JPH01105255A - ガラスマスク - Google Patents
ガラスマスクInfo
- Publication number
- JPH01105255A JPH01105255A JP62261552A JP26155287A JPH01105255A JP H01105255 A JPH01105255 A JP H01105255A JP 62261552 A JP62261552 A JP 62261552A JP 26155287 A JP26155287 A JP 26155287A JP H01105255 A JPH01105255 A JP H01105255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- foreign matter
- frame
- glass
- glass mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はべりタルを適用したガラスマスクに関するもの
である。
である。
ガラスマスクについては、プレスジャーナル発行月刊S
em1conductor World 1986年
12月号p、174に記載されている。
em1conductor World 1986年
12月号p、174に記載されている。
その概要について、第3図を用いて説明する。
1は、平滑に研磨したガラス板で、ソーダライムガラス
、ケイホウ酸ガラスあるいは石英ガラス等が用いられて
いる。2はクロム膜をガラス板1の主表面la上に形成
し、レジストプロセスを用いてエツチングすることによ
り所望の形にバターニングしたパターンである。3は前
記パターン2の周囲に取り付けられた枠体であり、この
枠体3を介して主表面1aと平行に透明なペリクル膜が
張り付けられている。
、ケイホウ酸ガラスあるいは石英ガラス等が用いられて
いる。2はクロム膜をガラス板1の主表面la上に形成
し、レジストプロセスを用いてエツチングすることによ
り所望の形にバターニングしたパターンである。3は前
記パターン2の周囲に取り付けられた枠体であり、この
枠体3を介して主表面1aと平行に透明なペリクル膜が
張り付けられている。
このような構成のペリクル付きのガラスマスク5は直接
主表面la上に微小なゴミが付着せずにペリクル膜上に
付着するため、露光時パターン2が形成されている面と
数闘離すことができる。そのため、異物のパターンは焦
点がぼけて、露光してもウェハ表面のレジストに投射さ
れず、欠陥にならないため、ウェハの歩留を向上するた
めの有効な手段として知られている。
主表面la上に微小なゴミが付着せずにペリクル膜上に
付着するため、露光時パターン2が形成されている面と
数闘離すことができる。そのため、異物のパターンは焦
点がぼけて、露光してもウェハ表面のレジストに投射さ
れず、欠陥にならないため、ウェハの歩留を向上するた
めの有効な手段として知られている。
ところが、このようなペリクル付きのガラスマスク5(
レチクル)を空輸するとき、かなりの気圧、あるいは温
度変動があり、ペリクル6内の空気が膨張、収縮し、そ
れにともないペリクル膜4が凸状態になったり、凹状態
になったりして、ガラス板1と枠体3との接着面あるい
は枠体3とペリクル膜4との接着面から異物が発生し、
ガラス板の主表面に付着して問題となることが本発明者
により明らかにされた。
レチクル)を空輸するとき、かなりの気圧、あるいは温
度変動があり、ペリクル6内の空気が膨張、収縮し、そ
れにともないペリクル膜4が凸状態になったり、凹状態
になったりして、ガラス板1と枠体3との接着面あるい
は枠体3とペリクル膜4との接着面から異物が発生し、
ガラス板の主表面に付着して問題となることが本発明者
により明らかにされた。
本発明の目的は、ウェハ歩留を向上するための技術を提
供するものである。
供するものである。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は本
明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、ペリクル内圧と外圧とが一定であるよ5に、
ペリクル内と外部の空気′の通り道を枠体に形成するも
のである。
ペリクル内と外部の空気′の通り道を枠体に形成するも
のである。
上記した手段によれば、ペリクル内部と外部とが同圧と
なりペリクル内の空気の膨張、収縮により、ペリクル膜
が凸状態あるいは凹状態となって異物が発生するという
問題を解決できるものである。
なりペリクル内の空気の膨張、収縮により、ペリクル膜
が凸状態あるいは凹状態となって異物が発生するという
問題を解決できるものである。
〔実施例1〕
第1図は本発明の一実施例であるガラスマスクの概略断
面図である。なお、第3図で示したペリクル付きガラス
マスクと同様な構成は、同一符号を付し、その説明は省
略する。
面図である。なお、第3図で示したペリクル付きガラス
マスクと同様な構成は、同一符号を付し、その説明は省
略する。
図示するように、枠体3にはペリクル6の内部から外部
に貫通した連通孔7が形成されており、空気が自由に出
入りできるようになっている。なお、異物が前記連通孔
7を介してペリクル6内部に入り込む危険性がある場合
には、本実施例のように異物を除去するフィルター8を
取り付けておいても良い。
に貫通した連通孔7が形成されており、空気が自由に出
入りできるようになっている。なお、異物が前記連通孔
7を介してペリクル6内部に入り込む危険性がある場合
には、本実施例のように異物を除去するフィルター8を
取り付けておいても良い。
〔実施例2〕
第2図は、本発明の他の実施例であるガラスマスク7の
概略断面図である。
概略断面図である。
図示するように、本実施例では枠体9自体がフィルター
材で構成されており、ペリクル6a内部と外部との間で
空気が自白に出入りできるようになっている。
材で構成されており、ペリクル6a内部と外部との間で
空気が自白に出入りできるようになっている。
次に本実施例の作用効果について説明する。
(11枠体にペリクル内部と外部とを連通ずる連通孔を
設けることにより、常にペリクル内部圧と外圧とが等し
くなるので、気圧、温度等の変化により、ペリクル膜が
、凸状になったり、凹状になったりしてペリクル膜と枠
体あるいは枠体とガラス板とに圧力が加わり異物が生じ
るという問題を防止できるという効果が得られる。
設けることにより、常にペリクル内部圧と外圧とが等し
くなるので、気圧、温度等の変化により、ペリクル膜が
、凸状になったり、凹状になったりしてペリクル膜と枠
体あるいは枠体とガラス板とに圧力が加わり異物が生じ
るという問題を防止できるという効果が得られる。
(21枠体にペリクル内部と外部とを連通ずる連通孔を
設け、かつ前記連通孔にフィルターを配設することKよ
り、前記効果が得られるとともに、外部からペリクル内
部に異物が侵入する危険性を完全に防止できるという効
果が得られる。
設け、かつ前記連通孔にフィルターを配設することKよ
り、前記効果が得られるとともに、外部からペリクル内
部に異物が侵入する危険性を完全に防止できるという効
果が得られる。
(31枠体をフィルター材で構成することにより、常に
ペリクル内部圧と外圧とを等しくできるので、気圧、温
度等の外部の栄件が変化しても、ペリクル膜に圧力が加
わることがないので、ペリクル膜と枠体あるいは枠体と
ガラス板との接着面から異物が生じるのを防止できると
いう効果が得られる。
ペリクル内部圧と外圧とを等しくできるので、気圧、温
度等の外部の栄件が変化しても、ペリクル膜に圧力が加
わることがないので、ペリクル膜と枠体あるいは枠体と
ガラス板との接着面から異物が生じるのを防止できると
いう効果が得られる。
(41(1) 、 +21 、 [31により、パター
ンが形成されているガラス板主弄面に、異物が付着する
のを防止できるので、露光の際に異物がパターンとして
ウェハ表面に投射されることがないので、ウェハ歩留を
向上できるという効果が得られるものである。
ンが形成されているガラス板主弄面に、異物が付着する
のを防止できるので、露光の際に異物がパターンとして
ウェハ表面に投射されることがないので、ウェハ歩留を
向上できるという効果が得られるものである。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、連通孔は1
カ所だけでなく複数カ所であっても良い。また、連通孔
を設けずペリクル内部に、不活性でかつ温度、気圧に対
して体積変化の小さいガス(例えばアルゴンetc)を
充填するようにしても良い。
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、連通孔は1
カ所だけでなく複数カ所であっても良い。また、連通孔
を設けずペリクル内部に、不活性でかつ温度、気圧に対
して体積変化の小さいガス(例えばアルゴンetc)を
充填するようにしても良い。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
すなわち、外部の圧力、温度等の変化があってもペリク
ル内部が連通孔を介して外部と連通しているので圧力差
が生じず、各接着面(ペリクル膜と枠体、枠体とガラス
板)に力が加わることがなく、接着面から異物が発生す
ることがない。従って、異物による露光不良が発生する
のを防止できるものである。
ル内部が連通孔を介して外部と連通しているので圧力差
が生じず、各接着面(ペリクル膜と枠体、枠体とガラス
板)に力が加わることがなく、接着面から異物が発生す
ることがない。従って、異物による露光不良が発生する
のを防止できるものである。
第1図は本発明の一笑施例であるガラスマスクの概略構
成図、 第2図は本発明の他の実施例であるガラスマスクの概略
構成図、 第3図は従来のガラスマスクの概略図である。 1・・・ガラス板、2・・・パターン、3・・・枠体、
4・・・ペリクル膜、5・・・ガラスマスク、6・・・
ペリクル、7・・・連通孔、8,9・・・フィルター。
成図、 第2図は本発明の他の実施例であるガラスマスクの概略
構成図、 第3図は従来のガラスマスクの概略図である。 1・・・ガラス板、2・・・パターン、3・・・枠体、
4・・・ペリクル膜、5・・・ガラスマスク、6・・・
ペリクル、7・・・連通孔、8,9・・・フィルター。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主表面に遮光性のパターンが形成されたガラス板と
、前記パターンを囲うように取り付けられた枠体と、主
表面に向かいあうように前記枠体に取り付けられた透明
なペリクル膜を有するガラスマスクにおいて、前記枠体
には、少なくとも1個の連通孔が形成されていることを
特徴とするガラスマスク。 2、前記連通孔には外部から異物が侵入しないようにフ
ィルターが取り付けられていることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のガラスマスク。 3、前記枠体自身がフィルターで構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のガラスマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261552A JPH01105255A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | ガラスマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62261552A JPH01105255A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | ガラスマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105255A true JPH01105255A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=17363481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62261552A Pending JPH01105255A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | ガラスマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01105255A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100575000B1 (ko) * | 2004-12-07 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조용 포토마스크 및 그 제조 방법 |
| US7072438B2 (en) | 1996-05-17 | 2006-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflection type mask |
| JP2007052429A (ja) * | 2005-08-15 | 2007-03-01 | Micro Lithography Inc | 光学ペリクルフレーム |
| CN109270789A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-01-25 | 长江存储科技有限责任公司 | 光罩防护膜结构及光罩 |
-
1987
- 1987-10-19 JP JP62261552A patent/JPH01105255A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7072438B2 (en) | 1996-05-17 | 2006-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflection type mask |
| KR100575000B1 (ko) * | 2004-12-07 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조용 포토마스크 및 그 제조 방법 |
| JP2007052429A (ja) * | 2005-08-15 | 2007-03-01 | Micro Lithography Inc | 光学ペリクルフレーム |
| CN109270789A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-01-25 | 长江存储科技有限责任公司 | 光罩防护膜结构及光罩 |
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