JPH01109302A - カラーフイルターの製造方法 - Google Patents
カラーフイルターの製造方法Info
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、CCI)(チャージカップルドデバイス)、
BBD(バリッドブリケートデバイス]、CID(チャ
ージインジェクションデバイス、BASIS(ベースス
トアタイプイメージセンサ−)等のカラー個体撮像素子
、密着型メメージセンサーおよびカラーデイスプレィ用
等に用いられるカラーフィルターの製造方法に関する。
BBD(バリッドブリケートデバイス]、CID(チャ
ージインジェクションデバイス、BASIS(ベースス
トアタイプイメージセンサ−)等のカラー個体撮像素子
、密着型メメージセンサーおよびカラーデイスプレィ用
等に用いられるカラーフィルターの製造方法に関する。
従来、この種の素子に用いられる力2−フィルターとし
ては、干渉フィルター又は染色フィルターが知られてい
る。
ては、干渉フィルター又は染色フィルターが知られてい
る。
干渉フィルターは多層構成で所定の分光特性に合わせた
膜設計をなす上で使用する材料(屈折率)によって決ま
る膜厚の調整やその膜を積層で保持するなどの製造上の
問題が多い。特に微細なパターンユングに際してはこれ
らの抑制が困難な場合が多い。また、コストが高いとい
う欠点を有していた。
膜設計をなす上で使用する材料(屈折率)によって決ま
る膜厚の調整やその膜を積層で保持するなどの製造上の
問題が多い。特に微細なパターンユングに際してはこれ
らの抑制が困難な場合が多い。また、コストが高いとい
う欠点を有していた。
一方、染色フィルターは、例えば透明基板上にゼラチン
、カゼイン、グリニーあるいはポリビニルアルコールな
どの天然または合成高分子物質からなる媒染層を設け、
その媒染層を所定のパターンに合わせて着色する方法が
知られている。着色する方法としては適当な色素を溶解
した染色浴中に浸漬処理する染色法が挙げられる。
、カゼイン、グリニーあるいはポリビニルアルコールな
どの天然または合成高分子物質からなる媒染層を設け、
その媒染層を所定のパターンに合わせて着色する方法が
知られている。着色する方法としては適当な色素を溶解
した染色浴中に浸漬処理する染色法が挙げられる。
この方法によると使用可能な色素が非常に多く、フィル
ターとして要求される分光特性をどのようにも対応でき
るという利点を有しているが、染色工程が色素を溶解し
た染色浴中に浸漬するというコントcr−ルの難しい湿
式1程を採用しており、しかも所定のパターン通りに各
色を染め分ける1輻において、各色の染色工程毎にホト
レジストによる耐染マスクの作成および剥離の工程を必
要とするために歩滞りが低く、廉価なカラーフィルター
を製造するには適切な方法とはいえない。さらにフィル
ターとしての性能においてもパターンユング境界部での
色の「にじみ」、「ボケ」などの混色が生じるので高精
度が要求される分野の使用には適したものではない。
ターとして要求される分光特性をどのようにも対応でき
るという利点を有しているが、染色工程が色素を溶解し
た染色浴中に浸漬するというコントcr−ルの難しい湿
式1程を採用しており、しかも所定のパターン通りに各
色を染め分ける1輻において、各色の染色工程毎にホト
レジストによる耐染マスクの作成および剥離の工程を必
要とするために歩滞りが低く、廉価なカラーフィルター
を製造するには適切な方法とはいえない。さらにフィル
ターとしての性能においてもパターンユング境界部での
色の「にじみ」、「ボケ」などの混色が生じるので高精
度が要求される分野の使用には適したものではない。
さらに、色素を用いる場合は、有機溶剤に可溶モ吸収が
シャープで色相がよく、シかも耐久性のよい色素がなか
った。
シャープで色相がよく、シかも耐久性のよい色素がなか
った。
〔発明が解決しようとする問題点J
本発明は、上述の従来技術の有する欠点をもたない新規
の製造方法を提供するもので、本流により高精度で分光
特性が優れ、耐久性、透明性が優れかつ経済価値の大き
いカラーフィルターの製造が可能になった。
の製造方法を提供するもので、本流により高精度で分光
特性が優れ、耐久性、透明性が優れかつ経済価値の大き
いカラーフィルターの製造が可能になった。
本発明は基板上に着色層が形成されたカラーフィルター
の製造方法において、感光性組成物中に、下記一般式(
1)で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または
分散させたのち、該基板上に塗布し、該組成物をパター
ンユングすることを特徴とするカラーフィルターの製造
方法である。
の製造方法において、感光性組成物中に、下記一般式(
1)で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または
分散させたのち、該基板上に塗布し、該組成物をパター
ンユングすることを特徴とするカラーフィルターの製造
方法である。
一般式(1)
式中、2は最低1個のI〜7員の芳香環又は複素環を完
成するのに必要な複数個の原子な表わ丁。
成するのに必要な複数個の原子な表わ丁。
これらの環上の水素原子は1つ以上のアルキル基、アル
コキシ基、アリールオキク基、アラルキル基、−アリー
ル基、ハロゲン原子、シアノ墓、ニトロ基、エステル基
、カルバモイル基、アシル晟、アシルアミノ基、スルホ
ニル晶、スルファそイル基、スルホンアミド基、アミノ
基、アルキルアミノ愚、2′は最低1個のよ一一員の芳
香環又は複素環を表わし、その際この2′はアゾ結合に
対する結合個所に隣接する位置において、(1)キレー
ト化層として働く窒素原子を当誼核の環内に有するか、
さもなけれは、(U)キレート化層として働く窒素厘子
が直接的に結合している炭素原子を当該核の環内に有す
る。2′の芳香環又は複素環上の水素原子は、1つ以上
の置換基で置換されてもよく、置換基としては2と同じ
置換基である。Gは金属キレート化墓を表わす。MFi
J価のt座配位金属イオンを表わす。
コキシ基、アリールオキク基、アラルキル基、−アリー
ル基、ハロゲン原子、シアノ墓、ニトロ基、エステル基
、カルバモイル基、アシル晟、アシルアミノ基、スルホ
ニル晶、スルファそイル基、スルホンアミド基、アミノ
基、アルキルアミノ愚、2′は最低1個のよ一一員の芳
香環又は複素環を表わし、その際この2′はアゾ結合に
対する結合個所に隣接する位置において、(1)キレー
ト化層として働く窒素原子を当誼核の環内に有するか、
さもなけれは、(U)キレート化層として働く窒素厘子
が直接的に結合している炭素原子を当該核の環内に有す
る。2′の芳香環又は複素環上の水素原子は、1つ以上
の置換基で置換されてもよく、置換基としては2と同じ
置換基である。Gは金属キレート化墓を表わす。MFi
J価のt座配位金属イオンを表わす。
以下、本発萌の方法の一例を詳細に説明する。
まず、ガラス、樹脂等からなる基板上に、一般式(1)
で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または分散
させた感光性組成物、たとえばネガ型フォトレジストを
塗布等の方法により積層する。このレジスト層を所望の
パターンを有するフ。
で表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または分散
させた感光性組成物、たとえばネガ型フォトレジストを
塗布等の方法により積層する。このレジスト層を所望の
パターンを有するフ。
オドマスクを介して公知の方法で露光し、現像液によっ
て現像し、色素を含む樹脂からなる色素/セターンを得
ることができる。
て現像し、色素を含む樹脂からなる色素/セターンを得
ることができる。
さらに異なる色素/41ターンを同一基板上に形成する
場合には、パターンに応じてフォトマスクの位置をずら
しながら、上記の工程をくり返して行なえばよい。
場合には、パターンに応じてフォトマスクの位置をずら
しながら、上記の工程をくり返して行なえばよい。
色の種類の数だけこれらの工程をくり返すことによって
、複数の色素、eターンを有するものが製造できる。
、複数の色素、eターンを有するものが製造できる。
一色のフィルタ一部分のみを本発明の一般式(I)のア
ゾ金属キレート化合物を含み、他は公知の色素、顔料を
用いてもよい。顔料を用いるものとしては特開昭47−
10110j号公報に開示されている。
ゾ金属キレート化合物を含み、他は公知の色素、顔料を
用いてもよい。顔料を用いるものとしては特開昭47−
10110j号公報に開示されている。
次に、本発明のアゾ金属キレート化合物について説明す
る。
る。
一般式(17のz、z’により形成される環の中で好ま
しいものはベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キ
ノリン環、ピラゾール環、チオフェン環、インドール環
、又はピラゾロトリアゾール環である。またこれらの環
上の置換基のうち好ましいものはCl= C2Bの置換
してもよいアルキル基、08〜C25の置換してもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ晟、ニトロ基、C
l−C25の置換してもよいアルキルスルファモイル基
、C6〜C3oの置換してもよいフェニルスルファモイ
ル基、Cl−C25のエステル基、Cl−C25のカル
バモイル基、C1〜C2!iのアシル基、C1〜C25
のアシルアミノ基、c8〜C2Bのスルホニル(R1、
R2は水素原子、Cl−C25の置換されてもよいアル
キル基又はフェニル基を表わす、R,とR2は一緒にな
って!又はt員環を形成してもよい。ンで表わされるア
ルキルアミノ基もしくはアリールアミツル、水酸基であ
る。
しいものはベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キ
ノリン環、ピラゾール環、チオフェン環、インドール環
、又はピラゾロトリアゾール環である。またこれらの環
上の置換基のうち好ましいものはCl= C2Bの置換
してもよいアルキル基、08〜C25の置換してもよい
アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ晟、ニトロ基、C
l−C25の置換してもよいアルキルスルファモイル基
、C6〜C3oの置換してもよいフェニルスルファモイ
ル基、Cl−C25のエステル基、Cl−C25のカル
バモイル基、C1〜C2!iのアシル基、C1〜C25
のアシルアミノ基、c8〜C2Bのスルホニル(R1、
R2は水素原子、Cl−C25の置換されてもよいアル
キル基又はフェニル基を表わす、R,とR2は一緒にな
って!又はt員環を形成してもよい。ンで表わされるア
ルキルアミノ基もしくはアリールアミツル、水酸基であ
る。
GO中で好ましいものは水酸イオン、カルボキシレート
、スルホンアミドイオン、スルファモイルイオン、アミ
ノ基、又はアルキルチオ基であり、特に好ましいものは
水酸イオンである。
、スルホンアミドイオン、スルファモイルイオン、アミ
ノ基、又はアルキルチオ基であり、特に好ましいものは
水酸イオンである。
Mの中で好ましいものはニッケル([34鉛(■入コバ
ルト(117、であり、特に好ましいものはニッケル(
U)である。
ルト(117、であり、特に好ましいものはニッケル(
U)である。
一般式(I)で表わされる本発明に用いられる化合物は
、油溶性を増すため油溶化基を少なくと′%1個は持っ
ていることが好ましい。
、油溶性を増すため油溶化基を少なくと′%1個は持っ
ていることが好ましい。
油溶化基とは色素を非水溶媒に溶けや丁くするため色素
部本体と結合している炭素数!〜30の無置換又は置換
(置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アラルキル蒸、アリール基、ハロゲン原子、
77)晟、ニトロ基、エステル基、カルバモイル基、ア
シル基、アシル、アミノ基、スルホニル基、スルファモ
イル基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基又は水酸基が挙げられる】されて
もよいアルキル基、又は炭素数io〜3!の置換(置換
基は同上)されたアリール基を表わす。
部本体と結合している炭素数!〜30の無置換又は置換
(置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アラルキル蒸、アリール基、ハロゲン原子、
77)晟、ニトロ基、エステル基、カルバモイル基、ア
シル基、アシル、アミノ基、スルホニル基、スルファモ
イル基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基又は水酸基が挙げられる】されて
もよいアルキル基、又は炭素数io〜3!の置換(置換
基は同上)されたアリール基を表わす。
これらのアルキル基又はアリール基は色素部本体と直接
結合してもよいし、エステル基、カルバモイル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンア
ミド基、アミノ基、アルキルアミノ基を介して結合して
もよい。
結合してもよいし、エステル基、カルバモイル基、アシ
ル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンア
ミド基、アミノ基、アルキルアミノ基を介して結合して
もよい。
一般式(1)で表わされる本発明に用いられる化合物中
には化合物の安定性を損なうレドックス反応や加水分解
反応を起しやすい基を含まないことが好ましい。
には化合物の安定性を損なうレドックス反応や加水分解
反応を起しやすい基を含まないことが好ましい。
本発明の化合物のうち特に好ましいものは、次の一般式
(…)または(UNで表わされる。
(…)または(UNで表わされる。
式中、R3は水素原子又は低級アルキル基を表わす。R
4、R6は水素原子、C1−C251Dll換してもよ
いアルキル基%C6〜C3oの置換してもよいフェニル
基を表わす。但し、R4とR5の合計の炭素数は1個以
上、好ましくはl個以上、特に好ましくは10個以上と
する。
4、R6は水素原子、C1−C251Dll換してもよ
いアルキル基%C6〜C3oの置換してもよいフェニル
基を表わす。但し、R4とR5の合計の炭素数は1個以
上、好ましくはl個以上、特に好ましくは10個以上と
する。
本発明に用いられる化合物の具体例を以下に示す。
なお、具体例を一般式(IV)〜(Vl)で表わす場合
は、それぞれの一般式の具体例な置換基を第7表〜第3
表に示す。(ベンゼン環上の数字は置換位置を示す) 一般式(IV) 3 ! 一般式(■) CH3に13 第3表 以下に本発明に用いられる化合物の合成例を示す。
は、それぞれの一般式の具体例な置換基を第7表〜第3
表に示す。(ベンゼン環上の数字は置換位置を示す) 一般式(IV) 3 ! 一般式(■) CH3に13 第3表 以下に本発明に用いられる化合物の合成例を示す。
合成例1
化合!14/の合成
1−/ 中間体1−/クロスルホニル−2−(コーピ
リジルアゾ)−/−fフトールの合成特開昭13−31
113号公報の方法により合成した弘−ヒドロキシ−3
−(2−ピリジルアゾン−/−7フタレンスルホン酸/
01/%スルホラン/DO−およびオキシ塩化リン/
181を内温!!〜6!0Cで3時間卯温攪拌した。反
応混合物を室温まで冷却した後、llの氷水中へ注いで
得られる結晶を戸数し水洗した。風乾して得られた目的
物の収fitはio、igであった。
リジルアゾ)−/−fフトールの合成特開昭13−31
113号公報の方法により合成した弘−ヒドロキシ−3
−(2−ピリジルアゾン−/−7フタレンスルホン酸/
01/%スルホラン/DO−およびオキシ塩化リン/
181を内温!!〜6!0Cで3時間卯温攪拌した。反
応混合物を室温まで冷却した後、llの氷水中へ注いで
得られる結晶を戸数し水洗した。風乾して得られた目的
物の収fitはio、igであった。
1−2 中間体参−〔3−(コ9μmジーtert−ア
ミルフェノキシ]フロビルスルファそイルj−J−(J
−ピリジルアゾ)−/−ナフトールの合成 3−(コ、j−ジーtert−アミルフエノキシンプロ
ピルアミンコOIおよびN、F4−ジメチルアセトアミ
ド70−へ室温下、攪拌しながら1−7で得られた中間
体7gを徐々に添加した。1時間攪拌した後、反応混合
物を濃塩酸3mlおよびメタノール1rontの混合物
中へ注いだ。こレヘ水/!コな徐々に注ぐと結晶が析出
した。戸数し、メタノール水10:/で洗った後風乾し
て、得られた目的物の収量は10./l/であった。
ミルフェノキシ]フロビルスルファそイルj−J−(J
−ピリジルアゾ)−/−ナフトールの合成 3−(コ、j−ジーtert−アミルフエノキシンプロ
ピルアミンコOIおよびN、F4−ジメチルアセトアミ
ド70−へ室温下、攪拌しながら1−7で得られた中間
体7gを徐々に添加した。1時間攪拌した後、反応混合
物を濃塩酸3mlおよびメタノール1rontの混合物
中へ注いだ。こレヘ水/!コな徐々に注ぐと結晶が析出
した。戸数し、メタノール水10:/で洗った後風乾し
て、得られた目的物の収量は10./l/であった。
1−3 化合vR/l61)合成・
塩化ニッケルを水和物ぶIおよびN、N−ジメチルアセ
トアミドlコO−からなる溶液へ合成例1−2で得た中
間体tgおよびN、N−ジメチルホルムアミド1001
11からなる溶液を室温下、攪拌しながら注加した。1
時間攪拌した後、氷酢酸20081−水2!へ注加し、
析出した結晶な戸数、水洗した。この結晶をクロロホル
ム−酢エチlO:lを展開溶媒とするシリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製して目的物、5.3gを得た。
トアミドlコO−からなる溶液へ合成例1−2で得た中
間体tgおよびN、N−ジメチルホルムアミド1001
11からなる溶液を室温下、攪拌しながら注加した。1
時間攪拌した後、氷酢酸20081−水2!へ注加し、
析出した結晶な戸数、水洗した。この結晶をクロロホル
ム−酢エチlO:lを展開溶媒とするシリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製して目的物、5.3gを得た。
m−p、ri/ 70−/ 7% ’(’であった。
本発明に用いる色素としては一般式(I)のアゾ金属キ
レート化合物を単体あるいは、これと他の色素の混合物
として適宜選択して用いられる。
レート化合物を単体あるいは、これと他の色素の混合物
として適宜選択して用いられる。
カラーフィルターの一色のフィルタ一部分のみを一般式
(I)のアゾ金属キレート化合物を含む場合は、他の色
は例えば特開昭61−コタxi。
(I)のアゾ金属キレート化合物を含む場合は、他の色
は例えば特開昭61−コタxi。
1号、特開昭47−コIf−PI3号、特開昭40−7
り2り03号などの公報に記載されている染料や顔料を
用いることが出来る。
り2り03号などの公報に記載されている染料や顔料を
用いることが出来る。
各色素パターンの形成に先だち、透明樹脂からなる中間
層を形成することも可能である。
層を形成することも可能である。
本発明に用いる感光性を組rfJc物としてはカゼイン
、ゼラチン、フイシュグリエー等に感光剤として惠クロ
ム酸アンモニウムを添加した樹脂、ポリビニルアルコー
ルおよびポリビニルピロリドン等の高分子母材にジアゾ
化合物を添加した樹脂および各種レジスト材料を挙げる
ことができる。
、ゼラチン、フイシュグリエー等に感光剤として惠クロ
ム酸アンモニウムを添加した樹脂、ポリビニルアルコー
ルおよびポリビニルピロリドン等の高分子母材にジアゾ
化合物を添加した樹脂および各種レジスト材料を挙げる
ことができる。
レジスト材料を用いる場合は、ポジ型レジストでも良い
が好ましく拡ネガ型レジストが良い。ネガ型レジストと
して線光重合性レジスト、光架橋性レジスト、などがあ
る。その代表的なもの(商品名)を挙げるとフォトレジ
ストとしては「OMR−xi、ri、t!、17J、「
O8R」および「TPS」以上東京応化製、「wayc
eat−HNR。
が好ましく拡ネガ型レジストが良い。ネガ型レジストと
して線光重合性レジスト、光架橋性レジスト、などがあ
る。その代表的なもの(商品名)を挙げるとフォトレジ
ストとしては「OMR−xi、ri、t!、17J、「
O8R」および「TPS」以上東京応化製、「wayc
eat−HNR。
)illlツタ、Negative)tR,Ic、Ty
pe JIG。
pe JIG。
、 Sに、V)iRJ以上ハント裏、「Micro
resist−732,74’7.7!2」以上Kod
ak社製、「フオトレツクRW−10/%RF −GJ
以上積水ファインケミカル製、rJsRCIRシリーズ
」以上日本合成ゴム製、「5electiluxN」以
上メルク製、紫外用レジストとしてはrODUR−to
o%/20.lloWRJ以上東京応化製、電子ビーム
用レジストとしては1”0EBR1ooJ以上東京応化
製などが挙げられる。
resist−732,74’7.7!2」以上Kod
ak社製、「フオトレツクRW−10/%RF −GJ
以上積水ファインケミカル製、rJsRCIRシリーズ
」以上日本合成ゴム製、「5electiluxN」以
上メルク製、紫外用レジストとしてはrODUR−to
o%/20.lloWRJ以上東京応化製、電子ビーム
用レジストとしては1”0EBR1ooJ以上東京応化
製などが挙げられる。
感光性樹脂としてはポジ型のものでもよいが、一般にネ
ガ型の方が好ましく、その具体例としては下記のものが
挙げられる。
ガ型の方が好ましく、その具体例としては下記のものが
挙げられる。
1)重クロム酸塩とアルブミン、カゼイン、Kかわ、ゼ
ラチン、アラビアゴム、セラック、PvA等の水溶性高
分子物質との混合系。
ラチン、アラビアゴム、セラック、PvA等の水溶性高
分子物質との混合系。
2)ジアゾ樹脂(p−ジアゾジフェニルアミンとホルム
アルデヒドとの縮合物ンとPVA、PVA+ポリ酢酸ビ
ニル等の樹脂との混合系。
アルデヒドとの縮合物ンとPVA、PVA+ポリ酢酸ビ
ニル等の樹脂との混合系。
3)p−7二二レンビスアジド、係、参′−ジアジドベ
ンゾフェノン、#、l−ジアジドジフェニルメタン、#
、参’−ジアジドスチルベン、4c、参′−ジアジドカ
ルコン、コ、t−ジー(4c′−アジドベンザルンシク
ロヘキサン、コ、ぶ−ジ(u I−アジドベンザル)−
参−メチルシクロヘキサノン、4C,l−ジアジドスチ
ルベン−2゜21−ジスルホン酸ナトリウム、1.!−
ジアジドナフタレンー3.7−ジスルホン酸ナトリウム
等のアジド化合物と天然ゴム、合成ゴム、弗化ゴム、P
VA、ポリビニルピロリドン、ジアセトンアクリルアミ
ド、メチルセルロース、ビニルアルコール−マレイン酸
共重合体等の樹脂との混合系。
ンゾフェノン、#、l−ジアジドジフェニルメタン、#
、参’−ジアジドスチルベン、4c、参′−ジアジドカ
ルコン、コ、t−ジー(4c′−アジドベンザルンシク
ロヘキサン、コ、ぶ−ジ(u I−アジドベンザル)−
参−メチルシクロヘキサノン、4C,l−ジアジドスチ
ルベン−2゜21−ジスルホン酸ナトリウム、1.!−
ジアジドナフタレンー3.7−ジスルホン酸ナトリウム
等のアジド化合物と天然ゴム、合成ゴム、弗化ゴム、P
VA、ポリビニルピロリドン、ジアセトンアクリルアミ
ド、メチルセルロース、ビニルアルコール−マレイン酸
共重合体等の樹脂との混合系。
4)ポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジド7タル酸ビ
ニル、ポリビニルアジドベンザルアセタール等のアジド
基含有ポリマー。
ニル、ポリビニルアジドベンザルアセタール等のアジド
基含有ポリマー。
5)ポリビニルシンナメート、ポリビニルシンナメート
7タレート、ポリビニルシンナミリデンアセテート、ポ
リビニルアセテートシンナミリデンアセテート等の珪皮
酸基含有ポリマー。
7タレート、ポリビニルシンナミリデンアセテート、ポ
リビニルアセテートシンナミリデンアセテート等の珪皮
酸基含有ポリマー。
6)アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート
、コーエチルへキシルアクリレート、2°−ヒドロキシ
エチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等
のエチレン性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー
又はポリマーとベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン、
アントラキノンスルホン酸塩等の光重合開始剤との混合
系。なお感光層中の感光性樹脂とアゾ金属キレート化合
物の割合はo、or−1mOwtTo 程度が適当であ
る。また感光性樹脂層の厚さはQ。
、コーエチルへキシルアクリレート、2°−ヒドロキシ
エチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等
のエチレン性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー
又はポリマーとベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン、
アントラキノンスルホン酸塩等の光重合開始剤との混合
系。なお感光層中の感光性樹脂とアゾ金属キレート化合
物の割合はo、or−1mOwtTo 程度が適当であ
る。また感光性樹脂層の厚さはQ。
参〜10μ程度が適当である。
感光性樹脂の溶媒に一般式(I)のアゾ金属キレート化
合物が溶けにくい場合は、感光性樹脂とアゾ金属キレー
ト化合物をボールミル、ロールミル等に入れ混線しアゾ
金属キレート化合物を微分散させる。
合物が溶けにくい場合は、感光性樹脂とアゾ金属キレー
ト化合物をボールミル、ロールミル等に入れ混線しアゾ
金属キレート化合物を微分散させる。
本発明で用いられる基板は樹脂の塗布が可能であればそ
の使用目的により種々のものが使用でき、特に限定され
るものではない。具体的には以下のものが使用できる。
の使用目的により種々のものが使用でき、特に限定され
るものではない。具体的には以下のものが使用できる。
例えばガラス板;光学用樹脂板;ゼラチン;ポリビニル
アルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポリメチル
メタクリレート、ポリエステル、ポリビニルブチラール
、ボリアばドなどの樹脂フィルム。またノターン状の色
累層をカラーフィルターとして適用できる機材を基板と
して一体に形成することも可能である。その場合の基板
の一例としては、ブラウン管表示面、撮像管の受光面、
CCD、BBD%CID%BASIS等の固体撮像素子
が形成されたウニJS−1薄膜半導体を用いた密着型イ
メージセンサ−1液晶デイスプレー面、カラー電子写真
用感光体等が挙げられる。
アルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポリメチル
メタクリレート、ポリエステル、ポリビニルブチラール
、ボリアばドなどの樹脂フィルム。またノターン状の色
累層をカラーフィルターとして適用できる機材を基板と
して一体に形成することも可能である。その場合の基板
の一例としては、ブラウン管表示面、撮像管の受光面、
CCD、BBD%CID%BASIS等の固体撮像素子
が形成されたウニJS−1薄膜半導体を用いた密着型イ
メージセンサ−1液晶デイスプレー面、カラー電子写真
用感光体等が挙げられる。
〔発明の効果」
本発明のアゾ金属キレート化合物を含むカラーフィルタ
ーは吸収がシャープで、色が鮮明である。
ーは吸収がシャープで、色が鮮明である。
また有機溶剤に溶けるため、感光性組成物に溶解状態で
あるか、極めて分散性が良好であり、カラーフィルター
の各画素中の光学濃度の分布や、画素間のバラツキが少
く、撮像素子に装置したときにノイズが少く信号が多い
、即ちS/Nが大きい、あるいにデイスプレィ素子に装
着したときにも光の画素間、画素内のバラツキが少く、
デイスプレィされた画像が鮮明である。
あるか、極めて分散性が良好であり、カラーフィルター
の各画素中の光学濃度の分布や、画素間のバラツキが少
く、撮像素子に装置したときにノイズが少く信号が多い
、即ちS/Nが大きい、あるいにデイスプレィ素子に装
着したときにも光の画素間、画素内のバラツキが少く、
デイスプレィされた画像が鮮明である。
さらに本発明のアゾ金属キレート化合物は耐光性、耐熱
性、耐水性、高湿下における耐光性、耐熱性が優れ、ま
た空気酸化に対しても強いため、アゾ金属キレート化合
物を含むカラーフィルターは経時劣化が殆んどない。
性、耐水性、高湿下における耐光性、耐熱性が優れ、ま
た空気酸化に対しても強いため、アゾ金属キレート化合
物を含むカラーフィルターは経時劣化が殆んどない。
さらに本発明のアゾ金属キレート化合物の有機溶剤に対
する溶解性が優れているので各種の感光性樹脂を広く選
択しうる利点を有する。
する溶解性が優れているので各種の感光性樹脂を広く選
択しうる利点を有する。
さらに、本発明のアゾ金属キレート化合物は中性であり
、分子量が比較的大ぎいため、カラーフィルターの各画
素より移動して各画素がボケたり、各画素の周辺ににじ
んだり、混色などの好ましくない現象を起こさない。さ
らに本発明の方法は製造法が簡便であるので、製品の歩
留りが向上する。
、分子量が比較的大ぎいため、カラーフィルターの各画
素より移動して各画素がボケたり、各画素の周辺ににじ
んだり、混色などの好ましくない現象を起こさない。さ
らに本発明の方法は製造法が簡便であるので、製品の歩
留りが向上する。
「実施例」
以下、実施例で集体的に説明するが、実施例中の「部」
は「重量部」を示す。
は「重量部」を示す。
実施例 1
感光性を有する樹脂として遠紫外光用ネガ型レジスト0
DUR1toViR(東京応化製)を用いた。赤色を出
すためには本発明のJIJ4の黄色色go、oi部と、
肩りのマゼンタ色1gO,ot部を上記感光性樹脂20
0部に溶解し、ガラス板上にスピンナーを用いて塗布し
、乾燥膜厚0.6μ扉の−様な被膜を得た。tO°C%
コO分間プリベークを行い、所定のパターンユングマス
クで2秒間露光し、専用現像液で7分440秒現像し、
1分間リンスし、その後/r夕0Cで2j分間ポストベ
ークした。
DUR1toViR(東京応化製)を用いた。赤色を出
すためには本発明のJIJ4の黄色色go、oi部と、
肩りのマゼンタ色1gO,ot部を上記感光性樹脂20
0部に溶解し、ガラス板上にスピンナーを用いて塗布し
、乾燥膜厚0.6μ扉の−様な被膜を得た。tO°C%
コO分間プリベークを行い、所定のパターンユングマス
クで2秒間露光し、専用現像液で7分440秒現像し、
1分間リンスし、その後/r夕0Cで2j分間ポストベ
ークした。
緑色を出丁ためには本発明の436の黄色色素0.0/
部と、特願昭62−77参弘?7号明細書に記した次の
フタロシアニンIf色累0.011部を上の赤色を出す
色素の代りに用いた。
部と、特願昭62−77参弘?7号明細書に記した次の
フタロシアニンIf色累0.011部を上の赤色を出す
色素の代りに用いた。
式(■)
なお、Pcはフタロクアニン骨格を表わす。
青色を出すためには式(■)の7タロシアニン系色素0
.0/1部と、本発明の腐りのマゼンタ色素0.0/部
を上の赤色の代りに用いた。
.0/1部と、本発明の腐りのマゼンタ色素0.0/部
を上の赤色の代りに用いた。
赤色フィルター層作成の方法と同様な工程を緑色色素パ
ターン及び、青色色素、eターン、と繰返丁ことにより
、赤、緑、青よりなる3色のカラーフィルターを作成し
た。これは従来染色法で作成されていたカラーフィルタ
ーに比較して、高精度化が要求される分野で充分満足な
ものであった。
ターン及び、青色色素、eターン、と繰返丁ことにより
、赤、緑、青よりなる3色のカラーフィルターを作成し
た。これは従来染色法で作成されていたカラーフィルタ
ーに比較して、高精度化が要求される分野で充分満足な
ものであった。
カラーフィルターは本発明の色素及び特願昭≦2−77
参参F7号明細書に記載した色素を用いているために、
耐光性、水分存在下での耐光性に優れ、フェードメータ
テスト10万ルクスat時間照射によっても、ピーク透
過率変化71以内、ピーク波長シフト11以内であった
。
参参F7号明細書に記載した色素を用いているために、
耐光性、水分存在下での耐光性に優れ、フェードメータ
テスト10万ルクスat時間照射によっても、ピーク透
過率変化71以内、ピーク波長シフト11以内であった
。
本例の緑色フィルター層は後述する実施例4の緑色フィ
ルター層よりも透明性がよく、本発明のアゾ金属キレー
ト化合物がカラーフィルター用に適しているのが分る。
ルター層よりも透明性がよく、本発明のアゾ金属キレー
ト化合物がカラーフィルター用に適しているのが分る。
実施例 2
実施例1と同様な作成工程で、基板としてガラスの代り
に固体撮像素子(例えば電荷移送素子(CCD))が形
成されたウェハーを用い、その表面上にR%G、Bの順
で直接カラーフィルターを作成した。こうして作成した
カラー固体撮像素子は良好な色再現性を示した。
に固体撮像素子(例えば電荷移送素子(CCD))が形
成されたウェハーを用い、その表面上にR%G、Bの順
で直接カラーフィルターを作成した。こうして作成した
カラー固体撮像素子は良好な色再現性を示した。
なお、CCDのウェハー表面に凸凹のある場合はポリメ
チルメタアクリレート樹脂を平坦層として、初めに塗設
すると、よりカラーフィルターの画素のパターンはシャ
ープになった。
チルメタアクリレート樹脂を平坦層として、初めに塗設
すると、よりカラーフィルターの画素のパターンはシャ
ープになった。
実施例 3
液晶カラー表示素子の作成を例を挙げて述べる。
第1図は本発明の方法により薄膜トランジスタアレイ上
にカラーフィルターを作成する実施例を説明するための
断面概略図である。
にカラーフィルターを作成する実施例を説明するための
断面概略図である。
先ず、ガラス基板(コーニング社製#701タンlの上
に100DA厚さのITO画素電極!を7オトリンエ程
により所望の)(ターンに形成した。
に100DA厚さのITO画素電極!を7オトリンエ程
により所望の)(ターンに形成した。
次に、AIを100OA厚さ真空蒸着しフォトリン工程
により所望のパターンのゲート電極ぶを形成した。
により所望のパターンのゲート電極ぶを形成した。
次に感光性ポリイミド//を100DA厚さ塗布し、露
光・現像処理によりドレイン電極13とのコンタクトを
する為のスルーホールを形成した。
光・現像処理によりドレイン電極13とのコンタクトを
する為のスルーホールを形成した。
次KHzで希釈された5iti4を真空中でグロー放電
法によって堆積させることにより、a−8i層からなる
1tooh厚さの光電導層り(イントリンシック層=
t II )を形成した後、その上に同様な工程により
1000λ厚さat層10を形成した。その後ドライエ
ツチング法により所望の形状にエツチングした。
法によって堆積させることにより、a−8i層からなる
1tooh厚さの光電導層り(イントリンシック層=
t II )を形成した後、その上に同様な工程により
1000λ厚さat層10を形成した。その後ドライエ
ツチング法により所望の形状にエツチングした。
次にAJを1oooA厚さに真空蒸着しフォトリソ工程
により所望の/Rターンのソース電極lコ及びドレイン
電極13を形成した。
により所望の/Rターンのソース電極lコ及びドレイン
電極13を形成した。
この上に実施例1と同様の方法により赤色色素パターン
/4!を作成し、次いで実施例1と全く同様に緑色色素
パターン、青色色素パターンを形成し、赤、緑、青より
成る3色のカラーフィルターを形成した。
/4!を作成し、次いで実施例1と全く同様に緑色色素
パターン、青色色素パターンを形成し、赤、緑、青より
成る3色のカラーフィルターを形成した。
次に配向機能を付与した絶縁膜(ポリイミド樹脂)を全
面に1000に厚さに塗布し2zo(1c1時間の加熱
硬化を行なった。
面に1000に厚さに塗布し2zo(1c1時間の加熱
硬化を行なった。
次に別のガラス基板(コーニング社製#70!り)の上
に一面に1000にのITO電極を形成した後、配向機
能を付与した絶縁膜(ポリイきド樹脂ンを全面に/20
0に厚さに塗布、硬化した基板と第1図のカラーフィル
ターを形成した薄膜トランジスタアレイの間に液晶を注
入し、色再現性のよいカラー用液晶表示素子を作製した
。
に一面に1000にのITO電極を形成した後、配向機
能を付与した絶縁膜(ポリイきド樹脂ンを全面に/20
0に厚さに塗布、硬化した基板と第1図のカラーフィル
ターを形成した薄膜トランジスタアレイの間に液晶を注
入し、色再現性のよいカラー用液晶表示素子を作製した
。
実施例 4
赤色色素層としては、実施例1の/Wh36の黄色色素
0.01部と腐りのマゼンタ色素o、oi部の混合物を
実施例1の如き工程で赤色フィルター層をガラスの全面
にITO電極を形成した基板上に赤用画素電極に対応し
て形成した。この上に、感光性樹脂100部に緑色の顔
料フタロシアニン鉛1部をポールミル中で2時間混練し
て、緑色顔料を微分散したものをスピンナーで塗布、乾
燥し、0.1μmの−様な膜を作った。その後実施例1
の如く、プリベーク、パターニング露光、現像、リンス
、ポストベークを行って緑色フィルター層を作成した。
0.01部と腐りのマゼンタ色素o、oi部の混合物を
実施例1の如き工程で赤色フィルター層をガラスの全面
にITO電極を形成した基板上に赤用画素電極に対応し
て形成した。この上に、感光性樹脂100部に緑色の顔
料フタロシアニン鉛1部をポールミル中で2時間混練し
て、緑色顔料を微分散したものをスピンナーで塗布、乾
燥し、0.1μmの−様な膜を作った。その後実施例1
の如く、プリベーク、パターニング露光、現像、リンス
、ポストベークを行って緑色フィルター層を作成した。
青色色素としては次のメタルフリー7タロシアニン(式
(■))0.0/2部を用い、本例の赤色カラー層作成
の工程と同様にして青色フィルター層を作った。
(■))0.0/2部を用い、本例の赤色カラー層作成
の工程と同様にして青色フィルター層を作った。
この上に、配向機能を付与したポリイミド樹脂を全面に
1300に厚に塗布、硬化させた。この基板と、実施例
3の薄膜トランジスターのみを別の基板に作成したもの
の間に液晶を入れて色再現性の良い明るいカラー液晶表
示素子を作成した。
1300に厚に塗布、硬化させた。この基板と、実施例
3の薄膜トランジスターのみを別の基板に作成したもの
の間に液晶を入れて色再現性の良い明るいカラー液晶表
示素子を作成した。
なお、本例においてガラス基板上にまずカラーフィルタ
ーを作成し、この上にITO層を作り、次いでポリイミ
ド配向膜を形成することも可能であった。
ーを作成し、この上にITO層を作り、次いでポリイミ
ド配向膜を形成することも可能であった。
本例の青色フィルター層は特開昭47−IOr103号
公報の実施例1に示された青色フィルター層に比較して
透明性が優れていた。
公報の実施例1に示された青色フィルター層に比較して
透明性が優れていた。
第1図(1)〜(8)は本発明の方法による薄膜トラン
ジスタアレイの作成工程な示す断面図である。 なお番号は以下のことを示す。 /、ガラス基板 j0画像電極 乙、ゲート電極 2.1層 10、n層 //、絶縁層 /2. ソース電極 /1. ドレイン電極l
≠0色素パターン /!、絶縁層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第1図
ジスタアレイの作成工程な示す断面図である。 なお番号は以下のことを示す。 /、ガラス基板 j0画像電極 乙、ゲート電極 2.1層 10、n層 //、絶縁層 /2. ソース電極 /1. ドレイン電極l
≠0色素パターン /!、絶縁層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に着色層が形成されたカラーフィルターの製造方
法において、感光性組成物中に、下記一般式( I )で
表わされるアゾ金属キレート化合物を溶解または分散さ
せたのち、該基板上に塗布し、該組成物をパターンニン
グすることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Zは最低1個の5〜7員の芳香環又は複素環を完
成するのに必要な複数個の原子を表わす。 これらの環上の水素原子は1つ以上のアルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリール
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、
カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニ
ル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ基
、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、又は水酸基で
置換されてもよい。 Z′は最低1個の5〜7員の芳香環又は複素環を表わし
、その際このZ′はアゾ結合に対する結合個所に隣接す
る位置において、(i)キレート化座として働く窒素原
子を当該核の環内に有するか、さもなければ、(ii)
キレート化座として働く窒素原子が直接的に結合してい
る炭素原子を当該核の環内に有する。Z′の芳香環又は
複素環上の水素原子は、1つ以上の置換基で置換されて
もよく、置換基としてはZと同じ置換基である。Gは金
属キレート化基を表わす。Mは2価の6座配位金属イオ
ンを表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267701A JPH0786565B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | カラーフイルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267701A JPH0786565B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | カラーフイルターの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01109302A true JPH01109302A (ja) | 1989-04-26 |
| JPH0786565B2 JPH0786565B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=17448340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267701A Expired - Fee Related JPH0786565B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | カラーフイルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786565B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0519455A (ja) * | 1991-06-11 | 1993-01-29 | Samsung Electron Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトレジストのミキシング方法及びその装置 |
| JP2001158862A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 金属キレート色素および光学記録媒体 |
| US6596446B2 (en) * | 2000-04-04 | 2003-07-22 | Bayer Aktiengesellschaft | Organic pigments in color filters liquid of crystal display |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62212603A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Ube Ind Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP62267701A patent/JPH0786565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62212603A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Ube Ind Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0519455A (ja) * | 1991-06-11 | 1993-01-29 | Samsung Electron Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトレジストのミキシング方法及びその装置 |
| JP2001158862A (ja) * | 1999-12-02 | 2001-06-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 金属キレート色素および光学記録媒体 |
| US6596446B2 (en) * | 2000-04-04 | 2003-07-22 | Bayer Aktiengesellschaft | Organic pigments in color filters liquid of crystal display |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0786565B2 (ja) | 1995-09-20 |
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