JPH01102758A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH01102758A JPH01102758A JP62259166A JP25916687A JPH01102758A JP H01102758 A JPH01102758 A JP H01102758A JP 62259166 A JP62259166 A JP 62259166A JP 25916687 A JP25916687 A JP 25916687A JP H01102758 A JPH01102758 A JP H01102758A
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- JP
- Japan
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- magnetic layer
- layer
- film
- ferrite
- type ferrite
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10586—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the selection of the material
- G11B11/10589—Details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/3663—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties specially adapted for use as mirrors
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は磁性層の材料にマグネトプラムバイト型フェラ
イトを用いた光磁気記録媒体に関する。 ゛ 〔従来技術〕 近年、半導体レーザ光の熱効果等を利用して磁性薄膜に
磁区を書き込んで情報を記録し、磁気光学効果を利用し
て情報を読みだすようにした光磁気記録媒体が注目され
ている。現在、光磁気記録媒体に用いられる磁性体には
、ＧｄＣｏ。
イトを用いた光磁気記録媒体に関する。 ゛ 〔従来技術〕 近年、半導体レーザ光の熱効果等を利用して磁性薄膜に
磁区を書き込んで情報を記録し、磁気光学効果を利用し
て情報を読みだすようにした光磁気記録媒体が注目され
ている。現在、光磁気記録媒体に用いられる磁性体には
、ＧｄＣｏ。
ＧｄＦｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属非晶
質合金が盛んに研究されており、商品化段階を迎えよう
としている。この非晶質合金は結晶粒界による媒体ノイ
ズがなく、また組成を変えることによって飽和磁化Ｍｓ
をコントロールできるため、ＨＫ＞ ４１Ｍ Ｓ （Ｈ
Ｋ ：異方性磁界）を満たす垂直磁化膜が比較的容易に
得られるという利点をもっている。
質合金が盛んに研究されており、商品化段階を迎えよう
としている。この非晶質合金は結晶粒界による媒体ノイ
ズがなく、また組成を変えることによって飽和磁化Ｍｓ
をコントロールできるため、ＨＫ＞ ４１Ｍ Ｓ （Ｈ
Ｋ ：異方性磁界）を満たす垂直磁化膜が比較的容易に
得られるという利点をもっている。
しかし、非晶質合金、特に希土類成分は酸化腐食を受け
やすいために、経時とともに磁気特性等が劣化するとい
う大きな欠点がある。これを防止するために、非晶質合
金膜上に真空蒸着法やスパッタリングによりＳｉｎ、、
ＡＱＮ等の保護層を設けることも知られているが、磁性
層や保護層の形成時に真空槽内に残留する酸素、基板表
面に吸着した酸素、水、あるいは合金磁性体ターゲット
中に含まれる酸素、水等により、経時とともに膜が腐食
され、記録時の熱によってさらにこの酸化腐食が促進さ
れる。また非晶質合金は熱によって結晶化されやすく、
磁気特性の劣化をきたしやすいという問題点も有する。
やすいために、経時とともに磁気特性等が劣化するとい
う大きな欠点がある。これを防止するために、非晶質合
金膜上に真空蒸着法やスパッタリングによりＳｉｎ、、
ＡＱＮ等の保護層を設けることも知られているが、磁性
層や保護層の形成時に真空槽内に残留する酸素、基板表
面に吸着した酸素、水、あるいは合金磁性体ターゲット
中に含まれる酸素、水等により、経時とともに膜が腐食
され、記録時の熱によってさらにこの酸化腐食が促進さ
れる。また非晶質合金は熱によって結晶化されやすく、
磁気特性の劣化をきたしやすいという問題点も有する。
本発明者らはこの欠点を改善するものとして、Ｂａフェ
ライトに代表されるマグネトプラムバイト型フェライト
は大、きな結晶磁気異方性により安定した垂直磁化膜が
得られやすく、それ自体が酸化物であるために酸化劣化
の虞れがないこと、すなわち耐候性に優れていることに
着目し、光磁気記録媒体への応用を検討し、特開昭５９
−４５６４４号として提案している。しかしながら、マ
グネトプラムバイト型フェライト膜は、一般に結晶化温
度が高く、成膜巾約６００℃以上の基板温度が必要であ
るため、耐熱性を有する特殊な単結晶しか基板として用
いることができず、ガラスのような安価な基板の使用を
不可能とする問題点を有するものであった。
ライトに代表されるマグネトプラムバイト型フェライト
は大、きな結晶磁気異方性により安定した垂直磁化膜が
得られやすく、それ自体が酸化物であるために酸化劣化
の虞れがないこと、すなわち耐候性に優れていることに
着目し、光磁気記録媒体への応用を検討し、特開昭５９
−４５６４４号として提案している。しかしながら、マ
グネトプラムバイト型フェライト膜は、一般に結晶化温
度が高く、成膜巾約６００℃以上の基板温度が必要であ
るため、耐熱性を有する特殊な単結晶しか基板として用
いることができず、ガラスのような安価な基板の使用を
不可能とする問題点を有するものであった。
本発明は上記した如き従来の問題点を解消し、耐候性に
優れたマグネトプラムバイト型フェライトの特性を生か
し、その成膜時の基板温度を低下させることにより安価
な基板の使用を可能とするとともに、結晶粒界による媒
体ノイズの低減を図った光磁気記録媒体を提供すること
を目的とするものである。
優れたマグネトプラムバイト型フェライトの特性を生か
し、その成膜時の基板温度を低下させることにより安価
な基板の使用を可能とするとともに、結晶粒界による媒
体ノイズの低減を図った光磁気記録媒体を提供すること
を目的とするものである。
上記のような課題は、磁性層としてのマグネトプラムバ
イト型フェライト中にＰｂを含有せしめることにより達
成される。
イト型フェライト中にＰｂを含有せしめることにより達
成される。
第１図は本発明に係る光磁気記録媒体の一実施例を断面
で示すものである。この第１図に示されるように、本発
明実施例では基板１１上に、下地層１３、磁性層１５お
よび反射層１７が順次積居されて構成される。このよう
な光磁気記録媒体において、記録再生光である半導体レ
ーザ光は基板１１側から入射し、下地Ｍ１３．磁性層１
５を透過した後、反射層１７で反射し、再生の際はその
反射光を検出することによって、マグネトプラムバイト
型フェライトからなる磁性層１５のファラデー効果を利
用して書き込まれた情報を読み出す。
で示すものである。この第１図に示されるように、本発
明実施例では基板１１上に、下地層１３、磁性層１５お
よび反射層１７が順次積居されて構成される。このよう
な光磁気記録媒体において、記録再生光である半導体レ
ーザ光は基板１１側から入射し、下地Ｍ１３．磁性層１
５を透過した後、反射層１７で反射し、再生の際はその
反射光を検出することによって、マグネトプラムバイト
型フェライトからなる磁性層１５のファラデー効果を利
用して書き込まれた情報を読み出す。
本発明における磁性層１５は垂直に磁化される層であり
、下記一般式（１）で示されるマグネトプラムバイト型
フェライトおよびそのＭｅやＦｅの一部をＣｏ、Ｔｉ等
の他の元素にて置換したフェライトにおいて、少量のＰ
ｂが含有されているものを用いる。
、下記一般式（１）で示されるマグネトプラムバイト型
フェライトおよびそのＭｅやＦｅの一部をＣｏ、Ｔｉ等
の他の元素にて置換したフェライトにおいて、少量のＰ
ｂが含有されているものを用いる。
ＭｇＯ・ｎ Ｆｅ２Ｏ，−−（１）
（Ｍｅ： Ｂ ａ、 Ｓ ｒ等の２価の金属イオン、４
≦口≦６）磁性層１５の膜厚は厚ければ厚いほどより大
きなファラデー回転角が得られ信号の増大につながるが
、厚すぎると大きな結晶粒が成長し媒体ノイズの原因と
なるため、Ｃ／Ｎとしてはかえって低下する。よって膜
厚は０．０５〜１．０μｍ程度が適当であり、好ましく
は０．１μｍ〜０．５μｍである。また磁性層１５は、
対向ターゲットスパッタリング、マグネトロンスパッタ
リング等の各種スパッタリング、イオンブレーティング
、真空蒸着法、メツキ法等の薄膜形成方法により作製す
ることができる。
≦口≦６）磁性層１５の膜厚は厚ければ厚いほどより大
きなファラデー回転角が得られ信号の増大につながるが
、厚すぎると大きな結晶粒が成長し媒体ノイズの原因と
なるため、Ｃ／Ｎとしてはかえって低下する。よって膜
厚は０．０５〜１．０μｍ程度が適当であり、好ましく
は０．１μｍ〜０．５μｍである。また磁性層１５は、
対向ターゲットスパッタリング、マグネトロンスパッタ
リング等の各種スパッタリング、イオンブレーティング
、真空蒸着法、メツキ法等の薄膜形成方法により作製す
ることができる。
第２図にマグネトプラムバイト型フェライトに含まれる
Ｂａフェライト膜、Ｓｒフェライト膜および各フェライ
ト膜中にＰｂを含有させた膜の成膜時の基板温度と結晶
化度の目安となる飽和磁化：Ｍｓとの関係を示す。基板
にはＳｉウェハーを用いたＢａフェライト膜およびＳｒ
フェライト膜に比べＰｂを含有させた各フェライト膜の
基板温度は共に低温側ヘシフトしている。例えばＢａフ
ェライト膜の場合、Ｍｓが低下しない温度は６００℃で
あるのに対し、Ｐｂを含有させると４８０℃となる。つ
まりＰｂを含有させることにより成膜温度が低くなり、
ガラス等の基板でも使用が可能となる。膜中に含有して
いるＰｂのほとんどはＢａ”の位置に置換されており、
−部粒界や膜の最表面にも存在している。このＢａ３４
位置に置換されたＰｂが主に成膜温度の低下に寄与して
いるものと思すれる。膜中のＰｂの含有量はＦｅに対す
る重量比で３〜６０ （ｗｔ％）において低温化の効果
が得られる。この範囲の値は本発明の膜がＰｂフェライ
トであることを含むことも意味している。Ｂａフェライ
トのようなマグネトプラムバイト型フェライト膜中にＰ
ｂを含有させる方法として、例えば成膜を対向ターゲッ
トスパッタリング等のスパッタリングを用いて行う場合
、■焼結体からなるターゲツト材をＰｂが結晶中に置換
されるような化学量論組成あるいはＰｂ過剰の組成にし
ておく、■母体となるフェライトのターゲツト材上にＰ
ｂメタルチップを配置する等の方法がある。
Ｂａフェライト膜、Ｓｒフェライト膜および各フェライ
ト膜中にＰｂを含有させた膜の成膜時の基板温度と結晶
化度の目安となる飽和磁化：Ｍｓとの関係を示す。基板
にはＳｉウェハーを用いたＢａフェライト膜およびＳｒ
フェライト膜に比べＰｂを含有させた各フェライト膜の
基板温度は共に低温側ヘシフトしている。例えばＢａフ
ェライト膜の場合、Ｍｓが低下しない温度は６００℃で
あるのに対し、Ｐｂを含有させると４８０℃となる。つ
まりＰｂを含有させることにより成膜温度が低くなり、
ガラス等の基板でも使用が可能となる。膜中に含有して
いるＰｂのほとんどはＢａ”の位置に置換されており、
−部粒界や膜の最表面にも存在している。このＢａ３４
位置に置換されたＰｂが主に成膜温度の低下に寄与して
いるものと思すれる。膜中のＰｂの含有量はＦｅに対す
る重量比で３〜６０ （ｗｔ％）において低温化の効果
が得られる。この範囲の値は本発明の膜がＰｂフェライ
トであることを含むことも意味している。Ｂａフェライ
トのようなマグネトプラムバイト型フェライト膜中にＰ
ｂを含有させる方法として、例えば成膜を対向ターゲッ
トスパッタリング等のスパッタリングを用いて行う場合
、■焼結体からなるターゲツト材をＰｂが結晶中に置換
されるような化学量論組成あるいはＰｂ過剰の組成にし
ておく、■母体となるフェライトのターゲツト材上にＰ
ｂメタルチップを配置する等の方法がある。
Ｂａフェライト膜のようなマグネトプラムバイト型フェ
ライト膜は結晶のＣ軸が基板表面に対して垂直になるよ
うに配向（以下Ｃ軸配向と称す）したとき大きな結晶異
方性によって良好な垂直磁化膜となる。しかしマグネト
プラムバイト型フェライト膜はＧＧＧ単結晶のような特
定の基板上にしかＣ軸配向せず、ガラスのようなアモル
ファス基板に直接Ｃ軸配向させることは困難である。よ
って安価なガラスを基板として用いるためには、マグネ
トプラムバイト型フェライトの０面をエピタキシャル成
長させるような下地層１３がガラス基板上に必要となる
。この下地層１３としては同時にＣ軸配向したＺｎＯ膜
或いは（１１１）配向したＮ ｉ Ｚ ｎフェライト膜
等が適している。下地層１３の膜厚は材料によって異な
るが下地層１３としての役割を果たしうる範囲でなるべ
く薄い方が良く、０．０５〜０．５μｍ好ましくは０．
０５〜０．２μｍ。また、下地層１３は磁性層１５と同
様な方法で成膜できる。
ライト膜は結晶のＣ軸が基板表面に対して垂直になるよ
うに配向（以下Ｃ軸配向と称す）したとき大きな結晶異
方性によって良好な垂直磁化膜となる。しかしマグネト
プラムバイト型フェライト膜はＧＧＧ単結晶のような特
定の基板上にしかＣ軸配向せず、ガラスのようなアモル
ファス基板に直接Ｃ軸配向させることは困難である。よ
って安価なガラスを基板として用いるためには、マグネ
トプラムバイト型フェライトの０面をエピタキシャル成
長させるような下地層１３がガラス基板上に必要となる
。この下地層１３としては同時にＣ軸配向したＺｎＯ膜
或いは（１１１）配向したＮ ｉ Ｚ ｎフェライト膜
等が適している。下地層１３の膜厚は材料によって異な
るが下地層１３としての役割を果たしうる範囲でなるべ
く薄い方が良く、０．０５〜０．５μｍ好ましくは０．
０５〜０．２μｍ。また、下地層１３は磁性層１５と同
様な方法で成膜できる。
反射層１７の材料としてはＡｕ、ＡＱ、Ａｇ、Ｐｔ。
Ｃｒ、Ｎｄ、Ｇｅ、Ｒｈ、Ｃｕ、ＴｉＮ等が用いられ、
電子ビーム（ＥＢ）蒸着法等の各種蒸着法や各種スパッ
タリング等の薄膜形成法により成膜される。
電子ビーム（ＥＢ）蒸着法等の各種蒸着法や各種スパッ
タリング等の薄膜形成法により成膜される。
また基、板１１としては石英ガラス、硼珪酸ガラス、ア
ルミノケイ酸ガラス等が使用できる。
ルミノケイ酸ガラス等が使用できる。
以上のような本発明によれば、光磁気記録媒体の磁性層
としてマグネトプラムバイト型フェライト膜を用い、こ
のマグネトプラムバイト型フェライト膜中にＰｂを含有
させているため磁性層の成膜温度が低くでき、安価なガ
ラス基板の使用が可能になり、しかも低温で結晶化が進
むため、比較的小さくかつ均一な大きさの結晶粒が生成
し、よって媒体ノイズが減少し、Ｃ／ Ｎが向上すると
いう効果も有する。
としてマグネトプラムバイト型フェライト膜を用い、こ
のマグネトプラムバイト型フェライト膜中にＰｂを含有
させているため磁性層の成膜温度が低くでき、安価なガ
ラス基板の使用が可能になり、しかも低温で結晶化が進
むため、比較的小さくかつ均一な大きさの結晶粒が生成
し、よって媒体ノイズが減少し、Ｃ／ Ｎが向上すると
いう効果も有する。
第１図は本発明に係る光磁気記録媒体の一実施例の構成
を示す概略説明図である。 第２図はＰｂ金含有よる低温成膜の例を示す基板温度と
飽和磁化との関係図である。 １１・・・基板 １３・・・下地層１５
・・・磁性層 １７・・・反射層特許出願
人 株式会社 リ コ − 一
を示す概略説明図である。 第２図はＰｂ金含有よる低温成膜の例を示す基板温度と
飽和磁化との関係図である。 １１・・・基板 １３・・・下地層１５
・・・磁性層 １７・・・反射層特許出願
人 株式会社 リ コ − 一
Claims (1)
- １．基板上にマグネトプラムバイト型フェライトからな
る磁性層を形成した光磁気記録媒体において、前記マグ
ネトプラムバイト型フェライト中にＰｂが含有されてい
ることを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62259166A JPH01102758A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 光磁気記録媒体 |
| DE3832655A DE3832655A1 (de) | 1987-10-14 | 1988-09-26 | Magnetooptisches aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62259166A JPH01102758A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01102758A true JPH01102758A (ja) | 1989-04-20 |
Family
ID=17330268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62259166A Pending JPH01102758A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01102758A (ja) |
| DE (1) | DE3832655A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102321863A (zh) * | 2011-04-28 | 2012-01-18 | 兰州大学 | 一种制备Ni-Zn铁氧体薄膜的方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60175229A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS621149A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-07 | Toshiba Corp | 光磁気記録媒体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4670322A (en) * | 1983-12-05 | 1987-06-02 | Ricoh Company, Ltd. | Metal oxide magnetic substance and a magnetic film consisting thereof and their uses |
-
1987
- 1987-10-14 JP JP62259166A patent/JPH01102758A/ja active Pending
-
1988
- 1988-09-26 DE DE3832655A patent/DE3832655A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60175229A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS621149A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-07 | Toshiba Corp | 光磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102321863A (zh) * | 2011-04-28 | 2012-01-18 | 兰州大学 | 一种制备Ni-Zn铁氧体薄膜的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3832655A1 (de) | 1989-04-27 |
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