JPH01105246A - 水なしオフセツト印刷法を使用する印刷版のための現像剤 - Google Patents
水なしオフセツト印刷法を使用する印刷版のための現像剤Info
- Publication number
- JPH01105246A JPH01105246A JP63111735A JP11173588A JPH01105246A JP H01105246 A JPH01105246 A JP H01105246A JP 63111735 A JP63111735 A JP 63111735A JP 11173588 A JP11173588 A JP 11173588A JP H01105246 A JPH01105246 A JP H01105246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developer
- weight
- developer according
- photosensitive layer
- printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 24
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 title claims description 7
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims abstract description 4
- -1 aromatic diazonium compound Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical class [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 claims description 3
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BAWUFGWWCWMUNU-UHFFFAOYSA-N 1-hexylpyrrolidin-2-one Chemical compound CCCCCCN1CCCC1=O BAWUFGWWCWMUNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 abstract description 2
- 229910020543 Cm H2m+1 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 abstract 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 6
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- NUMXHEUHHRTBQT-AATRIKPKSA-N 2,4-dimethoxy-1-[(e)-2-nitroethenyl]benzene Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\[N+]([O-])=O)C(OC)=C1 NUMXHEUHHRTBQT-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVRCEUVOXCJYSV-UHFFFAOYSA-N CN(C)S(=O)=O Chemical compound CN(C)S(=O)=O LVRCEUVOXCJYSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical class C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O hydron;quinoline Chemical compound [NH+]1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- JGLNNORWOWUYFX-UHFFFAOYSA-N lead platinum Chemical compound [Pt].[Pb] JGLNNORWOWUYFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 1
- 150000008379 phenol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- QHOQHJPRIBSPCY-UHFFFAOYSA-N pirimiphos-methyl Chemical compound CCN(CC)C1=NC(C)=CC(OP(=S)(OC)OC)=N1 QHOQHJPRIBSPCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M sodium;dodecane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水なしオフセット印刷法を用いるポジ型オフ
セット印刷版を現像するための現像剤に関する。特に、
本発明による現像剤は、層支持体、ジアゾニウム塩1縮
今生成物を含有する感光層、および該感光層の上部に設
けられたイy−?反発性の架橋シリコーンエラストマー
層からなる感光性印刷版に通しておシ、その際ジアゾニ
ウム塩型縮合生成物に、架橋基、殊に縮′合できるカル
ボニル化合物から誘導されるメチレン基によって互いに
結合されている反復単位A−N2Xお工びBからなり、
その際Aはホルムアルデヒドと縮合できる芳香族ジアゾ
ニウム化合物の基であり、Bはジアゾニウム基を有せず
、ホルムアルデヒドと縮合できる化合物、特に芳香族ア
ミン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエ
ーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環式化合物または
有機酸アミYの基である。
セット印刷版を現像するための現像剤に関する。特に、
本発明による現像剤は、層支持体、ジアゾニウム塩1縮
今生成物を含有する感光層、および該感光層の上部に設
けられたイy−?反発性の架橋シリコーンエラストマー
層からなる感光性印刷版に通しておシ、その際ジアゾニ
ウム塩型縮合生成物に、架橋基、殊に縮′合できるカル
ボニル化合物から誘導されるメチレン基によって互いに
結合されている反復単位A−N2Xお工びBからなり、
その際Aはホルムアルデヒドと縮合できる芳香族ジアゾ
ニウム化合物の基であり、Bはジアゾニウム基を有せず
、ホルムアルデヒドと縮合できる化合物、特に芳香族ア
ミン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエ
ーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環式化合物または
有機酸アミYの基である。
このタイプの印刷版は、先の未公開西ドイツ国特許出願
第P5545204.8号(米国特許出願第94505
4号に相当)に開示されておシ、ここで、感光層は、米
国特許第 !1867147号明細書および同第3849392号
明細書によるジアゾニウム塩縮合生成物と、その上に′
a置され罵架橋シリコーンエラストマー層とからなる。
第P5545204.8号(米国特許出願第94505
4号に相当)に開示されておシ、ここで、感光層は、米
国特許第 !1867147号明細書および同第3849392号
明細書によるジアゾニウム塩縮合生成物と、その上に′
a置され罵架橋シリコーンエラストマー層とからなる。
この特許出願(以降、A)と呼ぶ)の思想は、本発明の
対壕でもある。
対壕でもある。
これらのタイプまたは類似のタイプの印刷版が使用され
る場合、感光層は露光部で架橋され、これによシ露光部
は現像剤に不溶性にされる。
る場合、感光層は露光部で架橋され、これによシ露光部
は現像剤に不溶性にされる。
現像の間、クリコーンエラストマーおよび感光層は、こ
すり落すことができない。未露光部で、感光層は可溶性
のままであシ、かつ現像の間、7リコー/エラストマー
および感光層はこすシ落とされ、支持体マ九は、それぞ
れ、支持体上の接着促進層は、掃出される。こうして処
理された印刷版が印刷機中に挿入されplつインキ塗布
さnると、インキは裸出部に付着しかつシリコーン被覆
部によシ反発される。印刷は、湿し水なしに実施するこ
とができる。
すり落すことができない。未露光部で、感光層は可溶性
のままであシ、かつ現像の間、7リコー/エラストマー
および感光層はこすシ落とされ、支持体マ九は、それぞ
れ、支持体上の接着促進層は、掃出される。こうして処
理された印刷版が印刷機中に挿入されplつインキ塗布
さnると、インキは裸出部に付着しかつシリコーン被覆
部によシ反発される。印刷は、湿し水なしに実施するこ
とができる。
このタイプの舶刷版を用いると、現像剤はシリコーンエ
ラストマー層を通じて拡散し、かつ下方に存在する未露
光部の感光層を溶解し、かつこれらの部分からシリコー
ンイムをとすシ落とすのを可能にしなければならない。
ラストマー層を通じて拡散し、かつ下方に存在する未露
光部の感光層を溶解し、かつこれらの部分からシリコー
ンイムをとすシ落とすのを可能にしなければならない。
さらに、現像剤はクリコーンエラストマーを膨潤させ、
〃為つこすシ落とされたエラストマー分を分散させてフ
レークの形成を阻止しなければならない。
〃為つこすシ落とされたエラストマー分を分散させてフ
レークの形成を阻止しなければならない。
この場合にのみ、十分な溶解を達成することができる。
水なし印刷に適当でおる印刷版用の現像剤は、九とえば
米I特許第5677178号明細書から公知である。こ
の特許明細書は、小量の湿潤剤、九とえばラウリルスル
ホン酸ナトリウム、アル中ルフェニルエーテル、ポリエ
チレ/グリコール、プロビレ/クリコール(Dト’)l
fO−ルノニルエーテルおよびポリアルキルグリコール
エーテルが添加されている水で現像を実施することを提
案している。しかしながら、この現像剤組成では、特に
タイfA)に相当する版板を現像することはできない。
米I特許第5677178号明細書から公知である。こ
の特許明細書は、小量の湿潤剤、九とえばラウリルスル
ホン酸ナトリウム、アル中ルフェニルエーテル、ポリエ
チレ/グリコール、プロビレ/クリコール(Dト’)l
fO−ルノニルエーテルおよびポリアルキルグリコール
エーテルが添加されている水で現像を実施することを提
案している。しかしながら、この現像剤組成では、特に
タイfA)に相当する版板を現像することはできない。
西ドイツ国特許出願公告第1671657号明細書(米
国特許第!1511178号明細書に相当)に記載され
ている水なしオフセット印刷法のための現像剤は、酢酸
ブチル、プロぎルアルコールお工び水の混合物η為らな
る。異なる蒸発速度により、このタイプの混合物は極め
て迅速に変化し、またこれらの混合物は、不十分な画像
溶解を生じる(比較例C1参照〕。同様にこの明細書中
に記載されているブチロラクトンも、特にタイプA)の
版板が使用される場合に不満足な現像を生じる(比較例
C2参照)。
国特許第!1511178号明細書に相当)に記載され
ている水なしオフセット印刷法のための現像剤は、酢酸
ブチル、プロぎルアルコールお工び水の混合物η為らな
る。異なる蒸発速度により、このタイプの混合物は極め
て迅速に変化し、またこれらの混合物は、不十分な画像
溶解を生じる(比較例C1参照〕。同様にこの明細書中
に記載されているブチロラクトンも、特にタイプA)の
版板が使用される場合に不満足な現像を生じる(比較例
C2参照)。
米国特許第5894B75号明細書は、パラフィン性炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等を現像剤に贋
用することを提案していもさらに現像剤に、50%ニジ
も少ない有利な量のハロゲン化炭化水素、アルコール、
ケトン、カルミド/酸ま7ctエエステルを含有するこ
とができる。し〃1しながらこれらの現像剤は、感光層
が、未露光状態で攻撃されてはならないシリコーンエラ
ストマー層の隣接面との架橋を惹起する光重合体からな
る版板のために規定されている。その組成がたとえばタ
イプA〕に相当するような版板は、純伜なイソパラフィ
ン性炭化水素を用いて現像することはできず、このこと
も異なる作業原理による(比較例(1)。
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等を現像剤に贋
用することを提案していもさらに現像剤に、50%ニジ
も少ない有利な量のハロゲン化炭化水素、アルコール、
ケトン、カルミド/酸ま7ctエエステルを含有するこ
とができる。し〃1しながらこれらの現像剤は、感光層
が、未露光状態で攻撃されてはならないシリコーンエラ
ストマー層の隣接面との架橋を惹起する光重合体からな
る版板のために規定されている。その組成がたとえばタ
イプA〕に相当するような版板は、純伜なイソパラフィ
ン性炭化水素を用いて現像することはできず、このこと
も異なる作業原理による(比較例(1)。
欧州特許出願公開第0045t152号明細書(米国特
許第4578425号明細書に相当)も、感光層を攻撃
してはならない光接着剤用現像剤?開示している。この
発明によれば、現像剤に主要量のパラフィン性炭化水素
とゾロぜし/グリコール誘導体2〜20幅の添加剤とp
lらなる。さらに、溶剤、たとえば水、アルコール、エ
ステル、エーテル、カルざン酸、芳香族炭化水素および
ハロゲン化炭化水素を、未硬化の光接着剤層を攻撃しな
いような量で添加することができる。この明細書の思想
により製造された現像剤は、不適当である。その理由は
、これらの作業様式がたとえばA)と異なるからである
(感光層の現像および溶解〕(比較例C4参照λ西ドイ
ツ国特許出願公開第554!1961号明細書には、少
なくとも2種類の有機溶剤、界面活性剤および少なくと
も60%の水からなる水なしオフセット印刷版用の現像
剤が記載されている。この現像剤は、不飽和単量体、感
光性重合体、アジド樹脂または、ホルムアルデヒドおよ
びジアゾニウム化合物から得られた縮合生成物の亜鉛塩
錯体を光硬化性感光層として含有する版板に適当である
。溶剤の1つは、未露光部の感光層を溶解する九めに規
定されており、ρiつもう1つの溶剤にシリコーンエラ
ストマーの1彫@を惹起する。膨潤剤としては次のもの
が挙げられている:アルコール、エステル、ケトン、エ
ーテル、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭・化水素および
カルボ/酸。適当な第2溶剤としては次のものが記載さ
れている:パラフィン性炭化水素、シクロパラフィン性
炭化水素、芳香族炭化水素、脂肪族ケト/、グリコール
エーテルおよび脂肪族カルボン酸のアル中ルエステル。
許第4578425号明細書に相当)も、感光層を攻撃
してはならない光接着剤用現像剤?開示している。この
発明によれば、現像剤に主要量のパラフィン性炭化水素
とゾロぜし/グリコール誘導体2〜20幅の添加剤とp
lらなる。さらに、溶剤、たとえば水、アルコール、エ
ステル、エーテル、カルざン酸、芳香族炭化水素および
ハロゲン化炭化水素を、未硬化の光接着剤層を攻撃しな
いような量で添加することができる。この明細書の思想
により製造された現像剤は、不適当である。その理由は
、これらの作業様式がたとえばA)と異なるからである
(感光層の現像および溶解〕(比較例C4参照λ西ドイ
ツ国特許出願公開第554!1961号明細書には、少
なくとも2種類の有機溶剤、界面活性剤および少なくと
も60%の水からなる水なしオフセット印刷版用の現像
剤が記載されている。この現像剤は、不飽和単量体、感
光性重合体、アジド樹脂または、ホルムアルデヒドおよ
びジアゾニウム化合物から得られた縮合生成物の亜鉛塩
錯体を光硬化性感光層として含有する版板に適当である
。溶剤の1つは、未露光部の感光層を溶解する九めに規
定されており、ρiつもう1つの溶剤にシリコーンエラ
ストマーの1彫@を惹起する。膨潤剤としては次のもの
が挙げられている:アルコール、エステル、ケトン、エ
ーテル、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭・化水素および
カルボ/酸。適当な第2溶剤としては次のものが記載さ
れている:パラフィン性炭化水素、シクロパラフィン性
炭化水素、芳香族炭化水素、脂肪族ケト/、グリコール
エーテルおよび脂肪族カルボン酸のアル中ルエステル。
少なくとも50%の水を含有するこの明細書の思想によ
る現像剤が、たとえばタイプA〕の層を現素するために
使用される場合、微細なスクリーンパターンを複写する
場合の溶解は、不十分である(比較例C5)。
る現像剤が、たとえばタイプA〕の層を現素するために
使用される場合、微細なスクリーンパターンを複写する
場合の溶解は、不十分である(比較例C5)。
したがって本発明の課題は、ジアゾニウム塩型縮合生成
物を基礎とする感光層お工びその上に設けられたインキ
反発性架橋シリコーンエラストマー層で被覆された支持
体力)らな9かつ特にタイプA)の版板である、水なし
オフセット印刷性’?f用する印刷版のための現像剤を
提供することであυ、その際前記溶剤は短時間内で十分
な溶解を生じ、水と混合可能であシかつ近代的な現像製
雪中で全く問題なしに使用しうるに十分に高い引火点を
有しなければならない。
物を基礎とする感光層お工びその上に設けられたインキ
反発性架橋シリコーンエラストマー層で被覆された支持
体力)らな9かつ特にタイプA)の版板である、水なし
オフセット印刷性’?f用する印刷版のための現像剤を
提供することであυ、その際前記溶剤は短時間内で十分
な溶解を生じ、水と混合可能であシかつ近代的な現像製
雪中で全く問題なしに使用しうるに十分に高い引火点を
有しなければならない。
上記の課題は、−数式:
%式%
〔九だし、RはCmH2m+ z t−表わし、nは1
から251での整数を表わし、mは1から5までの整数
を表わす〕で示される化合物を含有する現像剤によシ解
決される。
から251での整数を表わし、mは1から5までの整数
を表わす〕で示される化合物を含有する現像剤によシ解
決される。
上記式の化合物としては、グリコールジエーテルが好適
である。特に有利には、たとえばジエチレングリコール
ジメチルエーテル(DDM )、ポリエチレングリコー
ルジメチルエーテル(PDM ) 、ジエチレングリコ
ールジブチルエーテル(DrlB ) 、ジエチレング
リコールジエチルエーテル(DDE ) 、およびトリ
エチレングリコールジメチルエーテル(TDM )であ
る。これらの化合物は、単独にかま九は混合物として使
用される。
である。特に有利には、たとえばジエチレングリコール
ジメチルエーテル(DDM )、ポリエチレングリコー
ルジメチルエーテル(PDM ) 、ジエチレングリコ
ールジブチルエーテル(DrlB ) 、ジエチレング
リコールジエチルエーテル(DDE ) 、およびトリ
エチレングリコールジメチルエーテル(TDM )であ
る。これらの化合物は、単独にかま九は混合物として使
用される。
7リコーンエラストマーの良好な湿潤およびこすυ落と
されたクリコーンの良好な分散t−達成するために、本
発明による現像剤は、種々の添加剤、九とえば界面活性
剤を含有することができる。アニオン、カチオンおよび
非イオン界面活性剤kf用することができる。適当なア
ニオン界面活性剤の例は、脂肪族酸塩、スルホスフシナ
メート、スルホ/酸アシルアミノアルカン、サルコクド
、υ/酸アル中ル、リン酸アルキルエーテル、fARア
ルギルエーテル、リン酸アルキルアリールエーテル、お
工びカルボン酸アルキルエーテルである。適当なカチオ
ン界面活性剤の例は、直鎖アル中ルアンモニウム化合物
および環状アル中ルアンそニウム、ピリジニウム−、キ
ノリニウム−、ピロリジニウム−およびピペリジニウム
化合物である。適当な非イオン界面活性剤の例は、ポリ
グリコールエーテル、アルキルポリグリコールエーテル
、アリールアルキル、& IJ りIJコールエーテル
、アシルポリグリコールエーテル、アシルアミドポリグ
リコールエーテル、プルキルアミノポリグリコールエー
テルの酸化プロピレンアダクト、ポリオールエステル、
脂肪酸アルカノールアミド、ポリグリコールおよびポリ
プロピレングリコールである。両性界面活性剤およびフ
ッ素含有界面活性剤ヲ浸用することもできる。
されたクリコーンの良好な分散t−達成するために、本
発明による現像剤は、種々の添加剤、九とえば界面活性
剤を含有することができる。アニオン、カチオンおよび
非イオン界面活性剤kf用することができる。適当なア
ニオン界面活性剤の例は、脂肪族酸塩、スルホスフシナ
メート、スルホ/酸アシルアミノアルカン、サルコクド
、υ/酸アル中ル、リン酸アルキルエーテル、fARア
ルギルエーテル、リン酸アルキルアリールエーテル、お
工びカルボン酸アルキルエーテルである。適当なカチオ
ン界面活性剤の例は、直鎖アル中ルアンモニウム化合物
および環状アル中ルアンそニウム、ピリジニウム−、キ
ノリニウム−、ピロリジニウム−およびピペリジニウム
化合物である。適当な非イオン界面活性剤の例は、ポリ
グリコールエーテル、アルキルポリグリコールエーテル
、アリールアルキル、& IJ りIJコールエーテル
、アシルポリグリコールエーテル、アシルアミドポリグ
リコールエーテル、プルキルアミノポリグリコールエー
テルの酸化プロピレンアダクト、ポリオールエステル、
脂肪酸アルカノールアミド、ポリグリコールおよびポリ
プロピレングリコールである。両性界面活性剤およびフ
ッ素含有界面活性剤ヲ浸用することもできる。
さらに可能な添加剤は、好ましくは5〜40係の量のア
ルコール、特にグリコールおよび水であるが、しかし水
は20係よシも少ない量で添加しなければならない。そ
の理由は、さもなければ溶解が明らかに劣悪化されるか
らである。
ルコール、特にグリコールおよび水であるが、しかし水
は20係よシも少ない量で添加しなければならない。そ
の理由は、さもなければ溶解が明らかに劣悪化されるか
らである。
シリコーンエラストマーの湿潤に、)i′fIUJ族お
よび芳香族炭化水素?添加することにニジ改善すること
もできる。添加剤のiは、化合物1の量を越えてはなら
ない。現像は、九とえばN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホ中りド、ブチロラクトン、N−メチル
ビロリド/、N、N−メチルアセトアミドおよびN−ヘ
キシルぎロリド/を添加することによシ、促進すること
ができる。
よび芳香族炭化水素?添加することにニジ改善すること
もできる。添加剤のiは、化合物1の量を越えてはなら
ない。現像は、九とえばN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホ中りド、ブチロラクトン、N−メチル
ビロリド/、N、N−メチルアセトアミドおよびN−ヘ
キシルぎロリド/を添加することによシ、促進すること
ができる。
次に本発明を、表にまとめt実施例につき詳説するが、
本発明はこれに制限されるものではない。
本発明はこれに制限されるものではない。
実施列
現像のために、次の版板を文月した:
版板■
スルホン酸メシチレ/として単離されニ、6−メドキ7
−ゾフエニルアミンー4−ジアゾニウム塩1モルと4.
4′−ビスメトキシメチルジフェニルエーテル1モルと
から得られた縮合生成物3重量部を、2−メトキシエタ
ノール93.61重量部中に溶解した。この溶液に、フ
タロシア二ノ0.5重量部、フェニルアゾジフェニレン
ジアミン0.02重iW5およびリン酸0.071を部
を添加した。この溶液を、電解によシ粗面化されかつ陽
極酸化されたアルミニウム板に塗布した。層重量1f!
/L2を得た。
−ゾフエニルアミンー4−ジアゾニウム塩1モルと4.
4′−ビスメトキシメチルジフェニルエーテル1モルと
から得られた縮合生成物3重量部を、2−メトキシエタ
ノール93.61重量部中に溶解した。この溶液に、フ
タロシア二ノ0.5重量部、フェニルアゾジフェニレン
ジアミン0.02重iW5およびリン酸0.071を部
を添加した。この溶液を、電解によシ粗面化されかつ陽
極酸化されたアルミニウム板に塗布した。層重量1f!
/L2を得た。
OH末端基(O)(1含13.5%)を有するジメチル
ポリシロキサy1.99重量部と5−C2−プミノーエ
チルアミノ)−ゾロぎルトリメトを77971重量部と
の反応生成物の501溶液84重量部金、ケイ素に結合
した01(末端基を有しかつ5.8kpmのプラベンダ
ー星性を有するジメチルポリクロ中すン5重量部とトリ
メチルシロキク末端基お1びトルエ/9.7重量部中で
25℃で0.4 an2/ eの粘度全方するメチルヒ
ドロダンポリシロキサ/の溶液C1,5重量部との溶液
に添加しmoこの溶液に、ビニルトリメトキシシラ/と
6−ゲリシジルオー?ジープロピルートリメト中ジシラ
ンとの混合物0.4重量部を添加した。こうして製造さ
れたシリコ/エラストマー混合物t1感光層の上部に塗
布して、100°Cで3分間乾燥し九後に、層重量5.
4g/落aを得九〇 版板■ ジアゾニウム塩6重量部および版板Iに関して記載しm
結合剤6重置部t−、2−メトー?7エタノール96.
9重量部中に溶解した。この溶液上1電解によシ粗面化
されかつ陽極酸化され几アルミニウム板に塗布した。層
重量は1.9/m2であつ1こ。
ポリシロキサy1.99重量部と5−C2−プミノーエ
チルアミノ)−ゾロぎルトリメトを77971重量部と
の反応生成物の501溶液84重量部金、ケイ素に結合
した01(末端基を有しかつ5.8kpmのプラベンダ
ー星性を有するジメチルポリクロ中すン5重量部とトリ
メチルシロキク末端基お1びトルエ/9.7重量部中で
25℃で0.4 an2/ eの粘度全方するメチルヒ
ドロダンポリシロキサ/の溶液C1,5重量部との溶液
に添加しmoこの溶液に、ビニルトリメトキシシラ/と
6−ゲリシジルオー?ジープロピルートリメト中ジシラ
ンとの混合物0.4重量部を添加した。こうして製造さ
れたシリコ/エラストマー混合物t1感光層の上部に塗
布して、100°Cで3分間乾燥し九後に、層重量5.
4g/落aを得九〇 版板■ ジアゾニウム塩6重量部および版板Iに関して記載しm
結合剤6重置部t−、2−メトー?7エタノール96.
9重量部中に溶解した。この溶液上1電解によシ粗面化
されかつ陽極酸化され几アルミニウム板に塗布した。層
重量は1.9/m2であつ1こ。
ビニルジメチルシロをサン末端単位および25°Cで4
Q Q mPa、aの粘度を有するジメチルボリア0
キサン10重量部を、2−メチル−6−プチ/−2−オ
ール0.025重量部、触媒および希釈剤としてビニル
シロキサ/の白金錯体の次に記載される混合物0.5重
量部、25℃で50 toPa、sの粘度および1.5
6 %の81結合水素含Ak有する、トリメチル70キ
サZ単位4モル係、メチルヒドロrンシロΦサン単Q7
2モル係およびジメチルクロΦサン単位24モルソ 壬の共電分体0.09重量部お工びイχパー(工5op
ar■) E 8 B、9重量部と混合し丸。こうして
製造され1こシリコーンエラストマー混合物を感光層の
上部に塗布して、110℃で3時間乾燥した後に、層重
量5.411/m2を得九。
Q Q mPa、aの粘度を有するジメチルボリア0
キサン10重量部を、2−メチル−6−プチ/−2−オ
ール0.025重量部、触媒および希釈剤としてビニル
シロキサ/の白金錯体の次に記載される混合物0.5重
量部、25℃で50 toPa、sの粘度および1.5
6 %の81結合水素含Ak有する、トリメチル70キ
サZ単位4モル係、メチルヒドロrンシロΦサン単Q7
2モル係およびジメチルクロΦサン単位24モルソ 壬の共電分体0.09重量部お工びイχパー(工5op
ar■) E 8 B、9重量部と混合し丸。こうして
製造され1こシリコーンエラストマー混合物を感光層の
上部に塗布して、110℃で3時間乾燥した後に、層重
量5.411/m2を得九。
白金鉛体混合物は、次のようにして得られ九二炭酸水素
ナトリウム20重量部を、)12Pt C! 、 X6
H2Oi o重量部、1.6−ジピニルー1.1゜6
.6−チトラメテルソシロキサン20重量部およびエタ
ノール501全部の混合物に添加しに0混合物を、還流
下に50分間、攪拌しながら加熱沸騰させ、15時間放
置し、その後に濾過した。濾液から16ミリバール下に
揮発性成分を留去し九。残分として液体17重量部を得
て、これをべ/ゼン中に溶解した。溶液を濾過し、濾液
からべ/ゼンを留去した。残分を、ビニルジメチルシロ
中サン末端単位および26°Cで1.4Pa、θの粘度
を有するジメチルポリシロキサン希釈剤と、混合物が元
素として計算して白金1重量部を含有する工うな量で混
合し九0版板■および■t1少なくとも24時間貯蔵し
、次いで原図を通して5 KWのハロダン化物ランプを
用いて、70秒間露光した。露光された版板金、振動フ
ェルトタンポン(行程4.8mm;振動周波数5000
/分;押圧i 500 N、、42)を便用して、次の
表に記載された現像溶液で、6分間処理し丸。その後に
、版板を水で洗浄し、乾燥しかつ黒色印刷イン中でイン
キ着げしm0達成された屏像度を、ポジお工びネがのノ
・イライト部分(60線/ an )で、IJGPAオ
フセット・テストウx 9 (0ffset Teat
Wedge ) 1982年によシ評価した。
ナトリウム20重量部を、)12Pt C! 、 X6
H2Oi o重量部、1.6−ジピニルー1.1゜6
.6−チトラメテルソシロキサン20重量部およびエタ
ノール501全部の混合物に添加しに0混合物を、還流
下に50分間、攪拌しながら加熱沸騰させ、15時間放
置し、その後に濾過した。濾液から16ミリバール下に
揮発性成分を留去し九。残分として液体17重量部を得
て、これをべ/ゼン中に溶解した。溶液を濾過し、濾液
からべ/ゼンを留去した。残分を、ビニルジメチルシロ
中サン末端単位および26°Cで1.4Pa、θの粘度
を有するジメチルポリシロキサン希釈剤と、混合物が元
素として計算して白金1重量部を含有する工うな量で混
合し九0版板■および■t1少なくとも24時間貯蔵し
、次いで原図を通して5 KWのハロダン化物ランプを
用いて、70秒間露光した。露光された版板金、振動フ
ェルトタンポン(行程4.8mm;振動周波数5000
/分;押圧i 500 N、、42)を便用して、次の
表に記載された現像溶液で、6分間処理し丸。その後に
、版板を水で洗浄し、乾燥しかつ黒色印刷イン中でイン
キ着げしm0達成された屏像度を、ポジお工びネがのノ
・イライト部分(60線/ an )で、IJGPAオ
フセット・テストウx 9 (0ffset Teat
Wedge ) 1982年によシ評価した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ジアゾニウム塩型縮合生成物を基礎とする感光層お
よびその上に設けられたインキ反発性架橋シリコーンエ
ラストマー層で被覆された支持体からなる、水なしオフ
セット印刷法を使用する印刷版のための現像剤において
、この現像剤は主要量の一般式: R−(O−CH_2−CH_2)_n−O−R〔ただし
、RはC_mH_2_m_+_1表わし、nは1から2
5までの整数を表わし、mは1から5までの整数を表わ
す〕で示される化合物を含有することを特徴とする、水
なしオフセット印刷法を使用する印刷版のための現像剤
。 2、ジアゾニウム塩型縮合生成物が、縮合できるカルボ
ニル化合物から誘導される架橋基によつて互いに結合さ
れている反復単位A−N_2XおよびBからなり、その
際Aはホルムアルデヒドと縮合できる芳香族ジアゾニウ
ム化合物の基であり、Bはジアゾニウム基を有せず、ホ
ルムアルデヒドと縮合できる化合物の基である、印刷版
を現像するための請求項1記載の現像剤。 3、一般式に相当する化合物の混合物からなる、請求項
1または2記載の現像剤。 4、付加的に界面活性剤を含有する、請求項1から3ま
でのいずれか1項記載の現像剤。 5、添加物が15重量%よりも多くない、請求項4記載
の現像剤。 6、付加的にアルコールを含有する、請求項1から5ま
でのいずれか1項記載の現像剤。 7、添加物が5〜40重量%よりも多くない、請求項6
記載の現像剤。 8、水含量が20重量%よりも多くない、請求項1から
7までのいずれか1項記載の現像剤。 9 付加的にN,N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ルピロリドン、N−ヘキシルピロリドン、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ブチロラク
トンまたは脂肪族炭化水素を含有する、請求項1から8
までのいずれか1項記載の現像剤。 10、添加物が50重量%よりも多くない請求項9記載
の現像剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873715792 DE3715792A1 (de) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
| DE3715792.2 | 1987-05-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105246A true JPH01105246A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=6327348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63111735A Pending JPH01105246A (ja) | 1987-05-12 | 1988-05-10 | 水なしオフセツト印刷法を使用する印刷版のための現像剤 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4963472A (ja) |
| EP (1) | EP0290917B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01105246A (ja) |
| DE (2) | DE3715792A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03167554A (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-19 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版用現像液 |
| JP2018060100A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5354645A (en) * | 1988-08-23 | 1994-10-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of flexographic printing reliefs |
| WO1990002359A1 (en) * | 1988-08-23 | 1990-03-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of flexographic printing reliefs |
| DE3841854A1 (de) * | 1988-12-13 | 1990-06-21 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung einer ozonresistenten flexodruckform |
| US5055870A (en) * | 1989-02-17 | 1991-10-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Waterless presensitized lithographic printing plate developing apparatus |
| US5290665A (en) * | 1989-06-01 | 1994-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative |
| US5122438A (en) * | 1989-11-02 | 1992-06-16 | Konica Corporation | Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate |
| DE19515804A1 (de) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Hoechst Ag | Mit Wasser entschichtbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
| US5776654A (en) * | 1995-10-11 | 1998-07-07 | Agfa-Gevaert N.V. | On the press development of a diazo based printing plate |
| JP3978255B2 (ja) * | 1997-06-24 | 2007-09-19 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | リソグラフィー用洗浄剤 |
| JPH11198335A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
| US8875629B2 (en) | 2010-04-09 | 2014-11-04 | Presstek, Inc. | Ablation-type lithographic imaging with enhanced debris removal |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498306A (ja) * | 1972-05-12 | 1974-01-24 | ||
| JPS5178402A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-08 | Mitsubishi Chem Ind | Keihisankeikankoseijushorinsueki |
| JPS5489805A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Toray Industries | Makeup method of planographic printing plate |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
| US3511178A (en) * | 1967-01-06 | 1970-05-12 | Minnesota Mining & Mfg | Printing plate and method |
| NL6800538A (ja) * | 1968-01-12 | 1969-07-15 | ||
| US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
| US3849392A (en) * | 1969-05-20 | 1974-11-19 | Kalle Ag | Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds |
| JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| DE3012522A1 (de) * | 1980-03-31 | 1981-10-08 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
| JPS5713448A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-23 | Toray Ind Inc | Developing solution for use in lithographic plate requiring no dampening water |
| JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
| JPS61275759A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-12-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版用現像液 |
| DE3545204A1 (de) * | 1985-12-20 | 1987-06-25 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen offsetdruck |
| CA1321315C (en) * | 1986-04-11 | 1993-08-17 | Yoichi Mori | Printing plate |
-
1987
- 1987-05-12 DE DE19873715792 patent/DE3715792A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-05-03 EP EP88107061A patent/EP0290917B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-03 DE DE3851569T patent/DE3851569D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-05-10 JP JP63111735A patent/JPH01105246A/ja active Pending
- 1988-05-11 US US07/192,701 patent/US4963472A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498306A (ja) * | 1972-05-12 | 1974-01-24 | ||
| JPS5178402A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-08 | Mitsubishi Chem Ind | Keihisankeikankoseijushorinsueki |
| JPS5489805A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Toray Industries | Makeup method of planographic printing plate |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03167554A (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-19 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版用現像液 |
| JP2018060100A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4963472A (en) | 1990-10-16 |
| EP0290917A3 (en) | 1990-11-14 |
| EP0290917B1 (de) | 1994-09-21 |
| EP0290917A2 (de) | 1988-11-17 |
| DE3715792A1 (de) | 1988-11-24 |
| DE3851569D1 (de) | 1994-10-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3890152A (en) | Light-sensitive copying composition containing diazo resin and quinone diazide | |
| US2754279A (en) | Aqueous composition of an unmodified hydroxyl-containing resinous glycidyl polyether of a dihydric phenol | |
| EP0013006B1 (en) | Developer composition for lithographic printing plates | |
| GB2046474A (en) | Retouching agent for lithographic printing plates | |
| JPS6356530B2 (ja) | ||
| US4963472A (en) | Developing method for printing plates for waterless offset printing with glycol diether containing developer | |
| EP0212387A2 (en) | Method of treating photosensitive printing plate | |
| GB1574949A (en) | Printing plate finishers | |
| WO2008152028A1 (en) | A method for treating a lithographic printing plate | |
| JPS6388556A (ja) | プレセンシタイズド版板、および水なし平版印刷に適当な版面の製造法 | |
| EP0488530B1 (en) | Ink composition and process for producing a lithographic printing plate using the same | |
| US4762772A (en) | Desensitizing gum for lithographic printing plates | |
| AU2007263607B2 (en) | Composition, article, its manufacture and use | |
| US3679479A (en) | Washout-preservative for lithographic printing plates | |
| US4551516A (en) | Coating composition and the use thereof | |
| EP1904898B1 (en) | Method for fine line resist stripping | |
| US4731119A (en) | Desensitizing gum for planographic printing plates | |
| CA2081220A1 (en) | Single-phase developers for lithographic printing elements | |
| CN111324008B (zh) | 一种感光组合物及其应用 | |
| US4863835A (en) | Developer composition for lithographic printing plates | |
| EP0126192B1 (en) | Coating composition and the use thereof | |
| JPH0216231B2 (ja) | ||
| JPS6116058B2 (ja) | ||
| JPS6363901B2 (ja) | ||
| JP2000044995A (ja) | インキローラー洗浄剤 |