JPH01105451A - 電子顕微鏡における試料汚染除去装置 - Google Patents
電子顕微鏡における試料汚染除去装置Info
- Publication number
- JPH01105451A JPH01105451A JP62259720A JP25972087A JPH01105451A JP H01105451 A JPH01105451 A JP H01105451A JP 62259720 A JP62259720 A JP 62259720A JP 25972087 A JP25972087 A JP 25972087A JP H01105451 A JPH01105451 A JP H01105451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- contamination
- oxygen gas
- attached
- electron microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は微少酸素ガスを試料近傍に定量的に導入する事
に係り、特に電子顕微鏡の像m察や微小部元素分析に好
適な試料汚染除去装置に関する。
に係り、特に電子顕微鏡の像m察や微小部元素分析に好
適な試料汚染除去装置に関する。
イオンによるエツチング現象は周知の事実で、本発明で
は、試料に付着するコンタミネーションをその量に応じ
て除去するものである。
は、試料に付着するコンタミネーションをその量に応じ
て除去するものである。
電子顕微鏡の試料観察や微小部元素分析では、試料に付
着するコンタミネーションを除去する試みがなされて来
た。そのためにコンタミネーションの主因である炭化水
素系を試料室近傍より除く手段として、焼出しによる超
高真空化や、液体窒素で冷却してトラップする手段を構
しているが、機能構成上困難があり、解決されていない
。
着するコンタミネーションを除去する試みがなされて来
た。そのためにコンタミネーションの主因である炭化水
素系を試料室近傍より除く手段として、焼出しによる超
高真空化や、液体窒素で冷却してトラップする手段を構
しているが、機能構成上困難があり、解決されていない
。
本発明の目的は、試料に付着するコンタミネーションの
量に応じて、微少酸素ガスを導入する事にあり、その結
果、酸素ガスは電子線によりイオン化され、試料表面に
付着するコンタミネーションを除去し、常に清浄な表面
の観察や分析を可能とする事にある。
量に応じて、微少酸素ガスを導入する事にあり、その結
果、酸素ガスは電子線によりイオン化され、試料表面に
付着するコンタミネーションを除去し、常に清浄な表面
の観察や分析を可能とする事にある。
上記目的は微少酸素ガスを試料に付着するコンタミネー
ションの量に応じて導入する事により、達成される。
ションの量に応じて導入する事により、達成される。
微少酸素ガスはニードルバルブによる直接導入方式でも
真空と界面をなす銀面を加熱して導入する方式でも何等
問題ない。
真空と界面をなす銀面を加熱して導入する方式でも何等
問題ない。
観察する試料近傍の真空中に導入される酸素の量は、観
察する試料に付着するコンタミネーションの量に応じて
制御する。それによって酸素は必要量大が真空中に導入
されるので誤動作することがない。
察する試料に付着するコンタミネーションの量に応じて
制御する。それによって酸素は必要量大が真空中に導入
されるので誤動作することがない。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。本発
明では銀薄筒1を加熱する事により、酸素ガスが対物レ
ンズ2に位置する試料3近傍に導入される。銀薄筒1の
加熱による副射熱□はシールドバイブ4で遮蔽され、異
常な試料3の加熱やサーマルドリフトの原因にならない
配慮が施されている。銀薄筒1の加熱には電気的に絶縁
したヒーター5を用い、ここでは省略する電源に接続さ
れる。
明では銀薄筒1を加熱する事により、酸素ガスが対物レ
ンズ2に位置する試料3近傍に導入される。銀薄筒1の
加熱による副射熱□はシールドバイブ4で遮蔽され、異
常な試料3の加熱やサーマルドリフトの原因にならない
配慮が施されている。銀薄筒1の加熱には電気的に絶縁
したヒーター5を用い、ここでは省略する電源に接続さ
れる。
酸素ガスは直接ニードルバルブによる導入を用いても何
ら差し支えない。導入された酸素ガスは、電子線6によ
りイオン化し、試料3に衝突して試料3の表面に付着す
るコンタミネーションをエラチング除去する。
ら差し支えない。導入された酸素ガスは、電子線6によ
りイオン化し、試料3に衝突して試料3の表面に付着す
るコンタミネーションをエラチング除去する。
本実施例によれば、コンタミネーションが付着しないよ
うな大がかりなシステムにする事なく、付着するコンタ
ミネーションを遂−除去して、常に清浄な面を観察する
事が出来る効果がある。
うな大がかりなシステムにする事なく、付着するコンタ
ミネーションを遂−除去して、常に清浄な面を観察する
事が出来る効果がある。
本発明によれば、従来のように大形化、超高真空排気シ
ステム等にする事なく、試料に付着するコンタミネーシ
ョンを除去出来るので、新しい機能性能の向上の効果が
ある。
ステム等にする事なく、試料に付着するコンタミネーシ
ョンを除去出来るので、新しい機能性能の向上の効果が
ある。
第1図は本発明の一実施例の電子顕微鏡の試料近傍の断
需図である。 1・・・銀製薄筒、2・・・対物レンズ、3・・・観察
する電子顕微鏡の試料、4・・・シールドパイプ、5・
・・加熱ヒーター、6・・・電子線。
需図である。 1・・・銀製薄筒、2・・・対物レンズ、3・・・観察
する電子顕微鏡の試料、4・・・シールドパイプ、5・
・・加熱ヒーター、6・・・電子線。
Claims (1)
- 1、電子顕微鏡の像観察や微小部元素分析において、微
少酸素ガス導入装置を観察する試料近傍に設ける事によ
り、酸素ガスをイオン化し、試料表面に付着するコンタ
ミネーシヨンを除去する事を特徴とする電子顕微鏡にお
ける試料汚染除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62259720A JPH01105451A (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 電子顕微鏡における試料汚染除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62259720A JPH01105451A (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 電子顕微鏡における試料汚染除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01105451A true JPH01105451A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=17338006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62259720A Pending JPH01105451A (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 電子顕微鏡における試料汚染除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01105451A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008010269A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Horon:Kk | 低真空電子光学系画像生成装置および低真空電子光学系画像生成方法 |
| CN113237726A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-08-10 | 青岛泰睿思微电子有限公司 | 半导体器件开封样品的观察方法 |
-
1987
- 1987-10-16 JP JP62259720A patent/JPH01105451A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008010269A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Horon:Kk | 低真空電子光学系画像生成装置および低真空電子光学系画像生成方法 |
| CN113237726A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-08-10 | 青岛泰睿思微电子有限公司 | 半导体器件开封样品的观察方法 |
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