JPH01107313A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、特に記録再生時におい
て、記録媒体との摺動による偏摩耗を防止して、該記録
媒体との接触性を良好にし次構造を有する薄膜磁気ヘッ
ドに関する。

〔従来の技術〕

従来のバルク型磁気ヘッドでは、特開昭６１−１８８７
０４号公報に記載のように、磁気コア半休と該磁気コア
半休の基板と同一材料で路間−厚さを有する補助板とを
接着績Ｉ−シ、裁断して、その積層断面ｔ−磁気ギャッ
プ形成面としている友め、磁気コアの両側は同じ材質の
材料であシ、かつ厚みが等しくなっているため、磁気ギ
ャップ部分の偏摩耗の問題は生じなかった。

また、特開昭６０−８５２０６号公報に記載のように、
結晶化ガラス等の非磁性基板上に、磁性膜。

非磁性膜等を順次積層し、磁気コア、磁気ギャップを形
成した薄膜磁気ヘッドにおいても、保護層としては、結
晶化ガラス等を最後に装着材で接着しているため、磁気
コアを挾む非磁性基板と保膿板から成る保１１１層とは
同じ材質又は、同一の摩耗特性の材料が使用でき、かつ
、基板と保護層の厚みは等しくなってい友。また、この
磁気ヘッドでは、非磁性基板と保護層とに挾まれ友部分
にｆｆｉ気コアとギャップ以外の部分が存在しているが
、その材買は保譲部を構成している摩耗性の異なる材料
となってい友ため、磁気ギャップ部分、すなわち記録媒
体と摺動接触する部分の偏摩耗の問題は特に生じなかつ
友。

〔発明が解決しようとする問題点〕

第６図、第７図は従来の磁気ヘッドの構造説明図であり
、第６図は所謂バルク型磁気ヘッドの構造図で、１は非
磁性基板、２は磁気コア、３は磁気ギャップ、６は従層
材でありて、非磁性基板１の一方が保護板に相当する。

ま友、第７図は従来の薄膜磁気ヘッドの構造図で、１は
非磁性基板、２は磁気コア、３は磁気ギャップ、５は保
護層、６は接着材である。

第６図、第７図に示した磁気ヘッドでは、保護層（保護
板）１．５を接着材６にょ）接着形成しているため、非
磁性基板１の厚さｃｔ、と保護層５の厚さｄ、は等しく
　（’；　＝ｄｔ　）なってぃた。また、第７図に示し
友ように、記録媒体摺動面上にガラス等の接着材６が露
出していると、１ｔｉｆ摺動面に磁性記録媒体の粒子が
付着し几り、接着材６の一部が削られて磁気コア２や磁
気ギャップ５の上に付着して摺動面の平面性が阻害され
るという問題がありｆｃ。

さらに、高密度磁気記録化に対応して、侠トラック化が
進み、７ｔ）リン技術を駆使して形成された磁気ヘッド
、所謂薄膜磁気ヘッドが生まれ、第７図に示した保護層
５も、スパッタリング、蒸着等により積層形成するよう
になり次。符に、磁気コア２として高飽和密度材料であ
るアモルファス膜（結晶化温度が低い）を使用する憾に
なＱ、保護層５をガラス溶層、従層材（樹脂）等にょ９
形成しようとすると、接層時に礁度が上昇し、アモルフ
ァスが結晶化して磁気特性が劣化するという問題が生じ
る。

このような磁気ヘッドで、保護層５の厚さｄ、と非磁性
基板１の厚さｃｔｌの関係がｄ、　＝＝ｄ、となってい
ると、非磁性基板１の材料と保護層５の材料の摩耗特性
が異なる友め、例えば、やわらかい方が選択的に削れ、
磁気ギャップと磁気記録媒体かうまく接触しな（なると
いう問題が生じる。

本発明は、薄楔磁気ヘッドの耐摩耗性を改善し、磁気ギ
ャップと記録媒体の接触を良好にして記録再生効率の向
上を図った薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とする
。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、少くとも記録媒体と接触する部分において
、非磁性基板と保護層の接触領域を、各々を形成する材
料の耐摩耗性に応じ【異ならしめ、両者間に偏摩耗が生
じない様にすることによって達成される。

〔作用〕

非磁性基板と保護層の摩耗特性が異なる場合、非磁性基
板の接触領域（厚さ又は面積）と保護層の接触領域（厚
さ又は面積）を異ならせることによって、記録媒体と磁
気ヘッドが摺動する際に、例えばやわらかい方が選択的
に削れるという現象は起こらず、磁気ギャップと記録媒
体の接触ｌに良好となる。

記録媒体と磁気ヘッドの接触領域の面積が小さく路線接
触と見看せる場合には、接触領域の非磁性基板と保護層
の各厚さに着目すればよいが、接触領域の面積が大きく
ｒｒＪ接触である場合は両者の耐摩耗性に応じ比接触面
積に選定すればよい−〔実施例〕 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
摺動面平面図でろって、１は非磁性基板、２は磁性膜、
２αは上部コア、２ｂは下部コア、５は磁気ギャップを
構成する非磁性膜、５は保護膜である。

同図においては、一般に、非磁性基板の方が保＃！に８
１Ｉよシ硬（、削れにくい場合が多いので、非磁性基板
１の厚さｄｌと保護膜５の厚さｄ、の関係ｔ”　ｒ（ｄ
、とじ友場合を示した。

第２図は第１図に示したＮ膜磁気ヘッドの製造工程の説
明図であって、先ず、非磁性基板１上に下部磁気コアと
なる磁性膜２ｔ−形成する（α）。

次に、フｔトリノ技術を用いて、不用な部分ノを取り除
き、下部磁気コア２αを形成する（ｂ）。

そして、磁気ギャップ３となる非磁性層３′をスパッタ
リング、Ｍ着等によ）形成し＠）、さらに、ラップ等の
機械加工にょ夛不用な部分４を取り除いて、上部コア２
ｂを形成しくｅ）、その後保護膜５をスパッタリング、
蒸着等にょ夛形成するの。このとき、保護膜５の厚さｄ
、を、基板１との摩耗特性との兼ね合いで調節すること
にょ夛、磁気ギャップと磁気テープ（記録媒体）の接触
を良好にすることができる。例えば、非磁性基板１にビ
ッカース硬度Ｈｖ＝　７００の結晶化ガラスを、保護＠
５にビッカース硬度Ｈｖ＝４８０のフｔルステライト（
５−（Ｊｔ・ＪＯ）を用いた場合、非磁性基板の厚さｄ
ｌと保護膜５の厚さｄ、の関係を、ｄ、　：　４＝＝２
：　３とすることによシ、磁気ギャップ部と磁気テープ
との接触が良好となシ、間隙損失の低減を図ることがで
きる。そのため、記録再生効率が向上する。

なお、第１図に示した実施例においては、非磁性基板１
と保ａＳＳは共に矩形であるから、各々の厚さ寸法ｄＩ
、　ｄ、を異ならせることは、すなわち面積を異ならせ
ることにもなる。すなわち、非磁性基板と保護膜は、そ
れらのＭ７１１粍性と接触面積との兼ね合いで、寸法ｄ
１．　ｄ、を決めてもよい。

第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示
す摺動面正面図であって、この実施例は非磁性基板１上
に磁気ギャップ３をはさむ様に形成された磁性膜２α、
　２ｂを７中トリソ手法にょシ、所望の形状にバターニ
ングし、その上に保！１１１５１５をスパッタリング、
蒸着等によシ形成し、ラッピング等の機械加工により不
用な部分７を除去した例である。このとき、非磁性基板
１上の磁気ギャップ３．磁性膜２α、　２ｂ以外の部分
は、保護膜５で包囲されて一体となっており、前記第６
図に示した様な保誂板５を接層材で接着している場合と
異なシ、接層材が８ｕられて摺１１ＪＪ面のギャップ上
への付着や、磁性記録媒体の接着材への付着等が起こら
ず、間隙損失を低減できる。この場合も、基板１の厚み
ｄ、と、保ａｙ１．ｓの厚みｄ、の関係ｔ−選ぶことに
より、摺動性の向上が図れることは言うまでもない。

第４図（α）（鴎は本発明による薄膜磁気ヘッドのさら
に他の実施例を示す摺動面正面図であって、第１図、第
３図と同一符号は同一部分に対応する。

同図は、非磁性基板１の硬度よりも保護膜５の硬度が大
きい場合を示す。このときは、ｄ、〉ｃＬｌとすればよ
い。

第５図（α）〜ωは本発明による＊ｍ磁気ヘッド拓らに
また他の種々の実施例を示す摺動面正面図であって、第
１図、第３図、第４図と同一符号は同一部分に対応し、
８．９はＺｒ、　Ｃｒ、　ＳＬＵ、等の下地膜、上部膜
である。

同図（ａ）、Φ）は、非磁性基板１と磁気コアの間に下
地膜８を設けたもので、同一＠）は保護膜５よシ非磁性
基板の硬度が大の場合、同図（ｂ）は保護膜５の方が非
磁性基板１よ）硬度が大の場合を示す。

ま之、同図（Ｃ）　、　（ｄ）は前記第５図に示し定形
式の磁気ヘッドに下地膜８を設けたもので、同図（Ｃ）
は非磁性基板１上全面に下地膜を設けたもの、同図（ｄ
、）は磁気コア対応部分にのみ下地膜を設は友ものであ
る。この場合、非磁性基板１と保護膜５の厚さは、両者
の記録媒体に対する接触領域が狭い時はｄ、　、　ｄ、
をそれぞれの材料の硬度の比でよいが、接触領域が広い
ときｌこはその接触面積を考慮した寸法とすればよい。

同図（ｅ）は保護膜５を上部膜９を介して形成したもの
、同図ωは非磁性基板１上に下地膜８を形成すると共に
、保護膜５の下に上部膜９を形成しｔものを示す。これ
ら各実施例における寸法ｄ、　、　ｄ。

は上記各実施例の場合と同様の考え方で設定すればよい
。

なお、下地ａｌ１８．上部膜９は、磁気ヘッド構成材の
成膜時における接着性を向上させるために設けられるも
のであシ、例えばＣｕが用いられる。

上記下地膜、上部膜を設けｔものにおいては、接触領域
のす法ｄ、　、　ｄｔを下地膜、上部膜の厚さと硬度を
考慮して設定すれば、さらに良好な耐偏摩耗性を得るこ
と°ができる。

以上説明し比容８ｊ！施例において、保護膜の上にさら
に保護板を設ける構成としてもよく、その場合には、保
護板の硬度、厚さを考慮してｄｏ、４の各寸法を設定す
ればよい。

〔発明の効果〕

以上説明し念ように、本発明によれば、記録媒体との接
触領域における非磁性基板と保護層の寸法を、それらの
摩耗特性に応じて設定することにより、両者の摩耗量の
不均一をなくし、磁気ギャップ部と記録媒体の接触性を
良好にすることができ、間隙損失を低減して記録再生効
率を向上させｔ４＆れ友機能の薄膜磁気ヘッドを提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す摺動面正面図、第２図
は％１図に示した薄膜磁気ヘッドの製造工程の説明図、
第３図は本発明の他の９ｉ、施例を示す摺動面正面図、
第４図は本発明のさらに他の実施例を示す摺動面正面図
、第５図は本発明のさらにまた他の実施例を示す摺動面
正面図、第６図と第７図は従来の４瞑磁気ヘツドの説明
図である。 １・・・非磁性基板、２・・・磁気コア、３・・・磁気
ギャップ、４・・・磁気コアの不用部分、５・・・保護
膜、６・・・接着材、７・・・保護膜の不用部分、８・
・・下地膜、９・・・上部膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、非磁性基板上に、磁気コアとなる磁性層、磁気ギャ
   ップとなる非磁性層、保護層等の磁気ヘッド構成部材を
   形成し、上記非磁性基板と上記磁気ギャップの延長方向
   とが非平行で、かつ上記磁気ギャップが上記非磁性基板
   と上記保護層とで挾持されるように構成した薄膜磁気ヘ
   ッドにおいて、前記非磁性基板と前記保護層の少くとも
   記録媒体摺動面における前記磁気ギャップ近傍の接触領
   域の寸法を、上記記録媒体との摺動による摩耗が略々同
   程度となる様に異ならしめたことを特徴とする薄膜磁気
   ヘッド。