JPH0520888B2 - - Google Patents
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- JPH0520888B2 JPH0520888B2 JP62267303A JP26730387A JPH0520888B2 JP H0520888 B2 JPH0520888 B2 JP H0520888B2 JP 62267303 A JP62267303 A JP 62267303A JP 26730387 A JP26730387 A JP 26730387A JP H0520888 B2 JPH0520888 B2 JP H0520888B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- wafer
- alignment
- stage
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はマスクとウエハのプリアライメント方
法、特に、Ｘ線露光装置に適用しうるマスクとウ
エハのプリアライメント方法に関する。
法、特に、Ｘ線露光装置に適用しうるマスクとウ
エハのプリアライメント方法に関する。
近年の半導体はDRAMに代表されるように高
集積化が進む傾向にあり、超LSIのパターンの最
小線幅もミクロンからサブミクロンの領域へ突入
しようとしている。このような状況において、従
来の紫外線のｇ線、ｉ線を用いた光学式の半導体
露光装置では、光の波長による解像度の限界が
0.5μｍ程度と言われており、0.5μｍ以下のパター
ンに対応できる次世代の露光装置が強く望まれて
いる。この次世代の露光装置として、現在、Ｘ線
露光装置が有望視されており、研究・開発が進め
られている。
集積化が進む傾向にあり、超LSIのパターンの最
小線幅もミクロンからサブミクロンの領域へ突入
しようとしている。このような状況において、従
来の紫外線のｇ線、ｉ線を用いた光学式の半導体
露光装置では、光の波長による解像度の限界が
0.5μｍ程度と言われており、0.5μｍ以下のパター
ンに対応できる次世代の露光装置が強く望まれて
いる。この次世代の露光装置として、現在、Ｘ線
露光装置が有望視されており、研究・開発が進め
られている。
一般に、Ｘ線露光装置では発散Ｘ線が用いら
れ、投影レンズなどの光学系を構成することがで
きないため、露光方式はプロキシミテイ露光であ
る。マスクとウエハのプロキシミテイギヤツプは
半影ぼけを小さくするために10〜50μｍと小さ
く、ランナウト誤差を小さくするためにギヤツプ
設定を厳しく制御する必要がある。したがつて、
Ｘ線露光装置におけるアライメントは、マスクと
ウエハの横方向の位置合わせに加え、ギヤツプと
あおりを正確に設定しなければならなず、そのた
めのアライメント方法が各種提案されている。
れ、投影レンズなどの光学系を構成することがで
きないため、露光方式はプロキシミテイ露光であ
る。マスクとウエハのプロキシミテイギヤツプは
半影ぼけを小さくするために10〜50μｍと小さ
く、ランナウト誤差を小さくするためにギヤツプ
設定を厳しく制御する必要がある。したがつて、
Ｘ線露光装置におけるアライメントは、マスクと
ウエハの横方向の位置合わせに加え、ギヤツプと
あおりを正確に設定しなければならなず、そのた
めのアライメント方法が各種提案されている。
従来の技術としては、例えば、日経マイクロデ
バイス1986年４月号等に紹介されている米マイク
ロニクス社のＸ線ステツパ「MX−1600」があ
る。「MX−1600」におけるマスクとウエハのア
ライメントは、マスク用マークとしてリニア・フ
レネル・ゾーン・ブレート（LFZP）と呼ばれる
光の回折を利用した集光レンズを用い、ウエハ用
マークとして線状回折格子を用いて行う。このア
ライメント方法についてはB.Fayらにより
Journal of Vacuum Ccience
TechnologyVol.16(6)pp.1954−1958、Nov／
Dec.1979の“Optical Alignment System for
Submicron Ｘ−ray Lithography”に報告され
ている。ここでその原理について図面を参照して
説明する。
バイス1986年４月号等に紹介されている米マイク
ロニクス社のＸ線ステツパ「MX−1600」があ
る。「MX−1600」におけるマスクとウエハのア
ライメントは、マスク用マークとしてリニア・フ
レネル・ゾーン・ブレート（LFZP）と呼ばれる
光の回折を利用した集光レンズを用い、ウエハ用
マークとして線状回折格子を用いて行う。このア
ライメント方法についてはB.Fayらにより
Journal of Vacuum Ccience
TechnologyVol.16(6)pp.1954−1958、Nov／
Dec.1979の“Optical Alignment System for
Submicron Ｘ−ray Lithography”に報告され
ている。ここでその原理について図面を参照して
説明する。
第３図はLFZPを用いたアライメント方法を示
す説明図である。ウエハ２１には回折格子２２が
刻印されており、ウエハ２１の上には所定のギヤ
ツプだけ離れてマスク２３が対向している。マス
ク２３には焦点距離がマスクとウエハのギヤツプ
量に等しいLFZP２４が描かれている。第４図は
マスク用マークのLFZPの構造を示す説明図であ
る。LFZPはいろいろな幅や間隔の縞が並んだ構
造になつており、縞はマークの中心からの距離を
rnとするとr2n＝nfλ＋n2λ2／４で表わされる。ここ では、ｆは焦点距離、λはアライメントに用いる
レーザの波長である。また、第５図はウエハ用マ
ークの解折格子を示す説明図である。回折格子は
大きさの等しい長方形が等間隔に並んだ構造にな
つており、解折格子のピツチｄによつて回折角度
が決まる。
す説明図である。ウエハ２１には回折格子２２が
刻印されており、ウエハ２１の上には所定のギヤ
ツプだけ離れてマスク２３が対向している。マス
ク２３には焦点距離がマスクとウエハのギヤツプ
量に等しいLFZP２４が描かれている。第４図は
マスク用マークのLFZPの構造を示す説明図であ
る。LFZPはいろいろな幅や間隔の縞が並んだ構
造になつており、縞はマークの中心からの距離を
rnとするとr2n＝nfλ＋n2λ2／４で表わされる。ここ では、ｆは焦点距離、λはアライメントに用いる
レーザの波長である。また、第５図はウエハ用マ
ークの解折格子を示す説明図である。回折格子は
大きさの等しい長方形が等間隔に並んだ構造にな
つており、解折格子のピツチｄによつて回折角度
が決まる。
第３図においてマスク２３の上方から入射され
た平行レーザビーム２５はLFZP２４により集光
され、ウエハ２１面上で焦点を結びスリツト状の
像をつくる。この結像したスリツトとウエハ２１
面上の回折格子２２が一直線上に重なると、レー
ザビームは回折し再びLFZP２４を通り平行光と
なつて位置決め信号として検出される。
た平行レーザビーム２５はLFZP２４により集光
され、ウエハ２１面上で焦点を結びスリツト状の
像をつくる。この結像したスリツトとウエハ２１
面上の回折格子２２が一直線上に重なると、レー
ザビームは回折し再びLFZP２４を通り平行光と
なつて位置決め信号として検出される。
前述のＸ線ステツパ「MX1600」では、閉ルー
プ自動位置合わせを行うために、マスク用マーク
のLFZP２４へのレーザビーム２５の横方向の入
射角を変化させる。これによつて、結像したスリ
ツトは直線状の回折格子２２を走査し、アライメ
ントマークのずれ量を電気的に検出することがで
きる。このとき、ウエハ２１面上でのスリツトの
走査範囲は約2μｍなので、アライメントマーク
のいずれ量の検出範囲も約2μｍである。
プ自動位置合わせを行うために、マスク用マーク
のLFZP２４へのレーザビーム２５の横方向の入
射角を変化させる。これによつて、結像したスリ
ツトは直線状の回折格子２２を走査し、アライメ
ントマークのずれ量を電気的に検出することがで
きる。このとき、ウエハ２１面上でのスリツトの
走査範囲は約2μｍなので、アライメントマーク
のいずれ量の検出範囲も約2μｍである。
上述した従来のアライメント方法は、位置ずれ
の検出範囲が約2μｍと狭いため、マスクとウエ
ハをステージに装着する際には、ある程度の重ね
合わせ精度をもつようにプリアライメントを行う
必要がある。従来のマスクとウエハのプリアライ
メントは、それぞれの外形を基準に機械的に突き
当てて位置決めすることによつて行つているの
で、プリアライメントの重ね合わせ精度はマスク
とウエハの外形とパターンの位置精度に大きく左
右される。そのため、マスクの製作にあたり、マ
スクのパターンを外形に対して位置精度を良くし
なければならないので、マスクの製作が困難にな
るといる欠点があつた。
の検出範囲が約2μｍと狭いため、マスクとウエ
ハをステージに装着する際には、ある程度の重ね
合わせ精度をもつようにプリアライメントを行う
必要がある。従来のマスクとウエハのプリアライ
メントは、それぞれの外形を基準に機械的に突き
当てて位置決めすることによつて行つているの
で、プリアライメントの重ね合わせ精度はマスク
とウエハの外形とパターンの位置精度に大きく左
右される。そのため、マスクの製作にあたり、マ
スクのパターンを外形に対して位置精度を良くし
なければならないので、マスクの製作が困難にな
るといる欠点があつた。
したがつて、プリアライメントの重ね合わせ精
度が2μｍ以上になる場合には、位置ずれ信号は
検出できず、位置ずれ信号の検出範囲内にマスク
とウエハを重ね合わせるようにステージを動か
し、位置ずれ信号を探し出す工程が必要になりア
ライメントに長い時間がかかるという欠点があつ
た。
度が2μｍ以上になる場合には、位置ずれ信号は
検出できず、位置ずれ信号の検出範囲内にマスク
とウエハを重ね合わせるようにステージを動か
し、位置ずれ信号を探し出す工程が必要になりア
ライメントに長い時間がかかるという欠点があつ
た。
本発明のマスクとウエハのプリアライメント方
法は、あおりθステージと、マスクチヤツクから
なるマスクステージにプリアライメントマークを
有するマスクを挿着する第１の挿着工程と、xy
ステージ上に搭載されたマスク用テレビカメラを
マスクの前方に移動する第１の移動工程と、マス
ク用テレビカメラでマスクのプリアライメントマ
ークを観察してxyθ方向の合わせ込みをする第１
の合わせ込み工程と、前記xyステージθステー
ジとウエハチヤツクからなるウエハステージにプ
リアライメントマークを有するウエハを挿着する
第２の挿着工程と、ウエハステージを駆動してウ
エハをウエハ用テレビカメラの前方に移動する第
２移動工程と、ウエハ用テレビカメラでウエハの
プリアライメントマークを観察してxyθ方向の合
わせ込みをする第２の合せ込み工程と、ウエハス
テージを駆動してウエハをマスク前面の露光位置
に移動する第３の移動工程とを含んで構成され
る。
法は、あおりθステージと、マスクチヤツクから
なるマスクステージにプリアライメントマークを
有するマスクを挿着する第１の挿着工程と、xy
ステージ上に搭載されたマスク用テレビカメラを
マスクの前方に移動する第１の移動工程と、マス
ク用テレビカメラでマスクのプリアライメントマ
ークを観察してxyθ方向の合わせ込みをする第１
の合わせ込み工程と、前記xyステージθステー
ジとウエハチヤツクからなるウエハステージにプ
リアライメントマークを有するウエハを挿着する
第２の挿着工程と、ウエハステージを駆動してウ
エハをウエハ用テレビカメラの前方に移動する第
２移動工程と、ウエハ用テレビカメラでウエハの
プリアライメントマークを観察してxyθ方向の合
わせ込みをする第２の合せ込み工程と、ウエハス
テージを駆動してウエハをマスク前面の露光位置
に移動する第３の移動工程とを含んで構成され
る。
次に、本発明の実施例について、図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図であ
る。
る。
第１図に示すＸ線露光装置は、ベース１と、ベ
ース１に搭載されＸ軸方向に移動できるＸステー
ジ２と、Ｘステージ２に搭載されＹ軸方向に移動
できるＹステージ３と、Ｙステージ３に搭載され
回転運動をするθステージ４と、真空吸着機構を
有するウエハチヤツク５と、ウエハ６とを含んで
いる。ウエハ用テレビカメラ72個はウエハ６の２
個のプリアライメントマークを観察する位置に固
定されている。Ｘ線源８の下方にはＸ線を導くヘ
リウムチヤンバ９とあおりθステージ１０とマス
クチヤツク１１が取付けられており先端にマスク
１２を真空吸着している。２個のマスク用テレビ
カメラ１３Ｙはステージ３の上にあり、マスク１
２のブリアライメントマークを観察できる位置に
固定されている。さらにヘリウムチヤンバ９の側
面に取付けられ最終的なフアインアライメントを
行うためのアライメント光学系１４と、Ｙステー
ジ上に搭載された直角ミラー１５と、Ｘステージ
２とＹステージ３の位置を計測するレーザ測長器
１６を含んで構成される。
ース１に搭載されＸ軸方向に移動できるＸステー
ジ２と、Ｘステージ２に搭載されＹ軸方向に移動
できるＹステージ３と、Ｙステージ３に搭載され
回転運動をするθステージ４と、真空吸着機構を
有するウエハチヤツク５と、ウエハ６とを含んで
いる。ウエハ用テレビカメラ72個はウエハ６の２
個のプリアライメントマークを観察する位置に固
定されている。Ｘ線源８の下方にはＸ線を導くヘ
リウムチヤンバ９とあおりθステージ１０とマス
クチヤツク１１が取付けられており先端にマスク
１２を真空吸着している。２個のマスク用テレビ
カメラ１３Ｙはステージ３の上にあり、マスク１
２のブリアライメントマークを観察できる位置に
固定されている。さらにヘリウムチヤンバ９の側
面に取付けられ最終的なフアインアライメントを
行うためのアライメント光学系１４と、Ｙステー
ジ上に搭載された直角ミラー１５と、Ｘステージ
２とＹステージ３の位置を計測するレーザ測長器
１６を含んで構成される。
第２図ａ〜ｅは第１図に示すＸ線露光装置にお
けるマスクとウエハのプリアライメント工程を示
す説明図である。
けるマスクとウエハのプリアライメント工程を示
す説明図である。
第２図ａはマスク１２をマスクチヤツク１１で
真空吸着し、マスク用テレビカメラ１３をｘステ
ージ２とｙステージ３を駆動して、マスク１２の
プリアライメントマークをマスク用テレビカメラ
１３で観察する工程を示している。２個のマスク
用テレビカメラ１３の間隔は、プリアライメント
マークの間隔Ｄに等しい。
真空吸着し、マスク用テレビカメラ１３をｘステ
ージ２とｙステージ３を駆動して、マスク１２の
プリアライメントマークをマスク用テレビカメラ
１３で観察する工程を示している。２個のマスク
用テレビカメラ１３の間隔は、プリアライメント
マークの間隔Ｄに等しい。
第２図ｂは、プリアライメントマーク１７ａ，
１７ｂをマスク用テレビカメラ１３で観察したと
きのテレビモニタの状態を示している。観察され
たプリアライメントマーク１７ａとモニタ上の基
準マーク１８ａとのＸ方向のずれ量をΔxa、Ｙ方
向のずれ量をΔyaとし、プリアライメントマーク
１７ｂと基準マーク１８ｂとのＸ方向のずれ量を
Δxb、Ｙ方向のずれ量をΔybとすると、マスク１
２XYθ方向のずれ量Δxm，Δym，ΔθmはΔx＝
（Δxa＋Δxb）／２、Δy＝（Δya＋Δyb）／２、
Δθ＝（Δya−Δyb）／Ｄで表わされる。ただし、
Ｄはプリアライメントマーク１７ａ，１７ｂの間
隔である。このΔx，ΔY，Δθをもとに、Ｘステ
ージ２、Ｙステージ３、あおりθステージ１０を
動かし、モニタ上でプリアライメントマーク１７
ａ，１７ｂと基準マーク１８ａ，１８ｂを重ね合
わせてマスク１２のプリアライメントを行う。
１７ｂをマスク用テレビカメラ１３で観察したと
きのテレビモニタの状態を示している。観察され
たプリアライメントマーク１７ａとモニタ上の基
準マーク１８ａとのＸ方向のずれ量をΔxa、Ｙ方
向のずれ量をΔyaとし、プリアライメントマーク
１７ｂと基準マーク１８ｂとのＸ方向のずれ量を
Δxb、Ｙ方向のずれ量をΔybとすると、マスク１
２XYθ方向のずれ量Δxm，Δym，ΔθmはΔx＝
（Δxa＋Δxb）／２、Δy＝（Δya＋Δyb）／２、
Δθ＝（Δya−Δyb）／Ｄで表わされる。ただし、
Ｄはプリアライメントマーク１７ａ，１７ｂの間
隔である。このΔx，ΔY，Δθをもとに、Ｘステ
ージ２、Ｙステージ３、あおりθステージ１０を
動かし、モニタ上でプリアライメントマーク１７
ａ，１７ｂと基準マーク１８ａ，１８ｂを重ね合
わせてマスク１２のプリアライメントを行う。
第２図ｃは、ウエハ６をウエハチヤツク５に真
空吸着し、ウエハ用テレビカメラ７で２個のプリ
アライメントマークを観察してプリアライメント
を行う位置にＸステージ２とＹステージ３を移動
したところを示している。ウエハ６上のプリアラ
イメントマークの間隔もマスク上のプリアライメ
ントマークの間隔Ｄに等しくしておく。
空吸着し、ウエハ用テレビカメラ７で２個のプリ
アライメントマークを観察してプリアライメント
を行う位置にＸステージ２とＹステージ３を移動
したところを示している。ウエハ６上のプリアラ
イメントマークの間隔もマスク上のプリアライメ
ントマークの間隔Ｄに等しくしておく。
第２図ｄは、プリアライメントマーク１９ａ，
１９ｂをウエハ用テレビカメラ７で観察したとき
のテレビモニタの状態を示している。前述のマス
クの場合と同様に、ウエハ６のXYθ方向のずれ
量Δxw，Δyw，Δθwを求め、Ｘステージ２、Ｙ
ステージ３、θステージ４を動かし、モニタ上で
プリアライメントマーク１９ａ，１９ｂと基準マ
ーク２０ａ，２０ｂを重ね合わせプリアライメン
トを行う。
１９ｂをウエハ用テレビカメラ７で観察したとき
のテレビモニタの状態を示している。前述のマス
クの場合と同様に、ウエハ６のXYθ方向のずれ
量Δxw，Δyw，Δθwを求め、Ｘステージ２、Ｙ
ステージ３、θステージ４を動かし、モニタ上で
プリアライメントマーク１９ａ，１９ｂと基準マ
ーク２０ａ，２０ｂを重ね合わせプリアライメン
トを行う。
第２図ｅは、ウエハ６のプリアライメント完了
後、Ｘステージ２とＹステージ３を最初の露光位
置に移動させたときの状態を示している。ウエハ
用テレビカメラ７に対するウエハ６の位置は、マ
スク１２の場合と同様に、レーザ測長器で正確に
計測することができる。マスク１２はすでにマス
ク用テレビカメラ１３に対して正確に位置決めさ
れているので、マスク１２とウエハ６を高い重ね
合わせ精度でプリアライメントすることが可能と
なる。
後、Ｘステージ２とＹステージ３を最初の露光位
置に移動させたときの状態を示している。ウエハ
用テレビカメラ７に対するウエハ６の位置は、マ
スク１２の場合と同様に、レーザ測長器で正確に
計測することができる。マスク１２はすでにマス
ク用テレビカメラ１３に対して正確に位置決めさ
れているので、マスク１２とウエハ６を高い重ね
合わせ精度でプリアライメントすることが可能と
なる。
マスクとウエハのプリアライメントが完了した
ら、アライメント光学系１４により最終的なフア
インアライメントを行い露光を開始する。
ら、アライメント光学系１４により最終的なフア
インアライメントを行い露光を開始する。
本発明のマスクとウエハのプリアライメント方
法は、マスクとウエハに対しそれぞれ独立したテ
レビカメラを用いてプリアライメントできるた
め、誤差要因が少なく重ね合わせ精度の良いプリ
アライメントができるという効果がある。その結
果、最終的なフアインアライメントの負担が軽く
できるという効果がある。
法は、マスクとウエハに対しそれぞれ独立したテ
レビカメラを用いてプリアライメントできるた
め、誤差要因が少なく重ね合わせ精度の良いプリ
アライメントができるという効果がある。その結
果、最終的なフアインアライメントの負担が軽く
できるという効果がある。
また、マスクの外形を基準としてプリアライメ
ントを行うかわりに、ウエハステージを動かして
合わせ込みを行うため、マスクの外形とマスクパ
ターンの位置精度を出す必要がなく、マスクの製
作が比較的容易になるという効果がある。
ントを行うかわりに、ウエハステージを動かして
合わせ込みを行うため、マスクの外形とマスクパ
ターンの位置精度を出す必要がなく、マスクの製
作が比較的容易になるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図、第２
図ａ〜ｅは本発明のマスクとウエハのプリアライ
メントの工程を示す説明図、第３図は従来のアラ
イメント方法を示す説明図、第４図は第３図に示
すアライメント方法におけるマスク用マークであ
るリニア・フレネル・ゾーン・プレートを示す平
面図、第５図は第３図に示すアライメント方法に
おけるウエハ用マークである回折格子を示す平面
図。 １……ベース、２……Ｘステージ、３……Ｙス
テージ、４……θステージ、５……ウエハチヤツ
ク、６……ウエハ、７……ウエハ用テレビカメ
ラ、８……Ｘ線源、９……ヘリウムチヤンバ、１
０……あおりθステージ、１１……マスクチヤツ
ク、１２……マスク、１３……マスク用テレビカ
メラ、１４……アライメント光学系、１５……直
角ミラー、１６……レーザ測長器、１７ａ，１７
ｂ……マスクのプリアライメントマーク、１８
ａ，１８ｂ……基準マーク、１９ａ，１９ｂ……
ウエハのプリアライメントマーク、２０ａ，２０
ｂ……基準マーク、２１……ウエハ、２２……回
折格子、２３……マスク、２４……リニア・フレ
ネル・ゾーン・プレート、２５……レーザビー
ム、Δxa，Δxb……プリアライメントマークと基
準マークのＸ方向のずれ量、Δya，Δyb……プリ
アライメントマークと基準マークのＹ方向のずれ
量、ｄ……回折格子のピツチ。
図ａ〜ｅは本発明のマスクとウエハのプリアライ
メントの工程を示す説明図、第３図は従来のアラ
イメント方法を示す説明図、第４図は第３図に示
すアライメント方法におけるマスク用マークであ
るリニア・フレネル・ゾーン・プレートを示す平
面図、第５図は第３図に示すアライメント方法に
おけるウエハ用マークである回折格子を示す平面
図。 １……ベース、２……Ｘステージ、３……Ｙス
テージ、４……θステージ、５……ウエハチヤツ
ク、６……ウエハ、７……ウエハ用テレビカメ
ラ、８……Ｘ線源、９……ヘリウムチヤンバ、１
０……あおりθステージ、１１……マスクチヤツ
ク、１２……マスク、１３……マスク用テレビカ
メラ、１４……アライメント光学系、１５……直
角ミラー、１６……レーザ測長器、１７ａ，１７
ｂ……マスクのプリアライメントマーク、１８
ａ，１８ｂ……基準マーク、１９ａ，１９ｂ……
ウエハのプリアライメントマーク、２０ａ，２０
ｂ……基準マーク、２１……ウエハ、２２……回
折格子、２３……マスク、２４……リニア・フレ
ネル・ゾーン・プレート、２５……レーザビー
ム、Δxa，Δxb……プリアライメントマークと基
準マークのＸ方向のずれ量、Δya，Δyb……プリ
アライメントマークと基準マークのＹ方向のずれ
量、ｄ……回折格子のピツチ。
Claims (1)
- １ あおりθステージとマスクチヤツクからなる
マスクステージにプリアライメントマークを有す
るマスクを挿着する第１の挿着工程と、xyステ
ージ上に搭載されたマスク用テレビカメラをマス
クの前方に移動する第１の移動工程と、マスク用
テレビカメラでマスクのプリアライメントマーク
を観察してxyθ方向の合わせ込みをする第１の合
わせ込み工程と、前記xyステージとθステージ
とウエハチヤツクからなるウエハステージにプリ
アライメントマークを有するウエハを挿着する第
２の挿着工程と、ウエハステージを駆動してウエ
ハをウエハ用テレビカメラの前方に移動する第２
の移動工程と、ウエハ用テレビカメラでウエハの
プリアライメントマークを観察してxyθ方向の合
わせ込みをする第２の合せ込み工程と、ウエハス
テージを駆動してウエハをマスク前面の露光位置
に移動する第３の移動工程とを含むことを特徴と
するマスクとウエハのプリアライメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267303A JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267303A JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01108741A JPH01108741A (ja) | 1989-04-26 |
| JPH0520888B2 true JPH0520888B2 (ja) | 1993-03-22 |
Family
ID=17442954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267303A Granted JPH01108741A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | マスクとウェハのプリアライメント方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01108741A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05152186A (ja) * | 1991-05-01 | 1993-06-18 | Canon Inc | 測定装置及び露光装置及び露光装置の位置決め方法 |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP62267303A patent/JPH01108741A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01108741A (ja) | 1989-04-26 |
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