JPH01100208A - 真空含浸装置 - Google Patents
真空含浸装置Info
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- JPH01100208A JPH01100208A JP25472187A JP25472187A JPH01100208A JP H01100208 A JPH01100208 A JP H01100208A JP 25472187 A JP25472187 A JP 25472187A JP 25472187 A JP25472187 A JP 25472187A JP H01100208 A JPH01100208 A JP H01100208A
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Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鋳物、ダイキャスト、低圧鋳造等により多量
に生産される鋳鉄、銅合金類、アルミ亜鉛合金類からな
る各種機械部品の気密洩れを、主として有機質の含浸液
を使用して封止するための真空含浸装置に関するもので
ある。
に生産される鋳鉄、銅合金類、アルミ亜鉛合金類からな
る各種機械部品の気密洩れを、主として有機質の含浸液
を使用して封止するための真空含浸装置に関するもので
ある。
従来、上記のごとき材質で多量に生産された各種機械部
品で空気、ガス、水、油等に対する気密性が要求される
ものとしては、例えば自動車、オートバイ用部品、ガス
、水道、家庭用部品等種々の6のがあるが、その機械加
工完了後に気密耐圧テストを行ない、少しでも洩れのあ
る部品は不良品として、その洩れの程度に応じて廃棄処
分にするか、爆接で洩れを止めるか、あるいは熱を加え
るのが具合が悪い場合は、無a質または有機質の含浸液
で洩れを止めることが採用されている。
品で空気、ガス、水、油等に対する気密性が要求される
ものとしては、例えば自動車、オートバイ用部品、ガス
、水道、家庭用部品等種々の6のがあるが、その機械加
工完了後に気密耐圧テストを行ない、少しでも洩れのあ
る部品は不良品として、その洩れの程度に応じて廃棄処
分にするか、爆接で洩れを止めるか、あるいは熱を加え
るのが具合が悪い場合は、無a質または有機質の含浸液
で洩れを止めることが採用されている。
この目的で使用される含浸液としては、以前から水ガラ
スを主体としてこれに無機質の微粉、例えばベントナイ
ト、べんがら等を混合捏和したものが主として使われて
いたが、これはその単価が安く、かつ耐熱度が高いとい
う長所はあるが、気密洩れを封止する力は弱く、洩れの
程度が少し大きいものには封止の効果があまりなく、分
留り率は40から50%と悪かった。
スを主体としてこれに無機質の微粉、例えばベントナイ
ト、べんがら等を混合捏和したものが主として使われて
いたが、これはその単価が安く、かつ耐熱度が高いとい
う長所はあるが、気密洩れを封止する力は弱く、洩れの
程度が少し大きいものには封止の効果があまりなく、分
留り率は40から50%と悪かった。
一方、比較的大型の部品、例えば単品重量がアルミ合金
で2から3 kg以上のものになると、材料代に加工賃
名入れると、相当な金額となり、不良品として処分する
わけにいかず、何とかして含浸で気密洩れを封止しよう
という強い要請がなされている。
で2から3 kg以上のものになると、材料代に加工賃
名入れると、相当な金額となり、不良品として処分する
わけにいかず、何とかして含浸で気密洩れを封止しよう
という強い要請がなされている。
□そのような要請に応えうるちのとして考えられたのが
有機質の含浸液であり、アクリル系、エポキシ系、ポリ
エステル系6種々のものがあるが、使い勝手の良いのは
含浸後の洗滌がしやすいアクリル系の水溶性の樹脂であ
る。
有機質の含浸液であり、アクリル系、エポキシ系、ポリ
エステル系6種々のものがあるが、使い勝手の良いのは
含浸後の洗滌がしやすいアクリル系の水溶性の樹脂であ
る。
この樹脂には硬化方法が2種類あって、1つは70から
80℃で一定時間経過すると硬化する熱硬化性樹脂であ
り、もう1つは酸素と絶縁すると硬化する嫌気性硬化樹
脂である。
80℃で一定時間経過すると硬化する熱硬化性樹脂であ
り、もう1つは酸素と絶縁すると硬化する嫌気性硬化樹
脂である。
熱硬化性樹脂は気密洩れに対する封止の分留りは80%
以上と良好で、また、嫌気性硬化樹脂においては分留り
が殆んど100%の成績であり、従って、これらのもの
は価格も高く、1ドラム当り60万円から90万円と無
機質の含浸液と比べると10から15倍もするが、それ
でも分留り率を上昇させるためには使用せざるを得ない
のが現状である。
以上と良好で、また、嫌気性硬化樹脂においては分留り
が殆んど100%の成績であり、従って、これらのもの
は価格も高く、1ドラム当り60万円から90万円と無
機質の含浸液と比べると10から15倍もするが、それ
でも分留り率を上昇させるためには使用せざるを得ない
のが現状である。
以上のごとき事情により、高価な有機質の含浸液が使用
されているが、前記のごとく、含浸しなければならない
機械部品は鋳造、グイキャスト、低圧鋳造等で作られた
ものが殆んどであり、そのことはその形状が非常に複雑
なものが多く、かつ機械加工が進んだ品物であれば更に
凹み穴等が多くなり、実際に気密洩れを起す部分、即ち
巣の内容積に比べて部品の外周、内周部分に付着したり
、凹み部分に溜ったまま外部に持出される含浸液量の方
がはるかに多いという問題がある。
されているが、前記のごとく、含浸しなければならない
機械部品は鋳造、グイキャスト、低圧鋳造等で作られた
ものが殆んどであり、そのことはその形状が非常に複雑
なものが多く、かつ機械加工が進んだ品物であれば更に
凹み穴等が多くなり、実際に気密洩れを起す部分、即ち
巣の内容積に比べて部品の外周、内周部分に付着したり
、凹み部分に溜ったまま外部に持出される含浸液量の方
がはるかに多いという問題がある。
そこで、少しでも含浸液の有効使用率を上げるために考
えられたのが含浸法の部品を遠心骨i機にかけることで
、これにより周囲に付着した余分の含浸液を除去し、回
収して、これにより高価な含浸液の無駄な消費を減らす
と共に、後工程の水洗においてもその部分の汚染量を少
なくし、水処理の負荷の減らすことができる。
えられたのが含浸法の部品を遠心骨i機にかけることで
、これにより周囲に付着した余分の含浸液を除去し、回
収して、これにより高価な含浸液の無駄な消費を減らす
と共に、後工程の水洗においてもその部分の汚染量を少
なくし、水処理の負荷の減らすことができる。
しかしながら、従来含浸操作終了後の被含浸物を遠心分
離機にかけるためには、被含浸物を含浸槽から遠心分離
機を設けた他の場所迄移動させねばならず、その移動の
ために手間がかかると共に、移動時間中に含浸液が硬化
するというトラブルが発生し、しかも含浸液の持出し及
び他への付着等により消費量が増大するという問題があ
る。
離機にかけるためには、被含浸物を含浸槽から遠心分離
機を設けた他の場所迄移動させねばならず、その移動の
ために手間がかかると共に、移動時間中に含浸液が硬化
するというトラブルが発生し、しかも含浸液の持出し及
び他への付着等により消費量が増大するという問題があ
る。
本発明は、前記従来の問題点を解消するためになされた
ものであり、多量生産された機械部品に発生する気密洩
れを封止する被含浸物に対する真空含浸作業を、含浸槽
内に配設された遠心分離機内で行うことにより、含浸操
作終了後、被含浸物を他に移動することなしに、含浸槽
内の被含浸物に付着している余分な含浸液を除去して、
これを含浸液貯槽に戻し、有効に再使用可能な真空含浸
装置を提供することを目的としたものである。
ものであり、多量生産された機械部品に発生する気密洩
れを封止する被含浸物に対する真空含浸作業を、含浸槽
内に配設された遠心分離機内で行うことにより、含浸操
作終了後、被含浸物を他に移動することなしに、含浸槽
内の被含浸物に付着している余分な含浸液を除去して、
これを含浸液貯槽に戻し、有効に再使用可能な真空含浸
装置を提供することを目的としたものである。
上記の目的を達成するための本発明の真空含浸装置は、
含浸槽内で含浸操作終了後の被含浸物に付着している含
浸液の分離が可能な遠心分離機を含浸槽、または含浸槽
蓋に配設すること・ により構成されており、含浸槽内
で含浸操作終了後の被含浸物を他に移動することなく、
そのまま遠心分離機にかけることにより、被含浸物に付
着した余分な含浸液を含浸槽内で直接回収し、含浸液貯
槽に戻して有効に再使用することができる。
含浸槽内で含浸操作終了後の被含浸物に付着している含
浸液の分離が可能な遠心分離機を含浸槽、または含浸槽
蓋に配設すること・ により構成されており、含浸槽内
で含浸操作終了後の被含浸物を他に移動することなく、
そのまま遠心分離機にかけることにより、被含浸物に付
着した余分な含浸液を含浸槽内で直接回収し、含浸液貯
槽に戻して有効に再使用することができる。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明するが、第1図
、第2図及び第3図は本発明の一実施例における真空含
浸装置の各状態における側断面図であり、まず、第1図
は被含浸物2を遠心分離機3の籠4に搬入した状態を示
し、第2図は第1図の遠心分離機3を取付けた含浸槽蓋
5を降下させて、含浸槽1を密閉した状態を示し、そし
て第3図は第1図の含浸液貯槽6を持上げた状態を示し
ており、含浸槽1と含浸液貯槽6とは可撓管7,8で直
接接続連通されている。
、第2図及び第3図は本発明の一実施例における真空含
浸装置の各状態における側断面図であり、まず、第1図
は被含浸物2を遠心分離機3の籠4に搬入した状態を示
し、第2図は第1図の遠心分離機3を取付けた含浸槽蓋
5を降下させて、含浸槽1を密閉した状態を示し、そし
て第3図は第1図の含浸液貯槽6を持上げた状態を示し
ており、含浸槽1と含浸液貯槽6とは可撓管7,8で直
接接続連通されている。
また、含浸槽lには真空ポンプlOが接続され、含浸槽
l内を真空可能としている。
l内を真空可能としている。
また、この真空含浸装置は、含浸槽1内で含浸操作終了
後の被含浸物2に付着している含浸液9の分離が可能な
遠心分離機3が含浸槽蓋5に配設されている。
後の被含浸物2に付着している含浸液9の分離が可能な
遠心分離機3が含浸槽蓋5に配設されている。
次に、実際の含浸操作について説明すれば、第1図にて
上記含浸槽1内で含浸操作終了後の被含浸物2に付着し
ている含浸液9の分離が可能な遠心分離機3の籠4内に
被含浸物2を固定した後、第2図のごとく含浸槽M5を
含浸槽1に対して降下させて、含浸槽1を密閉する。
上記含浸槽1内で含浸操作終了後の被含浸物2に付着し
ている含浸液9の分離が可能な遠心分離機3の籠4内に
被含浸物2を固定した後、第2図のごとく含浸槽M5を
含浸槽1に対して降下させて、含浸槽1を密閉する。
そこで、真空ポンプ10の運転により含浸槽1及び含浸
液貯槽6を真空にし、真空度が5↑orr前後になれば
、真空を停止し、含浸液貯槽6を第3図のごとく含浸槽
1よりも高く持上げ、これにより含浸液9は重力により
含浸槽1に移動し、被含浸物2を充分に浸漬する。
液貯槽6を真空にし、真空度が5↑orr前後になれば
、真空を停止し、含浸液貯槽6を第3図のごとく含浸槽
1よりも高く持上げ、これにより含浸液9は重力により
含浸槽1に移動し、被含浸物2を充分に浸漬する。
この状態で含浸槽1の真空を破り、大気を導入すれば、
被含浸物2に存在する全ての巣の部分に含浸液9が押込
まれる。
被含浸物2に存在する全ての巣の部分に含浸液9が押込
まれる。
次に、含浸液貯槽6を含浸槽1より低い最初の位置迄降
下させれば、周りの余分な含浸液9は全て含浸液貯槽6
内に回収される。
下させれば、周りの余分な含浸液9は全て含浸液貯槽6
内に回収される。
この状態で遠心分離機3のモータ13を作動させれば、
被含浸物2の表面に付着した含浸液9、あるいは加工孔
等に入りこんでいる含浸液9は全て分離され、含浸液貯
槽6に回収される。
被含浸物2の表面に付着した含浸液9、あるいは加工孔
等に入りこんでいる含浸液9は全て分離され、含浸液貯
槽6に回収される。
そこで、含浸槽蓋5を持上げて、遠心分離機3のi!4
から被含浸物2を取出せば、含浸操作が終了したことに
なる。
から被含浸物2を取出せば、含浸操作が終了したことに
なる。
以上の第1図にて、11で示すのは冷却装置であり、ま
た12で示すのは乾燥圧供給源である。
た12で示すのは乾燥圧供給源である。
なお、上記実施例においては、遠心分離機3が含浸槽蓋
5に配設しているが、この遠心分離機3を含浸槽1自体
に配設してもよい。
5に配設しているが、この遠心分離機3を含浸槽1自体
に配設してもよい。
以上に説明したように、本発明の真空含浸装置によれば
、含浸操作終了後において、その取扱が面倒な有機質含
浸液の被含浸物からの分離を全て含浸槽と含浸液貯槽と
の内部で処理することになるので、従来のごとく他への
移動期間中に含浸液が硬化してトラブルを発生すること
が無くなり、含浸液の持出し及び他への付着、更には硬
化によるトラブルを無くし、含浸液の消費量を低減する
ことができるという効果がある。
、含浸操作終了後において、その取扱が面倒な有機質含
浸液の被含浸物からの分離を全て含浸槽と含浸液貯槽と
の内部で処理することになるので、従来のごとく他への
移動期間中に含浸液が硬化してトラブルを発生すること
が無くなり、含浸液の持出し及び他への付着、更には硬
化によるトラブルを無くし、含浸液の消費量を低減する
ことができるという効果がある。
また、被含浸物に付着した余分の含浸液が直ちに、かつ
完全に分離できることにより、例えば加工完了品におけ
るタップ孔の閉塞等を無くなり、従って、その後の洗滌
が簡単にでき、更に洗滌水の汚れも少なくてすむ等多く
の効果がある。
完全に分離できることにより、例えば加工完了品におけ
るタップ孔の閉塞等を無くなり、従って、その後の洗滌
が簡単にでき、更に洗滌水の汚れも少なくてすむ等多く
の効果がある。
第1図、第2図及び第3図は本発明の一実施例における
真空含浸装置の各状態における側断面図である。 1・・・含浸槽、6・・・被含浸物、3・・・遠心分離
機、5・・・含浸槽蓋、9・・・含浸液。 代理人 弁理士 小 川 信 −
真空含浸装置の各状態における側断面図である。 1・・・含浸槽、6・・・被含浸物、3・・・遠心分離
機、5・・・含浸槽蓋、9・・・含浸液。 代理人 弁理士 小 川 信 −
Claims (1)
- 含浸操作終了後の被含浸物に付着している含浸液の分
離が可能な遠心分離機を、含浸槽または含浸槽蓋に配設
してなる真空含浸装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25472187A JPH01100208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 真空含浸装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25472187A JPH01100208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 真空含浸装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01100208A true JPH01100208A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17268923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25472187A Pending JPH01100208A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 真空含浸装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01100208A (ja) |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP25472187A patent/JPH01100208A/ja active Pending
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