JPS6010272Y2 - 試料汚染防止装置 - Google Patents
試料汚染防止装置Info
- Publication number
- JPS6010272Y2 JPS6010272Y2 JP12053180U JP12053180U JPS6010272Y2 JP S6010272 Y2 JPS6010272 Y2 JP S6010272Y2 JP 12053180 U JP12053180 U JP 12053180U JP 12053180 U JP12053180 U JP 12053180U JP S6010272 Y2 JPS6010272 Y2 JP S6010272Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- objective lens
- gap
- cooling section
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は試料汚染防止装置、特に電子顕微鏡において用
いられるのに適した試料汚染防止装置に関する。
いられるのに適した試料汚染防止装置に関する。
電子顕微鏡においては、試料導入方式として試料を対物
レンズのギャップ内に電子線軸方向から挿入するトップ
エントリ一方式と対物レンズの側方から挿入するサイド
エントリ一方式がある。
レンズのギャップ内に電子線軸方向から挿入するトップ
エントリ一方式と対物レンズの側方から挿入するサイド
エントリ一方式がある。
これらの試料導入方式は試料の種類や観察目的などに応
じて使いわけられるが、いずれの方式の場合でも試料の
汚染を防止する機能が備えられていることが望ましい。
じて使いわけられるが、いずれの方式の場合でも試料の
汚染を防止する機能が備えられていることが望ましい。
しかし、通常は両方式に共通して使用可能な冷却板を試
料に近接して配置される程度にすぎず、そのため試料汚
染防止効果が十分でないという問題がある。
料に近接して配置される程度にすぎず、そのため試料汚
染防止効果が十分でないという問題がある。
本考案の目的はサイドエントリー、トップエントリーい
ずれの場合においても試料汚染を効果的に防止すること
ができる試料汚染防止装置を提供することにある。
ずれの場合においても試料汚染を効果的に防止すること
ができる試料汚染防止装置を提供することにある。
第１図および第２図は本考案の一実施例を示すもので、
１は試料室を形成する壁、２，４および１２は真空レー
ル用のＯリング、３は試料交換装置、９は対物レンズ、
１１は対物磁路である。
１は試料室を形成する壁、２，４および１２は真空レー
ル用のＯリング、３は試料交換装置、９は対物レンズ、
１１は対物磁路である。
対物レンズ９のギャップ内には試料が電子線軸方向およ
び対物レンズ９の側方から選択的に挿入されるようにな
っている。
び対物レンズ９の側方から選択的に挿入されるようにな
っている。
試料を電子線軸方向から挿入する場合の試料ホルダー５
は対物レンズ９の上面に載置された微動台６に支持され
ており、その対物レンズギャップ内への挿入およびそれ
らからの引抜きは試料交換装置３によって行われる。
は対物レンズ９の上面に載置された微動台６に支持され
ており、その対物レンズギャップ内への挿入およびそれ
らからの引抜きは試料交換装置３によって行われる。
もちろんこの場合の試料の試料室から大気への取出しお
よびその逆の操作は試料交換装置３を通して試料室の真
空を破ることなしに行われる。
よびその逆の操作は試料交換装置３を通して試料室の真
空を破ることなしに行われる。
試料を対物レンズ９の側方から対物レンズ９のギャップ
内に挿入する場合の試料台１５は壁１を耐真空的に貫通
して真空外から試料室に延びるように構成されるのであ
るが、図ではこの点の詳細は省略されている。
内に挿入する場合の試料台１５は壁１を耐真空的に貫通
して真空外から試料室に延びるように構成されるのであ
るが、図ではこの点の詳細は省略されている。
冷却チップ８は第１の冷却部および第２の冷却部を有し
、そしてこれらの冷却部が選択的に対物レンズ９のギャ
ップ内に位置づけられるように対物レンズ９の側方から
エアーシリンダー１４によって移動されるようになって
いる。
、そしてこれらの冷却部が選択的に対物レンズ９のギャ
ップ内に位置づけられるように対物レンズ９の側方から
エアーシリンダー１４によって移動されるようになって
いる。
第１の冷却部はこれが対物レンズ９のギャップ内に位置
づけられたときは試料ホルダー５によって保持されてい
る試料を囲む構成となっており（第１図参照）、また第
２の冷却部はこれが対物レンズ９のギャップ内に位置づ
けられたときは試料台１５に支持されている試料を囲む
構成となっている（第２図参照）。
づけられたときは試料ホルダー５によって保持されてい
る試料を囲む構成となっており（第１図参照）、また第
２の冷却部はこれが対物レンズ９のギャップ内に位置づ
けられたときは試料台１５に支持されている試料を囲む
構成となっている（第２図参照）。
なお、１０は真空保持用のベローズ、７はチップ８を冷
却するための液体窒素またはヘリウムのような冷却剤の
導入口である。
却するための液体窒素またはヘリウムのような冷却剤の
導入口である。
冷却チップ８は冷却剤によって冷却されている。
したがって、第１の冷却部が対物レンズ９のギャップ内
に位置づけられており、かつ試料ホルダー５によって保
持されている試料も同じギャップ内に位置づけられてい
るとすれば（第１図参照）、その試料の付近に浮遊する
ガス分子は第１の冷却部にトラップされるため、その試
料の汚染が防止される。
に位置づけられており、かつ試料ホルダー５によって保
持されている試料も同じギャップ内に位置づけられてい
るとすれば（第１図参照）、その試料の付近に浮遊する
ガス分子は第１の冷却部にトラップされるため、その試
料の汚染が防止される。
この場合、第１の冷却部は試料を囲むような構成となっ
ているので、第１の冷却部による試料近辺のガス分子の
トラップが効果的に行われ、したがって試料汚染防止が
効果的に行われる。
ているので、第１の冷却部による試料近辺のガス分子の
トラップが効果的に行われ、したがって試料汚染防止が
効果的に行われる。
第２の冷却部が対物レンズ９のギャップ内に位置づけら
れ、かつ試料台１５の試料も同じギャップ内に位置づけ
られたときは（このときは第２の冷却部と試料台１５は
第２図に示されているような関係となる）、その試料近
辺の浮遊分子は第２の冷却部にトラップされる。
れ、かつ試料台１５の試料も同じギャップ内に位置づけ
られたときは（このときは第２の冷却部と試料台１５は
第２図に示されているような関係となる）、その試料近
辺の浮遊分子は第２の冷却部にトラップされる。
この場合も、その試料は第２の冷却部により囲まれるよ
うな構成になっているので、トラップが十分に行われ、
そのために試料汚染が効果的に防止される。
うな構成になっているので、トラップが十分に行われ、
そのために試料汚染が効果的に防止される。
試料を対物レンズギャップ内に電子線軸方向から挿入す
る場合も対物レンズの側方から挿入する場合も、前述し
た実施例におけるように二つの冷却部の選択使用式にせ
ずに単一の（すなわち共通の）固定冷却部を用いて汚染
防止を図るようにすることもできる。
る場合も対物レンズの側方から挿入する場合も、前述し
た実施例におけるように二つの冷却部の選択使用式にせ
ずに単一の（すなわち共通の）固定冷却部を用いて汚染
防止を図るようにすることもできる。
しかし、この場合はその冷却部を、試料を囲むように構
成することが実際上困難である。
成することが実際上困難である。
なぜならば、試料導入を行うためには冷却部の試料導入
方向側か開放される必要があるが、トップエントリ一式
およびサイドエントリ一式では互いに試料導入方向が異
なることから冷却部を、試料を囲む構成にすることが実
際上困難なためである。
方向側か開放される必要があるが、トップエントリ一式
およびサイドエントリ一式では互いに試料導入方向が異
なることから冷却部を、試料を囲む構成にすることが実
際上困難なためである。
これに対して、前述した実施例におけるように、第１．
および第２の冷却部の選択使用方式にすると、それぞれ
の冷却部の開放部分を少なくすることができ、このため
試料を囲む構成にすることができる。
および第２の冷却部の選択使用方式にすると、それぞれ
の冷却部の開放部分を少なくすることができ、このため
試料を囲む構成にすることができる。
したがって、試料汚染防止が効果的に行われるようにな
る。
る。
以上の説明から明らかなように本考案によればサイドエ
ントリー、トップエントリーいずれの場合にも試料汚染
を効果的に防止することができるので、その実用上の効
果は頗る大きい。
ントリー、トップエントリーいずれの場合にも試料汚染
を効果的に防止することができるので、その実用上の効
果は頗る大きい。
第１図は本考案にもとづく一実施例を示す試料汚染防止
装置の縦断面図、第２図は冷却チップと試料台との関係
説明用斜視図である。 ５・・・・・・試料ホルダー、８・・・・・・冷却チッ
プ、９・・・・・・対物レンズ、１５・・・・・・試料
台。
装置の縦断面図、第２図は冷却チップと試料台との関係
説明用斜視図である。 ５・・・・・・試料ホルダー、８・・・・・・冷却チッ
プ、９・・・・・・対物レンズ、１５・・・・・・試料
台。
Claims (1)
- 対物レンズのギャップ内に電子線軸方向および前記対物
レンズの側方から選択的に挿入される試料の汚染を防止
するための試料汚染防止装置において、第１および第２
の冷却部を有する冷却チップを備え、該冷却チップは前
記第１および第２の冷却部が選択的に前記ギャップ内に
挿入されるように前記対物レンズの側方から移動自在に
されており、前記第１の冷却部は前記試料が前記電子線
軸方向から前記ギャップ内に挿入されたときのその試料
を囲むように構成され、前記第２の冷却部は前記試料が
前記対物レンズの側方から前記ギャップ内に挿入された
ときその試料を囲むように構成されている試料汚染防止
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053180U JPS6010272Y2 (ja) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | 試料汚染防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053180U JPS6010272Y2 (ja) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | 試料汚染防止装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5745153U JPS5745153U (ja) | 1982-03-12 |
| JPS6010272Y2 true JPS6010272Y2 (ja) | 1985-04-09 |
Family
ID=29481196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12053180U Expired JPS6010272Y2 (ja) | 1980-08-27 | 1980-08-27 | 試料汚染防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6010272Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0418838Y2 (ja) * | 1987-04-27 | 1992-04-27 | ||
| JPH01241418A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-26 | Japan Steel Works Ltd:The | 射出成形機の射出装置 |
| WO1990003879A1 (en) * | 1988-10-13 | 1990-04-19 | Seiki Corporation Co., Ltd. | Process and apparatus for injection molding |
| JPH06297521A (ja) * | 1993-04-12 | 1994-10-25 | Japan Steel Works Ltd:The | 射出成形機の射出装置 |
-
1980
- 1980-08-27 JP JP12053180U patent/JPS6010272Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5745153U (ja) | 1982-03-12 |
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