JPH01109302A - カラーフイルターの製造方法 - Google Patents

カラーフイルターの製造方法

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JPH01109302A
JPH01109302A JP62267701A JP26770187A JPH01109302A JP H01109302 A JPH01109302 A JP H01109302A JP 62267701 A JP62267701 A JP 62267701A JP 26770187 A JP26770187 A JP 26770187A JP H01109302 A JPH01109302 A JP H01109302A
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Mitsugi Tanaka
貢 田中
Masaaki Tsuboi
坪井 當昌
Hiromichi Tateishi
立石 博道
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、CCI)(チャージカップルドデバイス)、
BBD(バリッドブリケートデバイス]、CID(チャ
ージインジェクションデバイス、BASIS(ベースス
トアタイプイメージセンサ−)等のカラー個体撮像素子
、密着型メメージセンサーおよびカラーデイスプレィ用
等に用いられるカラーフィルターの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種の素子に用いられる力2−フィルターとし
ては、干渉フィルター又は染色フィルターが知られてい
る。
干渉フィルターは多層構成で所定の分光特性に合わせた
膜設計をなす上で使用する材料(屈折率)によって決ま
る膜厚の調整やその膜を積層で保持するなどの製造上の
問題が多い。特に微細なパターンユングに際してはこれ
らの抑制が困難な場合が多い。また、コストが高いとい
う欠点を有していた。
一方、染色フィルターは、例えば透明基板上にゼラチン
、カゼイン、グリニーあるいはポリビニルアルコールな
どの天然または合成高分子物質からなる媒染層を設け、
その媒染層を所定のパターンに合わせて着色する方法が
知られている。着色する方法としては適当な色素を溶解
した染色浴中に浸漬処理する染色法が挙げられる。
この方法によると使用可能な色素が非常に多く、フィル
ターとして要求される分光特性をどのようにも対応でき
るという利点を有しているが、染色工程が色素を溶解し
た染色浴中に浸漬するというコントcr−ルの難しい湿
式1程を採用しており、しかも所定のパターン通りに各
色を染め分ける1輻において、各色の染色工程毎にホト
レジストによる耐染マスクの作成および剥離の工程を必
要とするために歩滞りが低く、廉価なカラーフィルター
を製造するには適切な方法とはいえない。さらにフィル
ターとしての性能においてもパターンユング境界部での
色の「にじみ」、「ボケ」などの混色が生じるので高精
度が要求される分野の使用には適したものではない。
さらに、色素を用いる場合は、有機溶剤に可溶モ吸収が
シャープで色相がよく、シかも耐久性のよい色素がなか
った。
〔発明が解決しようとする問題点J 本発明は、上述の従来技術の有する欠点をもたない新規
の製造方法を提供するもので、本流により高精度で分光
特性が優れ、耐久性、透明性が優れかつ経済価値の大き
いカラーフィルターの製造が可能になった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は基板上に着色層が形成されたカラーフィルター
の製造方法において、感光性組成物中に、下記一般式(
1)で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または
分散させたのち、該基板上に塗布し、該組成物をパター
ンユングすることを特徴とするカラーフィルターの製造
方法である。
一般式(1) 式中、2は最低1個のI〜7員の芳香環又は複素環を完
成するのに必要な複数個の原子な表わ丁。
これらの環上の水素原子は1つ以上のアルキル基、アル
コキシ基、アリールオキク基、アラルキル基、−アリー
ル基、ハロゲン原子、シアノ墓、ニトロ基、エステル基
、カルバモイル基、アシル晟、アシルアミノ基、スルホ
ニル晶、スルファそイル基、スルホンアミド基、アミノ
基、アルキルアミノ愚、2′は最低1個のよ一一員の芳
香環又は複素環を表わし、その際この2′はアゾ結合に
対する結合個所に隣接する位置において、(1)キレー
ト化層として働く窒素原子を当誼核の環内に有するか、
さもなけれは、(U)キレート化層として働く窒素厘子
が直接的に結合している炭素原子を当該核の環内に有す
る。2′の芳香環又は複素環上の水素原子は、1つ以上
の置換基で置換されてもよく、置換基としては2と同じ
置換基である。Gは金属キレート化墓を表わす。MFi
J価のt座配位金属イオンを表わす。
以下、本発萌の方法の一例を詳細に説明する。
まず、ガラス、樹脂等からなる基板上に、一般式(1)
で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または分散
させた感光性組成物、たとえばネガ型フォトレジストを
塗布等の方法により積層する。このレジスト層を所望の
パターンを有するフ。
オドマスクを介して公知の方法で露光し、現像液によっ
て現像し、色素を含む樹脂からなる色素/セターンを得
ることができる。
さらに異なる色素/41ターンを同一基板上に形成する
場合には、パターンに応じてフォトマスクの位置をずら
しながら、上記の工程をくり返して行なえばよい。
色の種類の数だけこれらの工程をくり返すことによって
、複数の色素、eターンを有するものが製造できる。
一色のフィルタ一部分のみを本発明の一般式(I)のア
ゾ金属キレート化合物を含み、他は公知の色素、顔料を
用いてもよい。顔料を用いるものとしては特開昭47−
10110j号公報に開示されている。
次に、本発明のアゾ金属キレート化合物について説明す
る。
一般式(17のz、z’により形成される環の中で好ま
しいものはベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キ
ノリン環、ピラゾール環、チオフェン環、インドール環
、又はピラゾロトリアゾール環である。またこれらの環
上の置換基のうち好ましいものはCl= C2Bの置換
してもよいアルキル基、08〜C25の置換してもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ晟、ニトロ基、C
l−C25の置換してもよいアルキルスルファモイル基
、C6〜C3oの置換してもよいフェニルスルファモイ
ル基、Cl−C25のエステル基、Cl−C25のカル
バモイル基、C1〜C2!iのアシル基、C1〜C25
のアシルアミノ基、c8〜C2Bのスルホニル(R1、
R2は水素原子、Cl−C25の置換されてもよいアル
キル基又はフェニル基を表わす、R,とR2は一緒にな
って!又はt員環を形成してもよい。ンで表わされるア
ルキルアミノ基もしくはアリールアミツル、水酸基であ
る。
GO中で好ましいものは水酸イオン、カルボキシレート
、スルホンアミドイオン、スルファモイルイオン、アミ
ノ基、又はアルキルチオ基であり、特に好ましいものは
水酸イオンである。
Mの中で好ましいものはニッケル([34鉛(■入コバ
ルト(117、であり、特に好ましいものはニッケル(
U)である。
一般式(I)で表わされる本発明に用いられる化合物は
、油溶性を増すため油溶化基を少なくと′%1個は持っ
ていることが好ましい。
油溶化基とは色素を非水溶媒に溶けや丁くするため色素
部本体と結合している炭素数!〜30の無置換又は置換
(置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アラルキル蒸、アリール基、ハロゲン原子、
77)晟、ニトロ基、エステル基、カルバモイル基、ア
シル基、アシル、アミノ基、スルホニル基、スルファモ
イル基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基又は水酸基が挙げられる】されて
もよいアルキル基、又は炭素数io〜3!の置換(置換
基は同上)されたアリール基を表わす。
これらのアルキル基又はアリール基は色素部本体と直接
結合してもよいし、エステル基、カルバモイル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンア
ミド基、アミノ基、アルキルアミノ基を介して結合して
もよい。
一般式(1)で表わされる本発明に用いられる化合物中
には化合物の安定性を損なうレドックス反応や加水分解
反応を起しやすい基を含まないことが好ましい。
本発明の化合物のうち特に好ましいものは、次の一般式
(…)または(UNで表わされる。
式中、R3は水素原子又は低級アルキル基を表わす。R
4、R6は水素原子、C1−C251Dll換してもよ
いアルキル基%C6〜C3oの置換してもよいフェニル
基を表わす。但し、R4とR5の合計の炭素数は1個以
上、好ましくはl個以上、特に好ましくは10個以上と
する。
本発明に用いられる化合物の具体例を以下に示す。
なお、具体例を一般式(IV)〜(Vl)で表わす場合
は、それぞれの一般式の具体例な置換基を第7表〜第3
表に示す。(ベンゼン環上の数字は置換位置を示す) 一般式(IV) 3 ! 一般式(■) CH3に13 第3表 以下に本発明に用いられる化合物の合成例を示す。
合成例1 化合!14/の合成 1−/  中間体1−/クロスルホニル−2−(コーピ
リジルアゾ)−/−fフトールの合成特開昭13−31
113号公報の方法により合成した弘−ヒドロキシ−3
−(2−ピリジルアゾン−/−7フタレンスルホン酸/
 01/%スルホラン/DO−およびオキシ塩化リン/
181を内温!!〜6!0Cで3時間卯温攪拌した。反
応混合物を室温まで冷却した後、llの氷水中へ注いで
得られる結晶を戸数し水洗した。風乾して得られた目的
物の収fitはio、igであった。
1−2 中間体参−〔3−(コ9μmジーtert−ア
ミルフェノキシ]フロビルスルファそイルj−J−(J
−ピリジルアゾ)−/−ナフトールの合成 3−(コ、j−ジーtert−アミルフエノキシンプロ
ピルアミンコOIおよびN、F4−ジメチルアセトアミ
ド70−へ室温下、攪拌しながら1−7で得られた中間
体7gを徐々に添加した。1時間攪拌した後、反応混合
物を濃塩酸3mlおよびメタノール1rontの混合物
中へ注いだ。こレヘ水/!コな徐々に注ぐと結晶が析出
した。戸数し、メタノール水10:/で洗った後風乾し
て、得られた目的物の収量は10./l/であった。
1−3 化合vR/l61)合成・ 塩化ニッケルを水和物ぶIおよびN、N−ジメチルアセ
トアミドlコO−からなる溶液へ合成例1−2で得た中
間体tgおよびN、N−ジメチルホルムアミド1001
11からなる溶液を室温下、攪拌しながら注加した。1
時間攪拌した後、氷酢酸20081−水2!へ注加し、
析出した結晶な戸数、水洗した。この結晶をクロロホル
ム−酢エチlO:lを展開溶媒とするシリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製して目的物、5.3gを得た。
m−p、ri/ 70−/ 7% ’(’であった。
本発明に用いる色素としては一般式(I)のアゾ金属キ
レート化合物を単体あるいは、これと他の色素の混合物
として適宜選択して用いられる。
カラーフィルターの一色のフィルタ一部分のみを一般式
(I)のアゾ金属キレート化合物を含む場合は、他の色
は例えば特開昭61−コタxi。
1号、特開昭47−コIf−PI3号、特開昭40−7
り2り03号などの公報に記載されている染料や顔料を
用いることが出来る。
各色素パターンの形成に先だち、透明樹脂からなる中間
層を形成することも可能である。
本発明に用いる感光性を組rfJc物としてはカゼイン
、ゼラチン、フイシュグリエー等に感光剤として惠クロ
ム酸アンモニウムを添加した樹脂、ポリビニルアルコー
ルおよびポリビニルピロリドン等の高分子母材にジアゾ
化合物を添加した樹脂および各種レジスト材料を挙げる
ことができる。
レジスト材料を用いる場合は、ポジ型レジストでも良い
が好ましく拡ネガ型レジストが良い。ネガ型レジストと
して線光重合性レジスト、光架橋性レジスト、などがあ
る。その代表的なもの(商品名)を挙げるとフォトレジ
ストとしては「OMR−xi、ri、t!、17J、「
O8R」および「TPS」以上東京応化製、「wayc
eat−HNR。
)illlツタ、Negative)tR,Ic、Ty
pe  JIG。
、   Sに、V)iRJ以上ハント裏、「Micro
resist−732,74’7.7!2」以上Kod
ak社製、「フオトレツクRW−10/%RF −GJ
以上積水ファインケミカル製、rJsRCIRシリーズ
」以上日本合成ゴム製、「5electiluxN」以
上メルク製、紫外用レジストとしてはrODUR−to
o%/20.lloWRJ以上東京応化製、電子ビーム
用レジストとしては1”0EBR1ooJ以上東京応化
製などが挙げられる。
感光性樹脂としてはポジ型のものでもよいが、一般にネ
ガ型の方が好ましく、その具体例としては下記のものが
挙げられる。
1)重クロム酸塩とアルブミン、カゼイン、Kかわ、ゼ
ラチン、アラビアゴム、セラック、PvA等の水溶性高
分子物質との混合系。
2)ジアゾ樹脂(p−ジアゾジフェニルアミンとホルム
アルデヒドとの縮合物ンとPVA、PVA+ポリ酢酸ビ
ニル等の樹脂との混合系。
3)p−7二二レンビスアジド、係、参′−ジアジドベ
ンゾフェノン、#、l−ジアジドジフェニルメタン、#
、参’−ジアジドスチルベン、4c、参′−ジアジドカ
ルコン、コ、t−ジー(4c′−アジドベンザルンシク
ロヘキサン、コ、ぶ−ジ(u I−アジドベンザル)−
参−メチルシクロヘキサノン、4C,l−ジアジドスチ
ルベン−2゜21−ジスルホン酸ナトリウム、1.!−
ジアジドナフタレンー3.7−ジスルホン酸ナトリウム
等のアジド化合物と天然ゴム、合成ゴム、弗化ゴム、P
VA、ポリビニルピロリドン、ジアセトンアクリルアミ
ド、メチルセルロース、ビニルアルコール−マレイン酸
共重合体等の樹脂との混合系。
4)ポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジド7タル酸ビ
ニル、ポリビニルアジドベンザルアセタール等のアジド
基含有ポリマー。
5)ポリビニルシンナメート、ポリビニルシンナメート
7タレート、ポリビニルシンナミリデンアセテート、ポ
リビニルアセテートシンナミリデンアセテート等の珪皮
酸基含有ポリマー。
6)アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート
、コーエチルへキシルアクリレート、2°−ヒドロキシ
エチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等
のエチレン性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー
又はポリマーとベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン、
アントラキノンスルホン酸塩等の光重合開始剤との混合
系。なお感光層中の感光性樹脂とアゾ金属キレート化合
物の割合はo、or−1mOwtTo 程度が適当であ
る。また感光性樹脂層の厚さはQ。
参〜10μ程度が適当である。
感光性樹脂の溶媒に一般式(I)のアゾ金属キレート化
合物が溶けにくい場合は、感光性樹脂とアゾ金属キレー
ト化合物をボールミル、ロールミル等に入れ混線しアゾ
金属キレート化合物を微分散させる。
本発明で用いられる基板は樹脂の塗布が可能であればそ
の使用目的により種々のものが使用でき、特に限定され
るものではない。具体的には以下のものが使用できる。
例えばガラス板;光学用樹脂板;ゼラチン;ポリビニル
アルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポリメチル
メタクリレート、ポリエステル、ポリビニルブチラール
、ボリアばドなどの樹脂フィルム。またノターン状の色
累層をカラーフィルターとして適用できる機材を基板と
して一体に形成することも可能である。その場合の基板
の一例としては、ブラウン管表示面、撮像管の受光面、
CCD、BBD%CID%BASIS等の固体撮像素子
が形成されたウニJS−1薄膜半導体を用いた密着型イ
メージセンサ−1液晶デイスプレー面、カラー電子写真
用感光体等が挙げられる。
〔発明の効果」 本発明のアゾ金属キレート化合物を含むカラーフィルタ
ーは吸収がシャープで、色が鮮明である。
また有機溶剤に溶けるため、感光性組成物に溶解状態で
あるか、極めて分散性が良好であり、カラーフィルター
の各画素中の光学濃度の分布や、画素間のバラツキが少
く、撮像素子に装置したときにノイズが少く信号が多い
、即ちS/Nが大きい、あるいにデイスプレィ素子に装
着したときにも光の画素間、画素内のバラツキが少く、
デイスプレィされた画像が鮮明である。
さらに本発明のアゾ金属キレート化合物は耐光性、耐熱
性、耐水性、高湿下における耐光性、耐熱性が優れ、ま
た空気酸化に対しても強いため、アゾ金属キレート化合
物を含むカラーフィルターは経時劣化が殆んどない。
さらに本発明のアゾ金属キレート化合物の有機溶剤に対
する溶解性が優れているので各種の感光性樹脂を広く選
択しうる利点を有する。
さらに、本発明のアゾ金属キレート化合物は中性であり
、分子量が比較的大ぎいため、カラーフィルターの各画
素より移動して各画素がボケたり、各画素の周辺ににじ
んだり、混色などの好ましくない現象を起こさない。さ
らに本発明の方法は製造法が簡便であるので、製品の歩
留りが向上する。
「実施例」 以下、実施例で集体的に説明するが、実施例中の「部」
は「重量部」を示す。
実施例 1 感光性を有する樹脂として遠紫外光用ネガ型レジスト0
DUR1toViR(東京応化製)を用いた。赤色を出
すためには本発明のJIJ4の黄色色go、oi部と、
肩りのマゼンタ色1gO,ot部を上記感光性樹脂20
0部に溶解し、ガラス板上にスピンナーを用いて塗布し
、乾燥膜厚0.6μ扉の−様な被膜を得た。tO°C%
コO分間プリベークを行い、所定のパターンユングマス
クで2秒間露光し、専用現像液で7分440秒現像し、
1分間リンスし、その後/r夕0Cで2j分間ポストベ
ークした。
緑色を出丁ためには本発明の436の黄色色素0.0/
部と、特願昭62−77参弘?7号明細書に記した次の
フタロシアニンIf色累0.011部を上の赤色を出す
色素の代りに用いた。
式(■) なお、Pcはフタロクアニン骨格を表わす。
青色を出すためには式(■)の7タロシアニン系色素0
.0/1部と、本発明の腐りのマゼンタ色素0.0/部
を上の赤色の代りに用いた。
赤色フィルター層作成の方法と同様な工程を緑色色素パ
ターン及び、青色色素、eターン、と繰返丁ことにより
、赤、緑、青よりなる3色のカラーフィルターを作成し
た。これは従来染色法で作成されていたカラーフィルタ
ーに比較して、高精度化が要求される分野で充分満足な
ものであった。
カラーフィルターは本発明の色素及び特願昭≦2−77
参参F7号明細書に記載した色素を用いているために、
耐光性、水分存在下での耐光性に優れ、フェードメータ
テスト10万ルクスat時間照射によっても、ピーク透
過率変化71以内、ピーク波長シフト11以内であった
本例の緑色フィルター層は後述する実施例4の緑色フィ
ルター層よりも透明性がよく、本発明のアゾ金属キレー
ト化合物がカラーフィルター用に適しているのが分る。
実施例 2 実施例1と同様な作成工程で、基板としてガラスの代り
に固体撮像素子(例えば電荷移送素子(CCD))が形
成されたウェハーを用い、その表面上にR%G、Bの順
で直接カラーフィルターを作成した。こうして作成した
カラー固体撮像素子は良好な色再現性を示した。
なお、CCDのウェハー表面に凸凹のある場合はポリメ
チルメタアクリレート樹脂を平坦層として、初めに塗設
すると、よりカラーフィルターの画素のパターンはシャ
ープになった。
実施例 3 液晶カラー表示素子の作成を例を挙げて述べる。
第1図は本発明の方法により薄膜トランジスタアレイ上
にカラーフィルターを作成する実施例を説明するための
断面概略図である。
先ず、ガラス基板(コーニング社製#701タンlの上
に100DA厚さのITO画素電極!を7オトリンエ程
により所望の)(ターンに形成した。
次に、AIを100OA厚さ真空蒸着しフォトリン工程
により所望のパターンのゲート電極ぶを形成した。
次に感光性ポリイミド//を100DA厚さ塗布し、露
光・現像処理によりドレイン電極13とのコンタクトを
する為のスルーホールを形成した。
次KHzで希釈された5iti4を真空中でグロー放電
法によって堆積させることにより、a−8i層からなる
1tooh厚さの光電導層り(イントリンシック層= 
t II )を形成した後、その上に同様な工程により
1000λ厚さat層10を形成した。その後ドライエ
ツチング法により所望の形状にエツチングした。
次にAJを1oooA厚さに真空蒸着しフォトリソ工程
により所望の/Rターンのソース電極lコ及びドレイン
電極13を形成した。
この上に実施例1と同様の方法により赤色色素パターン
/4!を作成し、次いで実施例1と全く同様に緑色色素
パターン、青色色素パターンを形成し、赤、緑、青より
成る3色のカラーフィルターを形成した。
次に配向機能を付与した絶縁膜(ポリイミド樹脂)を全
面に1000に厚さに塗布し2zo(1c1時間の加熱
硬化を行なった。
次に別のガラス基板(コーニング社製#70!り)の上
に一面に1000にのITO電極を形成した後、配向機
能を付与した絶縁膜(ポリイきド樹脂ンを全面に/20
0に厚さに塗布、硬化した基板と第1図のカラーフィル
ターを形成した薄膜トランジスタアレイの間に液晶を注
入し、色再現性のよいカラー用液晶表示素子を作製した
実施例 4 赤色色素層としては、実施例1の/Wh36の黄色色素
0.01部と腐りのマゼンタ色素o、oi部の混合物を
実施例1の如き工程で赤色フィルター層をガラスの全面
にITO電極を形成した基板上に赤用画素電極に対応し
て形成した。この上に、感光性樹脂100部に緑色の顔
料フタロシアニン鉛1部をポールミル中で2時間混練し
て、緑色顔料を微分散したものをスピンナーで塗布、乾
燥し、0.1μmの−様な膜を作った。その後実施例1
の如く、プリベーク、パターニング露光、現像、リンス
、ポストベークを行って緑色フィルター層を作成した。
青色色素としては次のメタルフリー7タロシアニン(式
(■))0.0/2部を用い、本例の赤色カラー層作成
の工程と同様にして青色フィルター層を作った。
この上に、配向機能を付与したポリイミド樹脂を全面に
1300に厚に塗布、硬化させた。この基板と、実施例
3の薄膜トランジスターのみを別の基板に作成したもの
の間に液晶を入れて色再現性の良い明るいカラー液晶表
示素子を作成した。
なお、本例においてガラス基板上にまずカラーフィルタ
ーを作成し、この上にITO層を作り、次いでポリイミ
ド配向膜を形成することも可能であった。
本例の青色フィルター層は特開昭47−IOr103号
公報の実施例1に示された青色フィルター層に比較して
透明性が優れていた。
【図面の簡単な説明】
第1図(1)〜(8)は本発明の方法による薄膜トラン
ジスタアレイの作成工程な示す断面図である。 なお番号は以下のことを示す。 /、ガラス基板    j0画像電極 乙、ゲート電極    2.1層 10、n層      //、絶縁層 /2.  ソース電極   /1.  ドレイン電極l
≠0色素パターン  /!、絶縁層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基板上に着色層が形成されたカラーフィルターの製造方
    法において、感光性組成物中に、下記一般式( I )で
    表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または分散さ
    せたのち、該基板上に塗布し、該組成物をパターンニン
    グすることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Zは最低1個の5〜7員の芳香環又は複素環を完
    成するのに必要な複数個の原子を表わす。 これらの環上の水素原子は1つ以上のアルキル基、アル
    コキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリール
    基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、
    カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニ
    ル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ基
    、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、又は水酸基で
    置換されてもよい。 Z′は最低1個の5〜7員の芳香環又は複素環を表わし
    、その際このZ′はアゾ結合に対する結合個所に隣接す
    る位置において、(i)キレート化座として働く窒素原
    子を当該核の環内に有するか、さもなければ、(ii)
    キレート化座として働く窒素原子が直接的に結合してい
    る炭素原子を当該核の環内に有する。Z′の芳香環又は
    複素環上の水素原子は、1つ以上の置換基で置換されて
    もよく、置換基としてはZと同じ置換基である。Gは金
    属キレート化基を表わす。Mは2価の6座配位金属イオ
    ンを表わす。
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