す斜視図。 上の図は受光部基板の上面を示す斜視図、下の図は受光部基板の下面を示す斜視図。 上の図は発光部基板の上面を示す斜視図、下の図は発光部基板の下面を示す斜視図。 フレームアセンブリを上方から見た斜視図。 フレームアセンブリを下方から見た斜視図。 フレームアセンブリを上方から見た斜視図。 フレームアセンブリの分解斜視図。 メインフレームを上方から見た斜視図。 受光部基板保持フレームと発光部基板保持フレームをＹ－Ｚ平面で切断した断面図。 図５におけるＡ－Ａ断面図。 図５におけるＢ－Ｂ断面図。 図５におけるＣ－Ｃ断面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置の側面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を上方から見た平面図。 測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。 測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが開放位置にある図。 底部筐体を取り除いた測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。 底部筐体を取り除いた測色装置を下方から見た斜視図であって、シャッターユニットが開放位置にある図。 図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。 図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、上の図はシャッターユニットが閉塞位置にある図、下の図はシャッターユニットが開放位置にある図。 図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、底部筐体を省略し、シャッターユニットが閉塞位置より－Ｙ方向にある状態を示す図。 図６におけるＤ－Ｄ断面の一部に相当する図であって、底部筐体を省略し、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。 シャッター保持部材の側面図。 シャッター部材の部分拡大斜視図。 シャッター保持部材及び板ばねの斜視図。 図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある図。 図６におけるＥ－Ｅ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置より－Ｙ方向にある状態を示す図。 シャッターユニットの部分拡大斜視図。 図５におけるＧ－Ｇ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。 図５におけるＧ－Ｇ断面の一部に相当する図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。 シャッターユニットの動作領域とシャッター検出部の検出領域との関係を模式的に示す図。 シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。 シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。 シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが閉塞位置にある状態を示す図。 シャッターユニットの他の実施形態を示す図であって、シャッターユニットが開放位置にある状態を示す図。 電源オフ指令を受けた際の制御部の処理内容を示すフローチャート。 基準値を取得する際の制御部の処理内容を示すフローチャート。 測色を行う際の制御部の処理内容を示すフローチャート。

以下、本発明を概略的に説明する。
第１の態様に係る測色装置は、装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段とを備えることを特徴とする。

本態様によれば、測色装置は、前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段を備えるので、前記シャッターユニットの位置を把握することができ、前記シャッターユニットの位置に応じた適切な制御を行うことができる。

第２の態様は、第１の態様において、前記検出手段は、磁気の強度によって検出信号を変化させる磁気センサーで構成されることを特徴とする。
本態様によれば、前記検出手段は、磁気の強度によって検出信号を変化させる磁気センサーで構成されるので、光学センサーのように検出光を透過させる為の開口等を専用に設ける必要がなく、余分な開口の形成に伴う気密性の低下を回避できる。

第３の態様は、第１のまたは第２の態様において、前記検出手段から検出信号を受ける制御部を備え、前記制御部は、装置の電源をオフする指令である電源オフ指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば装置の電源オフに移行し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば装置の電源オフへの移行を保留することを特徴とする。

本態様によれば、前記シャッターユニットが前記開放位置にある状態のままで装置が電源オフとされないことから、装置が電源オフの状態で前記開口部を介して装置内部に塵埃等が侵入することを抑制できる。

第４の態様は、第３の態様において、前記制御部は、装置の電源オフ指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあると、前記シャッターユニットが前記開放位置にある旨のアラートを、各種表示を行う表示部に表示させることを特徴とする。

本態様によれば、前記制御部は、装置の電源オフ指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあると、前記シャッターユニットが前記開放位置にある旨のアラートを前記表示部に表示させるので、ユーザービリティが向上する。

第５の態様は、第１のまたは第２の態様において、前記検出手段から検出信号を受ける制御部を備え、前記制御部は、前記反射基準面を利用して基準値を取得する際、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記基準値を取得し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば前記基準値の取得を保留することを特徴とする。

本態様によれば、前記制御部は、前記反射基準面を利用して基準値を取得する際、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記基準値を取得し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば前記基準値の取得を保留するので、前記基準値を適切に取得することができる。

第６の態様は、第１のまたは第２の態様において、前記検出手段から検出信号を受ける制御部を備え、前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば測色の実行を保留することを特徴とする。

本態様によれば、前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば測色の実行を保留するので、適切な測色値を取得することができる。

第７の態様は、第１のまたは第２の態様において、前記検出手段から検出信号を受ける制御部を備え、前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記反射基準面を利用して基準値を取得することを特徴とする。
本態様によれば、前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記反射基準面を利用して基準値を取得するので、前記シャッターユニットの位置に応じた適切な処理を行うことができる。

第８の態様は、第１から第７の態様のいずれかにおいて、前記シャッターユニットを前記開放位置及び前記閉塞位置に向けて押圧するばね部材と、前記シャッターユニットを構成するリンク部材と、を備え、前記ばね部材が前記シャッターユニットの変位に伴い姿勢変化することで、前記シャッターユニットが前記閉塞位置と前記開放位置との間の中立位置より前記閉塞位置側にある際に前記ばね部材が前記リンク部材を前記閉塞位置に向けて押圧し、前記シャッターユニットが前記中立位置より前記開放位置側にある際に前記ばね部材が前記リンク部材を前記開放位置に向けて押圧することを特徴とする。

本態様によれば、前記シャッターユニットの変位に伴い前記ばね部材が姿勢変化することで、前記リンク部材即ち前記シャッターユニットを押圧する方向が切り換わるので、前記シャッターユニットを前記閉塞位置と前記開放位置とに保持する手段を低コストに構成できる。

第９の態様は、第８の態様において、前記シャッターユニットの変位領域において前記検出手段が前記閉塞位置を示す検出信号を送出する領域は、前記中立位置から前記閉塞位置側にマージンを設けて設定されていることを特徴とする。

本態様によれば、前記シャッターユニットの変位領域において前記検出手段が前記閉塞位置を示す検出信号を送出する領域は、前記中立位置から前記閉塞位置側にマージンを設けて設定されているので、前記検出手段が前記閉塞位置を示す検出信号を送出する場合は、前記シャッターユニットが確実に前記閉塞位置にあることとなる。これにより、前記シャッターユニットが中途半端な位置にあるにも拘わらず前記閉塞位置にあると判断される虞がなく、ひいては前記反射基準面を用いた基準値の取得を確実に行うことができる。

第１０の態様は、第１から第９の態様のいずれかにおいて、前記シャッターユニットは、前記反射基準面を備えるとともに前記閉塞位置にある際に前記開口部を閉塞するシャッター部材と、前記シャッター部材が前記開口部に対し進退する進退方向に変位可能となる様に前記シャッター部材を保持するシャッター保持部材と、前記シャッター部材を前記開口部に向けて押圧する押圧部材と、を備えることを特徴とする。

本態様によれば、前記シャッター部材が前記押圧部材によって前記開口部に向けて押圧される構成を備えるので、部品の製造誤差や組立誤差、或いは使用に伴う摩耗等が生じても、前記シャッター部材が前記開口部に向けて押圧されることで前記シャッター部材と前記開口部との間に隙間が生じることを抑制できる。その結果、前記開口部への塵埃等の侵入を良好に抑制できる。

第１１の態様は、第１０の態様において、前記反射基準面は、前記シャッターの平面方向における中心領域に位置することを特徴とする。
本態様によれば、前記反射基準面が、前記シャッターの平面方向における中心領域に位置する構成において、上述した第９の態様の作用効果が得られる。

第１２の態様は、第２の態様において、前記シャッターユニットに、前記磁気センサーによって検出される磁石を備え、前記磁気センサーと前記磁石との直線距離は、前記シャッターユニットが前記開放位置にある場合よりも、前記閉塞位置にある場合が相対的に長いことを特徴とする。
本態様によれば、前記磁気センサーと前記磁石との直線距離は、前記シャッターユニットが前記開放位置にある場合よりも、前記閉塞位置にある場合が相対的に長い構成であるので、前記磁気センサーを前記開口部から離れた位置に配置することができ、前記開口部近くに前記磁気センサーを配置することによる装置の大型化を抑制できる。

第１３の態様は、第１から第１２の態様のいずれかにおいて、前記入射光処理部は、入射した光のうちの所定波長成分を透過させる波長可変型の光学フィルターと、前記光学フィルターを透過した光を受ける受光部とを備えることを特徴とする。
本態様によれば、前記入射光処理部が、入射した光のうちの所定波長成分を透過させる波長可変型の光学フィルターと、前記光学フィルターを透過した光を受ける受光部とを備える構成において、上述した第１から第１２の態様のいずれかの作用効果が得られる。

第１４の態様は、第１３の態様において、前記光学フィルターは、ファブリペローエタロンであることを特徴とする。
本態様によれば、前記光学フィルターが、ファブリペローエタロンである構成において、上述した第１３の態様の作用効果が得られる。

以下、本発明を具体的に説明する。
尚、各図に示すＸ－Ｙ－Ｚ座標系は直交座標系であり、Ｘ－Ｙ平面が水平面であり、Ｙ－Ｚ平面が垂直面となる。
またＺ軸方向は鉛直方向であって、測色装置１の上面５０ｅ及び底面５０ｆに対して交差する第１方向の一例である。またＹ軸方向は第１方向即ち鉛直方向と直交する方向であって測色装置１を鉛直方向から見て長手方向となる第２方向の一例である。またＸ軸方向はＹ軸方向と直交する方向であって測色装置１を鉛直方向から見て短手方向となる第３方向の一例である。
本明細書において測色装置１の構成は、底面５０ｆが水平面に平行な載置面に載置され、且つ、測色装置１の長手方向がＹ軸方向に沿うものとして説明する。

[測色装置１の全体構成]
先ず、図１及び図２を参照して本実施形態に係る測色装置１の全体構成について説明する。
測色装置１は、測定対象２００から届く光をもとに測色する為の構成を備える。測定対象２００から届く光としては、測定対象２００で反射する光や、測定対象２００が自ら発する光が挙げられる。
測色装置１は、バンドパスフィルター７、光学フィルターデバイス３、受光部４、静電容量検出部６、発光部９、ＭＣＵ（Micro Controller Unit）１０、有線ＩＦ（Interface）１２、無線通信部１３、操作部１４、表示部１５、バッテリー制御部１６、及びバッテリー１７を備えている。
尚、バンドパスフィルター７、光学フィルターデバイス３、及び受光部４は、測定対象２００から届いて入射した光を処理する入射光処理部２を構成する。

バンドパスフィルター７は、測定対象２００から届いて入射した光のうち、可視光域、例えば３８０ｎｍ～７２０ｎｍの光を透過させ、紫外光域及び赤外光域の光をカットする。これにより、光学フィルターデバイス３には可視光域の光が入射する。尚、測定対象２００からバンドパスフィルター７に届く光は、後述する開口部２１ａ及び測定用窓部８７ａ（図２０参照）を介してバンドパスフィルター７に到達する。

光学フィルターデバイス３は、バンドパスフィルター７を通った可視光から、任意の波長成分を選択的に透過させる。光学フィルターデバイス３を透過した光は、受光素子の一例であるフォトダイオード４ａ（図２０参照）に入射し、フォトダイオード４ａを備える受光部４で処理される。受光部４は、受光した光の強度を電圧値に変換し、更にその電圧値をデジタル信号に変換してＭＣＵ１０に出力する。測色装置１は、光学フィルターデバイス３による波長選択と受光部４を用いた受光強度の取得とを繰り返し行うことで、測定対象２００のスペクトルを測定することができる。

ここで図２を参照して光学フィルターデバイス３の構成について説明する。本実施形態において光学フィルターデバイス３は、測定対象２００から届いて入射した光のうち所定波長成分を透過させる波長可変型のファブリペローエタロンであり、二つの対向する反射面の多重干渉を利用した波長フィルターである。
図２において光学フィルターデバイス３は波長可変干渉フィルター４５を備え、波長可変干渉フィルター４５は、第１ガラス部材３０と第２ガラス部材３１とケース３２とによって構成される外装の内部に内蔵されている。

ケース３２と第１ガラス部材３０、ケース３２と第２ガラス部材３１は、それぞれ低融点ガラスやエポキシ樹脂等の接合部材３３により接合されている。また、波長可変干渉フィルター４５とケース３２は、接着剤等の固定材３４によって固定される。ケース３２外面の電極３６と波長可変干渉フィルター４５とは、ワイヤーボンディング３５とケース３２内の配線とによって導通がとられている。

波長可変干渉フィルター４５は、ベース基板３７とダイアフラム基板３８とを備えている。ベース基板３７とダイアフラム基板３８とは、接合膜４３によって接合されている。ベース基板３７とダイアフラム基板３８には、ミラー３９がそれぞれに成膜されている。対面するミラー３９は、最表面が導体で形成されている。そして対面するミラー３９の間の静電容量は、静電容量検出部６（図１参照）によって検出される。静電容量検出部６は、ＣＶ（Capacitance to Voltage）コンバーターで構成され、検出した静電容量を電圧値に変換し更にデジタル値に変換してＭＣＵ１０に送信する。
対面するミラー３９の間の距離は、Ｚ軸方向から見て同心円状に形成される固定電極４０と可動電極４１とが対面することで構成される静電アクチュエーターによって制御される。

対面する固定電極４０と可動電極４１との間に電圧が印加された場合、静電力によって固定電極４０と可動電極４１とが引き合う力が発生する。この時、同心円状に形成されるダイアフラム部４２が変形する事で、ダイアフラム基板３８のミラー３９がベース基板３７側に引き寄せられ、対面するミラー３９の間の距離が制御される。そして、対面するミラー３９の間の距離に対応して波長可変干渉フィルター４５を透過する光の波長が選択される。

分光測定時には、光軸ＣＬに沿って第２ガラス部材３１側から第１ガラス部材３０側へ、光学フィルターデバイス３に測定対象２００からの光が入射する。尚、光軸ＣＬはＺ軸方向に平行であって、開口部２１ａ（図２０参照）、測定用窓部８７ａ（図２０参照）、波長可変干渉フィルター４５、及びフォトダイオード４ａ（図２０参照）の中心を通る線となる。特に開口部２１ａ、測定用窓部８７ａ、及び波長可変干渉フィルター４５（図２参照）は、Ｚ軸方向から見て真円形状を成し、光軸ＣＬはそれらの中心を通る。尚、光軸ＣＬは、以下において中心位置ＣＬと称する場合もある。
そして、光学フィルターデバイス３に入射した光は、対面するミラー３９の間で干渉し、対面するミラー３９の間の距離に対応して選択された波長の光が、波長可変干渉フィルター４５を透過する。波長可変干渉フィルター４５を透過した光は、第１ガラス部材３０を透過し、受光部４に向かう。
以上が光学フィルターデバイス３の構成である。

図１に戻り、ＭＣＵ１０はマイクロプロセッサをベースとした制御装置であり、測色装置１の制御に必要な各種プログラムや各種データが格納されたメモリを内蔵している。
ＭＣＵ１０は、図２を参照して説明した、固定電極４０と可動電極４１とが対面することで構成される静電アクチュエーターの駆動に必要な制御情報を不図示のアンプに送り、このアンプから所定の駆動電圧を光学フィルターデバイス３に供給する。そしてＭＰＵ１０は、静電容量検出部６から出力された電圧値に係わる情報を、記憶されている値と比較し、それに基づいて光学フィルターデバイス３をフィードバック制御する。

発光部９は測定対象２００に向けて測定用の光を発する。発光部９は、発光する波長分布の異なる複数の発光素子、具体的には複数のＬＥＤで構成される。ＭＣＵ１０は、発光部９の点灯と消灯を制御する。

有線ＩＦ１２と無線通信部１３は外部機器と通信を行う為の構成要素であり、有線ＩＦ１２を介して通信する為の規格には、一例としてＵＳＢ（Universal Serial Bus）を採用することができる。また無線通信部１３の規格には、一例としてＢｌｕｅｔｏｏｔｈを採用することができる。ＵＳＢとＢｌｕｅｔｏｏｔｈは登録商標である。ＭＣＵ１０は、有線ＩＦ１２或いは無線通信部１３を介して外部機器に各種データを送出し、また外部機器から各種データを受信する。また測色装置１は、有線ＩＦ１２を介して外部機器から電力の供給を受けることでバッテリー１７を充電することができる。

操作部１４は電源ボタンや各種操作設定ボタンで構成され、操作に応じた信号をＭＣＵ１０に送出する。操作部１４については、後に更に説明する。
表示部１５は一例として液晶パネルで構成され、ＭＣＵ１０から送出される信号に基づき測色条件を設定する為のユーザーインターフェースや測色結果等の各種情報を表示する。
ＭＣＵ１０に検出信号を送出する磁気センサー１２８は、後述するシャッターユニット１１０の位置を検出する為のセンサーであるが、磁気センサー１２８については後に改めて説明する。

バッテリー１７は、本実施形態ではリチウムイオン二次電池であり、測色装置１において電力を必要とする各構成部位に電力を供給する。バッテリー１７から電力の供給を受ける構成部位には、後述する入射光処理部２が含まれる。バッテリー制御部１６は、バッテリー１７の充電制御等の各種制御を行う。

[測色装置１の外観構成]
次に、図３、図４、図５、及び図６を参照して測色装置１の外観構成について説明する。
測色装置１の装置本体５０は、主筐体５１、上部筐体５２、及び底部筐体５３によって外郭が全体として箱状を成す様に構成されている。主筐体５１、上部筐体５２、及び底部筐体５３は、本実施形態では樹脂材料で形成される。
各図において符号５０ａは装置本体５０の＋Ｙ方向の側面を示しており、以下ではこれを前面５０ａと称する。また符号５０ｂ（図６参照）は装置本体５０の＋Ｘ方向の側面を示しており、以下ではこれは右側面５０ｂと称する。また符号５０ｃは装置本体５０の－Ｘ方向の側面を示しており、以下ではこれを左側面５０ｃと称する。また符号５０ｄは装置本体５０の－Ｙ方向の側面を示しており、以下ではこれを後面５０ｄと称する。
尚、本明細書において「上」、「下」、「左」、「右」の各用語は、測色装置１の使用者が図２７に示す様に測色装置１を把持して使用する際の、使用者から見た方向に基づいて用いるものとする。

図３～図６において前面５０ａは主筐体５１の前方壁部５１ａにより形成され、右側面５０ｂは主筐体５１の右壁部５１ｂにより形成され、左側面５０ｃは主筐体５１の左壁部５１ｃにより形成され、後面５０ｄは主筐体５１の後方壁部５１ｄにより形成される。
また符号５０ｅは装置本体５０の＋Ｚ方向の面を示しており、以下ではこれを上面５０ｅと称する。また符号５０ｆは装置本体５０の－Ｚ方向の面を示しており、以下ではこれを底面５０ｆと称する。

装置本体５０の上面５０ｅには操作部１４と表示部１５とがＹ軸方向に沿って配置されている。
操作部１４は、電源ボタン５５と、決定ボタン５４と、戻るボタン５６と、十字ボタン６０とを備えて構成されている。十字ボタン６０は、上ボタン６１、下ボタン６２、左ボタン６３、及び右ボタン６４で構成されている。本実施形態に係る測色装置１は、全ての操作ボタンが上面５０ｅに配置され、且つ、操作部１４に集約されている。

電源ボタン５５は測色装置１の電源をオンオフする為のボタンである。また決定ボタン５４は、表示部１５に表示された各種設定を決定する為のボタン、つまり測色条件を決定する為のボタンであり、また測色を実行する為のボタンでもある。決定ボタン５４は、Ｚ軸方向から見て真円形状を成す。
戻るボタン５６は、表示部１５に表示されたユーザーインターフェースにおいて一つ前の状態に戻る為のボタンであり、また操作の実行をキャンセルする為のボタンでもある。

十字ボタン６０は、表示部１５に表示されたユーザーインターフェースにおいて各種項目を選択する為のボタンである。上ボタン６１の表面には、Ｙ軸方向に平行な垂直ライン５８ａが付され、下ボタン６２の表面には、Ｙ軸方向に平行な垂直ライン５８ｂが付されている。垂直ライン５８ａ、５８ｂは、Ｙ軸方向に延長した場合に中心位置ＣＬを通る位置にある。
また左ボタン６３の表面には、Ｘ軸方向に平行な水平ライン５８ｃが付され、右ボタン６４の表面には、Ｘ軸方向に平行な水平ライン５８ｄが付されている。水平ライン５８ｃ、５８ｄは、Ｘ軸方向に延長した場合に中心位置ＣＬを通る位置にある。

表示部１５には測色結果等の各種情報が表示される。表示部１５は、本実施形態では液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display）６７により構成される（図８も参照）。以下、液晶ディスプレイ６７はＬＣＤ６７と略称する。ＬＣＤ６７の上部には透明部材である表示部カバー５７が設けられ、この表示部カバー５７によって上面５０ｅの一部が形成される。
本実施形態では、図２０にも示す様に表示部カバー５７の上面と操作部１４の上面との間に段差が殆ど生じない様に構成されており、これにより上面５０ｅは全体的に段差が殆どない平坦面として構成されている。但し決定ボタン５４の上面は、図２０に示す様に僅かに窪んでおり、図２７に示す様に決定ボタン５４を押下するユーザーの指の腹に馴染む形状として形成されている。

底面５０ｆには図４、図６に示す様にシャッターユニット１１０が設けられている。図４はシャッターユニット１１０が閉塞位置にある状態を、図６はシャッターユニット１１０が開放位置にある状態を、それぞれ示している。シャッターユニット１１０はＹ軸方向に沿ってスライドすることで閉塞位置と開放位置との間を変位することができる。またシャッターユニット１１０は、閉塞位置及び開放位置を保持できる様に設けられている。
シャッターユニット１１０は、詳しくは後述するがシャッター保持部材１１１とリンク部材１１３とを備えて構成されている。シャッター保持部材１１１は、表面に複数のリブ１１１ａを備えている。ユーザーは、指の腹をリブ１１１ａに掛けることで、シャッターユニット１１０をＹ軸方向にスライドさせることができる。

シャッターユニット１１０を開くことにより、図６に示す様に開口部２１ａ及び測定用窓部８７ａが露呈する。開口部２１ａ及び測定用窓部８７ａは、装置の底面５０ｆにおいて開口する。尚、ここでの開口とは光を取り入れる意味であり、例えば透明なガラス板が設けられていても良い意味である。
図２０にも示す様に開口部２１ａは開口部形成部材２１に形成され、測定用窓部８７ａは開口部形成部材２１に対し＋Ｚ方向に位置する集光部材８７に形成されている。発光部９から発せられる測定光は、図２０において開口部２１ａの内側で示す矢印の様に集光部材８７と開口部形成部材２１との間を通り、開口部２１ａから測定対象２００に向けて放出される。そして測定対象２００から届く光は、開口部２１ａから装置内部に取り入れられ、更に測定用窓部８７ａを通って入射光処理部２へと入射する。

尚、図５及び図６に示す様に中心位置ＣＬは開口部２１ａ及び測定用窓部８７ａの中心位置に一致する。また直線ＶＣＬはＹ軸方向に平行な直線であって、Ｚ軸方向から見て中心位置ＣＬを通る直線である。また直線ＨＣＬはＸ軸方向にＹ軸方向に平行な直線であって、Ｚ軸方向から見て中心位置ＣＬを通る直線である。
本実施形態において中心位置ＣＬは、Ｘ－Ｙ平面における決定ボタン５４の中心位置に一致し、また十字ボタン６０の中心位置にも一致する。
電源ボタン５５及び戻るボタン５６は、図５に示す様に直線ＶＣＬに対して左右対称に配置されている。

次に、図３に示す様に装置本体５０の前面５０ａには、有線ＩＦ１２が設けられている。また図４に示す様に装置本体５０の後面５０ｄには開口５０ｍが形成され、開口５０ｍの奥にはリセットスイッチ７１（図９、図２０参照）が設けられている。リセットスイッチ７１は、測色装置１の各種設定を初期状態に戻す為のスイッチである。
また開口５０ｍに対し－Ｚ方向の位置には、２つの開口５０ｎが形成されており、この２つの開口５０ｎにストラップ（不図示）を通してユーザーが測色装置１を容易に持ち運べる様に構成されている。

図３、図４、図２１、図２２に示す様に、装置本体５０の右側面５０ｂと左側面５０ｃには、把持部５０ｇが形成されている。把持部５０ｇは、主筐体５１の右壁部５１ｂと左壁部５１ｃのそれぞれに形成された凹部５１ｇによって構成されている。凹部５１ｇは、－Ｚ方向に向かうに従って装置本体５０のＸ軸方向における中心に向かう曲面によって形成されている。
把持部５０ｇが設けられていることにより、ユーザーが装置本体５０を容易に且つ確実に把持することができる。

[測色装置１の基板構成]
続いて測色装置１の基板構成について説明する。
図７に示す本体アセンブリ１ａは、主筐体５１の内部に設けられるアセンブリ体であって、複数のフレームの組立体であるフレームアセンブリ１００に、複数の回路基板等が組付けられて構成されている。
複数の回路基板は、図７、図８、図９に示す様に「第２回路基板」としてのパネル基板６５、「第３回路基板」としてのバッテリー制御基板７０、「第１回路基板」としての受光部基板８０、及び「第４回路基板」としての発光部基板８５によって構成される。これら複数の回路基板は、Ｚ軸方向に沿って間隔を空けて重畳する様にして設けられる。Ｚ軸方向においてパネル基板６５とバッテリー制御基板７０との間には、バッテリー１７が配置される。

以下、各回路基板の構成について図１０～図１３及び適宜他の図をも参照して説明する。尚、以下では各回路基板の＋Ｚ方向の面を「上面」と称し、－Ｚ方向の面を「下面」と称する場合がある。また、図１０～図１３では、基板上に設けられる電子部品の一部について図示を省略している。
パネル基板６５は、図１０の上の図で示す様に上面にＬＣＤ接続部６６を備えている。尚、ＬＣＤ６７は、図２０に示す様にケーブル６７ａによってＬＣＤ接続部６６と接続される。

図１０の上の図においてパネル基板６５の上面には、上述した操作部１４を構成する各操作ボタンに対応する位置に、各操作ボタンの押下を検出する為の接点が設けられている。符号５４ａは、決定ボタン５４に対応する位置に設けられた接点を示している。符号５４ａは、決定ボタン５４に対応する位置に設けられた接点を示している。符号６１ａ、６２ａ、６３ａ、６４ａは、それぞれ上ボタン６１、下ボタン６２、左ボタン６３、右ボタン６４（図１等参照）に対応する位置に設けられた接点である。また符号５５ａ、５６ａは、それぞれ電源ボタン５５、戻るボタン５６に対応する位置に設けられた接点である。

図１０の下の図に示す様に、パネル基板６５の下面には、第１基板接続コネクタ６８が設けられている。第１基板接続コネクタ６８と、図１２の下の図で示す第４基板接続コネクタ８３とが、図９に示す様にＦＦＣ（Flexible Flat Cable）９０で接続されることにより、パネル基板６５と後述する受光部基板８０とが接続される。
また図１０の下の図に示す様に、パネル基板６５の下面には、通信モジュールである無線通信部１３が設けられている。

続いて図１１を参照してバッテリー制御基板７０について説明する。バッテリー制御基板７０は、バッテリー制御部１６（図１参照）の機能を実現する。バッテリー制御基板７０は、図１１の上の図で示す様に上面にリセットスイッチ７１、有線ＩＦ１２、第１バッテリーコネクタ７２、及び第２バッテリーコネクタ７３を備えている。バッテリー制御基板７０の上面には、図１１では図示を省略するバッテリー制御回路が設けられている。
第１バッテリーコネクタ７２は、図８に示す様に第１バッテリーケーブル９２によりバッテリー１７と接続され、第２バッテリーコネクタ７３は、図８に示す様に第２バッテリーケーブル９３によりバッテリー１７と接続される。

バッテリー制御基板７０は、図１１の下の図で示す様に第２基板接続コネクタ７４を備えている。第２基板接続コネクタ７４と、図１２の上の図で示す第３基板接続コネクタ８２とが嵌合することにより、バッテリー制御基板７０と受光部基板８０とが接続される。これによりバッテリー１７の電力が、受光部基板８０を介して各回路基板へと供給される。

続いて図１２を参照して受光部基板８０について説明する。受光部基板８０は、上面にＰＤ（Ｐｈｏｔｏ Ｄｉｏｄｅ）基板５を備え、また上述した第３基板接続コネクタ８２を備えている。ＰＤ基板５は、図２０に示す様に下面にフォトダイオード４ａを備えている。ＰＤ基板５は、受光部４（図１参照）を構成する回路基板である。つまりＰＤ基板５は、入射した光を処理する入射光処理部２（図１参照）を構成する。
受光部基板８０は、下面に光学フィルターデバイス３、第４基板接続コネクタ８３、及び第５基板接続コネクタ８４を備えている。第５基板接続コネクタ８４と、図１３の下の図で示す第６基板接続コネクタ８８とが、図９に示す様に接続ケーブル９１で接続されることにより、受光部基板８０と後述する発光部基板８５とが接続される。

尚、受光部基板８０には、図１１では図示を省略する電子部品が設けられる。図１１において図示を省略する電子部品には、ＭＣＵ１０（図１参照）、静電容量検出部６（図１参照）を構成するＣＶコンバーター、バッテリー１７の電圧を変換するＤＣ／ＤＣコンバーター、このＤＣ／ＤＣコンバーターからの出力をＭＣＵ１０の制御のもと調整して光学フィルターデバイス３に供給するアンプ、光学フィルターデバイス３周辺の温度を検出する為の温度センサー、などが含まれる。

尚、図１１に示す様に受光部基板８０に設けられたＰＤ基板５と光学フィルターデバイス３を囲う様に遮蔽シート２９が設けられる（図７も参照）。これにより、ＰＤ基板５や光学フィルターデバイス３への外光の入り込みが抑制されている。

続いて図１３を参照して発光部基板８５について説明する。発光部基板８５は、上面と下面との間に亘って集光部材８７を備えている。集光部材８７には、上述した測定用窓部８７ａが形成されている。
発光部基板８５の下面には、図１３の下の図に示す様に第６基板接続コネクタ８８が設けられ、また集光部材８７の周囲に複数の発光素子８６が設けられている。複数の発光素子８６は、発光する波長分布の異なる発光素子で構成される。
尚、発光素子８６の周囲には遮光部材８９が設けられ、遮光部材８９によって発光素子８６から発せられる測定光の漏洩が抑制される。

[フレームアセンブリの構成]
続いて装置本体５０の基体を構成するフレームアセンブリ１００について説明する。
図１４～図１７においてフレームアセンブリ１００は、メインフレーム１０１と、バッテリー保持フレーム１０２と、受光部基板保持フレーム１０３と、底部フレーム１０５とを備えて構成されている。本実施形態において全てのフレームは金属材料の折り曲げ加工により形成され、より具体的にはアルミニウムを材料としている。尚、各フレームは金属材料の折り曲げ加工に代えて、ダイキャスト成形等による作成も可能である。

以下、各フレームについて順次説明する。メインフレーム１０１は、装置本体５０のベースを成すフレームであって、図１８に示す様にＹ軸方向及びＺ軸方向に延びるフレーム面、換言すればＹ－Ｚ平面に広いフレーム面を成すメインプレート部１０１ａを有している。またメインフレーム１０１は、メインプレート部１０１ａの＋Ｚ方向端部から－Ｘ方向に延び、Ｘ－Ｙ平面に平行なフレーム面を成すパネル基板支持部１０１ｂを有している。
パネル基板支持部１０１ｂは、図７、図２０に示す様にパネル基板６５を下方から支持する。パネル基板６５は、パネル基板支持部１０１ｂに対して不図示のねじにより固定される。パネル基板６５は、パネル基板支持部１０１ｂに対し面接触し、これによりパネル基板６５の熱がパネル基板支持部１０１ｂ、即ちメインフレーム１０１に伝達される。

図１８に示す様にメインプレート部１０１ａの－Ｚ方向端部では、＋Ｙ方向の端部が－Ｘ方向に折り曲げられ、更にその＋Ｚ方向端部が－Ｙ方向に折り曲げられてＸ－Ｙ平面に平行なバッテリー制御基板支持部１０１ｅが形成されている。同様にメインプレート部１０１ａの－Ｚ方向端部では、－Ｙ方向の端部が－Ｘ方向に折り曲げられ、更にその＋Ｚ方向端部が＋Ｙ方向に折り曲げられてＸ－Ｙ平面に平行なバッテリー制御基板支持部１０１ｅが形成されている。

バッテリー制御基板支持部１０１ｅは、図７、図２０に示す様にバッテリー制御基板７０を下方から支持する。尚、バッテリー制御基板７０は、不図示のねじによってバッテリー制御基板支持部１０１ｅに対し固定される。バッテリー制御基板７０は、バッテリー制御基板支持部１０１ｅに対し面接触し、これによりバッテリー制御基板７０の熱がバッテリー制御基板支持部１０１ｅ、即ちメインフレーム１０１に伝達される。

図１４～図１８において、バッテリー制御基板支持部１０１ｅの下方には、フレーム保持部１０１ｆがＸ－Ｙ平面に平行となる様に形成されている。フレーム保持部１０１ｆは、図１４、図１６に示す様に発光部基板保持フレーム１０４を保持する。発光部基板保持フレーム１０４は、フレーム保持部１０１ｆの下側に、不図示のねじによって固定される。発光部基板保持フレーム１０４は、フレーム保持部１０１ｆに対し面接触する。即ち発光部基板保持フレーム１０４は、メインフレーム１０１に直接接触する。これにより発光部基板保持フレーム１０４の熱がフレーム保持部１０１ｆ、即ちメインフレーム１０１に伝達される。

発光部基板保持フレーム１０４は、図７、図２０に示す様に発光部基板８５を保持する。発光部基板保持フレーム１０４は、発光部基板８５を保持する第２サブフレームの一例である。発光部基板８５は、発光部基板保持フレーム１０４の下側に、不図示のねじによって固定される。発光部基板８５は、発光部基板保持フレーム１０４に対し面接触し、これにより発光部基板８５の熱が発光部基板保持フレーム１０４に伝達され、ひいてはメインフレーム１０１に伝達される。

発光部基板保持フレーム１０４の下面には、図１５に示す様に底部フレーム１０５が不図示のねじによって固定される。底部フレーム１０５は、詳しくは後に説明するがシャッターユニット１１０（図３２参照）を押圧する捩りばね１１７（図３２参照）の一端を固定する為のフレームである。
底部フレーム１０５は、第１プレート部１０５ａと第２プレート部１０５ｂとを有しており、第２プレート部１０５ｂが発光部基板保持フレーム１０４に対し面接触している。これにより発光部基板保持フレーム１０４の熱が底部フレーム１０５に伝達される。即ち底部フレーム１０５は、発光部基板保持フレーム１０４の放熱を促進するヒートシンクとして機能する。

図１４～図１８において、メインフレーム１０１は、パネル基板支持部１０１ｂの－Ｘ方向端部から－Ｚ方向に延び、Ｙ－Ｚ平面に平行なフレーム面を成すサブプレート部１０１ｃを有している。ここで、メインフレーム１０１にはバッテリー保持フレーム１０２が取り付けられる。サブプレート部１０１ｃ及びパネル基板支持部１０１ｂは、バッテリー保持フレーム１０２が取り付けられた状態で、バッテリー保持フレーム１０２とともにバッテリー１７を保持するバッテリー保持部１００ａを構成する。

以下、バッテリー保持部１００ａについて更に説明する。バッテリー保持フレーム１０２は、Ｘ－Ｙ平面に平行なフレーム面を成すバッテリー支持部１０２ａを有している。バッテリー支持部１０２ａは、図２０に示す様にバッテリー１７を下方から支持する。バッテリー１７の底面は、バッテリー支持部１０２ａと面接触し、これによりバッテリー１７の熱がバッテリー支持部１０２ａ、即ちバッテリー保持部１００ａに伝達される。

図１４～図１７において、バッテリー支持部１０２ａの－Ｘ方向端部からは、Ｙ－Ｚ平面に平行なフレーム面を成す第１フレーム部１０２ｂが＋Ｚ方向に立ち上がっている。またバッテリー支持部１０２ａの＋Ｘ方向端部からは、Ｙ－Ｚ平面に平行なフレーム面を成す第２フレーム部１０２ｃが＋Ｚ方向に立ち上がっている。
第１フレーム部１０２ｂは、メインフレーム１０１のサブプレート部１０１ｃに対し－Ｘ方向に位置するとともに、サブプレート部１０１ｃと面接触する。また第２フレーム部１０２ｃは、メインフレーム１０１のメインプレート部１０１ａに対し－Ｘ方向に位置するとともに、メインプレート部１０１ａと面接触する。

この様にバッテリー保持部１００ａが、バッテリー保持フレーム１０２と、パネル基板支持部１０１ｂと、サブプレート部１０１ｃとによって、バッテリー１７を囲う様に構成される。
尚、バッテリー支持部１０２ａは、バッテリー１７を下方から支持する第１壁部の一例であり、バッテリー保持部１００ａを構成する。またパネル基板支持部１０１ｂは、バッテリー支持部１０２ａと対向する第２壁部の一例であり、バッテリー保持部１００ａを構成する。またサブプレート部１０１ｃは、バッテリー１７に対し－Ｘ方向に位置する第３壁部の一例であり、バッテリー保持部１００ａを構成する。また第２フレーム部１０２ｃは、バッテリー１７に対し＋Ｘ方向に位置する第４壁部の一例であり、バッテリー保持部１００ａを構成する。

尚、図７、図１４、図２０に示す様にパネル基板支持部１０１ｂの＋Ｙ方向端部から、－Ｚ方向に延びる様に規制部１０１ｄが形成されている。規制部１０１ｄにより、図７、図２０に示す様にバッテリー１７の＋Ｙ方向への移動が規制される。
規制部１０１ｄと、バッテリー１７の＋Ｙ方向の端部である第１端部１７ａとの間には、図２０にも示す様に弾性材２８が設けられる。弾性材２８は、図２０に示す様にバッテリー１７の上面と、パネル基板支持部１０１ｂとの間にも設けられる。

次に、図１４、図１６に示す様に受光部基板保持フレーム１０３は、Ｘ－Ｙ平面に平行なフレーム面を成すベース部１０３ｂと、受光部基板支持部１０３ａを有している。受光部基板支持部１０３ａは、ベース部１０３ｂよりも＋Ｚ方向に位置している。受光部基板支持部１０３ａは、図７、図２０に示す様に受光部基板８０を下方から支持する。受光部基板８０は、不図示のねじによって受光部基板支持部１０３ａに固定される。受光部基板保持フレーム１０３は、受光部基板８０を保持する第１サブフレームの一例である。
受光部基板８０は受光部基板支持部１０３ａに対し面接触し、これにより受光部基板８０の熱が受光部基板保持フレーム１０３に伝達される。

受光部基板保持フレーム１０３は、図１９に示す様に発光部基板保持フレーム１０４によって下方から支持される。
符号１０４ａ、１０４ｂは受光部基板保持フレーム１０３を支持する部位であるフレーム支持部を示している。フレーム支持部１０４ａ、１０４ｂはＸ－Ｙ平面に平行なフレーム面を成し、受光部基板保持フレーム１０３の底面に対し面接触する。これにより受光部基板保持フレーム１０３の熱が、発光部基板保持フレーム１０４に伝達される。発光部基板保持フレーム１０４はメインフレーム１０１に接触する為、受光部基板保持フレーム１０３の熱は、発光部基板保持フレーム１０４を介してメインフレーム１０１に伝達される。即ち受光部基板保持フレーム１０３は、メインフレーム１０１に間接的に接触すると言える。

[測色装置のその他の構成]
以下、シャッターユニット１１０を除く測色装置１のその他の構成について説明する。
図２３において、Ｚ軸方向から見た際のバッテリー１７の輪郭を二点鎖線で示し、また光学フィルターデバイス３、ＰＤ基板５、無線通信部１３、バッテリー制御基板７０、及び受光部基板８０を破線で示している。尚、本実施形態ではＺ軸方向から見てバッテリー制御基板７０の輪郭と受光部基板８０の輪郭は－Ｙ方向端部を除き一致しており、－Ｙ方向端部では、受光部基板８０の輪郭がバッテリー制御基板７０の輪郭よりも僅かに＋Ｙ方向に位置している。
ここで上述した様に、光学フィルターデバイス３及びＰＤ基板５は、入射光を処理する入射光処理部２を構成する。そして図２３に示す様にＺ軸方向から見て、入射光処理部２とバッテリー１７とが重なる部位を有している。

より具体的には、本実施形態において入射光処理部２は、Ｚ軸方向から見てバッテリー１７の領域内に収まっている。尚、入射光処理部２を構成するバンドパスフィルター７（図２０、図２１参照）は、図２３では図示を省略しているが、図２０及び図２１から明らかな様にＺ軸方向から見てＰＤ基板５の領域内に収まっている。

この様にＺ軸方向から見て、入射光処理部２とバッテリー１７とが重なる部位を有するので、入射光処理部２とバッテリー１７とをＺ軸方向と交差する方向、つまり水平方向に並べる構成に比べて、Ｚ軸方向と交差する方向であるＸ軸方向及びＹ軸方向の装置寸法、つまり水平方向の装置寸法を抑制できる。
また本実施形態において入射光処理部２つまり光学フィルターデバイス３とＰＤ基板５は、Ｚ軸方向から見てバッテリー１７の領域内に収まっているので、水平方向の装置寸法をより一層抑制できる。

また図２４は、図２３に示すバッテリー１７の輪郭に代えて、バッテリー１７を保持するバッテリー保持部１００ａ（図７、図１４参照）の輪郭を示している。即ちバッテリー保持部１００ａの観点においても同様に、Ｚ軸方向から見て、入射光処理部２とバッテリー保持部１００ａとが重なる部位を有するので、入射光処理部２とバッテリー保持部１００ａとをＺ軸方向と交差する方向つまり水平方向に並べる構成に比べて、水平方向の装置寸法を抑制できる。

尚、本実施形態では光学フィルターデバイス３及びＰＤ基板５、つまり入射光処理部２が、Ｚ軸方向から見てバッテリー１７或いはバッテリー保持部１００ａの領域内に収まっているが、入射光処理部２の一部がバッテリー１７或いはバッテリー保持部１００ａの領域から外れていても良い。

また本実施形態においてバッテリー１７は、図２３に示す様にＺ軸方向から見て受光部基板８０のＸ軸方向の領域内に収まっている。またバッテリー１７の＋Ｙ方向端部は、受光部基板８０の＋Ｙ方向端部より内側にあり、そしてバッテリー１７の－Ｙ方向端部は、受光部基板８０の－Ｙ方向端部より僅かにはみ出している。但しバッテリー１７がＺ軸方向から見て受光部基板８０の領域内に完全に収まる様に構成しても良い。その様に構成することで、水平方向の装置寸法をより一層抑制できる。

また本実施形態において、図２３に示す様にＺ軸方向から見て表示部１５と受光部基板８０とが重なる部位を有する。

また測色装置１は、入射光処理部２を備える受光部基板８０と、ＬＣＤ６７が接続されるパネル基板６５と、バッテリー１７が接続されるバッテリー制御基板７０と、測定用の光を発する発光部９を備える発光部基板８５とを備えている。
そしてＺ軸方向において装置本体５０の底面５０ｆから上面５０ｅに向かって順に、図８に示す様に発光部基板８５、受光部基板８０、及びパネル基板６５が重畳する様に配置されている。
またＺ軸方向において装置本体５０の底面５０ｆから上面５０ｅに向かって順に、バッテリー制御基板７０、バッテリー１７、及びパネル基板６５が重畳する様に配置されている。
そして本実施形態では、Ｚ軸方向において装置本体５０の底面５０ｆから上面５０ｅに向かって順に、発光部基板８５、受光部基板８０、バッテリー制御基板７０、バッテリー１７、及びパネル基板６５が重畳する様に配置されている。
この様な構成により、Ｚ軸方向と交差する方向であるＸ軸方向及びＹ軸方向つまり水平方向の装置寸法を抑制できる。
尚、バッテリー制御基板７０を設けずに、バッテリー制御基板７０に搭載される電子部品を適宜パネル基板６５や受光部基板８０に配置しても良い。
またＺ軸方向に沿って重畳する様に設ける構成は、発光部基板８５、受光部基板８０、バッテリー制御基板７０、バッテリー１７、及びパネル基板６５のうちの任意の２つ、或いは３つ以上の組み合わせであっても良い。

またバッテリー１７は、装置の長手方向となるＹ軸方向に延びる形状を成し、図２０に示す様にバッテリー１７の＋Ｙ方向の端部である第１端部１７ａが、主筐体５１の、前方内壁面５１ｅと対向している。またバッテリー１７の－Ｙ方向の端部である第２端部１７ｂが、主筐体５１の、後方内壁面５１ｆと対向している。つまりバッテリー１７のＹ軸方向の両端部が、主筐体５１の、Ｙ軸方向の側壁内面と対向している。
このことにより、Ｙ軸方向においてバッテリー１７が偏って配置される構成に比して装置本体５０のＹ軸方向の重量バランスに優れ、装置のハンドリング性が向上する。
尚、本実施形態においてバッテリー１７は、図２１、図２２に示す様にＸ軸方向においても装置の中心位置にあるので、装置本体５０のＸ軸方向の重量バランスにも優れる。

また図３、図４、図２１、及び図２２を参照して説明した様に、装置本体５０の右側面５０ｂと左側面５０ｃには、把持部５０ｇを構成する凹部５１ｇが主筐体５１に形成されており、ユーザーが装置本体５０を容易に且つ確実に把持することが可能に構成されている。ここで図２２、図２５において矢印Ｚａで示す範囲は、Ｚ軸方向における凹部５１ｇの形成範囲であり、そして図２５で示す様に凹部５１ｇとバッテリー１７とは、Ｘ軸方向から見て重なる部位を有することとなる。
このことにより、重量物であるバッテリー１７が把持位置に近い構成となり、装置のハンドリング性が向上する。

また図２２に示す様に、主筐体５１の右壁部５１ｂと左壁部５１ｃにおいて、凹部５１ｇから底面５０ｆの側つまり－Ｚ方向の部位は、Ｘ軸方向においてＬＣＤ６７の一部と同じ位置にある。右壁部５１ｂと左壁部５１ｃの、凹部５１ｇから－Ｚ方向の部位は、符号Ｚ４で示す位置から－Ｚ方向の部位である。このことにより、右壁部５１ｂと左壁部５１ｃの、凹部５１ｇから－Ｚ方向の部位は、図２６に示す様にＺ軸方向から見てＬＣＤ６７と重なる部位を有することとなる。これにより、図２２に示す様に凹部５１ｇから－Ｚ方向における装置部位の、Ｘ軸方向の小型化を図ることができる。

また図２３に示す様に測色装置１は、Ｚ軸方向から見て開口部２１ａと操作部１４とが重なる部位を有する。これにより、ユーザーが開口部２１ａを測定対象２００（図１参照）の測定部位に位置合わせする際に、操作部１４の位置をもとにして位置合わせすることができ、即ち簡易な構成で開口部２１ａを測定部位に位置合わせすることができる。
特に測色装置１はハンディタイプとして構成されており、図２７に示す様にユーザーが指先Ｆｓで操作部１４を操作する際に、指先Ｆａの位置と開口部２１ａの位置とが近くなるので、開口部２１ａの位置が直感的に判り易くなる。

また特に本実施形態では、Ｚ軸方向から見て、開口部２１ａの中心位置と、決定ボタン５４の中心位置とが一致している。
このことにより、より正確に、開口部２１ａを測定部位に位置合わせすることができる。

また図５に示す様に決定ボタン５４はＺ軸方向から見て円形状を成し、決定ボタン５４の周囲には、各種項目を選択する為の十字ボタン６０が配置されている。そして十字ボタン６０には、決定ボタン５４の中心位置から外側に放射する様に目印ラインが設けられている。この目印ラインは、垂直ライン５８ａ、５８ｂと、水平ライン５８ｃ、５８ｄとで構成される。
このことにより装置の上面５０ｅを見た際に、開口部２１ａの中心位置を把握し易くなる。

また操作部１４は、電源ボタン５５及び測定に係わる全てのボタンを上面５０ｅに備えて構成される。このことにより、電源ボタン５５及び測定に係わる全てのボタンを容易に視認することができ、装置の操作を容易に行うことができる。
また操作部１４を含む上面５０ｅが、平坦状に形成されている。これにより、上面５０ｅを下にして載置した場合でも、安定して載置することができる。

また図２８に示す様に、Ｚ軸方向から見てパネル基板６５とバッテリー１７とが重なる部位を有する。図２８は、図２３に示すバッテリー制御基板７０及び受光部基板８０の輪郭に代えて、パネル基板６５の輪郭を示している。Ｚ軸方向から見てパネル基板６５とバッテリー１７とが重なる部位を有することで、パネル基板６５とバッテリー１７とをＸ軸方向或いはＹ軸方向つまり水平方向に並べる構成に比べて、水平方向の装置寸法を抑制できる。
尚、Ｚ軸方向から見て、バッテリー１７がパネル基板６５の領域内に収まる様に構成しても良い。その様に構成することで、水平方向の装置寸法をより一層抑制できる。
また本実施形態では、Ｚ軸方向から見て無線通信部１３がバッテリー１７の領域内に収まる。但し無線通信部１３の一部がバッテリー１７の領域内にあっても良く、或いは無線通信部１３の全体がバッテリー１７の領域外にあっても良い。

また図２９は、図２８に示すバッテリー１７の輪郭に代えて、バッテリー１７を保持するバッテリー保持部１００ａ（図７、図１４参照）の輪郭を示している。即ちバッテリー保持部１００ａの観点においても同様に、Ｚ軸方向から見て、パネル基板６５とバッテリー保持部１００ａとが重なる部位を有するので、パネル基板６５とバッテリー保持部１００ａとをＺ軸方向と交差する方向つまり水平方向に並べる構成に比べて、水平方向の装置寸法を抑制できる。

また図７に示す様に、無線通信部１３はパネル基板６５の下面に設けられるとともに、パネル基板６５がパネル基板支持部１０１ｂに支持された状態で、無線通信部１３はバッテリー保持部１００ａの内側に配置された状態となる。この様に無線通信部１３がバッテリー保持部１００ａの内側を利用して配置されることで、装置の小型化を図ることができる。
ここでバッテリー保持部１００ａからの放熱が無線通信部１３に悪影響を及ぼす虞があるが、バッテリー保持部１００ａには、切り欠き部１００ｂが形成され（図１４も参照）、無線通信部１３は、切り欠き部１００ｂに面する位置に配置される。即ち、バッテリー保持部１００ａを－Ｘ方向から見ると、切り欠き部１００ｂを介して無線通信部１３が露呈することとなる。これにより、バッテリー保持部１００ａからの放熱が無線通信部１３に悪影響を及ぼすことを抑制することができる。

次に、本実施形態においてバッテリー１７は、図２０に示す様にＺ軸方向において操作部１４と入射光処理部２との間に設けられている。上述した様に本実施形態において入射光処理部２は、光学フィルターデバイス３及びＰＤ基板５を備えて成る。図２０において符号Ｚ１で示す位置は、入射光処理部２のうち最も＋Ｚ方向に位置するＰＤ基板５の、最も＋Ｚ方向の位置である。また符号Ｚ３で示す位置は、操作部１４を構成する部位の最も－Ｚ方向の位置であり、具体的には各接点（図２０において符号５４ａ、６１ａ、６２ａ）のＺ方向位置である。そして符号Ｚ２で示す位置は、位置Ｚ１と位置Ｚ３の中間位置である。
ここでバッテリー１７は、内部にサーミスタ１８を備えている。サーミスタ１８は温度検出部の一例であり、ＭＣＵ１０（図１参照）は、サーミスタ１８により取得したバッテリー１７の内部温度が予め定められた許容温度を超えると、バッテリー１７から各構成部位への電力供給をカットする。

そしてサーミスタ１８は、Ｚ軸方向において位置Ｚ２より＋Ｚ方向に位置しており、即ち入射光処理部２より操作部１４に近い位置に配置されている。
ここで本実施形態において入射光処理部２は、測色装置１の構成部位のうち供給された電力の一部が熱に変換される部位の一つであって、その発熱がサーミスタ１８による温度検出に悪影響を及ぼす部位である。入射光処理部２では、特にＰＤ基板５での発熱が顕著となる。しかしながらサーミスタ１８が、入射光処理部２より操作部１４に近い位置に配置されているので、入射光処理部２で生じた熱の、サーミスタ１８への悪影響を抑制することができ、バッテリー１７の温度をより適切に検出することができる。

また上述した様にフレームアセンブリ１００は、バッテリー１７を囲う形状を成すバッテリー保持部１００ａを備えるので（図７参照）、バッテリー１７から生じた熱がバッテリー保持部１００ａによって良好に放熱される。

またサーミスタ１８及び入射光処理部２は、本体アセンブリ１ａ（図７参照）の、Ｙ軸方向の一方側端部、つまり＋Ｙ方向の端部に寄った位置に設けられている。＋Ｙ方向の端部に寄った位置とは、本体アセンブリ１ａのＹ軸方向の中間位置よりも＋Ｙ方向に位置することを意味する。そして本体アセンブリ１ａの、Ｙ軸方向の一方側端部、つまり＋Ｙ方向の端部に寄った位置に、外部機器と有線通信する為の接続部である有線ＩＦ１２を備えている。そしてＺ軸方向においてサーミスタ１８と入射光処理部２との間に、有線ＩＦ１２が位置している。
ここで有線ＩＦ１２は開口部の内側に設けられているので（図３参照）、有線ＩＦ１２の周辺では、装置内部から外部への放熱が促進される。そして図２０に示す様にＺ軸方向においてサーミスタ１８と入射光処理部２との間に、有線ＩＦ１２が位置するので、入射光処理部２で生じた熱が、サーミスタ１８に達する前に有線ＩＦ１２から装置外部に放熱される。このことにより、入射光処理部２で生じた熱の、サーミスタ１８への悪影響を抑制することができる。

また図２０に示す様に表示部１５と操作部１４とが、Ｙ軸方向に沿って配置され、サーミスタ１８は、Ｙ軸方向において操作部１４の領域内に配置される。即ち表示部１５を構成するＬＣＤ６７は、操作部１４よりも相対的に発熱が顕著になり易いが、上述の様にＹ軸方向に沿って表示部１５と操作部１４とが配置された構成においてサーミスタ１８が、Ｙ軸方向において操作部１４の領域内に配置されるので、ＬＣＤ６７で生じた熱の、サーミスタ１８への悪影響を抑制することができる。

また測色装置１は、図７、図１４、図１５に示す様に受光部基板８０及び発光部基板８５を備えるとともに金属材料で形成されたフレームアセンブリ１００を備えている。フレームアセンブリ１００は、装置のベースを成すメインフレーム１０１と、受光部基板８０を保持する受光部基板保持フレーム１０３と、発光部基板８５を保持する発光部基板保持フレーム１０４と、を備えている。そして受光部基板保持フレーム１０３及び発光部基板保持フレーム１０４が、メインフレーム１０１に直接的または間接的に接触する。

より具体的には、本実施形態ではフレームアセンブリ１００を構成する各フレームは上述した様にアルミニウムで形成されている。そして発光部基板保持フレーム１０４は、上述した様にメインフレーム１０１と直接的に接触し、また受光部基板保持フレーム１０３は、発光部基板保持フレーム１０４を介してメインフレーム１０１と間接的に接触する。
この様な構成により、受光部基板８０及び発光部基板８５で生じた熱が、フレームアセンブリ１００の全体に伝わり、装置内部で局所的に温度が上昇することを抑制でき、測色結果等に悪影響を及ぼすことを抑制できる。

尚、本実施形態では、受光部基板保持フレーム１０３は、メインフレーム１０１と間接的に接触するが、メインフレーム１０１と直接的に接触しても良い。また本実施形態では、発光部基板保持フレーム１０４はメインフレーム１０１と直接的に接触するが、メインフレーム１０１と間接的に接触しても良い。
尚、受光部基板保持フレーム１０３或いは発光部基板保持フレーム１０４が他の部材を介してメインフレーム１０１と間接的に接触する場合、前記他の部材は金属材料等の熱伝導性に優れた部材であることが好適である。

またメインフレーム１０１は、図１８に示す様にＹ軸方向及びＺ軸方向に延びるフレーム面、換言すればＹ－Ｚ平面に広いフレーム面を成すメインプレート部１０１ａを有しているので、メインフレーム１０１の表面積が増大し、放熱効率が向上する。

またフレームアセンブリ１００は、図７を参照しつつ上述した様にバッテリー１７を囲う形状を成すバッテリー保持部１００ａを備えるので、バッテリー１７から生じた熱は、バッテリー保持部１００ａに伝わり、メインフレーム１０１及びバッテリー保持フレーム１０２を介して効率的に放熱される。

またバッテリー保持部１００ａは、バッテリー１７を下方から支持する第１壁部としてのバッテリー支持部１０２ａと、バッテリー支持部１０２ａと対向し、バッテリー保持部１００ａの上面側の壁部を形成する第２壁部としてのパネル基板支持部１０１ｂとを有している。またバッテリー保持部１００ａは、Ｘ軸方向においてバッテリー１７を挟んで位置する第３壁部としてのサブプレート部１０１ｃ、及び第４壁部としての第２フレーム部１０２ｃを有している。この様な構成により、バッテリー１７から生じた熱が効率的に放熱される。

また本実施形態においてパネル基板６５及びバッテリー制御基板７０は、メインフレーム１０１に直接的に接触するので、パネル基板６５及びバッテリー制御基板７０から生じた熱がメインフレーム１０１に伝わり、良好に放熱される。
尚、パネル基板６５やバッテリー制御基板７０は、メインフレーム１０１に対して他の部材を介して間接的に接触する構成であっても良い。ここで前記他の部材は、金属材料等の熱伝導性に優れた部材であることが好適である。

[シャッターユニットの構成]
続いて装置本体５０の底部に設けられたシャッターユニット１１０について説明する。図３０～図３４に示す様にシャッターユニット１１０は、シャッター保持部材１１１と、シャッター部材１１２と、リンク部材１１３とを備えて構成されたユニット体である。本実施形態においてシャッター保持部材１１１、シャッター部材１１２、及びリンク部材１１３は樹脂材料で形成される。

リンク部材１１３はＸ軸方向に平行な中心軸線を持つ連結軸１１４を介してシャッター保持部材１１１に対し相対的に回転可能に連結されている。シャッター保持部材１１１において＋Ｘ方向と－Ｘ方向の側面には、第１ガイド軸１２１及び第２ガイド軸１２２が設けられている。またリンク部材１１３において＋Ｘ方向と－Ｘ方向の側面には、第３ガイド軸１２３が設けられている。

開口部形成部材２１において＋Ｘ方向の端部と－Ｘ方向の端部には、図３２、図３３、及び図３５に示す様に第１下ガイド部２１ｃ、第２下ガイド部２１ｄ、及び第３下ガイド部２１ｅがＹ軸方向に沿って形成されている。このうち第１下ガイド部２１ｃ及び第２下ガイド部２１ｄは、－Ｙ方向の端部が、－Ｙ方向に向かって＋Ｚ方向にカーブする形状を成している。また第３下ガイド部２１ｅは、－Ｙ方向に向かって僅かに－Ｚ方向に向かう傾斜状に形成されている。

底部筐体５３において＋Ｘ方向の端部と－Ｘ方向の端部には、図３５に示す様に上述した第１下ガイド部２１ｃとの間で第１ガイド軸１２１を挟む様に第１上ガイド部５３ｃが形成されている。尚、図３５は＋Ｘ方向の端部に位置する第１上ガイド部５３ｃを示している。
同様に底部筐体５３において＋Ｘ方向の端部と－Ｘ方向の端部には、上述した第２下ガイド部２１ｄとの間で第２ガイド軸１２２を挟む様に第２上ガイド部５３ｄが形成されている。尚、図３５は＋Ｘ方向の端部に位置する第２上ガイド部５３ｄを示している。
また同様に底部筐体５３において＋Ｘ方向の端部と－Ｘ方向の端部には、上述した第３下ガイド部２１ｅとの間で第３ガイド軸１２３を挟む様に第３上ガイド部５３ｅが形成されている。尚、図３５は＋Ｘ方向の端部に位置する第３上ガイド部５３ｅを示している。

この様に第１ガイド軸１２１、第２ガイド軸１２２、及び第３ガイド軸１２３は、開口部形成部材２１と底部筐体５３との間でＺ軸方向に挟まれた状態となり、開口部形成部材２１と底部筐体５３とによってＹ軸方向に案内される。
このうち第１ガイド軸１２１と第２ガイド軸１２２はシャッター保持部材１１１に設けられる為、シャッター保持部材１１１の移動軌跡は、第１下ガイド部２１ｃと第１上ガイド部５３ｃ、及び第２下ガイド部２１ｄと第２上ガイド部５３ｄによって規定される。
また第３ガイド軸１２３はリンク部材１１３に設けられる為、リンク部材１１３の移動軌跡は、第３下ガイド部２１ｅと第３上ガイド部５３ｅ、及びシャッター保持部材１１１における連結軸１１４によって規定される。

尚、シャッターユニット１１０の＋Ｙ方向の移動限度、即ち閉塞位置は、底部筐体５３に形成された移動規制部５３ｆに第１ガイド軸１２１が当接することで規定される。またシャッターユニット１１０の－Ｙ方向の移動限度、即ち開放位置は、開口部形成部材２１に形成された移動規制部２１ｆに第１ガイド軸１２１が当接することで規定される。本実施形態において第２ガイド軸１２２及び第３ガイド軸１２３は、シャッターユニット１１０のＹ方向の移動限度を規定しない。

次に、図３１、図３３、図３４、図３６、及び図３７に示す様に、開口部形成部材２１において開口部２１ａが形成された部位の－Ｚ方向の面を符号２１ｇで示している。以下ではこれを、シャッター対向面２１ｇと称する。シャッター対向面２１ｇは、平面視において円環形状を成す平坦な面である。
シャッター対向面２１ｇは、図３４に示す様に底面５０ｆより僅かに＋Ｚ方向に位置しており、即ち底面５０ｆより－Ｚ方向に突出していない。そして閉塞位置にあるシャッターユニット１１０のうちシャッター保持部材１１１は、図３４に示す様に底面５０ｆより－Ｚ方向に突出することとなる。
また閉塞位置にあるシャッターユニット１１０のうちリンク部材１１３は、少なくともシャッター保持部材１１１より－Ｚ方向に突出せず、また、大部分が底面５０ｆから突出していない。

シャッター保持部材１１１の移動軌跡が図３５に示した様に第１下ガイド部２１ｃと第１上ガイド部５３ｃ、及び第２下ガイド部２１ｄと第２上ガイド部５３ｄによって規定される為、シャッター保持部材１１１は閉塞位置から開放位置に向けて移動する場合、図３５から明らかな様に－Ｙ方向に変位しつつ、変位の後半において大きく＋Ｚ方向に移動することとなる。これによりシャッターユニット１１０が開放位置にある場合、シャッター保持部材１１１は図３１や図２０に示す様に、底面５０ｆから－Ｚ方向に突出しない状態となる。

またシャッター保持部材１１１が＋Ｚ方向に移動すると、これに伴い連結軸１１４を介してリンク部材１１３が図３６から図３７への変化で示す様にシャッター保持部材１１１と相対的に回転する。そしてシャッターユニット１１０が開放位置にあるときも、図３７に示す様にリンク部材１１３はシャッター保持部材１１１よりも－Ｚ方向には突出しない。またシャッターユニット１１０が開放位置にある場合、リンク部材１１３は図２０に示す様に全体が底面５０ｆから－Ｚ方向に突出しない状態となる。

次に、底部フレーム１０５には図１５に示す様に軸受部１０５ｃがＸ軸方向に間隔を空けて形成されている。そしてこの軸受部１０５ｃには、図３２、図３４、図３６、図３７に示す様にばね掛け軸１１５が軸支される。そしてこのばね掛け軸１１５に、ばね部材の一例である捩りばね１１７の一端が回転可能に固定される。捩りばね１１７の一端の先端部は、ばね掛け軸１１５を通すことができる様にコイル状に形成されている。
そしてこの捩りばね１１７の他端は、リンク部材１１３に設けられた第３ガイド軸１２３に対し回転可能に固定される。捩りばね１１７の他端の先端部は、第３ガイド軸１２３に通すことができる様にコイル状に形成されている。
以上により捩りばね１１７は、Ｙ－Ｚ平面において回転することができ、換言すれば姿勢変化することができる。

シャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、図３４に示す様に捩りばね１１７が第３ガイド軸１２３つまりシャッターユニット１１０に付与する外力Ｆは、－Ｚ方向成分と＋Ｙ方向成分とを含んでいる。これにより捩りばね１１７は、矢印Ｆｙで示す様にシャッターユニット１１０を＋Ｙ方向に押圧し、つまりシャッターユニット１１０を閉塞位置に向けて押圧し、これによりシャッターユニット１１０が閉塞位置に保持される。

図３６はシャッターユニット１１０が閉塞位置から所定量－Ｙ方向に移動した状態を示している。捩りばね１１７がシャッターユニット１１０を押圧する押圧力Ｆは、シャッターユニット１１０が閉塞位置から後述する中立位置に変位するに従って＋Ｙ方向成分が減少し、やがてＹ軸方向の分力がゼロとなって－Ｚ方向の成分のみとなる。このとき、捩りばね１１７はシャッターユニット１１０を＋Ｙ方向及び－Ｙ方向のいずれにも押圧しない状態となる。以下、この状態におけるシャッターユニット１１０の位置を中立位置と称する。
勿論、シャッターユニット１１０が開放位置から中立位置に変位する場合も同様に、押圧力ＦのＹ軸方向成分は減少し、やがてゼロとなる。

シャッターユニット１１０が中立位置から－Ｙ方向に変位し、即ち開放位置に向けて変位すると、捩りばね１１７がシャッターユニット１１０を押圧する押圧力Ｆは－Ｙ方向成分を含む様になり、この－Ｙ方向成分はシャッターユニット１１０が開放位置に向けて変位するに従って大きくなる。これにより図３７に示す様に、シャッターユニット１１０が開放位置にある場合は、捩りばね１１７がシャッターユニット１１０を押圧する押圧力Ｆが－Ｙ方向成分の押圧力Ｆｙを含み、シャッターユニット１１０が開放位置に保持される。

次に、シャッター保持部材１１１において＋Ｚ方向の側にはシャッター部材１１２が設けられている。シャッター部材１１２において－Ｚ方向の側には図３４、図３６、図３７、図３９に示す様に円筒部１１２ｅが形成されている。シャッター保持部材１１１には、円筒部１１２ｅを受け入れる凹部１１１ｃが形成されている（図４０も参照）。

またシャッター部材１１２において＋Ｚ方向の側には、図４３に示す様に反射基準面となる白色プレート１２５が設けられている。白色プレート１２５は、反射基準値を取得する為に、反射率が１００％に近くなる様に白色を呈している。
白色プレート１２５は、シャッター部材１１２の平面方向、つまりＸ－Ｙ平面における中心領域に位置している。ここで、白色プレート１２５がシャッター部材１１２の平面方向における中心領域に位置するとは、白色プレート１２５の範囲に、シャッター部材１１２の平面方向における中心位置が含まれていることを意味する。シャッター部材１１２の平面方向における中心位置は、シャッター部材１１２のＹ軸方向及びＸ軸方向の中心位置であり、本実施形態では概ね光軸ＣＬに一致し、或いは少なくとも光軸ＣＬの近傍にある。

シャッター部材１１２は、シャッター保持部材１１１に対してＺ軸方向、つまり開口部２１ａに対して接近及び離間する方向に変位可能に設けられている。
より詳しくは、図３８及び図３９に示す様にシャッター部材１１２の＋Ｘ方向と－Ｘ方向の側面には突出部１１２ｄがＹ軸方向に間隔を空けて設けられている。一方、シャッター保持部材１１１の＋Ｘ方向と－Ｘ方向の側面には突出部１１２ｄを受け入れる開口部１１１ｂがＹ軸方向に間隔を空けて設けられている。

開口部１１１ｂのＺ軸方向の大きさは、突出部１１２ｄのＺ軸方向の大きさよりも大きく、これにより突出部１１２ｄは開口部１１１ｂに入り込んだ状態でＺ軸方向に移動可能となっている。これによりシャッター部材１１２が、シャッター保持部材１１１においてＺ軸方向に移動可能に保持される。

図４０に示す様に、シャッター保持部材１１１にはシャッター部材１１２を＋Ｚ方向即ち開口部２１ａに向けて押圧する押圧部材としての板ばね１１８が設けられている。板ばね１１８は、シャッター部材１１２を押圧する押圧部を複数備えており、具体的には３つの押圧部１１８ａを備えている。複数の押圧部１１８ａは、開口部２１ａの周囲に沿った位置にほぼ等間隔で配置されている。

シャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、図３４に示す様にシャッター部材１１２においてシャッター対向面２１ｇと対向する接触面１１２ａが、板ばね１１８の押圧力によってシャッター対向面２１ｇに密着する。接触面１１２ａは、開口部２１ａの周囲つまりシャッター対向面２１ｇに沿う様に円環形状を成している（図４３参照）。接触面１１２ａがシャッター対向面２１ｇに押し当たることにより開口部２１ａが閉塞され、開口部２１ａを介した装置内部への塵埃等の入り込みが抑制される。

次に、図３１、図３３、図４１、図４２に示す様にシャッター対向面２１ｇに対しＸ軸方向の両側には、第１突出リブ２１ｂがＹ軸方向に沿って形成されている。第１突出リブ２１ｂは、開口部形成部材２１から－Ｚ方向に突出するリブである。
またシャッター部材１１２には、図４３に示す様に接触面１１２ａに対しＸ軸方向の両側に第２突出リブ１１２ｂがＹ軸方向に沿って形成されている。第２突出リブ１１２ｂは、シャッター部材１１２から開口部形成部材２１に向けて突出するリブである。

第２突出リブ１１２ｂは第１突出リブ２１ｂと当接可能な位置に形成され、図４１に示す様にシャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、第２突出リブ１１２ｂは第１突出リブ２１ｂに対し＋Ｙ方向に位置し、第１突出リブ２１ｂには当接していない。
第２突出リブ１１２ｂにおける－Ｙ方向端部には、－Ｙ方向に向かって－Ｚ方向に向かう傾斜面１１２ｃが形成されている。また第１突出リブ２１ｂにおける＋Ｙ方向端部には、＋Ｙ方向に向かって＋Ｚ方向に向かう傾斜面２１ｈが形成されている。シャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、傾斜面１１２ｃと傾斜面２１ｈとが対向している。

この状態からシャッターユニット１１０が開放位置に向けて変位すると、第２突出リブ１１２ｂが第１突出リブ２１ｂに当接し、図４１から図４２への変化で示す様に第２突出リブ１１２ｂが第１突出リブ２１ｂとＺ軸方向に重なった状態となる。これによりシャッター部材１１２が、板ばね１１８の押圧力に抗して－Ｚ方向に移動し、図３６に示す様にシャッター対向面２１ｇと接触面１１２ａとの間に隙間が形成される。
この様に第１突出リブ２１ｂと第２突出リブ１１２ｂは、閉塞位置にあるシャッターユニット１１０が開放位置に向けて変位する際に、シャッター部材１１２が開口部形成部材２１から離間する方向にシャッター部材１１２を移動させる移動手段１１９を構成する。
その結果、シャッター対向面２１ｇの摩耗を最小限にすることができる。

次に、図４３～図４５に示す様にシャッター部材１１２には窓部１１２ｆが形成されており、この窓部１１２ｆを介して磁石１２７が露呈する様に設けられている。磁石１２７は、シャッター保持部材１１１に対して接着材或いは両面テープにより固定される。
そして発光部基板８５の下面には磁気センサー１２８が設けられている。

シャッターユニット１１０が開放位置にある場合、図４４に示す様に磁石１２７は磁気センサー１２８とＹ軸方向で重なる位置にある。この状態が、磁石１２７と磁気センサー１２８との直線距離が最も短い状態となる。
これに対しシャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、図４５に示す様に開放位置にある場合よりも磁石１２７と磁気センサー１２８との直線距離が長くなる。この状態が、磁石１２７と磁気センサー１２８との直線距離が最も長い状態となる。
この様な構成により、磁気センサー１２８を開口部２１ａから離れた位置に配置することができ、開口部２１ａ近くに磁気センサー１２８を配置することによる装置の大型化を抑制できる。

磁気センサー１２８は磁気の強度によって検出信号を変化させる磁気センサーであり、シャッターユニット１１０が開放位置にある場合、ＭＣＵ１０（図１参照）に対しＨｉｇｈの検出信号を送出する。また磁気センサー１２８は、シャッターユニット１１０が閉塞位置にある場合、ＭＣＵ１０（図１参照）に対しＬｏｗの検出信号を送出する。即ち磁気センサー１２８は、シャッターユニット１１０の変位に応じて検出信号を変化させる検出手段である。
これによりＭＣＵ１０は、シャッターユニット１１０が閉塞位置にあるか開放位置にあるかを検知することができる。

以上の様にシャッターユニット１１０は、閉塞位置にある際に開口部２１ａを閉塞するシャッター部材１１２と、シャッター部材１１２が開口部２１ａに対し接近及び離間する方向に変位可能となる様にシャッター部材１１２を保持するシャッター保持部材１１１と、シャッター部材１１２を開口部２１ａに向けて押圧する押圧部材の一例である板ばね１１８とを備えて構成されている。
これにより部品の製造誤差や組立誤差、或いは使用に伴う摩耗等が生じても、シャッター部材１１２が開口部２１ａに向けて押圧されることでシャッター部材１１２と開口部２１ａとの間に隙間が生じることを抑制できる。その結果、開口部２１ａへの塵埃等の侵入を良好に抑制できる。

また板ばね１１８は、複数の押圧部１１８ａ、即ち開口部２１ａの周囲に沿った複数の位置でシャッター部材１１２を押圧するので、シャッター部材１１２が開口部２１ａの特定位置に偏って押圧されることが抑制され、シャッター部材１１２によって開口部２１ａを良好に閉塞することができる。

また閉塞位置にあるシャッターユニット１１０が開放位置に向けて変位する際に、シャッター部材１１２が開口部形成部材２１から離間する方向にシャッター部材１１２を移動させる移動手段１１９が設けられている。従って開口部形成部材２１において開口部２１ａを形成する部位であるシャッター対向面２１ｇと、シャッター部材１１２において開口部２１ａを閉塞する部位である接触面１１２ａとの摩耗が抑制される。その結果、開口部２１ａとシャッター部材１１２との間に隙間が生じ、塵埃等が入り込む虞を抑制できる。

また移動手段１１９は、開口部形成部材２１に形成され、シャッター部材１１２に向けて突出する第１突出リブ２１ｂと、シャッター部材１１２に形成され、開口部形成部材２１に向けて突出する第２突出リブ１１２ｂとを備えて構成される。そしてシャッターユニット１１０が閉塞位置にある際に、第１突出リブ２１ｂは第２突出リブ１１２ｂと非接触状態にあり、閉塞位置にあるシャッターユニット１１０が開放位置に向けて変位する際に第２突出リブ１１２ｂが第１突出リブ２１ｂに乗り上がることで、シャッター部材１１２が開口部形成部材２１から離間する方向に移動する。この様な構成により、移動手段１１９を低コストに構成できる。

またシャッターユニット１１０は、シャッター保持部材１１１より開放位置の側に位置するとともに、シャッター保持部材１１１に対して相対的に回転可能に連結されるリンク部材１１３を備えている。シャッター保持部材１１１は、シャッターユニット１１０が閉塞位置にある際に底面５０ｆから突出し、シャッターユニット１１０が開放位置にある際に底面５０ｆから突出しない状態となる。リンク部材１１３は、シャッター保持部材１１１と相対的に回転することにより、シャッターユニット１１０の位置に拘わらずシャッター保持部材１１１よりも底面５０ｆから突出しない状態を維持する。
これにより、シャッター保持部材１１１とリンク部材１１３とが一体とされた構成に比べて、特にシャッターユニット１１０が閉塞位置にある際の装置の小型化を図ることができる。

またリンク部材１１３を開放位置及び閉塞位置に向けて押圧する捩りばね１１７を備え、捩りばね１１７がシャッターユニット１１０の変位に伴い姿勢変化する。これにより、シャッターユニット１１０が中立位置より閉塞位置の側にある際に捩りばね１１７がリンク部材１１３を閉塞位置に向けて押圧する（図３４参照）。また、シャッターユニット１１０が中立位置より開放位置側にある際に、捩りばね１１７がリンク部材１１３を開放位置に向けて押圧する（図３６、図３７参照）。この様な構成により、シャッターユニット１１０を閉塞位置と開放位置とに維持する手段を低コストに構成できる。

尚、図４６はシャッターユニット１１０の位置を模式的に示しており、位置Ｙａ１はシャッターユニット１１０の閉塞位置を示し、位置Ｙａ２は開放位置を示し、位置Ｙａｃは中立位置を示している。符号Ａ１は閉塞位置Ｙａ１と中立位置Ｙａｃとの間のシャッターユニット１１０の移動範囲を示し、符号Ａ２は開放位置Ｙａ２と中立位置Ｙａｃとの間のシャッターユニット１１０の移動範囲を示している。

ここで、図３５を参照して説明した第１ガイド軸１２１、第２ガイド軸１２２、及び第３ガイド軸１２３と、開口部形成部材２１、及び底部筐体５３との間の摩擦等によって、シャッターユニット１１０が中立位置Ｙａｃよりやや閉塞位置Ｙａ１の側にあっても、シャッターユニット１１０は移動せず停止した状態を維持する場合がある。同様にシャッターユニット１１０が中立位置Ｙａｃよりやや開放位置Ｙａ２の側にあっても、シャッターユニット１１０は移動せず停止した状態を維持する場合がある。
図４６において範囲Ｋで示す範囲は、この様にシャッターユニット１１０が停止した状態を維持する領域である。以下、これをシャッターユニット１１０の停止領域Ｋと称する。

次に、上述した様にシャッター部材１１２において開口部２１ａに面する位置には、反射率の基準とする反射基準面を形成する白色プレート１２５が設けられている。
そしてシャッター部材１１２が板ばね１１８によって開口部２１ａに向けて押圧される構成を備えるので、白色プレート１２５の位置や向きがばらつき難く、適切な基準値を得ることができる。

尚、シャッターユニット１１０及びこれに関連する構成は、図４７～図５０に示す様に変形することができる。尚、図４７～図５０において既に説明した構成と同一の構成には同一符号を付しており、以下では重複する説明は避けるものとする。
図４７及び図４８においてシャッターユニット１１０Ａは、シャッター保持部材１１１Ａと、リンク部材１１３Ａと、第２リンク部材１３０とを備えて構成されている。シャッター保持部材１１１Ａとリンク部材１１３Ａとは連結軸１１４を介して相対的に回転可能に連結されている。リンク部材１１３Ａと第２リンク部材１３０とは第２連結軸１３１を介して相対的に回転可能に連結されている。

開口部形成部材２１ＡにはＸ軸方向に平行な回転軸１３２が軸支されており、第２リンク部材１３０はこの回転軸１３２を中心としてＹ－Ｚ平面で回転可能に設けられている。開口部形成部材２１ＡにはＸ軸方向に間隔を空けて捩りばね１３３が設けられている。捩りばね１３３の一端は開口部形成部材２１Ａの一部に対し回転可能に掛けられ、捩りばね１３３の他端は第２リンク部材１３０に掛けられている。

図４７はシャッターユニット１１０Ａが閉塞位置にある状態を示しており、図４８はシャッターユニット１１０Ａが開放位置にある状態を示している。図４７から図４８への変化、或いは図４８から図４７への変化で示す様に、シャッターユニット１１０Ａの変位に伴い、シャッター保持部材１１１Ａとリンク部材１１３Ａとが相対的に回転し、またリンク部材１１３Ａと第２リンク部材１３０とが相対的に回転する。
このとき、捩りばね１３３が上述した捩りばね１１７（図３２参照）と同様に姿勢変化する。これによりシャッターユニット１１０Ａが閉塞位置と中立位置との間にある場合、捩りばね１３３はシャッターユニット１１０Ａを閉塞位置に向けて押圧する。またシャッターユニット１１０Ａが開放位置と中立位置との間にある場合、捩りばね１３３はシャッターユニット１１０Ａを開放位置に向けて押圧する。

次に、図４９及び図５０においてシャッターユニット１１０Ｂは、シャッター保持部材１１１Ｂと、リンク部材１１３Ｂとを備えて構成されている。シャッター保持部材１１１Ｂとリンク部材１１３Ｂとは第１連結部１４０を介して相対的に回転可能に連結されている。
リンク部材１１３Ｂには、Ｘ軸方向に沿って延びる第２連結部１４１が形成されている。第２連結部１４１には、連結部材１４２がＸ軸方向にスライド可能に嵌合している。

開口部形成部材２１Ｂには回転軸１４４が一体に形成されており、回転軸１４４にはアーム部材１４３がＸ－Ｙ平面で回転可能となる様に設けられている。アーム部材１４３と連結部材１４２とはＺ軸方向に平行な中心軸線を持つリンク軸１４３ａを介して相対的に回転可能となる様に連結されている。そしてアーム部材１４３に対し＋Ｚ方向には、開口部形成部材２１Ｂとアーム部材１４３との間でばね力を生じさせる不図示の捩りばねが設けられている。

図４９はシャッターユニット１１０Ｂが閉塞位置にある状態を示しており、図５０はシャッターユニット１１０Ｂが開放位置にある状態を示している。図４９から図５０への変化、或いは図５０から図４９への変化で示す様に、シャッターユニット１１０Ｂの変位に伴い、シャッター保持部材１１１Ｂとリンク部材１１３Ｂとが相対的に回転する。
またアーム部材１４３が回転し、これに伴いアーム部材１４３と連結部材１４２とが相対的に回転する。このとき、連結部材１４２は第２連結部１４１をＸ軸方向に沿ってスライドする。

アーム部材１４３の回転に伴い、アーム部材１４３に対し＋Ｚ方向に位置する不図示の捩りばねが姿勢変化する。これによりシャッターユニット１１０Ｂが閉塞位置と中立位置との間にある場合、捩りばねはシャッターユニット１１０Ｂを閉塞位置に向けて押圧する。またシャッターユニット１１０Ｂが開放位置と中立位置との間にある場合、捩りばねはシャッターユニット１１０Ｂを開放位置に向けて押圧する。
シャッターユニット１１０及びこれに関連する構成は、以上の様に変形することができる。

次に、測色装置１は上述した様に、シャッターユニット１１０の変位に応じて検出信号を変化させる磁気センサー１２８を備える。これにより、シャッターユニット１１０の位置を把握することができ、シャッターユニット１１０の位置に応じた適切な制御を行うことができる。

また磁気センサー１２８は、磁気の強度によって検出信号を変化させるセンサーであるので、光学センサーのように検出光を透過させる為の開口等を専用に設ける必要がなく、余分な開口の形成に伴う装置の気密性の低下を回避できる。
但しシャッターユニット１１０の位置を検出する為の検出手段として、光学センサー、静電容量型近接センサー、誘導形近接センサーなどのその他の方式の非接触式センサーや、或いは接触式のセンサーを用いることも可能である。

以下、磁気センサー１２８から検出信号を受ける制御部であるＭＣＵ１０（図１参照）が行う制御について図５１～図５３を参照して説明する。
図５１においてＭＣＵ１０は、電源がオンの状態で電源ボタン５５（図５等参照）が押下された際、即ち装置の電源オフ指令を受けた際（ステップＳ１０１においてYes）、シャッターユニット１１０が閉塞位置にあれば（ステップＳ１０２においてYes）、装置の電源オフ処理に移行する（ステップＳ１０３）。
これに対しシャッターユニット１１０が開放位置にあれば（ステップＳ１０２においてNo）、電源オフへの移行を保留する。そして本実施例では、シャッターユニット１１０が開放位置にある旨のアラートを表示部１５（図５等参照）に表示させる（ステップＳ１０４）。

これにより、シャッターユニット１１０が開放位置にある状態のままで装置が電源オフとされず、装置が電源オフの状態で開口部２１ａを介して装置内部に塵埃等が侵入することを抑制できる。
また、シャッターユニット１１０が開放位置にある旨のアラートを表示部１５に表示させるので、ユーザービリティが向上する。尚、シャッターユニット１１０が開放位置にある旨のアラートは、例えば「シャッターが開いています。閉じて下さい。」などのメッセージ表示とすることができる。

次に、図５２においてＭＣＵ１０は、白色プレート１２５（図４３等参照）を利用して基準値を取得するタイミングと判断すると（ステップＳ２０１においてYes）、シャッターユニット１１０が閉塞位置にあるか否かを判断する（ステップＳ２０２）。その結果シャッターユニット１１０が閉塞位置にあれば（ステップＳ２０２においてYes）、基準値の取得処理を実行する（ステップＳ２０３）。これに対しシャッターユニット１１０が開放位置にあれば（ステップＳ２０２においてNo）、基準値の取得を保留する。尚この場合、本実施例ではシャッターユニット１１０が開放位置にある旨のアラートを表示部１５（図５等参照）に表示させる（ステップＳ２０４）。これにより、白色プレート１２５を用いて適切に基準値を取得することができる。
尚、基準値を取得するタイミングは、例えば電源オフの状態から電源ボタン５５（図５等参照）が押下された際、即ち装置の電源オン指令を受けた際や、装置の電源オン状態において予め定められた時間が経過した際などが挙げられる。

次に、図５３においてＭＣＵ１０は、決定ボタン５４（図５等参照）が押下された際、即ち測色の実行指令を受けた際（ステップＳ３０１においてYes）、シャッターユニット１１０が開放位置にあれば（ステップＳ３０２においてYes）、測色処理を実行する（ステップＳ３０３）。
これに対しシャッターユニット１１０が閉塞位置にあれば（ステップＳ３０２においてNo）、測色処理を保留する。そして本実施例では、シャッターユニット１１０が閉塞位置にある旨のアラートを表示部１５（図５等参照）に表示させる（ステップＳ３０４）。この様な制御により、適切な測色値を取得することができる。
尚、測色の実行指令を受けた際（ステップＳ３０１においてYes）、シャッターユニット１１０が開放位置にあれば（ステップＳ３０２においてYes）、測色処理を実行し（ステップＳ３０３）、シャッターユニット１１０が開放位置にあれば（ステップＳ３０２においてNo）、白色プレート１２５を用いて基準値を取得した後に、ステップＳ３０４の処理に移行しても良い。

また図４６において、シャッターユニット１１０の変位領域（Ａ１＋Ａ２）において磁気センサー１２８がシャッターユニット１１０の閉塞位置を示す検出信号を送出する領域Ｂ１は、中立位置Ｙａｃから閉塞位置Ｙａ１側にマージンＭを設けて設定されている。尚、図４６において位置Ｙｂｃは、磁気センサー１２８の検出信号の切り換わり位置を示しており、領域Ｂ１ではシャッターユニット１１０が閉塞位置にあることを示す検出信号を送出し、領域Ｂ２ではシャッターユニット１１０が開放位置にあることを示す検出信号を送出する。
特に本実施形態では、領域Ｂ１は、上述したシャッターユニット１１０の停止領域Ｋよりも更に閉塞位置Ｙａ１の側に設定されている。
このことにより、磁気センサー１２８がシャッターユニット１１０の閉塞位置を示す検出信号を送出する場合は、シャッターユニット１１０が確実に閉塞位置にあることとなる。これにより、シャッターユニット１１０が中途半端な位置にあるにも拘わらず閉塞位置にあると判断される虞がなく、ひいては白色プレート１２５を用いた基準値の取得を確実に行うことができる。

本発明は上記において説明した各実施形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載した発明の範囲内で、種々の変形が可能であり、それらも本発明の範囲内に含まれるものであることは言うまでもない。
例えば上述した実施形態では、測色装置１はバッテリー１７を内蔵しているが、バッテリー１７が取り外し可能に構成されていても良く、即ち測色装置１としてバッテリー１７を内蔵しない構成であっても良い。またその場合、バッテリー１７は繰り返しの充放電を行わない一次電池であっても良い。

また本実施形態において入射光処理部２は、光学フィルターデバイス３と受光部４とを備えて構成され、光学フィルターデバイス３は入射した光のうち所定波長成分を透過させる波長可変型のファブリペローエタロンであるが、これに限られない。例えば、分光方法として、回析格子を用いた分光方法を用いても良い。また、測色原理として色彩の元となる３つの刺激値を直接測定する刺激値直読法を採用した装置構成であっても良い。
また発光部９に用いる発光素子として本実施形態ではＬＥＤを用いるが、これに限られず、例えばキセノンランプを用いても良い。

１…測色装置、１ａ…本体アセンブリ、２…入射光処理部、３…光学フィルターデバイス、４…受光部、４ａ…フォトダイオード、５…ＰＤ基板、６…静電容量検出部、７…バンドパスフィルター、９…発光部、１０…ＭＣＵ、１１…、１２…有線ＩＦ、１３…無線通信部、１４…操作部、１５…表示部、１６…バッテリー制御部、１７…バッテリー、１７ａ…第１端部、１７ｂ…第２端部、１８…サーミスタ、２１…開口部形成部材、２１ａ…開口部、２１ｂ…第１突出リブ、２１ｃ…第１下ガイド部、２１ｄ…第２下ガイド部、２１ｅ…第３下ガイド部、２１ｆ…移動規制部、２１ｇ…シャッター対向面、２１ｈ…傾斜面、２８…弾性材、２９…遮蔽シート、３０…第１ガラス部材、３１…第２ガラス部材、３２…ケース、３３…接合部材、３４…固定材、３５…ワイヤーボンディング、３６…電極、３７…ベース基板、３８…ダイアフラム基板、３９…ミラー、４０…固定電極、４１…可動電極、４２…ダイアフラム部、４３…接合膜、４５…波長可変干渉フィルター、
５０…装置本体、５０ａ…前面、５０ｂ…右側面、５０ｃ…左側面、５０ｄ…後面、５０ｅ…上面、５０ｆ…底面、５０ｇ…把持部、５０ｍ…開口、５１…主筐体、５１ａ…前方壁部、５１ｂ…右壁部、５１ｃ…左壁部、５１ｄ…後方壁部、５１ｅ…前方内壁面、５１ｆ…後方内壁面、５１ｇ…凹部、５２…上部筐体、５３…底部筐体、５３ａ…開口部、５３ｃ…第１上ガイド部、５３ｄ…第２上ガイド部、５３ｅ…第３上ガイド部、５３ｆ…移動規制部、５４…決定ボタン、５４ａ…接点、５５…電源ボタン、５５ａ…接点、５６…戻るボタン、５６ａ…接点、５７…表示部カバー、５８ａ、５８ｂ…垂直ライン、５８ｃ、５８ｄ…水平ライン、６０…十字ボタン、６１…上ボタン、６１ａ…接点、６２…下ボタン、６２ａ…接点、６３…左ボタン、６３ａ…接点、６４…右ボタン、６４ａ…接点、
６５…パネル基板、６６…ＬＣＤ接続部、６７…ＬＣＤ、６７ａ…ケーブル、６８…第１基板接続コネクタ、７０…バッテリー制御基板、７１…リセットスイッチ、７２…第１バッテリーコネクタ、７３…第２バッテリーコネクタ、７４…第２基板接続コネクタ、
８０…受光部基板、８１…受光モジュール、８２…第３基板接続コネクタ、８３…第４基板接続コネクタ、８４…第５基板接続コネクタ、８５…発光部基板、８６…発光素子、８７…集光部材、８７ａ…測定用窓部、８８…第６基板接続コネクタ、８９…遮光部材、９０…ＦＦＣ、９１…接続ケーブル、９２…第１バッテリーケーブル、９３…第２バッテリーケーブル、
１００…フレームアセンブリ、１００ａ…バッテリー保持部、１００ｂ…切り欠き部、
１０１…メインフレーム、１０１ａ…メインプレート部、１０１ｂ…パネル基板支持部、１０１ｃ…サブプレート部、１０１ｄ…規制部、１０１ｅ…バッテリー制御基板支持部、１０１ｆ…フレーム保持部、１０２…バッテリー保持フレーム、１０２ａ…バッテリー支持部、１０２ｂ…第１フレーム部、１０２ｃ…第２フレーム部、１０３…受光部基板保持フレーム、１０３ａ…受光部基板支持部、１０３ｂ…ベース部、１０４…発光部基板保持フレーム、１０４ａ、１０４ｂ…フレーム支持部、１０５…底部フレーム、１０５ａ…第１プレート部、１０５ｂ…第２プレート部、１０５ｃ…軸受部、
１１０…シャッターユニット、１１１…シャッター保持部材、１１１ａ…リブ、１１１ｂ…開口部、１１１ｃ…凹部、１１２…シャッター部材、１１２ａ…接触面、１１２ｂ…第２突出リブ、１１２ｃ…傾斜面、１１２ｄ…突出部、１１２ｅ…円筒部、１１２ｆ…窓部、
１１３…リンク部材、１１４…連結軸、１１５…ばね掛け軸、１１７…捩りばね、１１８…板ばね、１１８ａ…押圧部、１１９…移動手段、１２１…第１ガイド軸、１２２…第２ガイド軸、１２３…第３ガイド軸、１２５…白色プレート、１２７…磁石、１２８…磁気センサー、１３０…第２リンク部材、１３１…第２連結軸、１３２…回転軸、１３３…捩りばね、１４０…第１連結部、１４１…第２連結部、１４２…連結部材、１４３…アーム部材、１４３ａ…リンク軸、１４４…回転軸、２００…測定対象

Claims (15)

1. 装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、
   前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、
   前記底面に沿った方向にスライドすることにより前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、
   前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段と、
   前記検出手段から検出信号を受ける制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、前記反射基準面を利用して基準値を取得するタイミングと判断すると、前記検出信号に基づき前記シャッターユニットの位置を判断し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記基準値を取得し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば前記基準値の取得を保留し、
   前記シャッターユニットは、
   前記反射基準面を備えるとともに前記閉塞位置にある際に前記開口部を閉塞するシャッター部材と、
   前記シャッター部材が前記開口部に対し進退する進退方向に変位可能となる様に前記シャッター部材を保持するシャッター保持部材と、
   前記シャッター部材を前記開口部に向けて押圧する押圧部材と、
   を備え、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に前記シャッター部材を移動させる移動手段を備える、
   ことを特徴とする測色装置。
2. 装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、
   前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、
   前記底面に沿った方向にスライドすることにより前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、
   前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段と、
   前記検出手段から検出信号を受ける制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、前記反射基準面を利用して基準値を取得するタイミングと判断すると、前記検出信号に基づき前記シャッターユニットの位置を判断し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記基準値を取得し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば前記基準値の取得を保留し、
   前記シャッターユニットは、
   前記反射基準面を備えるとともに前記閉塞位置にある際に前記開口部を閉塞するシャッター部材と、
   前記シャッター部材が前記開口部に対し進退する進退方向に変位可能となる様に前記シャッター部材を保持するシャッター保持部材と、
   前記シャッター部材を前記開口部に向けて押圧する押圧部材と、
   を備え、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に前記シャッター部材を移動させる移動手段を備え、
   前記移動手段は、前記開口部形成部材に形成され、前記シャッター部材に向けて突出する第１突出リブと、
   前記シャッター部材に形成され、前記開口部形成部材に向けて突出する第２突出リブと、を備え、
   前記シャッターユニットが前記閉塞位置にある際に、前記第１突出リブは前記第２突出リブと非接触状態にあり、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に前記第２突出リブが前記第１突出リブに乗り上がることで、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に移動する、
   ことを特徴とする測色装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の測色装置において、
   前記基準値を取得するタイミングは、装置の電源オフの状態から電源オン指令を受けた際、及び装置の電源オン状態において予め定められた時間が経過した際の少なくともいずれかである、
   ことを特徴とする測色装置。
4. 装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、
   前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、
   前記底面に沿った方向にスライドすることにより前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、
   前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段と、
   前記検出手段から検出信号を受ける制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記検出信号に基づき前記シャッターユニットの位置を判断し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記反射基準面を利用して基準値を取得し、
   前記シャッターユニットは、
   前記反射基準面を備えるとともに前記閉塞位置にある際に前記開口部を閉塞するシャッター部材と、
   前記シャッター部材が前記開口部に対し進退する進退方向に変位可能となる様に前記シャッター部材を保持するシャッター保持部材と、
   前記シャッター部材を前記開口部に向けて押圧する押圧部材と、
   を備え、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に前記シャッター部材を移動させる移動手段を備える、
   ことを特徴とする測色装置。
5. 装置の底面に配置された開口部形成部材に形成され、測定対象から届く光を装置内部に取り入れる為の開口部と、
   前記開口部を通って入射した光を処理する入射光処理部と、
   前記底面に沿った方向にスライドすることにより前記開口部を覆う閉塞位置と前記開口部を開放する開放位置との間で変位可能なユニットであって、前記開口部に面する位置に反射率の基準とする反射基準面を有するシャッターユニットと、
   前記シャッターユニットの変位に応じ、出力する検出信号を変化させる検出手段と、
   前記検出手段から検出信号を受ける制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、測色の実行指令を受けた際、前記検出信号に基づき前記シャッターユニットの位置を判断し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば測色を実行し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば前記反射基準面を利用して基準値を取得し、
   前記シャッターユニットは、
   前記反射基準面を備えるとともに前記閉塞位置にある際に前記開口部を閉塞するシャッター部材と、
   前記シャッター部材が前記開口部に対し進退する進退方向に変位可能となる様に前記シャッター部材を保持するシャッター保持部材と、
   前記シャッター部材を前記開口部に向けて押圧する押圧部材と、
   を備え、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に前記シャッター部材を移動させる移動手段を備え、
   前記移動手段は、前記開口部形成部材に形成され、前記シャッター部材に向けて突出する第１突出リブと、
   前記シャッター部材に形成され、前記開口部形成部材に向けて突出する第２突出リブと、を備え、
   前記シャッターユニットが前記閉塞位置にある際に、前記第１突出リブは前記第２突出リブと非接触状態にあり、
   前記閉塞位置にある前記シャッターユニットが前記開放位置に向けて変位する際に前記第２突出リブが前記第１突出リブに乗り上がることで、前記シャッター部材が前記開口部形成部材から離間する方向に移動する、
   ことを特徴とする測色装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の測色装置において、前記検出手段は、磁気の強度によって検出信号を変化させる磁気センサーで構成される、
   ことを特徴とする測色装置。
7. 請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の測色装置において、
   前記制御部は、装置の電源をオフする指令である電源オフ指令を受けた際、前記検出信号に基づき前記シャッターユニットの位置を判断し、前記シャッターユニットが前記閉塞位置にあれば装置の電源オフに移行し、前記シャッターユニットが前記開放位置にあれば装置の電源オフへの移行を保留する、
   ことを特徴とする測色装置。
8. 請求項７に記載の測色装置において、前記制御部は、装置の電源オフ指令を受けた際、前記シャッターユニットが前記開放位置にあると、前記シャッターユニットが前記開放位置にある旨のアラートを、各種表示を行う表示部に表示させる、
   ことを特徴とする測色装置。
9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の測色装置において、前記シャッターユニットを前記開放位置及び前記閉塞位置に向けて押圧するばね部材と、
   前記シャッターユニットを構成するリンク部材と、を備え、
   前記ばね部材が前記シャッターユニットの変位に伴い姿勢変化することで、前記シャッターユニットが前記閉塞位置と前記開放位置との間の中立位置より前記閉塞位置側にある際に前記ばね部材が前記リンク部材を前記閉塞位置に向けて押圧し、
   前記シャッターユニットが前記中立位置より前記開放位置側にある際に前記ばね部材が前記リンク部材を前記開放位置に向けて押圧する、
   ことを特徴とする測色装置。
10. 請求項９に記載の測色装置において、前記シャッターユニットの変位領域において前記検出手段が前記閉塞位置を示す検出信号を送出する領域は、前記中立位置から前記閉塞位置側にマージンを設けて設定されている、
    ことを特徴とする測色装置。
11. 請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の測色装置において、
    前記押圧部材は、前記開口部の周囲に沿った複数の位置で前記シャッター部材を押圧する、
    ことを特徴とする測色装置。
12. 請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の測色装置において、前記反射基準面は、前記シャッター部材の平面方向における中心領域に位置する、
    ことを特徴とする測色装置。
13. 請求項６に記載の測色装置において、前記シャッターユニットに、前記磁気センサーによって検出される磁石を備え、
    前記磁気センサーと前記磁石との直線距離は、前記シャッターユニットが前記開放位置にある場合よりも、前記閉塞位置にある場合が相対的に長い、
    ことを特徴とする測色装置。
14. 請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載の測色装置において、前記入射光処理部は、入射した光のうちの所定波長成分を透過させる波長可変型の光学フィルターと、
    前記光学フィルターを透過した光を受ける受光部と、を備える、
    ことを特徴とする測色装置。
15. 請求項１４に記載の測色装置において、前記光学フィルターは、ファブリペローエタロンである、
    ことを特徴とする測色装置。