JPH01108741A - マスクとウェハのプリアライメント方法 - Google Patents
マスクとウェハのプリアライメント方法Info
- Publication number
- JPH01108741A JPH01108741A JP62267303A JP26730387A JPH01108741A JP H01108741 A JPH01108741 A JP H01108741A JP 62267303 A JP62267303 A JP 62267303A JP 26730387 A JP26730387 A JP 26730387A JP H01108741 A JPH01108741 A JP H01108741A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- wafer
- stage
- alignment
- camera
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はマスクとウェハのグリ１フイメント方法、特に
、Ｘ１／ａ繕光装置に適用しうるマスクとウェハのグリ
１ライメント方法に関する。
、Ｘ１／ａ繕光装置に適用しうるマスクとウェハのグリ
１ライメント方法に関する。
近年の半導体はＤＢＡＭに代表されるように高集積化が
進む傾向にあル、超Ｌ８Ｉのパターンの最小線幅もミク
ロンからサブミクロンの領域へ突入しようとしている。
進む傾向にあル、超Ｌ８Ｉのパターンの最小線幅もミク
ロンからサブミクロンの領域へ突入しようとしている。
このような吠況にお−て、従来の紫外線のｇ線、ｉ線を
用いた光学式の半導体露光装置では、光の波長による解
像度の限界が０．５μｍ程度と言われており、０．５μ
ｍ以下のパターンに対応できる次世代の嶌光装置が強く
望まれている。この次世代め露光装置として、現在、Ｘ
Ｓ露光装置が有望視されておシ、研究・開発が進められ
ている。
用いた光学式の半導体露光装置では、光の波長による解
像度の限界が０．５μｍ程度と言われており、０．５μ
ｍ以下のパターンに対応できる次世代の嶌光装置が強く
望まれている。この次世代め露光装置として、現在、Ｘ
Ｓ露光装置が有望視されておシ、研究・開発が進められ
ている。
一般に、Ｘ線露光装置では発散Ｘ線が用いられ、投影レ
ンズなどの光学系を構成することができないため、露光
方式はプロ中シミティ露光である。
ンズなどの光学系を構成することができないため、露光
方式はプロ中シミティ露光である。
マスクと９エバのプロ中シミティギヤ、プは半影ぼけを
小さくするためＫ１０〜５０μｍと小さく、ランナ９ト
誤差を小さくするためにギヤ、グ設定を厳しく制御する
必要がある。したがって、Ｘ線無光装置におけるアライ
メントは、マスクとウェハの横方向の位置合わせに加え
、ギヤ、グとあおりを正確に設定しなければならず、そ
のための１ライメント方法が各種提案されている。
小さくするためＫ１０〜５０μｍと小さく、ランナ９ト
誤差を小さくするためにギヤ、グ設定を厳しく制御する
必要がある。したがって、Ｘ線無光装置におけるアライ
メントは、マスクとウェハの横方向の位置合わせに加え
、ギヤ、グとあおりを正確に設定しなければならず、そ
のための１ライメント方法が各種提案されている。
従来の技術としては、例えば、日経マイクロデバイス１
９８６年４月号等忙紹介されている米マイクロニクス社
のＸ線ステ、パ「ＭＸ−１６ｏｏ」カある。「ＭＸ−１
６００Ｊ Ｋおけるマスクと９エバの１ライメントは、
マスク用マークとしてリニアーフレネル・／−ン・グレ
ー） （ＬＦＺＰ）と呼ばれる光の回折を利用した集光
レンズを用い、ウェハ用マークとして＋１ｉ！伏回折格
子を用いて行う。この１ライメント方法についてはＢ
、 ＦａｙらにょシＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕ
ｕｍ ５ｃｉｅｎｃｅ ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＶｏｌ、
１６ｔ６）ｐｐ、 １９５４−１９５８、Ｎｏｖ／Ｄ
ｅｃ。
９８６年４月号等忙紹介されている米マイクロニクス社
のＸ線ステ、パ「ＭＸ−１６ｏｏ」カある。「ＭＸ−１
６００Ｊ Ｋおけるマスクと９エバの１ライメントは、
マスク用マークとしてリニアーフレネル・／−ン・グレ
ー） （ＬＦＺＰ）と呼ばれる光の回折を利用した集光
レンズを用い、ウェハ用マークとして＋１ｉ！伏回折格
子を用いて行う。この１ライメント方法についてはＢ
、 ＦａｙらにょシＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕ
ｕｍ ５ｃｉｅｎｃｅ ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＶｏｌ、
１６ｔ６）ｐｐ、 １９５４−１９５８、Ｎｏｖ／Ｄ
ｅｃ。
１９７９の”’０ｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ
Ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒＳｕｂｍｉｃｒｏｎ Ｘ −ｒａ
ｙ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ”に報告されている。こ
こでその原理について図面を参照して説明する。
Ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒＳｕｂｍｉｃｒｏｎ Ｘ −ｒａ
ｙ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ”に報告されている。こ
こでその原理について図面を参照して説明する。
第３図はＬＦＺＰを用いたアライメント力法を示す説明
図である。ウェハ２１には回折格子２２が刻印されてお
シ、ウェハ２１の上には所定のギヤ、グだけ離れてマス
ク２３が対向している。マスク２３には焦点距離がマス
クとウェハのギヤ、グ量に等しいＬＦＺＰ２４が描かれ
ている。第４図はマスク用マークのＬＦＺＰの構造を示
す説明図である。ＬＦＺＰはいろいろな幅や間隔の縞が
並んだ構造になっておシ、縞はマークの中心からの距離
を２λ２ ｒｎとするとｒｎ＝ｎｆλ＋ｎτで表わされる。ここで
は、ｆは焦点距離、λはアライメントに用いるレーザの
波長である。また、第５図はウェハ用マークの回折格子
を示す説明図である。回折格子は大きさの等しい長刀形
が等間隔に並んだ構造になっておシ、回折格子のピッチ
ｄによって回折角度が決まる。
図である。ウェハ２１には回折格子２２が刻印されてお
シ、ウェハ２１の上には所定のギヤ、グだけ離れてマス
ク２３が対向している。マスク２３には焦点距離がマス
クとウェハのギヤ、グ量に等しいＬＦＺＰ２４が描かれ
ている。第４図はマスク用マークのＬＦＺＰの構造を示
す説明図である。ＬＦＺＰはいろいろな幅や間隔の縞が
並んだ構造になっておシ、縞はマークの中心からの距離
を２λ２ ｒｎとするとｒｎ＝ｎｆλ＋ｎτで表わされる。ここで
は、ｆは焦点距離、λはアライメントに用いるレーザの
波長である。また、第５図はウェハ用マークの回折格子
を示す説明図である。回折格子は大きさの等しい長刀形
が等間隔に並んだ構造になっておシ、回折格子のピッチ
ｄによって回折角度が決まる。
第３図においてマスク２３の上方から入射された平行レ
ーザビーム２５はＬＦＺＰ２４により集光され、タエハ
２１面上で焦点を結びスリット吠の像をつくる。この結
像したスリ、トと９工バ２１面上の回折格子２２が一直
線上に重なると、レーザビームは回折し再びＬＦＺＰ２
４を通シ平行光となりて位置決め信号として検出される
。
ーザビーム２５はＬＦＺＰ２４により集光され、タエハ
２１面上で焦点を結びスリット吠の像をつくる。この結
像したスリ、トと９工バ２１面上の回折格子２２が一直
線上に重なると、レーザビームは回折し再びＬＦＺＰ２
４を通シ平行光となりて位置決め信号として検出される
。
前述のＸ線ステ、パ「ＭＸ１６００」では、閉ループ自
動位置合わせな行うために、マスク用マークのＬＦＺＰ
２４へのレーザビーム２５の横方向の入射角を変化させ
る。これによって、結像したスリ、トは直線状の回折格
子２２を走査し、アライメントマークのずれ量を電気的
に検出することができる。このとき、ウェハ？２．１面
上でのスリ、トの走査範囲は約２μｍなので、アライメ
ントマークのずれ量の検出範囲も約２μｍである。
動位置合わせな行うために、マスク用マークのＬＦＺＰ
２４へのレーザビーム２５の横方向の入射角を変化させ
る。これによって、結像したスリ、トは直線状の回折格
子２２を走査し、アライメントマークのずれ量を電気的
に検出することができる。このとき、ウェハ？２．１面
上でのスリ、トの走査範囲は約２μｍなので、アライメ
ントマークのずれ量の検出範囲も約２μｍである。
上述した従来のアライメント力法は、位置ずれの検出範
囲が約２μｍと狭いため、マスクとウェハをステージに
装着する際には、ある程度の重ね合わせ精度をもつよう
にグリアライメントラ行う必要がある。従来のマスクと
９エノ−のグリアライメントは、それぞれの外形を基準
に機械的に突き当てて位置決めすることによって行りて
いるので、グリアライメントの重ね合わせ精度はマスク
とウェハの外形とパターンの位ｆ！を精度に大きく左右
される。そのため、マスクの装作にあたり、マスクのパ
ターンを外形に対して位置精度を良くしなければならな
いので、マスクの裏作が困難になるという欠点がありた
。
囲が約２μｍと狭いため、マスクとウェハをステージに
装着する際には、ある程度の重ね合わせ精度をもつよう
にグリアライメントラ行う必要がある。従来のマスクと
９エノ−のグリアライメントは、それぞれの外形を基準
に機械的に突き当てて位置決めすることによって行りて
いるので、グリアライメントの重ね合わせ精度はマスク
とウェハの外形とパターンの位ｆ！を精度に大きく左右
される。そのため、マスクの装作にあたり、マスクのパ
ターンを外形に対して位置精度を良くしなければならな
いので、マスクの裏作が困難になるという欠点がありた
。
したかっ、て、グリアライメントの重ね合わせ精度が２
μｍ以上になる場合には、位置ずれ信号は検出できず、
位置ずれ信号の検出範囲内にマスクとウェハを重ね合わ
せるようにステージを動かし、位置ずれ信号を探し出す
工程が必要になシ１ライメントに長φ時間がかかるとい
う欠点があった。
μｍ以上になる場合には、位置ずれ信号は検出できず、
位置ずれ信号の検出範囲内にマスクとウェハを重ね合わ
せるようにステージを動かし、位置ずれ信号を探し出す
工程が必要になシ１ライメントに長φ時間がかかるとい
う欠点があった。
本発明のマスクとウェハの１リアジイメント方法は、６
おりθス、テージとマスクチャ、りからなるマスクステ
ージにプリアライメントマークを有するマスクを挿着す
る第１の挿着工程と、ｘｙステージ上ＫＷ賊されたマス
ク用テレビカメラをマスクの前方に移動する第１の移動
工程と、マスク用テレビカメラでマスクのプリアライメ
ントマークを観察してｘｙθ方向の合わせ込みをする第
１の合わせ込み工程と、前記ｘｙＸステージθステージ
と９エバチヤ、りからなるウェハステージにプリアライ
メントマークを有するウェハを挿着する第２の挿着工程
と、ウェハステージを駆動してウェハをウェハ用テレビ
カメラの前方に移動する第２の移動工程と、ウェハ用テ
レビカメラでウェハの１リアライメントマークを観察し
てｘｙθ方向の合わせ込みをする第２の合せ込み工程と
、ウェハステージを駆動してウェハをマスク前面の露光
位置に移動する第３の移動工程とを含んで構成される。
おりθス、テージとマスクチャ、りからなるマスクステ
ージにプリアライメントマークを有するマスクを挿着す
る第１の挿着工程と、ｘｙステージ上ＫＷ賊されたマス
ク用テレビカメラをマスクの前方に移動する第１の移動
工程と、マスク用テレビカメラでマスクのプリアライメ
ントマークを観察してｘｙθ方向の合わせ込みをする第
１の合わせ込み工程と、前記ｘｙＸステージθステージ
と９エバチヤ、りからなるウェハステージにプリアライ
メントマークを有するウェハを挿着する第２の挿着工程
と、ウェハステージを駆動してウェハをウェハ用テレビ
カメラの前方に移動する第２の移動工程と、ウェハ用テ
レビカメラでウェハの１リアライメントマークを観察し
てｘｙθ方向の合わせ込みをする第２の合せ込み工程と
、ウェハステージを駆動してウェハをマスク前面の露光
位置に移動する第３の移動工程とを含んで構成される。
次に１本発明の！ｌ！施例について、図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図は本発明の一実施例をボす斜視図である。
第１図に示すＸ線露光装置は、ベースｌと、ペースＩＫ
搭載されＸ軸方向に移動できるＸステージ２と、Ｘステ
ージ２に搭載されＹ軸方向に移動できるＸステージ３と
、Ｘステージ３Ｋｉ械され回転運動をする０ステージ４
と、真空吸着機構を有するウェハチャック５と、９工八
６とを含んでｉる。ウェハ用テレビカメ：７７２個はワ
エへ６の２個のプリアライメントマークを観察する位置
に固定されている。Ｘ線源８の下刃にはＸ線を導くへり
クムチャンバ９とあおりタステージ１０と？スフチャッ
ク１１が取付けられてお）先端にマスク１２を真空吸着
している。２個のマスク用テレビカメ２１３はＸステー
ジ３の上にあシ、マスク１２のプリアライメントマーク
を観察できる位置に固定され工いる。ざらにヘリクムチ
ャンバ９のｇＪＪＷＪＫ取付けられ最終的なファイン１
ライメントを行うための１ライメント光学系１４と、Ｙ
ステージ上に搭載された直角ミラー１５と、Ｘステージ
２とＸステージ３の位置を計測するレーザ測長器１６を
含んで構成される。
搭載されＸ軸方向に移動できるＸステージ２と、Ｘステ
ージ２に搭載されＹ軸方向に移動できるＸステージ３と
、Ｘステージ３Ｋｉ械され回転運動をする０ステージ４
と、真空吸着機構を有するウェハチャック５と、９工八
６とを含んでｉる。ウェハ用テレビカメ：７７２個はワ
エへ６の２個のプリアライメントマークを観察する位置
に固定されている。Ｘ線源８の下刃にはＸ線を導くへり
クムチャンバ９とあおりタステージ１０と？スフチャッ
ク１１が取付けられてお）先端にマスク１２を真空吸着
している。２個のマスク用テレビカメ２１３はＸステー
ジ３の上にあシ、マスク１２のプリアライメントマーク
を観察できる位置に固定され工いる。ざらにヘリクムチ
ャンバ９のｇＪＪＷＪＫ取付けられ最終的なファイン１
ライメントを行うための１ライメント光学系１４と、Ｙ
ステージ上に搭載された直角ミラー１５と、Ｘステージ
２とＸステージ３の位置を計測するレーザ測長器１６を
含んで構成される。
第２図（ａ）〜（ｅ）は第１図に示すｘｓｉ光装置にお
ケルマスクと９エバのグリアライメント工程を示す説明
図である。
ケルマスクと９エバのグリアライメント工程を示す説明
図である。
第２図１８）はマスク１２をマスクチャ、り１１で真空
吸着し、マスク用テレビカメラ１３をＸステージ２とＸ
ステージ３を駆動して、マスク１２のプリアライメント
マークをマスク用テレビカメラ１３で観察する工程を示
している。２個のマスク用テレビカメラ１３の間隔は、
グリアラ１メントマークの間隔りに等しい。
吸着し、マスク用テレビカメラ１３をＸステージ２とＸ
ステージ３を駆動して、マスク１２のプリアライメント
マークをマスク用テレビカメラ１３で観察する工程を示
している。２個のマスク用テレビカメラ１３の間隔は、
グリアラ１メントマークの間隔りに等しい。
第２図（ｂ）は、プリアライメントマーク１７ａ。
１７ｂをマスク用テレビカメラ１３で観察したときのテ
レビモニタの状態を示している。観察されたプリアライ
メントマーク１７ａとモニタ上の基準マーク１８ａとの
Ｘ方向のずれ量をΔｘａ％Ｙ刀向のず方向をΔｙａとし
、プリアライメントマーク１７ｂと基準マーク１８ｂと
のＸ方向のずれ量をｊｘｂ％Ｙｊｊ向のずれ量をΔｙｂ
とすると、マスク１２のＸＹ０刀向方向れ量Δｘｍ、Δ
ｙｍ１ΔθｍはΔｘ＝（Δｘａ＋ΔＸｂ）／２、Δｙ＝
（Δｙａ−１−Ｊｙｂ）／２、Δθ；（Δｙａ−Δｙｂ
）／Ｄで表わされる。
レビモニタの状態を示している。観察されたプリアライ
メントマーク１７ａとモニタ上の基準マーク１８ａとの
Ｘ方向のずれ量をΔｘａ％Ｙ刀向のず方向をΔｙａとし
、プリアライメントマーク１７ｂと基準マーク１８ｂと
のＸ方向のずれ量をｊｘｂ％Ｙｊｊ向のずれ量をΔｙｂ
とすると、マスク１２のＸＹ０刀向方向れ量Δｘｍ、Δ
ｙｍ１ΔθｍはΔｘ＝（Δｘａ＋ΔＸｂ）／２、Δｙ＝
（Δｙａ−１−Ｊｙｂ）／２、Δθ；（Δｙａ−Δｙｂ
）／Ｄで表わされる。
ただし、Ｄはプリアライメントマーク１７ａ、１７ｂの
間隔である。このΔ１１ Δｙ１Δθｔ４ｔとに％Ｘｘ
ｙＸステージ２ｆ−ジ３、＠＞ ｊ） ＃ Ｘ ｆ−ジ
１０を動かし、モニタ上でプリ１ライメントマーク１７
ａ、１７ｂと基準マーク１８ａ、１８ｂを重ね合わせて
マスク１２のグリア２イメントを行う。
間隔である。このΔ１１ Δｙ１Δθｔ４ｔとに％Ｘｘ
ｙＸステージ２ｆ−ジ３、＠＞ ｊ） ＃ Ｘ ｆ−ジ
１０を動かし、モニタ上でプリ１ライメントマーク１７
ａ、１７ｂと基準マーク１８ａ、１８ｂを重ね合わせて
マスク１２のグリア２イメントを行う。
第２図（Ｃ）は、ワエへ６を９エバチヤ、７５ＫＸ空吸
着し、ウェハ用テレビカメラ７で２個の１リアライメン
トマークを＃察してグリ１ライメントを行う位置ＫＸス
テージ２とＸステージ３を移動したところを示している
。９工八６上のプリアライメントマークの間隔もマスク
上のプリ１ライメントマークの間隔りに等しくしておく
。
着し、ウェハ用テレビカメラ７で２個の１リアライメン
トマークを＃察してグリ１ライメントを行う位置ＫＸス
テージ２とＸステージ３を移動したところを示している
。９工八６上のプリアライメントマークの間隔もマスク
上のプリ１ライメントマークの間隔りに等しくしておく
。
第２図（ｄ）は、グリ１ライメントマーク１９ａ。
１９ｂをウェハ用テレビカメラ７で観察したときのテレ
ビモニタの状態を示している。前述のマスクの場合と同
様に、ウェハ６のＸＹ０方向のずれ量Δｘｗ、Δｙｗ、
Δ０Ｗを求め、Ｘステージ２、Ｘステージ３、θステー
ジ４を動かし、モニタ上でプリアライメントマーク１９
ａ、１９ｂと基準マーク２０ａ、２０ｂを重ね合わせグ
リアライメントを行５゜ 第２図１６）は、９工八６のグリ１ライメント完了後、
Ｘステージ２とＸステージ３を最初の露光位置に移動さ
せたときの状態を示している。ウェハ用テレビカメラ７
に対するフエへ６の位置は、マスク１２の場合と同様に
、レーザ測長器で正確に計測することができる。マスク
１２はすでにマスク用テレビカメラ１３に対して正確に
位置決めされているので、マスク１２とウェハ６を高い
重ね合わせ＠度でグリアライメントすることが可能とな
る。
ビモニタの状態を示している。前述のマスクの場合と同
様に、ウェハ６のＸＹ０方向のずれ量Δｘｗ、Δｙｗ、
Δ０Ｗを求め、Ｘステージ２、Ｘステージ３、θステー
ジ４を動かし、モニタ上でプリアライメントマーク１９
ａ、１９ｂと基準マーク２０ａ、２０ｂを重ね合わせグ
リアライメントを行５゜ 第２図１６）は、９工八６のグリ１ライメント完了後、
Ｘステージ２とＸステージ３を最初の露光位置に移動さ
せたときの状態を示している。ウェハ用テレビカメラ７
に対するフエへ６の位置は、マスク１２の場合と同様に
、レーザ測長器で正確に計測することができる。マスク
１２はすでにマスク用テレビカメラ１３に対して正確に
位置決めされているので、マスク１２とウェハ６を高い
重ね合わせ＠度でグリアライメントすることが可能とな
る。
マスクとウェハの１す１ライメントが完了したら、１ラ
イメント光学系１４によシ最終的なファイン１ライメン
トを行い露光を開始する。
イメント光学系１４によシ最終的なファイン１ライメン
トを行い露光を開始する。
本発明のマスクとウェハの１リアツイメント方法は、マ
スクとウェハに対しそれぞれ独立したテレビカメラを用
いてグリアライメントできるため、誤差蚤因が少なく重
ね合わせ検反の良い１リアライメントができると一５効
果がある。その結果、最終的な７アインＩ２イメントの
負担が壕〈できるという効果がある。
スクとウェハに対しそれぞれ独立したテレビカメラを用
いてグリアライメントできるため、誤差蚤因が少なく重
ね合わせ検反の良い１リアライメントができると一５効
果がある。その結果、最終的な７アインＩ２イメントの
負担が壕〈できるという効果がある。
また、マスクの外形を基準としてグリアライメントを行
うかわシに、ウェハステージを動かして合わせ込みを行
うため、マスクの外形とマスクパターンの位置精度を出
す必要がな（、ｆｆスクの製作が比較的容易になるとい
う効果がある。
うかわシに、ウェハステージを動かして合わせ込みを行
うため、マスクの外形とマスクパターンの位置精度を出
す必要がな（、ｆｆスクの製作が比較的容易になるとい
う効果がある。
第１図を工不発明の一実施例を示す斜祝図、第２図ｔａ
）〜（ｅ）は本発明のマスクとウェハのグリ１ライメン
トの工程を示す説明図、第３回は従来のアライメント方
法を示す説明図、第４図は第３図に示すアライメント方
法におけるマスク用マークであるリニア・フレネル・ゾ
ーン・グレートを示す平面図、第５図は第３図に示す１
ライメント方法におけるウェハ用マークである回折格子
を示す平面図。 ｌ・・・・・・ペース、２・・・−Ｘステージ、３・・
・・・・Ｘステージ、４・・・・・・θステージ、５・
・・・・・９エバチヤ。 り、６・・・・・・ウェハ、７・・・・・・ウェハ用テ
レビカメラ、８・・・・・・Ｘ線源、９・・・・・・ヘ
リクムチャンバ、１０−・・・・・あおりθステージ、
ｌｌ・・・・・・マスクチャ、り、１２・・・・・・マ
スク、１３・・・・・・マスク用テレビカメラ、１４・
・・・・・Ｉライメント光学系、１５・・・・・・直角
ミラー、１６・・・・・・レーザ測長器、１７ａ、１７
ｂ・・・・・・マスクのグリ１ライメントマーク、１８
ａ、１８ｂ基準マーク、１９ａ、１９ｂ・・・・・・ウ
ェハのプリアライメントマーク、２０ａ、２０ｂ・・・
・・・基準マーク、２１・・・・・・９エバ、２２・・
・・・・回折格子、２３・・・ΔＸａ、Δｘｂ ・・・
−・プリアライメントマークと基準マークのＸ方向のず
れ量、ΔｙａｓΔｙａ・・・・・・プリ１ライメントマ
ークと基準マークのＸ方向のずれ量、ｄ・・・・・・回
折格子のピッチ。 代理人 弁理士 内 原 晋 牛２ 回 第２ｔＳ２１ 摺３図 や４図 第Ｓ図
）〜（ｅ）は本発明のマスクとウェハのグリ１ライメン
トの工程を示す説明図、第３回は従来のアライメント方
法を示す説明図、第４図は第３図に示すアライメント方
法におけるマスク用マークであるリニア・フレネル・ゾ
ーン・グレートを示す平面図、第５図は第３図に示す１
ライメント方法におけるウェハ用マークである回折格子
を示す平面図。 ｌ・・・・・・ペース、２・・・−Ｘステージ、３・・
・・・・Ｘステージ、４・・・・・・θステージ、５・
・・・・・９エバチヤ。 り、６・・・・・・ウェハ、７・・・・・・ウェハ用テ
レビカメラ、８・・・・・・Ｘ線源、９・・・・・・ヘ
リクムチャンバ、１０−・・・・・あおりθステージ、
ｌｌ・・・・・・マスクチャ、り、１２・・・・・・マ
スク、１３・・・・・・マスク用テレビカメラ、１４・
・・・・・Ｉライメント光学系、１５・・・・・・直角
ミラー、１６・・・・・・レーザ測長器、１７ａ、１７
ｂ・・・・・・マスクのグリ１ライメントマーク、１８
ａ、１８ｂ基準マーク、１９ａ、１９ｂ・・・・・・ウ
ェハのプリアライメントマーク、２０ａ、２０ｂ・・・
・・・基準マーク、２１・・・・・・９エバ、２２・・
・・・・回折格子、２３・・・ΔＸａ、Δｘｂ ・・・
−・プリアライメントマークと基準マークのＸ方向のず
れ量、ΔｙａｓΔｙａ・・・・・・プリ１ライメントマ
ークと基準マークのＸ方向のずれ量、ｄ・・・・・・回
折格子のピッチ。 代理人 弁理士 内 原 晋 牛２ 回 第２ｔＳ２１ 摺３図 や４図 第Ｓ図
Claims (1)
- あおりθステージとマスクチャックからなるマスクス
テージにプリアライメントマークを有するマスクを挿着
する第１の挿着工程と、ｘｙステージ上に搭載されたマ
スク用テレビカメラをマスクの前方に移動する第１の移
動工程と、マスク用テレビカメラでマスクのプリアライ
メントマークを観察してｘｙθ方向の合わせ込みをする
第１の合わせ込み工程と、前記ｘｙステージとθステー
ジとウェハチャックからなるウエハステージにプリアラ
イメントマークを有するウェハを挿着する第２の挿着工
程と、ウエハステージを駆動してウェハをウェハ用テレ
ビカメラの前号に移動する第２の移動工程と、ウェハ用
テレビカメラでウェハのプリアライメントマークを観察
してｘｙθ方向の合わせ込みをする第２の合せ込み工程
と、ウェハステージを駆動してウェハをマスク前面の露
光位置に移動する第３の移動工程とを含むことを特徴と
するマスクとウェハのプリアライメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267303A JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267303A JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01108741A true JPH01108741A (ja) | 1989-04-26 |
| JPH0520888B2 JPH0520888B2 (ja) | 1993-03-22 |
Family
ID=17442954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267303A Granted JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01108741A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5440394A (en) * | 1991-05-01 | 1995-08-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Length-measuring device and exposure apparatus |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP62267303A patent/JPH01108741A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5440394A (en) * | 1991-05-01 | 1995-08-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Length-measuring device and exposure apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0520888B2 (ja) | 1993-03-22 |
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