JPH01112149A - 電気化学的電極構造 - Google Patents
電気化学的電極構造Info
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- JPH01112149A JPH01112149A JP63177955A JP17795588A JPH01112149A JP H01112149 A JPH01112149 A JP H01112149A JP 63177955 A JP63177955 A JP 63177955A JP 17795588 A JP17795588 A JP 17795588A JP H01112149 A JPH01112149 A JP H01112149A
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- electrode structure
- well
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- electrochemical
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/403—Cells and electrode assemblies
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、蒸気及び気体種、そして溶解した種を含み
、極めて低濃度の様々の化学物質を検知するのに有用な
微小電気化学的センサに関するものである。微小電気化
学的センサそれ自身は、集積回路(rc)生産技術によ
り製造され、極めて小さな寸法、例えば従来既知の最も
小さなセンサの115乃至1/6とすることができる。
、極めて低濃度の様々の化学物質を検知するのに有用な
微小電気化学的センサに関するものである。微小電気化
学的センサそれ自身は、集積回路(rc)生産技術によ
り製造され、極めて小さな寸法、例えば従来既知の最も
小さなセンサの115乃至1/6とすることができる。
他の数多くの使用方法の中で、試験管内で、血液化学的
性質を分析するのに用いることができる。
性質を分析するのに用いることができる。
(従来の技術)
資料が一成分又はそれ以」二の成分の液体資料であれ、
また気体資料であれ、多くの場合に、資料を分析出来る
ことが望ましい、しばしば、幾つかの成分を同時に分析
出来ることが望ましい。例えは゛、H” 、に+、 C
Oそして02等のような多くの成分に関連して血液を分
析出来ることが望まれている。また、しばしば、C01
No、NO、N20.SO2゜H2S、 02そして同
様に他の気体等のような空気に関係する汚染物質に対す
る空気資料を分析できることが望まれる9 ここ数年の間、集積回路技術により開発された技術の一
つ又は幾つかに基づいて一連のセンサが開発されている
。例えば、シー・シー・ジョンソン等の1971年5月
3日発行された米国特許第4,020.830号は、化
学的に敏感な電界効果トランジスター(FET) トラ
ンスジューサを用い、そのトランスジューサにさらされ
た物質の化学的特製を選択数に検知しまた測定すること
を開示する9基本的には、検知される化学的物質が成る
物質と相互に作用し、拡散領域間の半導体基板祠科内に
生起された電界を変調させるものである。このような、
「[丁デイバイスは、気体と同様にイオンを検知し、さ
らには、成る種の溶解した分子を間接的に検知するのに
使用できるものであると説明されてきた。
また気体資料であれ、多くの場合に、資料を分析出来る
ことが望ましい、しばしば、幾つかの成分を同時に分析
出来ることが望ましい。例えは゛、H” 、に+、 C
Oそして02等のような多くの成分に関連して血液を分
析出来ることが望まれている。また、しばしば、C01
No、NO、N20.SO2゜H2S、 02そして同
様に他の気体等のような空気に関係する汚染物質に対す
る空気資料を分析できることが望まれる9 ここ数年の間、集積回路技術により開発された技術の一
つ又は幾つかに基づいて一連のセンサが開発されている
。例えば、シー・シー・ジョンソン等の1971年5月
3日発行された米国特許第4,020.830号は、化
学的に敏感な電界効果トランジスター(FET) トラ
ンスジューサを用い、そのトランスジューサにさらされ
た物質の化学的特製を選択数に検知しまた測定すること
を開示する9基本的には、検知される化学的物質が成る
物質と相互に作用し、拡散領域間の半導体基板祠科内に
生起された電界を変調させるものである。このような、
「[丁デイバイスは、気体と同様にイオンを検知し、さ
らには、成る種の溶解した分子を間接的に検知するのに
使用できるものであると説明されてきた。
しかしながら、誤差に関係するドレイン電流の変動は、
未だ重要な問題であった。そのような変動は、熱雑音に
関連することがあり、また、光を生ずることがあった。
未だ重要な問題であった。そのような変動は、熱雑音に
関連することがあり、また、光を生ずることがあった。
F[Tデイバイスを化学的に敏感で選択的なものとする
層を、そのようなデイバイスのゲートに堆積することは
極めて困難なことであり、特に、異なった組成の幾つか
の層を必要とするので困難なことであった9これ等の全
てが誤差に関係し、又は製造を困難なものとしていた9
更に、基準電極をFET構造の内部に設けることは、非
常に難しいことであった。
層を、そのようなデイバイスのゲートに堆積することは
極めて困難なことであり、特に、異なった組成の幾つか
の層を必要とするので困難なことであった9これ等の全
てが誤差に関係し、又は製造を困難なものとしていた9
更に、基準電極をFET構造の内部に設けることは、非
常に難しいことであった。
米国特許第4,225,410号で言及されているよう
に、ニス・ジエー・ペイ又は、フィールド資料の多数の
分析物を同時に分析する、化学的センサを集積した使い
捨ての小型の配列(アレイ)を開示する。その配列にお
ける各センサは、それ自身の基準及び指示電極を有する
完全な電気化学的セルであり、特定の分析物に関して選
択的なものである。それ等センサは全て、基板表面の頂
部に形成され、その基板は、適当な貫通孔を有する粉末
アルミナをプレス形成し電気化学的回路を焼き付けたも
のである。このようなセンサ及びそれ等の配列は、製造
技術に起因して、相対的に大きくならざるを得す、微小
センサと言うよりは、むしろミニセンサと呼ぶべきもの
であった。
に、ニス・ジエー・ペイ又は、フィールド資料の多数の
分析物を同時に分析する、化学的センサを集積した使い
捨ての小型の配列(アレイ)を開示する。その配列にお
ける各センサは、それ自身の基準及び指示電極を有する
完全な電気化学的セルであり、特定の分析物に関して選
択的なものである。それ等センサは全て、基板表面の頂
部に形成され、その基板は、適当な貫通孔を有する粉末
アルミナをプレス形成し電気化学的回路を焼き付けたも
のである。このようなセンサ及びそれ等の配列は、製造
技術に起因して、相対的に大きくならざるを得す、微小
センサと言うよりは、むしろミニセンサと呼ぶべきもの
であった。
1985年10月29日発行されたエム・ビー・ヌドソ
ン等の米国特許第4,549,951号は、」−述した
二つのデイバイスに比較して大きなイオン選択電極を開
示し、それ等電極は別個の基準電極と共に用いられてい
る。それ等電極のイオン選択膜は、プラスチック基板に
埋め込まれた導体に設けられている。このデイバイスは
、基本的には、導体の頂部にイオン選択膜が装着され、
内部基準電解質又は本当の基準電極のない小さなイオン
選択電極である。更に、このような電極構造の設計を微
小化することは、現在の技術状態を越えたものである。
ン等の米国特許第4,549,951号は、」−述した
二つのデイバイスに比較して大きなイオン選択電極を開
示し、それ等電極は別個の基準電極と共に用いられてい
る。それ等電極のイオン選択膜は、プラスチック基板に
埋め込まれた導体に設けられている。このデイバイスは
、基本的には、導体の頂部にイオン選択膜が装着され、
内部基準電解質又は本当の基準電極のない小さなイオン
選択電極である。更に、このような電極構造の設計を微
小化することは、現在の技術状態を越えたものである。
米国特許第4,020,830.4,225,410そ
して4,549゜951号のデイバイスにあっては、電
気化学的セル全体が基板上に装着されている。このこと
は、適当に封入する際に重大な問題を生じることとなる
。
して4,549゜951号のデイバイスにあっては、電
気化学的セル全体が基板上に装着されている。このこと
は、適当に封入する際に重大な問題を生じることとなる
。
米国特許第4,020,830号の場合には、電子回路
の全てがFETの分析物検知側に配設されることとなる
。この為、化学的部分及び電子回路との間での相互の接
触又は互いに密接すると言う問題が生ずる事となる。
の全てがFETの分析物検知側に配設されることとなる
。この為、化学的部分及び電子回路との間での相互の接
触又は互いに密接すると言う問題が生ずる事となる。
上述した特許を含め、従来のデイバイスは、電流計測及
び電圧計測素子に協同する微小電気化学的センサ及びそ
れらセンサの配列を未だ提供するものではなく、しかも
、室温で作動すると共に、電力の消費が小さく、融通が
きく多目的−多重チャンネルであり、蒸気、気体、分子
そしてイオンをリアルタイムで監視することができ、微
小軽便でフィールトラジッド(t’1eld ruo(
led) テあり、雰囲気温度に素早く反応し、酸素不
足及び湿度のようなパラメータに干渉されることがなく
、洗練された新しい微小製造技術を用いて安価に製造す
ることができ、例えばCo、NO,H2,SO2そして
N2114のような気体を10億分の栄位で、またic
N。
び電圧計測素子に協同する微小電気化学的センサ及びそ
れらセンサの配列を未だ提供するものではなく、しかも
、室温で作動すると共に、電力の消費が小さく、融通が
きく多目的−多重チャンネルであり、蒸気、気体、分子
そしてイオンをリアルタイムで監視することができ、微
小軽便でフィールトラジッド(t’1eld ruo(
led) テあり、雰囲気温度に素早く反応し、酸素不
足及び湿度のようなパラメータに干渉されることがなく
、洗練された新しい微小製造技術を用いて安価に製造す
ることができ、例えばCo、NO,H2,SO2そして
N2114のような気体を10億分の栄位で、またic
N。
CI2. L、 、02.C2H50H,ICl0.
C5H5N、 03゜C2N2−C2H4,CH4、
C2H6、c3H8そして有機リン酸蒸気のような気体
を10億分の単位の勝れた特徴と高い選択性を有し、例
えばCI−、Br−物、有機アルシン、そして金属イオ
ン、例えばCu2+、「e3+を含む溶液ないの10億
分の単位のイオン性電気活性種を検知することができる
ものではな〈発明の開示) この発明の一つの実施例においては、微小電気化学的電
極構造に言及する。上述した電極構造は、通常互いに離
間する前面及び後面を有するモノシリツクな基板を具え
る。第1のウェルは、前面から後面に向けて基板内に延
在し、第1のウェル底部で終端する。第1の通路は、基
板内を後面から第1のウェル底部に向けて延在する。第
1の電極を具える第1の電解セルは、その基板の前面及
び後面の間に全体的に配置される。第1の導体を第1の
通路内に配置し、第1の電極を隣接する後面に電気的に
接続させる。
C5H5N、 03゜C2N2−C2H4,CH4、
C2H6、c3H8そして有機リン酸蒸気のような気体
を10億分の単位の勝れた特徴と高い選択性を有し、例
えばCI−、Br−物、有機アルシン、そして金属イオ
ン、例えばCu2+、「e3+を含む溶液ないの10億
分の単位のイオン性電気活性種を検知することができる
ものではな〈発明の開示) この発明の一つの実施例においては、微小電気化学的電
極構造に言及する。上述した電極構造は、通常互いに離
間する前面及び後面を有するモノシリツクな基板を具え
る。第1のウェルは、前面から後面に向けて基板内に延
在し、第1のウェル底部で終端する。第1の通路は、基
板内を後面から第1のウェル底部に向けて延在する。第
1の電極を具える第1の電解セルは、その基板の前面及
び後面の間に全体的に配置される。第1の導体を第1の
通路内に配置し、第1の電極を隣接する後面に電気的に
接続させる。
この発明の一つの実施例においては、電解媒体を第1の
ウェル内に設ける。第1のウェルを、外向面及び内向面
を有するバリヤで被覆する。内向面は、電解媒体と流動
接触(f’low contact)する。
ウェル内に設ける。第1のウェルを、外向面及び内向面
を有するバリヤで被覆する。内向面は、電解媒体と流動
接触(f’low contact)する。
バリヤは、選択された種との外向面との接触に対応して
選択された成分(n+oiety)が電解媒体内に入り
込む入り口を提供する。バリヤは、少なくとも電解媒体
に対し実質的に不透過である。
選択された成分(n+oiety)が電解媒体内に入り
込む入り口を提供する。バリヤは、少なくとも電解媒体
に対し実質的に不透過である。
この発明の他の実施例は、基板に複数個のその様な第1
の電極構造を具えるセンサ配列に関するものである。
の電極構造を具えるセンサ配列に関するものである。
各電極構造が第1のウェル内に一個以上の電極を随意に
有することができる。
有することができる。
この発明の電極構造によれば、極めて寸法が小さいこと
に特徴があり、室温で作動可能であって、低電力で使用
でき、フィールドラグであり、応答時間が早く、酸素の
不足または湿度の違いに起因して影響されることがなく
、洗練された微小製造技術を用いて大量生産することが
でき、優れた特製と高い選択性を示し、基板の後面に集
積されるとともに埋め込まれた信号増幅回路に対して信
号線を非常に短くすることにより、高い信号−雑音比を
得ることができ、特定の実施例にあっては、蒸気、溶解
イオン、溶解非イオン種(溶解気体を含む)を検知する
ことができる。この構造は、配列に協同させて圧力素子
を設けるのに非常に適したものである。抵抗又は容量セ
ンサの幾何学的形状が化学的に敏感なセンサ用に作られ
た構造に類似しているので、同一の基板に圧力素子をも
設けるには僅かな処理工程が必要とされるだけである。
に特徴があり、室温で作動可能であって、低電力で使用
でき、フィールドラグであり、応答時間が早く、酸素の
不足または湿度の違いに起因して影響されることがなく
、洗練された微小製造技術を用いて大量生産することが
でき、優れた特製と高い選択性を示し、基板の後面に集
積されるとともに埋め込まれた信号増幅回路に対して信
号線を非常に短くすることにより、高い信号−雑音比を
得ることができ、特定の実施例にあっては、蒸気、溶解
イオン、溶解非イオン種(溶解気体を含む)を検知する
ことができる。この構造は、配列に協同させて圧力素子
を設けるのに非常に適したものである。抵抗又は容量セ
ンサの幾何学的形状が化学的に敏感なセンサ用に作られ
た構造に類似しているので、同一の基板に圧力素子をも
設けるには僅かな処理工程が必要とされるだけである。
成る適用例(例えば、生化学)にあっては、付加された
その様な特徴が非常に有用なこととなる。
その様な特徴が非常に有用なこととなる。
この発明の実施例では、単一の基板が、それぞれが異な
った多数の化学的種の一つ又は幾つかに敏感な一個又は
複数の電w1構造よりなる配列を有することができる。
った多数の化学的種の一つ又は幾つかに敏感な一個又は
複数の電w1構造よりなる配列を有することができる。
更に、センサ配列全体を大変小さくすることができるの
で、例えば、血流に置かれるカテーテル内に容易に収り
付けることができ、C0、0、K’ 、H+のような化
学物質に就いて定常的な読み出しを行うことができる。
で、例えば、血流に置かれるカテーテル内に容易に収り
付けることができ、C0、0、K’ 、H+のような化
学物質に就いて定常的な読み出しを行うことができる。
この発明の成る実施例では、電気化学的に除去された基
板の後面に集積された電子回路を設けることもでき、こ
れにより信号を増幅することができ、及び/又は一つ又
は多数の種の濃度に就いての特定の表示である電気的な
出力信号を得ることができる。この発明の電極構造は、
イオン種に対する実質的なネルンスティアンの勾配(N
ernstian 5lope)を示すよう設計するこ
とができる。この発明の電流測定電極構造は、濃度にほ
ぼ直線的に依存するよう設計することができる。第1の
ウェルの底部を、異なる適用に対して、基板の前面及び
後面から相違する距離にあるように刷ることができる。
板の後面に集積された電子回路を設けることもでき、こ
れにより信号を増幅することができ、及び/又は一つ又
は多数の種の濃度に就いての特定の表示である電気的な
出力信号を得ることができる。この発明の電極構造は、
イオン種に対する実質的なネルンスティアンの勾配(N
ernstian 5lope)を示すよう設計するこ
とができる。この発明の電流測定電極構造は、濃度にほ
ぼ直線的に依存するよう設計することができる。第1の
ウェルの底部を、異なる適用に対して、基板の前面及び
後面から相違する距離にあるように刷ることができる。
(発明を実施するための最良の形8)
この発明は、電解セル11を具える微小−電気化学的電
極を提供するものであり、その一実施例を第1図に示す
。電極構造10は、モノリシックな基板12を具え、こ
の基板は通常互いに離間して対向する前面14及び後面
16を有する9基板12は、多くの材料のいずれからも
製造することができるが、例えばケイ素、炭化ケイ素、
ガリウムヒ素等の半導体材料で製造するのが有利である
。しかしながら、この発明は、基板12をプラスチック
材料、耐火酸化物、又は実質的に他の材料で製造するこ
ともできる。導電性材料で基板12を造ることもできる
が、その場合には、基板12を半導体材料で造った場合
にもそうであるが、適当な絶縁層13を設け、基板12
を介して短絡するのを阻止する必要がある。
極を提供するものであり、その一実施例を第1図に示す
。電極構造10は、モノリシックな基板12を具え、こ
の基板は通常互いに離間して対向する前面14及び後面
16を有する9基板12は、多くの材料のいずれからも
製造することができるが、例えばケイ素、炭化ケイ素、
ガリウムヒ素等の半導体材料で製造するのが有利である
。しかしながら、この発明は、基板12をプラスチック
材料、耐火酸化物、又は実質的に他の材料で製造するこ
ともできる。導電性材料で基板12を造ることもできる
が、その場合には、基板12を半導体材料で造った場合
にもそうであるが、適当な絶縁層13を設け、基板12
を介して短絡するのを阻止する必要がある。
例えば、二酸化ケイ素層13は、ケイ素基板を、例えば
、約1000°Cに高められた湿り酸素に接触させて形
成することができる。
、約1000°Cに高められた湿り酸素に接触させて形
成することができる。
重要なことは、基板12がモノリシック、つまり一の材
料から形成された単一構造であることであり、この事に
より、構成が著しく容易になり、従来の装置での問題が
解消若しくは大巾に減少することとなる。解消若しくは
大巾に減少する個々の問題は:(1)特に多層構造が必
要な場合に、種々の化学的物質が電極に固着すること;
(2)ウェルの化学的物質を覆う膜が付着すること;(
3)電解質の電子回路への漏洩;(4)時として必要な
電解媒体が厚く堆積すること;(5)封入の問題;(6
)光感度の問題;(7)例えば電圧と同様に電流測定を
行うことができないと言う多用性の不足;(9)コスト
が高いこと:(9)IC製造に伴う種々の化学的物質が
適合しないこと等である。
料から形成された単一構造であることであり、この事に
より、構成が著しく容易になり、従来の装置での問題が
解消若しくは大巾に減少することとなる。解消若しくは
大巾に減少する個々の問題は:(1)特に多層構造が必
要な場合に、種々の化学的物質が電極に固着すること;
(2)ウェルの化学的物質を覆う膜が付着すること;(
3)電解質の電子回路への漏洩;(4)時として必要な
電解媒体が厚く堆積すること;(5)封入の問題;(6
)光感度の問題;(7)例えば電圧と同様に電流測定を
行うことができないと言う多用性の不足;(9)コスト
が高いこと:(9)IC製造に伴う種々の化学的物質が
適合しないこと等である。
この発明のセンサに関する使用方法および/又はその使
用に基づいてなされる電気化学的な分析は、電解電流、
電位差、クーロン力、伝導度、そして交流分析等が含ま
れる。
用に基づいてなされる電気化学的な分析は、電解電流、
電位差、クーロン力、伝導度、そして交流分析等が含ま
れる。
それらの問題は、幾つかの理由による。第1に、従来の
装置は、壁を表面から上方に形成すると共に、その形成
物は化学物質を含むのに十分な高さが必要とされること
である。第2に、電子回路が、−’>c:、− 化学物質と同じ面内にあるので、封入が困難であること
。第3に、光〆に敏感なFET装置のゲートが光にさら
されること。第4に、電子回路に隣接する電解質の電子
回路への漏洩があること。第5に、電子回路と化学物質
が同一表面に存在するので、センサを電子回路に接続す
るのに簡単なバンプ接合法が除外されることである。
装置は、壁を表面から上方に形成すると共に、その形成
物は化学物質を含むのに十分な高さが必要とされること
である。第2に、電子回路が、−’>c:、− 化学物質と同じ面内にあるので、封入が困難であること
。第3に、光〆に敏感なFET装置のゲートが光にさら
されること。第4に、電子回路に隣接する電解質の電子
回路への漏洩があること。第5に、電子回路と化学物質
が同一表面に存在するので、センサを電子回路に接続す
るのに簡単なバンプ接合法が除外されることである。
本発明によれば、第1のウェル18は、前面14から基
板12内に延在し、後面16に向けて延在する。
板12内に延在し、後面16に向けて延在する。
セル11の必要な全ての化学物質は、第1のウェル18
内にある。第1のウェル18は、第1のウェル底部20
で終端する。第1のウェル18は、数多くの方法で形成
することができるが、その中には、特に、半導体工業の
技術で実施されている異方性エツチングを含むものであ
る(この場合には、ケイ素の(100)面が全面14に
対応する)。その操作には、基板12をクリーニングす
ること、ホトレジスト層を塗布すること、その層をプリ
ベーキングすること、ホトレジスト層を露光すること、
ホトレジスト層を現像すること、基板12をすすぐこと
、そして基板12を乾燥させることが含まれる。このよ
うな工程の各々を実施する方法は、IC技術において既
知であり、そのような技術に関する説明は、例えば、゛
集積回路工学(Integrated C1rcuit
Engineering)“ニー、ビー、グレーサ、
ジー、イー−スパック−シャープ(A、B、Glase
r G、E、5ubak−311arp)著、アディソ
ンーウェズリー出版社刊(Addison−Wesle
y Publishing Company)、 リ
ーディング(Reading)、 マサチューセッツ州
、 1977年を参照。この文献には、エツチング、ケ
イ素の酸化、窒化ケイ素膜の形成等が説明されている。
内にある。第1のウェル18は、第1のウェル底部20
で終端する。第1のウェル18は、数多くの方法で形成
することができるが、その中には、特に、半導体工業の
技術で実施されている異方性エツチングを含むものであ
る(この場合には、ケイ素の(100)面が全面14に
対応する)。その操作には、基板12をクリーニングす
ること、ホトレジスト層を塗布すること、その層をプリ
ベーキングすること、ホトレジスト層を露光すること、
ホトレジスト層を現像すること、基板12をすすぐこと
、そして基板12を乾燥させることが含まれる。このよ
うな工程の各々を実施する方法は、IC技術において既
知であり、そのような技術に関する説明は、例えば、゛
集積回路工学(Integrated C1rcuit
Engineering)“ニー、ビー、グレーサ、
ジー、イー−スパック−シャープ(A、B、Glase
r G、E、5ubak−311arp)著、アディソ
ンーウェズリー出版社刊(Addison−Wesle
y Publishing Company)、 リ
ーディング(Reading)、 マサチューセッツ州
、 1977年を参照。この文献には、エツチング、ケ
イ素の酸化、窒化ケイ素膜の形成等が説明されている。
ウェル18(そして同様に通路22)を形成する他の方
法は、レーザー穿孔によるものである。この方法で、数
ミクロンから数百ミクロンまでの側方に拡がった種々の
形状の孔を形成することができる。深さにもよるが、一
つの孔当たりの操作時間を1秒以下とすることができる
。ケイ素の湿式異方性エツチング技術は、レーサー穿孔
法に比べ、主要な二つの利点を有している。一つは、並
行操作であるので、多数の孔を同時に形成することがが
できる9二つは、表面が円滑で極めて効果的(、二画成
されることである。レーザー穿孔の利点は、滑らかな壁
の孔ではないか、真直な孔を必要な場合に提供するもの
である。
法は、レーザー穿孔によるものである。この方法で、数
ミクロンから数百ミクロンまでの側方に拡がった種々の
形状の孔を形成することができる。深さにもよるが、一
つの孔当たりの操作時間を1秒以下とすることができる
。ケイ素の湿式異方性エツチング技術は、レーサー穿孔
法に比べ、主要な二つの利点を有している。一つは、並
行操作であるので、多数の孔を同時に形成することがが
できる9二つは、表面が円滑で極めて効果的(、二画成
されることである。レーザー穿孔の利点は、滑らかな壁
の孔ではないか、真直な孔を必要な場合に提供するもの
である。
この発明の実施例によれは、第1の電極24を設けるが
、重要なことは、全体として、前面14と後面16との
間で、少なくとも第1のウェル18まで延在させること
である。このことは、極めて重要なことであり、続いて
の膜を直接設けることが可能となり、電解媒体の収容を
一般に容易としく例えば、インクジェットプリンタ型式
の化学物質充填装置を用いてこぼれることがなく)、更
には、付加的なバリヤーの固着をより容易なものとする
。
、重要なことは、全体として、前面14と後面16との
間で、少なくとも第1のウェル18まで延在させること
である。このことは、極めて重要なことであり、続いて
の膜を直接設けることが可能となり、電解媒体の収容を
一般に容易としく例えば、インクジェットプリンタ型式
の化学物質充填装置を用いてこぼれることがなく)、更
には、付加的なバリヤーの固着をより容易なものとする
。
また、より好ましい封入を行うことができる。
第1の導体26を第1の通路22に設け、第1の電極2
4を基板12の隣接する後面16に電気的に接続するの
に供する。第1の導体26は、イオン性導体に対比して
電子性導体が適している。或いは、導体26の端部27
に対向するウェルに、電極24の代りをさせることがで
きる。この特徴は、センサー10の製造を劇的に簡単に
する。しかしながら、しばしば、センサー電極金属は、
強度及び/又は経済的理由から補助的な補強層(例えば
アルミニウム又はチタニウム)を必要とする。
4を基板12の隣接する後面16に電気的に接続するの
に供する。第1の導体26は、イオン性導体に対比して
電子性導体が適している。或いは、導体26の端部27
に対向するウェルに、電極24の代りをさせることがで
きる。この特徴は、センサー10の製造を劇的に簡単に
する。しかしながら、しばしば、センサー電極金属は、
強度及び/又は経済的理由から補助的な補強層(例えば
アルミニウム又はチタニウム)を必要とする。
第1−の通路22は、半導体技術における既知のいずれ
かの方法により形成することができる。例えば、そのよ
うな技術としては、異方性エツチング、レーザー穿孔、
アルミニウムの熱拡散等が有用である。第1の導体26
を第1の通路22に、再度半導体技術の方法を用いて設
けることができる。例えば、第1の導体26は、アルミ
ニウムの熱拡散、l金属の堆積、(蒸着又はスパッタリ
ング)、無電解めっき、電子ビーム蒸着、金属棒の機械
的配置、真空利用による所定位置での溶解等の技術を用
いることにより設けることができる。アルミニウムの熱
拡散は、金属の接点を形成するのに有用である。この方
法は、孔及び導体を一つの操作で設けることができるこ
とである。しかしながら、実際には、熱拡散技術は、極
めて難しいので、金属の堆積に続いての湿式異方性エツ
チングが現在では好ましい。
かの方法により形成することができる。例えば、そのよ
うな技術としては、異方性エツチング、レーザー穿孔、
アルミニウムの熱拡散等が有用である。第1の導体26
を第1の通路22に、再度半導体技術の方法を用いて設
けることができる。例えば、第1の導体26は、アルミ
ニウムの熱拡散、l金属の堆積、(蒸着又はスパッタリ
ング)、無電解めっき、電子ビーム蒸着、金属棒の機械
的配置、真空利用による所定位置での溶解等の技術を用
いることにより設けることができる。アルミニウムの熱
拡散は、金属の接点を形成するのに有用である。この方
法は、孔及び導体を一つの操作で設けることができるこ
とである。しかしながら、実際には、熱拡散技術は、極
めて難しいので、金属の堆積に続いての湿式異方性エツ
チングが現在では好ましい。
様々の型式の電極構造10を形成することができる。こ
れらには、例えば、Ag/AgCl基準電極、白金、白
金黒、銀、金、イリジウム、パラジウム、パラジウム/
銀、二酸化イリジウム、白金黒/パラジウム、酸化白金
、そしてそれらの混合物、電気的導電性の重合体、そし
て電気化学的測定に際して一般に使用される普通の導体
が含まれる。表1に、単なる例示であるが、ガスと、そ
れらを決定するのに使用された電気化学的装置を筒単に
示す。
れらには、例えば、Ag/AgCl基準電極、白金、白
金黒、銀、金、イリジウム、パラジウム、パラジウム/
銀、二酸化イリジウム、白金黒/パラジウム、酸化白金
、そしてそれらの混合物、電気的導電性の重合体、そし
て電気化学的測定に際して一般に使用される普通の導体
が含まれる。表1に、単なる例示であるが、ガスと、そ
れらを決定するのに使用された電気化学的装置を筒単に
示す。
この発明の成る実施例では、電解媒体28を第1のウェ
ル18内に設ける。電解媒体28は、液体とすることが
できるが、ヒドロゲル、ポテンショメトリック素子の可
塑化重合体膜、イオン選択膜、または固形重合体電解質
等がより好ましい。
ル18内に設ける。電解媒体28は、液体とすることが
できるが、ヒドロゲル、ポテンショメトリック素子の可
塑化重合体膜、イオン選択膜、または固形重合体電解質
等がより好ましい。
種々の電極構造10に必要な物質は、適当なウェル18
内に以下のようにして配置することができる純粋な金属
を前面から堆積することが必要である場合には、それら
金属をスパッタ、蒸着させるこ30A− −二 さ 佃 佃 りH1ト 七 羽製 (口
田ξG怒ミ蛙Δ*−閘 一 、旨:= 〆とができ、電子ビーム又は抵抗蒸着を適用することが
でき、金属塩の不溶性堆積を、その位置に金属の化学的
又は電気化学的処理により形成することができる。それ
らは、既に言及したように後面からも堆積させることが
できる。ヒドロゲルを設けるには、リフトオフ又はイン
クジェットプリンタに似た技術を選ぶことができる。固
形重合体電解質を、所定位置にヒドロゲルと同様な方法
で配置することができる。ま−な、イオン選択膜を、所
定のウェル内にヒドロゲルと同様にして配置することが
できる。さらに、流体膜を同様にして設けることができ
る。酵素ベースの膜体を含む複合膜、組織培養、抗原抗
体、そして−船釣な生体触媒物質も、ウェル内に同様な
方法で配置することができる。
内に以下のようにして配置することができる純粋な金属
を前面から堆積することが必要である場合には、それら
金属をスパッタ、蒸着させるこ30A− −二 さ 佃 佃 りH1ト 七 羽製 (口
田ξG怒ミ蛙Δ*−閘 一 、旨:= 〆とができ、電子ビーム又は抵抗蒸着を適用することが
でき、金属塩の不溶性堆積を、その位置に金属の化学的
又は電気化学的処理により形成することができる。それ
らは、既に言及したように後面からも堆積させることが
できる。ヒドロゲルを設けるには、リフトオフ又はイン
クジェットプリンタに似た技術を選ぶことができる。固
形重合体電解質を、所定位置にヒドロゲルと同様な方法
で配置することができる。ま−な、イオン選択膜を、所
定のウェル内にヒドロゲルと同様にして配置することが
できる。さらに、流体膜を同様にして設けることができ
る。酵素ベースの膜体を含む複合膜、組織培養、抗原抗
体、そして−船釣な生体触媒物質も、ウェル内に同様な
方法で配置することができる。
原則的には、電気化学的に酸化又は還元することができ
る全てのガス又は蒸気は、電流滴定を用いる電流測定を
限定することにより感知することができる。反応は、電
極/電解質の界面に於ける調整を得る為には、所望の反
応だけが行われる適切なポテンシャルを、電極に与えな
ければならない。選択(又は多数の在り得る反応の中か
ら一つだけを観察できること)は、本来速度的であるか
熱力学的のいずれかである。それゆえ、選択は、感知電
極触媒とく物質)ポテンシャルとの関数である。
る全てのガス又は蒸気は、電流滴定を用いる電流測定を
限定することにより感知することができる。反応は、電
極/電解質の界面に於ける調整を得る為には、所望の反
応だけが行われる適切なポテンシャルを、電極に与えな
ければならない。選択(又は多数の在り得る反応の中か
ら一つだけを観察できること)は、本来速度的であるか
熱力学的のいずれかである。それゆえ、選択は、感知電
極触媒とく物質)ポテンシャルとの関数である。
ポテンシャルの適切な範囲の概略の指揉は、関係する反
応の可逆ポテンシャルにより与えられる:幾つかの値を
表2に示す。注意することは、それぞれのガス反応は、
特徴的な熱力学的ポテンシャルを示していることである
。熱力学的選択の一例は、低いポテンシャルで起るN0
2の還元である(セドラク及びブラートン(Sedla
k and Blurton)、1986年)。
応の可逆ポテンシャルにより与えられる:幾つかの値を
表2に示す。注意することは、それぞれのガス反応は、
特徴的な熱力学的ポテンシャルを示していることである
。熱力学的選択の一例は、低いポテンシャルで起るN0
2の還元である(セドラク及びブラートン(Sedla
k and Blurton)、1986年)。
N 02はNOに還元され、NO生成物は更に還元され
ることがないので、N02センサ(低いポテンシャルで
作動する感知電極を具える)はN02を選択し、存在す
るであろうNOに対する信号を生ずることは特性ポテン
シャルで起る。選択的なポテンシャル表2 気体を含む返座におりる熱力学的ポテンシャル反 応
熱力学的ポテンシャル(mV v
s、NHE’) 酸化反応: HCHO+H2O−+CO2+411”+4e−−12
3GO+H2O−+CO2+2H”+2e−−103t
12−+211”+2e−0 C21+501(”31120→2CO2”l’!I+
”+128− 87H2S −+S+2)
1”+2e−141502+2H20−+SO4’−+
48”+2e−17014CN = 172C2N2+
H++e−373CI−14+H20−+CH30H+
2H”+2e−586NO+21(20−+NO3−+
41−1”+3e−957還元反応: 0、+2t(”+2e−−+02+t−1202076
CJ22”2e−=2CJ2− 1
36002+48”+4e−→2820
123ON02+t(”+e−−+HN021
093CO2+2H”+2e−−HCoOH−199゛
間E−通常水素電極 =328= ない。このNO2の選択は、感知電極のポテンシャ−3
2△− ルをNo反応が認められない範囲内で選択した結果であ
る。電気化学的セルのボテシャルは、触媒表面の温度と
比較されるが(ブラーI〜ン及びセッター (BIur
[on and 5etter)、1977年)、それ
はまた、触媒反応を調整するのに用いることもできる。
ることがないので、N02センサ(低いポテンシャルで
作動する感知電極を具える)はN02を選択し、存在す
るであろうNOに対する信号を生ずることは特性ポテン
シャルで起る。選択的なポテンシャル表2 気体を含む返座におりる熱力学的ポテンシャル反 応
熱力学的ポテンシャル(mV v
s、NHE’) 酸化反応: HCHO+H2O−+CO2+411”+4e−−12
3GO+H2O−+CO2+2H”+2e−−103t
12−+211”+2e−0 C21+501(”31120→2CO2”l’!I+
”+128− 87H2S −+S+2)
1”+2e−141502+2H20−+SO4’−+
48”+2e−17014CN = 172C2N2+
H++e−373CI−14+H20−+CH30H+
2H”+2e−586NO+21(20−+NO3−+
41−1”+3e−957還元反応: 0、+2t(”+2e−−+02+t−1202076
CJ22”2e−=2CJ2− 1
36002+48”+4e−→2820
123ON02+t(”+e−−+HN021
093CO2+2H”+2e−−HCoOH−199゛
間E−通常水素電極 =328= ない。このNO2の選択は、感知電極のポテンシャ−3
2△− ルをNo反応が認められない範囲内で選択した結果であ
る。電気化学的セルのボテシャルは、触媒表面の温度と
比較されるが(ブラーI〜ン及びセッター (BIur
[on and 5etter)、1977年)、それ
はまた、触媒反応を調整するのに用いることもできる。
ポテンシャルの調整は三個の電極と一つの定電位回路を
用いることにより数多くのセンサに行うことができる。
用いることにより数多くのセンサに行うことができる。
ポテンシャルの適切な範囲に関するより正確な情報は、
酸化又は還元反応の速度により与えられるもので、電気
触媒作用によってだけ説明することができる。それぞれ
の電気触媒作用の定式化は、一義的な特性を有している
。CO酸化に対す白金の活性は、金のそれよりも103
から106倍程良いことが判っている。これは、速度選
択の好適例である。両方の反応が両方の金属で起こるが
、一方の反応のオーターは、他方の反応より一層早い。
酸化又は還元反応の速度により与えられるもので、電気
触媒作用によってだけ説明することができる。それぞれ
の電気触媒作用の定式化は、一義的な特性を有している
。CO酸化に対す白金の活性は、金のそれよりも103
から106倍程良いことが判っている。これは、速度選
択の好適例である。両方の反応が両方の金属で起こるが
、一方の反応のオーターは、他方の反応より一層早い。
現在利用できるセンサは高価な貴金属触媒を使用しいて
るが、この発明の電極構造10における各感知素子のそ
のような触媒に必要とされる量は、センサが微小寸法の
装置であるので最小となる9更に、触媒活性及び選択性
が計金属のそれと同様な高さを示す重合体物質に基づく
電気触媒を貴金属の代わりに使用することができる。
るが、この発明の電極構造10における各感知素子のそ
のような触媒に必要とされる量は、センサが微小寸法の
装置であるので最小となる9更に、触媒活性及び選択性
が計金属のそれと同様な高さを示す重合体物質に基づく
電気触媒を貴金属の代わりに使用することができる。
熱力学的選択ポテンシャルが接近している幾つかの反応
成分を含む混合物内に感知すべきガスが存在するならば
(第2表参照)、所望成分の濃度を差分パルスボルタメ
トリー(opv)法により定めることができる。今、ガ
スAとガスBが存在する混合物である簡単な資料を考え
るものとする。ガスAとガスBとは、異なる限界電流工
ヶと18とを有する電流対ポテンシャル曲線を有するも
のとする。これら曲線を微分することにより、異なった
特性ポテンシャルEAとE、とを有する二個のはっきり
と分離されたピークを得ることができる。
成分を含む混合物内に感知すべきガスが存在するならば
(第2表参照)、所望成分の濃度を差分パルスボルタメ
トリー(opv)法により定めることができる。今、ガ
スAとガスBが存在する混合物である簡単な資料を考え
るものとする。ガスAとガスBとは、異なる限界電流工
ヶと18とを有する電流対ポテンシャル曲線を有するも
のとする。これら曲線を微分することにより、異なった
特性ポテンシャルEAとE、とを有する二個のはっきり
と分離されたピークを得ることができる。
ピーク電流値は、ガスの濃度に比例する。それゆえ、S
N比が改善されることに加えて、DPV法は、表2に与
えられた熱力学的ポテンシャルに密接に関連すると共に
、各ガスの種類の特性に関連するE、。a−を正確に測
定することにより、電気化学的センサに対してポテンシ
ャルに基づき制御された選択性を賦与することができる
。
N比が改善されることに加えて、DPV法は、表2に与
えられた熱力学的ポテンシャルに密接に関連すると共に
、各ガスの種類の特性に関連するE、。a−を正確に測
定することにより、電気化学的センサに対してポテンシ
ャルに基づき制御された選択性を賦与することができる
。
有用な電解質の中でも、特に電流測定素子に対しては、
例えばナフィオン(Narion (商品名))のよう
な固形重合電解質を含む固形電解質であり、水に触れる
とイオンを導電する固形重合イオン交換体の一部である
。恐らく最も良く知られているる例としては、固定陰性
位置(スルホン酸塩、カルボキシレート又はホスボネー
ト)又は固定陽性位置く第4アンモニウム又は第4ホス
ホニウム)を有するポリスチレンから形成された膜があ
る。
例えばナフィオン(Narion (商品名))のよう
な固形重合電解質を含む固形電解質であり、水に触れる
とイオンを導電する固形重合イオン交換体の一部である
。恐らく最も良く知られているる例としては、固定陰性
位置(スルホン酸塩、カルボキシレート又はホスボネー
ト)又は固定陽性位置く第4アンモニウム又は第4ホス
ホニウム)を有するポリスチレンから形成された膜があ
る。
イオンに関する限りそれら物質の選択は、電荷を基準と
したほとんど排他的なものであり、同じ電荷を持ったイ
オンに対して、識別力は極めて僅かなものである。電流
測定に関する感知に対しそれら物質を使用することは比
較的新規なことである。
したほとんど排他的なものであり、同じ電荷を持ったイ
オンに対して、識別力は極めて僅かなものである。電流
測定に関する感知に対しそれら物質を使用することは比
較的新規なことである。
ナフィオン(ペルフルオリネートイオノマー)の他に、
固形重合電解質の他の例としては、スルホン化スチレン
ジビニール・ベンゼン・樹脂とジビニール・ナフタレン
・スルホン酸重合体がある。
固形重合電解質の他の例としては、スルホン化スチレン
ジビニール・ベンゼン・樹脂とジビニール・ナフタレン
・スルホン酸重合体がある。
このような重合体は、内部にイオン(親水性〉クラスタ
ーを伴う疎水性の性質を有することに化学的また物理的
な特徴がある。それらは水相によりイオンを伝導する。
ーを伴う疎水性の性質を有することに化学的また物理的
な特徴がある。それらは水相によりイオンを伝導する。
それらは、ドナンの破壊点まで共イオンを排除し、その
段階で両タイプのイオンが樹脂内に透過する。中性分子
は、その膜を通り容易に拡散することができ、特に大き
な有機分子がより親水性の樹脂内で溶解することができ
きる。
段階で両タイプのイオンが樹脂内に透過する。中性分子
は、その膜を通り容易に拡散することができ、特に大き
な有機分子がより親水性の樹脂内で溶解することができ
きる。
樹脂はまた、標準液として用いることができる(例えば
、フランス国特許公報第2,158,905参照)。こ
れらイオン交換樹脂は、電圧測定C02センサに対する
電解媒体として用いられてきた(例えば、米国特許箱3
.730.868)。
、フランス国特許公報第2,158,905参照)。こ
れらイオン交換樹脂は、電圧測定C02センサに対する
電解媒体として用いられてきた(例えば、米国特許箱3
.730.868)。
電圧測定素子に適した膜は、イオン選択キャリヤー又は
イオン伝導溶媒内のイオン伝導体の溶液に含浸された、
高分子結合剤又は保持体を具えることができる。この種
の膜は、成る特定のイオンを選択的に感知できるように
作ることができる。
イオン伝導溶媒内のイオン伝導体の溶液に含浸された、
高分子結合剤又は保持体を具えることができる。この種
の膜は、成る特定のイオンを選択的に感知できるように
作ることができる。
例えば、ナトリウムに対し、抗生作用のある非アクチン
をセバシン酸ジオクチルにより可塑化されたPVCマI
−リ・ノクスに於けるイオン導伝体として用いることが
できる。カリウムには、バリノミシンをノンアクチンの
代わりとしてもよい。
をセバシン酸ジオクチルにより可塑化されたPVCマI
−リ・ノクスに於けるイオン導伝体として用いることが
できる。カリウムには、バリノミシンをノンアクチンの
代わりとしてもよい。
センサ構造内で協働して用いられる有用なゲルには、限
定されることなく、メチルセルロース、ポリビニルアル
コール、寒天、カルボキシセルロース、ゼラチン、アガ
ロース、脱イオンゼラチン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドン、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタアクリレート、そしてポリアクリル
酸が含まれる。これらは、濃厚なくより粘度の高い)溶
液を構成する。これらは、本来親水性であり、合成高分
子フィルム形成材料を含む。
定されることなく、メチルセルロース、ポリビニルアル
コール、寒天、カルボキシセルロース、ゼラチン、アガ
ロース、脱イオンゼラチン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドン、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタアクリレート、そしてポリアクリル
酸が含まれる。これらは、濃厚なくより粘度の高い)溶
液を構成する。これらは、本来親水性であり、合成高分
子フィルム形成材料を含む。
ある場合には、電解媒体28を分析される溶液から生成
することができる。しかしながら、電解媒体28が存在
するほとんどの場合、電極構造10を製造する間に供給
される。分析される溶液が、電解媒体28と混合及び/
又は直接的に接触することは、好ましくない場合がしば
しば存在する。
することができる。しかしながら、電解媒体28が存在
するほとんどの場合、電極構造10を製造する間に供給
される。分析される溶液が、電解媒体28と混合及び/
又は直接的に接触することは、好ましくない場合がしば
しば存在する。
=37=
通常、膜に類するバリヤ30は、第1のウェル18を被
覆する。バリヤ30は、外向き表面32と内向き表面3
4とを具え、その内向き表面34は電解媒体28と流動
接触して完全な伝導路を形成する。事実、バリヤ30は
、第1のウェル18内に少なくとも部分的に置くことが
できる9バリヤ30は、選択された種とバリヤ30の外
向き表面32との接触に応じて、選択した一半部の電解
媒体28内への入り口を提供する。選択された種がバリ
ヤ30を通過し、次いで選択された半部を構成するか、
又は選択された種がバリヤ30に接触すると、異なった
半部が電解媒体28内に導入されることとなる。バリヤ
30は、通常、少なくとも実質的に電解媒体28に対し
て不透過性であり、バリヤ30の外方の分析溶液が散逸
し及び/又は混合するのを阻止する9溶液が電解媒体2
8を構成する場合には、それらの例では、バリヤ30が
存在することがなく、又は分析される溶液に対して透過
なものとなる。
覆する。バリヤ30は、外向き表面32と内向き表面3
4とを具え、その内向き表面34は電解媒体28と流動
接触して完全な伝導路を形成する。事実、バリヤ30は
、第1のウェル18内に少なくとも部分的に置くことが
できる9バリヤ30は、選択された種とバリヤ30の外
向き表面32との接触に応じて、選択した一半部の電解
媒体28内への入り口を提供する。選択された種がバリ
ヤ30を通過し、次いで選択された半部を構成するか、
又は選択された種がバリヤ30に接触すると、異なった
半部が電解媒体28内に導入されることとなる。バリヤ
30は、通常、少なくとも実質的に電解媒体28に対し
て不透過性であり、バリヤ30の外方の分析溶液が散逸
し及び/又は混合するのを阻止する9溶液が電解媒体2
8を構成する場合には、それらの例では、バリヤ30が
存在することがなく、又は分析される溶液に対して透過
なものとなる。
バリヤ30は、前面14及び後面16を含む電極構造1
0を封止する。成るいは、バリヤ30第1のウェル18
を、又は第1のウェル18及び前面14の一部若しくは
全部だけを被覆しても良い。電極構造10の残部、又は
バリヤ30を含めた電極構造10の全体までも封止して
汚染から保護することが好ましい。−般に不活性の封止
層(図示せず)をこの目的で使用する。封止層が存在す
る場合に、封止層は、(例えば、細孔又は穴を通して)
第1のウェル18又は第1のウェル18を被覆するバリ
ヤ30を見ることができるものでなければならない。封
止層は、バリヤ30と同様にして形成することができる
。
0を封止する。成るいは、バリヤ30第1のウェル18
を、又は第1のウェル18及び前面14の一部若しくは
全部だけを被覆しても良い。電極構造10の残部、又は
バリヤ30を含めた電極構造10の全体までも封止して
汚染から保護することが好ましい。−般に不活性の封止
層(図示せず)をこの目的で使用する。封止層が存在す
る場合に、封止層は、(例えば、細孔又は穴を通して)
第1のウェル18又は第1のウェル18を被覆するバリ
ヤ30を見ることができるものでなければならない。封
止層は、バリヤ30と同様にして形成することができる
。
バリヤ30としては、数多くの物質を適用することがで
きる。例えば、バリヤ30は、ガス透過液体不透過膜を
具えることができる。このことは、センサを液体中で用
いて溶存ガスを検知する、例えば、電極構造10が血液
中で用いる場合に有用である。
きる。例えば、バリヤ30は、ガス透過液体不透過膜を
具えることができる。このことは、センサを液体中で用
いて溶存ガスを検知する、例えば、電極構造10が血液
中で用いる場合に有用である。
バリヤとして使用される物質の他のタイプには、テフロ
ン膜、シリコーンゴム膜、シリコーンポリカーボネート
ゴム膜、マイラ(mylar)、ナイロン6、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、メチルセルロース、ア
セトセルロース、高密度ポリスチレン、ポリスチレン、
天然ゴム、フッ化ケイ素、ジメチルケイ素ゴム、他の適
当な有孔ホトレジスト重合体、そしてジメチルケイ素が
ある。使用する膜は、その製造を一段と容易なものとす
るるなめ、溶液流延可能なものであることが通常は好ま
しい。
ン膜、シリコーンゴム膜、シリコーンポリカーボネート
ゴム膜、マイラ(mylar)、ナイロン6、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、メチルセルロース、ア
セトセルロース、高密度ポリスチレン、ポリスチレン、
天然ゴム、フッ化ケイ素、ジメチルケイ素ゴム、他の適
当な有孔ホトレジスト重合体、そしてジメチルケイ素が
ある。使用する膜は、その製造を一段と容易なものとす
るるなめ、溶液流延可能なものであることが通常は好ま
しい。
バリヤ30は、ウェル18の適当位置に、例えば、異な
った基板への溶液流延又は分離流延、物理的転移、所定
位置での熱収縮、インクジェットプリンタを用いた溶液
流延、スピンコーティング、又は浸せきコーティングに
より、配置することができる。バリヤが、例えば、ポリ
スチレン、スチレン−ブチジン、又はテフロンで造られ
た均一なラテックス微小球の性質を有するものであるな
らば、インクジェットプリント、浸せき、溶剤噴霧等に
より、所定位置に配置することができる。バリヤが活性
炭又は同様な物質の性質であるならば、インクジェット
プリント、溶剤流延等により所定位置に配置することが
できる。バリヤが、例えば、過マンガン酸被覆アルミナ
、又は酸化窒素を除去するのに供される他の物質を含む
ものであるならば、炭素粒子と同様に所定位置に配置す
ることができる。
った基板への溶液流延又は分離流延、物理的転移、所定
位置での熱収縮、インクジェットプリンタを用いた溶液
流延、スピンコーティング、又は浸せきコーティングに
より、配置することができる。バリヤが、例えば、ポリ
スチレン、スチレン−ブチジン、又はテフロンで造られ
た均一なラテックス微小球の性質を有するものであるな
らば、インクジェットプリント、浸せき、溶剤噴霧等に
より、所定位置に配置することができる。バリヤが活性
炭又は同様な物質の性質であるならば、インクジェット
プリント、溶剤流延等により所定位置に配置することが
できる。バリヤが、例えば、過マンガン酸被覆アルミナ
、又は酸化窒素を除去するのに供される他の物質を含む
ものであるならば、炭素粒子と同様に所定位置に配置す
ることができる。
ここに述べた微小電気化学的電極構造10は、作用電極
又は感知電極、基準電極、或いは対向電極又は補助電極
賭して使用することができる。第2図から判るように、
単一の基板12は、適当な手段、例えば塩の橋かけ部3
5.37と共にそこに設けられた感知電極セル29、基
準電極セル31、対向電極セル33の各々を一個又は複
数個有することができ、それら手段は、様々の電極セル
の間で、とくには様々の電極に接する種々の電解媒体2
8,39,41の間でイオン伝導を行う。塩の橋かけ部
35.37は、バリヤ30が全てのイオンに対してバリ
ヤである場合に必要である。
又は感知電極、基準電極、或いは対向電極又は補助電極
賭して使用することができる。第2図から判るように、
単一の基板12は、適当な手段、例えば塩の橋かけ部3
5.37と共にそこに設けられた感知電極セル29、基
準電極セル31、対向電極セル33の各々を一個又は複
数個有することができ、それら手段は、様々の電極セル
の間で、とくには様々の電極に接する種々の電解媒体2
8,39,41の間でイオン伝導を行う。塩の橋かけ部
35.37は、バリヤ30が全てのイオンに対してバリ
ヤである場合に必要である。
ここで注意することは、図面で用いられている符号S、
R5そしてCは、感知、基準、そして対向のそれぞれの
電極を示している。
R5そしてCは、感知、基準、そして対向のそれぞれの
電極を示している。
第1の電極24か感知電極であるならば、基板12はま
た、第1の電極24とイオンにより電気的に接続する基
準電極36を具える。基準電極36もまた、電解媒体2
8を介して以外は感知電極24から絶縁されることとな
る。例えば、基板がケイ素であるならば、適当な二酸化
ケイ素、又は窒化層13は、第1のウェル18及び第1
の通路22内に通常の方法で堆積させ、又は形成するこ
とができる。基準電極36は、基準電極ポテンシャルを
決定する種を含むそれ自身と異なる電解媒体39(第2
図)を具える。
た、第1の電極24とイオンにより電気的に接続する基
準電極36を具える。基準電極36もまた、電解媒体2
8を介して以外は感知電極24から絶縁されることとな
る。例えば、基板がケイ素であるならば、適当な二酸化
ケイ素、又は窒化層13は、第1のウェル18及び第1
の通路22内に通常の方法で堆積させ、又は形成するこ
とができる。基準電極36は、基準電極ポテンシャルを
決定する種を含むそれ自身と異なる電解媒体39(第2
図)を具える。
また、対向電極42を、分離した電解媒体41(第2図
)を具える。
)を具える。
第3図及び第4図に示す実施例では、感知電極24と基
準電極36とは、第1のウェル18内にそれぞれ存在す
る。この様な実施例において、基板12は、その基板1
2の後面36から第1の、またはセンサのウェル底部2
0の基準電極36まで延在する第2の通路38を有する
。第2の導体40は、第2の通路38内に在り、基準電
極36を基板12の後面16に隣接して電気的に接続す
るのに供する。基板がケイ素であるらば、二酸化ケイ素
又は窒化ケイ素の膜13もまな、第2の通路38に沿っ
て延在する。
準電極36とは、第1のウェル18内にそれぞれ存在す
る。この様な実施例において、基板12は、その基板1
2の後面36から第1の、またはセンサのウェル底部2
0の基準電極36まで延在する第2の通路38を有する
。第2の導体40は、第2の通路38内に在り、基準電
極36を基板12の後面16に隣接して電気的に接続す
るのに供する。基板がケイ素であるらば、二酸化ケイ素
又は窒化ケイ素の膜13もまな、第2の通路38に沿っ
て延在する。
対向電極が必要とされる、例えば非電圧測定を行う場合
に、対向電極42をそれらに設ける。対向電極42(第
3図参照)は、電解媒体28とイオンにより電気的接続
され、電解媒体28を介して以外は、感知電極24、更
には(存在すれば)基準電極36と電気的に絶縁されれ
る。対向電極42は、例えば第3図及び第4図に示した
ように、感知電極24と同様に同じウェル内に配置する
ことができる。また、対向電極42は、第3図のように
、基準電極36と同様に同じウェル内に配置することが
できる。対向電極42は、感知電極24と同じウェル1
8、即ち第1のウェル内に配置することができる。この
実施例を、第3、第4、第11、第12、そして第13
図に示す。
に、対向電極42をそれらに設ける。対向電極42(第
3図参照)は、電解媒体28とイオンにより電気的接続
され、電解媒体28を介して以外は、感知電極24、更
には(存在すれば)基準電極36と電気的に絶縁されれ
る。対向電極42は、例えば第3図及び第4図に示した
ように、感知電極24と同様に同じウェル内に配置する
ことができる。また、対向電極42は、第3図のように
、基準電極36と同様に同じウェル内に配置することが
できる。対向電極42は、感知電極24と同じウェル1
8、即ち第1のウェル内に配置することができる。この
実施例を、第3、第4、第11、第12、そして第13
図に示す。
第3図に示す構造において、基板12は、その後面16
から第1のウェル底部20に延在する第3の通路44を
有する。第3の導体46は、第3の通路44内に配置さ
れ、対向電極42を隣接する基板12の後面16に電気
的に接続する。
から第1のウェル底部20に延在する第3の通路44を
有する。第3の導体46は、第3の通路44内に配置さ
れ、対向電極42を隣接する基板12の後面16に電気
的に接続する。
第4図の場合には、対向電極42は、基準電極40の役
目をしている。二酸化ケイ素、又は窒化ケイ素層13が
必要な絶縁を与える。
目をしている。二酸化ケイ素、又は窒化ケイ素層13が
必要な絶縁を与える。
例えば、AC測定、伝導度測定等の場合には、単一のウ
ェル18内に3個以上の電極を有することが好ましい。
ェル18内に3個以上の電極を有することが好ましい。
成る特別な例(図示せず)では、ウェル18を、講に類
似したものとしてこの溝の長さ方向に沿ってポテンシャ
ル勾配を賦与することにより、電気泳動を行うことがで
きる。適切な感知電極24を溝の底部に沿って離間させ
ることにより、種々の種を決定することができる。適当
な基準電極36及び/又は対向電極42も、溝の底部に
沿って設ける。
似したものとしてこの溝の長さ方向に沿ってポテンシャ
ル勾配を賦与することにより、電気泳動を行うことがで
きる。適切な感知電極24を溝の底部に沿って離間させ
ることにより、種々の種を決定することができる。適当
な基準電極36及び/又は対向電極42も、溝の底部に
沿って設ける。
電子回路素子48を、この発明の成る実施例では、基板
12の後面16に隣接させてその基板内に設けることが
有利である。この電子回路素子48は、感知電極24、
基準電極36、そして対向電極42の一個又は複数個か
らの信号を処理する為に用いられまた、供されるもので
ある。電子回路素子48は、従来の集積回路製造技術を
用いて製造することができる。
12の後面16に隣接させてその基板内に設けることが
有利である。この電子回路素子48は、感知電極24、
基準電極36、そして対向電極42の一個又は複数個か
らの信号を処理する為に用いられまた、供されるもので
ある。電子回路素子48は、従来の集積回路製造技術を
用いて製造することができる。
通常、回路素子は、信号を高インピーダンスから低イン
ピーダンスに変換し、また電極からの信号を増幅するの
に供されるものであり、また必要であれば、演算を行い
表示又は印刷する状態にあるデータを、例えば、検知す
べき種の濃度として提供するのに供されるものである。
ピーダンスに変換し、また電極からの信号を増幅するの
に供されるものであり、また必要であれば、演算を行い
表示又は印刷する状態にあるデータを、例えば、検知す
べき種の濃度として提供するのに供されるものである。
この例において、導体26.40.及び/又は46の距
離は、高いSN比を得ることができるよう、極めて短く
されており、従って、高い感度のものとなる。また、注
意することは、第1のウェル18内の化学物質は、電子
回路素子48と完全に絶縁されているので、後者は完全
に保護されることとなる。
離は、高いSN比を得ることができるよう、極めて短く
されており、従って、高い感度のものとなる。また、注
意することは、第1のウェル18内の化学物質は、電子
回路素子48と完全に絶縁されているので、後者は完全
に保護されることとなる。
電子回路素子48を基板12の後面に有する代わりに、
電子回路素子48を、基板12の後面に突き合わせた別
個の半導体基板50(第6図参照)に配設することがで
きる。こうすることにより、電子回路素子48の封止と
保護とを行うことができる。
電子回路素子48を、基板12の後面に突き合わせた別
個の半導体基板50(第6図参照)に配設することがで
きる。こうすることにより、電子回路素子48の封止と
保護とを行うことができる。
第7図は、第6図の一部を拡大して示す図である。この
図は、導体(26,20,及び/又は46)と電子回路
素子48との間の必要な電気的接続を行うなめのバンプ
接続方法の使用を示している。バンプ接続位置52は、
電極(24,36,及び/又は42)と離間しているの
で、セル(29,31,33)の内容物が、バンプ接続
中に熱で損傷することがない。また、こうすることによ
り良好なバンプ接続を達成することができるので、完成
した接続部は、機械的強度の高いものとなる。基本的に
は、バンプ接続は、バンプ54.56を同時に押圧する
と共に、基板50を加熱することにより行う。バンプ5
4.56の厚さを銅で厚さ約10ミクロンのものとする
ことにより良好な結果を得ることができる。
図は、導体(26,20,及び/又は46)と電子回路
素子48との間の必要な電気的接続を行うなめのバンプ
接続方法の使用を示している。バンプ接続位置52は、
電極(24,36,及び/又は42)と離間しているの
で、セル(29,31,33)の内容物が、バンプ接続
中に熱で損傷することがない。また、こうすることによ
り良好なバンプ接続を達成することができるので、完成
した接続部は、機械的強度の高いものとなる。基本的に
は、バンプ接続は、バンプ54.56を同時に押圧する
と共に、基板50を加熱することにより行う。バンプ5
4.56の厚さを銅で厚さ約10ミクロンのものとする
ことにより良好な結果を得ることができる。
第7図は、第1の導体26.40,46を堆積したのに
引き続いて、例えば白金、銀等の電極物質の少量を堆積
することにより第1の電極24を設ける方法を示してい
る。この例では、第1の電極24が、第1のウェル18
の底部20の一部を形成する。更に、通路22.38又
は44への支持物質、例えばポリイミドのような重合体
を充填を示している。
引き続いて、例えば白金、銀等の電極物質の少量を堆積
することにより第1の電極24を設ける方法を示してい
る。この例では、第1の電極24が、第1のウェル18
の底部20の一部を形成する。更に、通路22.38又
は44への支持物質、例えばポリイミドのような重合体
を充填を示している。
この発明の一実施例、例えば第8図に示した実施例にあ
っては、基準電極36が」二連した性質を具える。これ
に対し、作用、即ち感知電極構造24は、感知電極ベー
ス60を被覆する(既述した)イオン選択膜58の性質
を有しており、ベース60は、感知電極ウェル18の底
部66から基板12の後面16に至る通路64内の感知
電極62に取り付けられている。分析媒体は、イオン選
択膜58と基準電極36との間で電解的な接触を行う9
この場合に、バリヤ30はイオン透過性であるか又は省
くことができる。注意することは、電解媒体39が、イ
オン選択膜58と同じ物質でないことである。
っては、基準電極36が」二連した性質を具える。これ
に対し、作用、即ち感知電極構造24は、感知電極ベー
ス60を被覆する(既述した)イオン選択膜58の性質
を有しており、ベース60は、感知電極ウェル18の底
部66から基板12の後面16に至る通路64内の感知
電極62に取り付けられている。分析媒体は、イオン選
択膜58と基準電極36との間で電解的な接触を行う9
この場合に、バリヤ30はイオン透過性であるか又は省
くことができる。注意することは、電解媒体39が、イ
オン選択膜58と同じ物質でないことである。
多数のイオン選択膜58のいずれも用いることができる
。このような物質は、例えば、エム、ニー。
。このような物質は、例えば、エム、ニー。
アーノルド及びアール、エル、ツルスキー(H,A、
Arnold and R,L、5olsky)著、分
析化学(Anal、 Chem、) 1986.5g、
84R−101R,エム、イー2メヨレフ及びワイ、
エムーフラテセリ(1,E、)feyeroff an
dY、H,Fratecelli)著、分析化学(An
al、 Chet) 19牝、 54.27R−44R
,エム、ニー、アーノルド及びエム、イー2メヨレ7(
H,A、Arnold and H,E、Heyer。
Arnold and R,L、5olsky)著、分
析化学(Anal、 Chem、) 1986.5g、
84R−101R,エム、イー2メヨレフ及びワイ、
エムーフラテセリ(1,E、)feyeroff an
dY、H,Fratecelli)著、分析化学(An
al、 Chet) 19牝、 54.27R−44R
,エム、ニー、アーノルド及びエム、イー2メヨレ7(
H,A、Arnold and H,E、Heyer。
rf)著、分析化学(Anal、 C11el11.)
1984.2OR−48R。
1984.2OR−48R。
そしてジエーーコリョタ(JKoryota)著、アナ
リティカキミ力アクタ(Analytica Chim
ica Acta)。
リティカキミ力アクタ(Analytica Chim
ica Acta)。
159、1984.1−46に開示されている。
この発明によれば、感知セルの配列に予備の基準電極3
6を設けることができることが考えられる。
6を設けることができることが考えられる。
このような配列を第9図に示す。第9図に示す特別な形
状においては、各基準セル31を幾つかの異なった感知
セル29により囲繞し、またそれら感知セルの基準セル
として供することができる。
状においては、各基準セル31を幾つかの異なった感知
セル29により囲繞し、またそれら感知セルの基準セル
として供することができる。
この発明によれば、どの基板12にあっても、−個以上
の感知セル29を、それぞれの分析する化学的種に対し
て使用することができると考えられる。
の感知セル29を、それぞれの分析する化学的種に対し
て使用することができると考えられる。
即ち、例えば、炭素の一酸化物を検知する二個又は五個
、若しくは+側、更には所望の数の感知セル29を設け
ることができる。このことは、炭素の一酸化物感知セル
29のいずれかが破損した場合にあっても、ケモメトリ
ックス、冗長度、そして信頼性による特別な選択性を賦
与するので、電極槽造10による操作を続けることがで
きることとなる。
、若しくは+側、更には所望の数の感知セル29を設け
ることができる。このことは、炭素の一酸化物感知セル
29のいずれかが破損した場合にあっても、ケモメトリ
ックス、冗長度、そして信頼性による特別な選択性を賦
与するので、電極槽造10による操作を続けることがで
きることとなる。
ケモメトリックスは、複数のセンサからのデータを数学
的に処理する方法であり、分析結果の選択度を改善する
ことができる(例えば、ステータ。
的に処理する方法であり、分析結果の選択度を改善する
ことができる(例えば、ステータ。
ジエー、アール、ユルス、ピー1シー、及びローズ、
ニス、 1ル(Steter、J、R,、JUR3,P
、C,、andRose、 S、L、、)著、分析化学
(Anal Chell+、) Vol、58、 pp
860−866 (1986) )。
ニス、 1ル(Steter、J、R,、JUR3,P
、C,、andRose、 S、L、、)著、分析化学
(Anal Chell+、) Vol、58、 pp
860−866 (1986) )。
第10図は、多数の感知セル29が設けられた本発明の
ある実施例を示しており、それらセルの幾つかは、それ
以外の別の構成要素、例えば、酸素、二酸化炭素、そし
てに+に対するものである。第10図の単一の基準セル
31を、圧力センサ同様に一個又はそれ以上設ける。種
々のセル29.31及び圧力センサ10を直線状に配置
することにより、電極構造10の配列72の横方向の長
さ(幅)が300ミクロンを越えないようにすることが
できる。種々のセル29.31及び圧力センサ10の配
列の長さは、その様なセル(に圧力センサ70を加えた
もの)の数により定まるものであり、セルの数に圧力セ
ンサ70の数に約150ミクロンを掛けた値以下に制限
することができる。圧力センサ70は、従来のピエゾ抵
抗型式の圧力センサとすることができ、例えば、197
9年12月のボーキ、ジエー、エム(Borky、 、
J、H3)著、 IEEE ’Irans、
On、 Elect、 ロeV、 Vol、
ED−26、No、 12に述べられている性質
を具えるものである。
ある実施例を示しており、それらセルの幾つかは、それ
以外の別の構成要素、例えば、酸素、二酸化炭素、そし
てに+に対するものである。第10図の単一の基準セル
31を、圧力センサ同様に一個又はそれ以上設ける。種
々のセル29.31及び圧力センサ10を直線状に配置
することにより、電極構造10の配列72の横方向の長
さ(幅)が300ミクロンを越えないようにすることが
できる。種々のセル29.31及び圧力センサ10の配
列の長さは、その様なセル(に圧力センサ70を加えた
もの)の数により定まるものであり、セルの数に圧力セ
ンサ70の数に約150ミクロンを掛けた値以下に制限
することができる。圧力センサ70は、従来のピエゾ抵
抗型式の圧力センサとすることができ、例えば、197
9年12月のボーキ、ジエー、エム(Borky、 、
J、H3)著、 IEEE ’Irans、
On、 Elect、 ロeV、 Vol、
ED−26、No、 12に述べられている性質
を具えるものである。
微小電気化学的センサよりなる多数の配列の使用は、異
なったガス及び有機蒸気の定量的な検知を許容して、−
段と感度を増大さぜ、冗長性を与え、信頼性を増し、そ
してケモメトリックスの使用を可能なものとする。また
、その様な配列内に、別の型式のセンサを設けることも
できる。例えば、センサの内部温度をモニターして、温
度に関係する既知のパラメータ変動を補償することがで
きる。
なったガス及び有機蒸気の定量的な検知を許容して、−
段と感度を増大さぜ、冗長性を与え、信頼性を増し、そ
してケモメトリックスの使用を可能なものとする。また
、その様な配列内に、別の型式のセンサを設けることも
できる。例えば、センサの内部温度をモニターして、温
度に関係する既知のパラメータ変動を補償することがで
きる。
さらに、微小湿度センサを組み込むこともできる。
各微小電気化学的センサは、異なる電気触媒被覆を具え
ることができる、成るガス又は蒸気に大して可能な限り
特有なものとなる。その結果、最適な微小センサの配列
を具えるセンサは、与えられたガス混合体及び/又は蒸
気に大して最大の選択性を示すこととなる。同一の形状
及び触媒を有する余分なセンサ素子があることにより、
同一の素子の信号を平均化するばかりでなく、異なる素
子の信号を訂正することができる。
ることができる、成るガス又は蒸気に大して可能な限り
特有なものとなる。その結果、最適な微小センサの配列
を具えるセンサは、与えられたガス混合体及び/又は蒸
気に大して最大の選択性を示すこととなる。同一の形状
及び触媒を有する余分なセンサ素子があることにより、
同一の素子の信号を平均化するばかりでなく、異なる素
子の信号を訂正することができる。
全ての存在する電気触媒被覆は、不完全な選択性を示す
が、支障がある選択の程度はそれぞれ異なっている。単
一の微小センサの代わって幾つかの微小センサよりなる
配列を用いると共に、各々を異なる電気触媒フィルムで
被覆すると、与えられたガス又は蒸気の濃度に対する全
ての微小検知手段の相対的な応答が異なる。これらの応
答のパターンは、例え電気触媒被覆が単一のガス又は蒸
気に対して個々に鋭敏比なくとも、(各微小センサが再
生しうる信号を示すならば)与えられたガス又は蒸気に
対して特定のものとなる。それゆえ、センサ配列は、単
一のセンサより一層多くの情報を生起することができ、
多くのガス及び有機蒸気を同定し定量することができる
。
が、支障がある選択の程度はそれぞれ異なっている。単
一の微小センサの代わって幾つかの微小センサよりなる
配列を用いると共に、各々を異なる電気触媒フィルムで
被覆すると、与えられたガス又は蒸気の濃度に対する全
ての微小検知手段の相対的な応答が異なる。これらの応
答のパターンは、例え電気触媒被覆が単一のガス又は蒸
気に対して個々に鋭敏比なくとも、(各微小センサが再
生しうる信号を示すならば)与えられたガス又は蒸気に
対して特定のものとなる。それゆえ、センサ配列は、単
一のセンサより一層多くの情報を生起することができ、
多くのガス及び有機蒸気を同定し定量することができる
。
ガス又は蒸気検知装置の微小センサ配列からの蒸気スペ
クトルデータを解明することは、新規な信号処理技術を
用いるマイクロコンピータにより可能となり、単一セン
サ素子の固有の限界に打ち勝つことができる。パターン
認識法を、得られた情報及び分類の為に各々のチャンネ
ルの容量を一義的に決定するのに用いることができる。
クトルデータを解明することは、新規な信号処理技術を
用いるマイクロコンピータにより可能となり、単一セン
サ素子の固有の限界に打ち勝つことができる。パターン
認識法を、得られた情報及び分類の為に各々のチャンネ
ルの容量を一義的に決定するのに用いることができる。
最近、電気化学的センサ配列からのデータについてその
様なパターン認識分析が、危険なガス及び蒸気を検知す
るのに成功裏に適用されたくステータ、ニル及びローズ
(stetter、 Jurs and Rose)
1986年)最も簡単な例では、電圧作動のn個の個別
のセンサを含む配列は、検知される不明の化学的種に対
するnチャンネルのデータを生起する。各化合物に対す
るnチャンネルのセンサの応答は、最大のチャンネルが
1(又は負であるならは−1)に等しくなるよう正規化
される。この正規化された応答の組は、パターンベクト
ルとして次のように現される: X、=(X 、X 、・・X、、−−X )(4
)112 J n ここでX、は化合物1に対するパターンベクトルであり
、X、は1からnまでのセンサの応答である9パターン
ベクトルは、濃度に無関係であり、既知の化合物のパタ
ーンベクトルのライブラリと比較することができる。最
も近いものが同定された化合物である。濃度は、同定さ
れたパターンベクトルの最も強いチャンネルを用いて計
算することができる。それゆえ、電極構造10は、不明
のガス又は蒸気を既知のガス及び蒸気の組みから同定す
ることができる場合がある。
様なパターン認識分析が、危険なガス及び蒸気を検知す
るのに成功裏に適用されたくステータ、ニル及びローズ
(stetter、 Jurs and Rose)
1986年)最も簡単な例では、電圧作動のn個の個別
のセンサを含む配列は、検知される不明の化学的種に対
するnチャンネルのデータを生起する。各化合物に対す
るnチャンネルのセンサの応答は、最大のチャンネルが
1(又は負であるならは−1)に等しくなるよう正規化
される。この正規化された応答の組は、パターンベクト
ルとして次のように現される: X、=(X 、X 、・・X、、−−X )(4
)112 J n ここでX、は化合物1に対するパターンベクトルであり
、X、は1からnまでのセンサの応答である9パターン
ベクトルは、濃度に無関係であり、既知の化合物のパタ
ーンベクトルのライブラリと比較することができる。最
も近いものが同定された化合物である。濃度は、同定さ
れたパターンベクトルの最も強いチャンネルを用いて計
算することができる。それゆえ、電極構造10は、不明
のガス又は蒸気を既知のガス及び蒸気の組みから同定す
ることができる場合がある。
第11図は、第10図に示した直線配列の実施例の一部
を示す図であり、圧力センサー0の構造を示している。
を示す図であり、圧力センサー0の構造を示している。
ウェル18の底部には、身近な物質、例えばガラス、プ
ラスチック、又はケイ素のような半導体で造られ、支持
部75の間の空隙73内に屈曲することができる可撓膜
11を具える。素子Pは、圧力素子である。ピエゾ抵抗
体を薄いケイ素膜の後面に拡散されることができ、全て
の電子部分を、例えば、マロリ(Hallory)接合
ガラス片(支持部75)により保護する。支持部75内
の空隙73は、電子部分のための空間を賦与し、また排
気して絶対圧力センサを造ることができる。
ラスチック、又はケイ素のような半導体で造られ、支持
部75の間の空隙73内に屈曲することができる可撓膜
11を具える。素子Pは、圧力素子である。ピエゾ抵抗
体を薄いケイ素膜の後面に拡散されることができ、全て
の電子部分を、例えば、マロリ(Hallory)接合
ガラス片(支持部75)により保護する。支持部75内
の空隙73は、電子部分のための空間を賦与し、また排
気して絶対圧力センサを造ることができる。
第12図は、感知電極24と対向電極42との各々が第
1のウェル内にある本発明の一実施例を示している。基
準電極36は、第1のウェル18にピンホール76を介
して連通し、このことにより基準電極セル31の化学物
質は、第1のウェル18内の電解媒体28と分離される
が、電気的には接続する。基準電極36は、基板12の
後面16に隣接し、単に基準電極36の延長部分、又は
別の糎質よりなる封入体78により閉止される。基準電
極を最初に充填するには、基板12の後面16から行う
。
1のウェル内にある本発明の一実施例を示している。基
準電極36は、第1のウェル18にピンホール76を介
して連通し、このことにより基準電極セル31の化学物
質は、第1のウェル18内の電解媒体28と分離される
が、電気的には接続する。基準電極36は、基板12の
後面16に隣接し、単に基準電極36の延長部分、又は
別の糎質よりなる封入体78により閉止される。基準電
極を最初に充填するには、基板12の後面16から行う
。
第13図は、感知及び対向電極24.42が単一のウェ
ル79内にあるのに対し、基準電極36が別のウェル8
1内にある本発明実施例を示している9適当な塩橋83
又はそれと等価なものは、電解媒体28及び39の間の
イオン伝導を与える。これは、例えばクラークの酸素セ
ンサのような、伝導度及び電圧測定の為の典型的な構造
である。
ル79内にあるのに対し、基準電極36が別のウェル8
1内にある本発明実施例を示している9適当な塩橋83
又はそれと等価なものは、電解媒体28及び39の間の
イオン伝導を与える。これは、例えばクラークの酸素セ
ンサのような、伝導度及び電圧測定の為の典型的な構造
である。
ある場合には、電子回路48を別個の部材90(第14
図参照)に設けることが好ましく、−又は複数の種の濃
度及び存在を決定する間、その部材は適当な接点92を
介して適当な導体26.40及び/又は46(例えば第
2図参照)と共に、当座の電気接点を形成する。この様
にして、単一の部材90が、多数の電極構造10の為の
必要な電子回路48を具えることができる。また、電極
10が半永久的に設置しなげればならない環境で使用さ
れ、その有効か命が短い場合には、電極10を取り替え
ることだけがが必要となり、電子回路48を取り替える
必要はない(なぜなら、電子回路は実際に測定する間だ
け環境に晒されるからである)。
図参照)に設けることが好ましく、−又は複数の種の濃
度及び存在を決定する間、その部材は適当な接点92を
介して適当な導体26.40及び/又は46(例えば第
2図参照)と共に、当座の電気接点を形成する。この様
にして、単一の部材90が、多数の電極構造10の為の
必要な電子回路48を具えることができる。また、電極
10が半永久的に設置しなげればならない環境で使用さ
れ、その有効か命が短い場合には、電極10を取り替え
ることだけがが必要となり、電子回路48を取り替える
必要はない(なぜなら、電子回路は実際に測定する間だ
け環境に晒されるからである)。
第1のウェル18は、都合の良い深さとすることができ
る。この第1のウェル18を、基板12の後面16の方
向に十分に延在させ、第1の電極24が第1の電極18
内に十分に深く位置するようにして、第1の電極24に
おける選択された部分の化学的反応が、実質的にネルス
チアン(Nerst 1an)の傾斜を賦与するように
することが好ましい。通常、このことは、第1のウェル
18が十分に深いことを意味しており、その結果(存在
すれば)電解媒体28、又は(存在すれば)イオン選択
電極の膜部分は、第1のウェル内に完全に残っている限
り、第1の電極24の上方に少なくとも約40ミクロン
だけ離れて延在することを意味している9 一般に、イオン選択膜を具えるセルに対しては、第1の
ウェル18が、基板12の後面16方向に約40乃至2
00ミクロン突出することが好ましい。第1のウェル1
8内に一個以上の電極がある場合には、基板の後面16
がウェルの底部を十分に閉止し、それぞれの導体間で分
路が起こらないようにする。例えば、後面16を、第1
のウェル底部20から約10乃至100ミクロンはなす
ことができる。このことにより、極めて短な接触が担保
され、また第1の通路22、そして必要であれば、第2
の通路38及び/又は第3の通路44を形成するのに、
安価な異方性エツチング法(図示したようにテーパのつ
いた通路が形成される)を用いることができる。その場
合に、エツチングが異方性であるので、後面16におけ
る通路22.38そして44は、もしそうでなければ、
大変大きくなり、導体26.40及び/又は46が後面
16の前又はそこで合致することとなる。
る。この第1のウェル18を、基板12の後面16の方
向に十分に延在させ、第1の電極24が第1の電極18
内に十分に深く位置するようにして、第1の電極24に
おける選択された部分の化学的反応が、実質的にネルス
チアン(Nerst 1an)の傾斜を賦与するように
することが好ましい。通常、このことは、第1のウェル
18が十分に深いことを意味しており、その結果(存在
すれば)電解媒体28、又は(存在すれば)イオン選択
電極の膜部分は、第1のウェル内に完全に残っている限
り、第1の電極24の上方に少なくとも約40ミクロン
だけ離れて延在することを意味している9 一般に、イオン選択膜を具えるセルに対しては、第1の
ウェル18が、基板12の後面16方向に約40乃至2
00ミクロン突出することが好ましい。第1のウェル1
8内に一個以上の電極がある場合には、基板の後面16
がウェルの底部を十分に閉止し、それぞれの導体間で分
路が起こらないようにする。例えば、後面16を、第1
のウェル底部20から約10乃至100ミクロンはなす
ことができる。このことにより、極めて短な接触が担保
され、また第1の通路22、そして必要であれば、第2
の通路38及び/又は第3の通路44を形成するのに、
安価な異方性エツチング法(図示したようにテーパのつ
いた通路が形成される)を用いることができる。その場
合に、エツチングが異方性であるので、後面16におけ
る通路22.38そして44は、もしそうでなければ、
大変大きくなり、導体26.40及び/又は46が後面
16の前又はそこで合致することとなる。
通路22.38及び/又は44を形成するのにレーザ穿
孔が用いられるならば、この問題はないことになるが、
レーザ穿孔は単位時間当たり数多くのセルを製造するこ
とがなく、これは通路の穿孔の度にレーザを再位置決め
しなければならないからである。しかしながら、異方性
エツチングを用いる場合には特に、感知ウェル18が後
面16方向に約60乃至約125ミクロン突出すること
が好ましく、また後面16が感知ウェルの底部20から
約10乃至40ミクロンはなれることが好ましい。特に
好ましい構造では、感知ウェル18がほぼ100ミクロ
ンの深さにあり、後面16が感知ウェルの底部20から
約25ミクロンはなれている。このことは、基準ウェル
及び対向ウェルがある場合にあっても、それらの寸法に
関して同様に好ましい。
孔が用いられるならば、この問題はないことになるが、
レーザ穿孔は単位時間当たり数多くのセルを製造するこ
とがなく、これは通路の穿孔の度にレーザを再位置決め
しなければならないからである。しかしながら、異方性
エツチングを用いる場合には特に、感知ウェル18が後
面16方向に約60乃至約125ミクロン突出すること
が好ましく、また後面16が感知ウェルの底部20から
約10乃至40ミクロンはなれることが好ましい。特に
好ましい構造では、感知ウェル18がほぼ100ミクロ
ンの深さにあり、後面16が感知ウェルの底部20から
約25ミクロンはなれている。このことは、基準ウェル
及び対向ウェルがある場合にあっても、それらの寸法に
関して同様に好ましい。
電圧測定素子及びCO2に対し、感知電極24を覆う電
解媒体28は、薄い方が好ましく、例えば20乃至59
ミクロンの間にある。それゆえ、第1のウェル18と他
のウェルも同様に、適当な電解媒体28、− 区 7− 39.41で部分的に充填される。
解媒体28は、薄い方が好ましく、例えば20乃至59
ミクロンの間にある。それゆえ、第1のウェル18と他
のウェルも同様に、適当な電解媒体28、− 区 7− 39.41で部分的に充填される。
この発明は、本発明による構造及びある基本構造におけ
る試験を示す以下の例を参照することにより、より良く
理解されるものである。
る試験を示す以下の例を参照することにより、より良く
理解されるものである。
具体例]−
マクロ電気化学
pllが6.0−8.0の範囲の生理食塩水における
IrO2電極のpH応答を調べな。厚さ1μmのIrO
2電極よりなる計測セルをAg/CI電極から50μm
離す9電極は二酸化ケイ素で被覆されたケイ素基板の表
面に設けた。100オングストロームの接着層を 1r
O2に対するTiに、そして50オングストロームのも
のをAgに対する各Ti及びPdに用いた。AOCIは
、酊を1%のFeel溶液に二分間接触させて製造した
。
IrO2電極のpH応答を調べな。厚さ1μmのIrO
2電極よりなる計測セルをAg/CI電極から50μm
離す9電極は二酸化ケイ素で被覆されたケイ素基板の表
面に設けた。100オングストロームの接着層を 1r
O2に対するTiに、そして50オングストロームのも
のをAgに対する各Ti及びPdに用いた。AOCIは
、酊を1%のFeel溶液に二分間接触させて製造した
。
Ag/AgCl電極のポテンシャルは、最初に飽和カロ
メル電極に対して検査され、その値は文献の値に一致し
た。次いで、このAg/A<IcI電極を基準にしてI
rO2電極の応答を調べた。
メル電極に対して検査され、その値は文献の値に一致し
た。次いで、このAg/A<IcI電極を基準にしてI
rO2電極の応答を調べた。
二個の電極はネルステイアン(Nerst 1an)に
近い応答を示したが、第3及び第4の電極は過−及び逆
ネルスティアン応答をそれぞれ示した9ML適でないス
パッタリング条件のため、逆ネルスティアン応答が生し
たものであり、従ってスパッタリング条件を最適にする
ことにより良好な挙動(ネルスティアン)の電極を1o
ox近く造ることができるものと思われる。
近い応答を示したが、第3及び第4の電極は過−及び逆
ネルスティアン応答をそれぞれ示した9ML適でないス
パッタリング条件のため、逆ネルスティアン応答が生し
たものであり、従ってスパッタリング条件を最適にする
ことにより良好な挙動(ネルスティアン)の電極を1o
ox近く造ることができるものと思われる。
具体例2
ネルスティアン近い応答を示す具体例1のIrO2電極
を、C02電極を造る際に用いた。95%エタノールに
対するポリメタクリル酸ヒトロキシエチHNaHCO3
+0.114 NaClに平衡する。次いで、ゲル及び
電解質を乾燥させる。4.75%のボリシロキサンーボ
リカーボネイI・溶液をゲルの表面に塗布する。再度、
溶剤を完全に蒸発させる。完成した電極のCOに対する
応答を調べた。異なったCO2濃度は、0.1HNaH
CO3溶液の既知の容量を0゜188CIに加えること
により生起した。全てのNaHCO3がCO2に変化す
ると仮定する。電極のポテンシャル変化は次のようにな
った: CO2濃度 ポテンシャルv、 5CF10F
−5−10E−4838mV 10EJ l0E−3861mV 10F−3−10F−2859mv これらの変化は、+/−2で再現することができた。
を、C02電極を造る際に用いた。95%エタノールに
対するポリメタクリル酸ヒトロキシエチHNaHCO3
+0.114 NaClに平衡する。次いで、ゲル及び
電解質を乾燥させる。4.75%のボリシロキサンーボ
リカーボネイI・溶液をゲルの表面に塗布する。再度、
溶剤を完全に蒸発させる。完成した電極のCOに対する
応答を調べた。異なったCO2濃度は、0.1HNaH
CO3溶液の既知の容量を0゜188CIに加えること
により生起した。全てのNaHCO3がCO2に変化す
ると仮定する。電極のポテンシャル変化は次のようにな
った: CO2濃度 ポテンシャルv、 5CF10F
−5−10E−4838mV 10EJ l0E−3861mV 10F−3−10F−2859mv これらの変化は、+/−2で再現することができた。
電極の応答時間は、およそ60秒であった。応答時間及
び検出限界は、重合体膜の厚さとヒドロゲルの組成及び
厚さを調整することにより改良することができる。プレ
ーナ構造におけるそれらを最適化する試みは行わなかっ
た。
び検出限界は、重合体膜の厚さとヒドロゲルの組成及び
厚さを調整することにより改良することができる。プレ
ーナ構造におけるそれらを最適化する試みは行わなかっ
た。
具体例3
プレーナ02センサを用いた操作により、チタニウム及
びパラジウムの接着層を有する銀が、5i02基板に対
し、白金よりも優れた接着を賦与し、同時に、白金と同
様な電流平坦性を与える。大きな電流平坦性を与える場
合に、二つの電極装置が、三個の電極装置と同様な満足
すべき結果を示した。
びパラジウムの接着層を有する銀が、5i02基板に対
し、白金よりも優れた接着を賦与し、同時に、白金と同
様な電流平坦性を与える。大きな電流平坦性を与える場
合に、二つの電極装置が、三個の電極装置と同様な満足
すべき結果を示した。
二個の電極装置の対向電極は、むきだしのA(]または
AU/CIのいずれかである。しかしながら、塩化−6
0= 銀を使用することにより長期に亘り電流平坦性が得られ
ることが分かった。また、この場合に、ドリフトはかな
り小さかった9 電極の応答は、リン酸塩及び炭酸塩の緩衝剤で検査した
。リン酸塩緩衝剤から炭酸塩緩衝剤へのシフトにより電
流の減少があるが、長期の平坦性を得ることができた。
AU/CIのいずれかである。しかしながら、塩化−6
0= 銀を使用することにより長期に亘り電流平坦性が得られ
ることが分かった。また、この場合に、ドリフトはかな
り小さかった9 電極の応答は、リン酸塩及び炭酸塩の緩衝剤で検査した
。リン酸塩緩衝剤から炭酸塩緩衝剤へのシフトにより電
流の減少があるが、長期の平坦性を得ることができた。
他の研究者によれば、炭酸塩緩衝剤を用いることにより
、C02による干渉が減少することが確認されている。
、C02による干渉が減少することが確認されている。
検査の為、第1のヒドロゲルとしてポリ(HE)IA)
が選択されたが、これは他の研究者により満足すべきも
のであることが確認されたからである。しかしながら、
ポリ(HEHA)がある電極では、O,Iv付近に新し
い電流のピークがあることがポルタモグラムにより判明
した。このピークは、しドロゲルの中に含まれるある不
純物(残存架橋剤、レドックスイニシエータ等)に起因
するものと思われる。
が選択されたが、これは他の研究者により満足すべきも
のであることが確認されたからである。しかしながら、
ポリ(HEHA)がある電極では、O,Iv付近に新し
い電流のピークがあることがポルタモグラムにより判明
した。このピークは、しドロゲルの中に含まれるある不
純物(残存架橋剤、レドックスイニシエータ等)に起因
するものと思われる。
この場合には、しドロゲルの精製が必要となる。
全コンポーネントを組み立てた後に、構造全体をシリコ
ン/ポリカーボネート膜の流し込みによリセンサを完全
なものとする。この行程の後では、電極が低下したこと
が分かる。
ン/ポリカーボネート膜の流し込みによリセンサを完全
なものとする。この行程の後では、電極が低下したこと
が分かる。
具体例4
この発明のφ実際的な例は、血液中の1111、C02
,02に対するセンサである。
,02に対するセンサである。
三個の電解セル11は、20ゲージのカテーテルに嵌め
込まれた頂部ケイ素部分内に形成される。適合底部ケイ
素部分は、必要な電子回路を具える。
込まれた頂部ケイ素部分内に形成される。適合底部ケイ
素部分は、必要な電子回路を具える。
底部部分は、高さ10ミクqンの銅バンプを具え、この
バンプは、基板12の後面16にある銀に対し満足すべ
きバンプ接合を行うことが分かっている。
バンプは、基板12の後面16にある銀に対し満足すべ
きバンプ接合を行うことが分かっている。
pHを感知することを意図した感知ウェル29は、第4
図に示したような一般的な外観に加え、次のような特性
を有している。pH感知ウェル29内の一つの電極は二
酸化イリジウムよりなり、一つの電極はAg/AgC1
よりなる。IrO2電極は、基板12の後面からケイ素
マスクを介して反応スパッタリングにより造る。助長層
チタニウムも、イリジウム層と同様にスパッタリングし
、より良く機能するイリジウム/二酸化イリジウム電極
とする。最後に、A(lを用いてそれら三層をバックア
ップする。堆積させる程度を以下に述べる。
図に示したような一般的な外観に加え、次のような特性
を有している。pH感知ウェル29内の一つの電極は二
酸化イリジウムよりなり、一つの電極はAg/AgC1
よりなる。IrO2電極は、基板12の後面からケイ素
マスクを介して反応スパッタリングにより造る。助長層
チタニウムも、イリジウム層と同様にスパッタリングし
、より良く機能するイリジウム/二酸化イリジウム電極
とする。最後に、A(lを用いてそれら三層をバックア
ップする。堆積させる程度を以下に述べる。
1、チタニウム−50〜100オングストロ一ム助長層
2二酸化イリジウム−2000〜5000オングストロ
ーム 3イリジウム−2000〜5000オングストローム4
銀 −2000オングストロームまた銀は、バッ
クアツプ層およびバンプ54,56(第7図)に対する
接触物質としてそこに在り、最後に成長する。二酸化イ
リジウムを電解媒体に接触させるには、僅かなチタニウ
ムエツチングが必要であり、そのことにより二酸化イリ
ジウムが遊離する。エツチングの後に二酸化ケイ素壁に
残存するチタニウムが、二酸化イリジウムを通路22の
側壁に付着させる一助となる。イリジウム/二酸化イリ
ジウム電極は、微小スケールでの理論的予測ポテンシャ
ルに極めて良く一致する。Ag/AgC1電極は、以下
の行程により造られた:1チタニウム−50〜100オ
ングストロームの接着助長 2パラジウム−50〜100オングストロームの接着助
長と腐蝕防止 3 銀 −2000〜3000オングストローム二
酸化イリジウムの場合に、銀を電解媒体に接触させるの
に、僅かなエツチングを適用する。AO/A(IC+は
、微視的なAg/AqCI基準電極としての挙動を示す
。塩素化は、1%のFeCl、溶液により行われた。酸
素電解質感知セル29は、二つの方法の中の一つで造ら
れる: A。
ーム 3イリジウム−2000〜5000オングストローム4
銀 −2000オングストロームまた銀は、バッ
クアツプ層およびバンプ54,56(第7図)に対する
接触物質としてそこに在り、最後に成長する。二酸化イ
リジウムを電解媒体に接触させるには、僅かなチタニウ
ムエツチングが必要であり、そのことにより二酸化イリ
ジウムが遊離する。エツチングの後に二酸化ケイ素壁に
残存するチタニウムが、二酸化イリジウムを通路22の
側壁に付着させる一助となる。イリジウム/二酸化イリ
ジウム電極は、微小スケールでの理論的予測ポテンシャ
ルに極めて良く一致する。Ag/AgC1電極は、以下
の行程により造られた:1チタニウム−50〜100オ
ングストロームの接着助長 2パラジウム−50〜100オングストロームの接着助
長と腐蝕防止 3 銀 −2000〜3000オングストローム二
酸化イリジウムの場合に、銀を電解媒体に接触させるの
に、僅かなエツチングを適用する。AO/A(IC+は
、微視的なAg/AqCI基準電極としての挙動を示す
。塩素化は、1%のFeCl、溶液により行われた。酸
素電解質感知セル29は、二つの方法の中の一つで造ら
れる: A。
1 銀陰極
2、 A(1/A(IC1基準電極
物質の製造は、上述した通りである。
B。
1、 白金陰極
2、 Ag/AQCI基準電極
3 白金対向電極
Aの場合には、陰極領域は、陽極領域の約115〜1/
10でなければならない。酸素センサ29の場合には、
電解媒体として扱われる最良の緩衝液は炭酸塩桜街剤で
ある。
10でなければならない。酸素センサ29の場合には、
電解媒体として扱われる最良の緩衝液は炭酸塩桜街剤で
ある。
C02及び02要素として選択された良好なバリヤ30
としての物質は、ポリカーボネートとゴムとのブロック
ポリマーである。、:の組成物(即ち、ゼネラル・工I
/クトリック社のHE)l−213)は、熱溶着するこ
とができ、また熱収縮する。容易に流延することかでき
る。この膜を流し込むのに用いられる溶剤はジクロロメ
タンである。
としての物質は、ポリカーボネートとゴムとのブロック
ポリマーである。、:の組成物(即ち、ゼネラル・工I
/クトリック社のHE)l−213)は、熱溶着するこ
とができ、また熱収縮する。容易に流延することかでき
る。この膜を流し込むのに用いられる溶剤はジクロロメ
タンである。
必要でないB(例えば、この場合には小さなpHセル)
を展開するには、その膜を局所的にレーザで切断するか
、局所的に溶解することができる。
を展開するには、その膜を局所的にレーザで切断するか
、局所的に溶解することができる。
この場合に、酸素セルに関連して述べたように、同し膜
で被覆された電解媒体、taFR剤を有するでんを除き
、CO2センサは、pHセル29と同一の電極を具えて
いる。
で被覆された電解媒体、taFR剤を有するでんを除き
、CO2センサは、pHセル29と同一の電極を具えて
いる。
(工業上の利用可能性)
この発明は、基板12に設けられる微小電気化学的電極
構造10、及び電極構造の配列を提供するものである。
構造10、及び電極構造の配列を提供するものである。
基板12上のこの様な電極構造10及び電極構造10よ
りなる配列は、低濃度の気体、イオン、そして非イオン
種を検知するのに有用である。
りなる配列は、低濃度の気体、イオン、そして非イオン
種を検知するのに有用である。
本発明を具体的な実施例に基づいて説明してきたが、他
の変形も可能であり、この7財出願の木質は、この発明
の範囲内でのいかなる変形、使用、更にはその適用をも
包含するものであり、それらは、この発明に関連する当
業者にとって既知、または周知であり上述した必須の特
色事項、そして、この発明の範囲、すなわち特許請求の
範囲内で考え得るここに開示した内容からの変更を含む
ものである。
の変形も可能であり、この7財出願の木質は、この発明
の範囲内でのいかなる変形、使用、更にはその適用をも
包含するものであり、それらは、この発明に関連する当
業者にとって既知、または周知であり上述した必須の特
色事項、そして、この発明の範囲、すなわち特許請求の
範囲内で考え得るここに開示した内容からの変更を含む
ものである。
第1図は、本発明実施例に基づく微小電気化学的センサ
の実施例の断面図、 第2図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第3図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第4図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第5図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第6図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第7図は、第6図の実施例を詳細に示す図、第8図は、
同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第9図は、本発明の実施例である微小電気化学的センサ
よりなる配列を示す平面図、 第10図は、本発明の他の実施例である微小電気化学的
センサよりなる配列を示す平面図、第11図は、第10
図の一部を断面にして示すと共に、圧力センサを具える
センサ素子の配列と組み合わせた図、 第12図は、第1図と同様に、本発明の他の実施例を示
す図、 第13図は、第1図と同様に、本発明の別の実施例を示
す図、そして 第14図は、本発明の他の実施例における有用な部材を
含む個別の電子回路を示す断面図である。 11−・・電解セル 12−・・基板13−・・
二酸化ケイ素 14・・・前面1G−・・後面
18−・・第1−のウェル20−・・第2のウェ
ル 22.44.64−通路24・・・第1の電極
26.40.46−1導体28−・・電解媒体
30−・・バリヤ32−・・外向き表面 34
・・・内向き表面35、37.83−・・塩橋 4
2・・・対向電極48−・・電子回路素子 52・・
・バンプ接続位置54.56・・・バンプ 60・
・・感知電極ベース62−・・感知電極 72−
・・配列(アレイ)73−・・空隙 75・
・・支持部78−・・封入体
の実施例の断面図、 第2図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第3図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第4図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第5図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第6図は、同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第7図は、第6図の実施例を詳細に示す図、第8図は、
同様に、本発明の他の実施例を示す断面図、 第9図は、本発明の実施例である微小電気化学的センサ
よりなる配列を示す平面図、 第10図は、本発明の他の実施例である微小電気化学的
センサよりなる配列を示す平面図、第11図は、第10
図の一部を断面にして示すと共に、圧力センサを具える
センサ素子の配列と組み合わせた図、 第12図は、第1図と同様に、本発明の他の実施例を示
す図、 第13図は、第1図と同様に、本発明の別の実施例を示
す図、そして 第14図は、本発明の他の実施例における有用な部材を
含む個別の電子回路を示す断面図である。 11−・・電解セル 12−・・基板13−・・
二酸化ケイ素 14・・・前面1G−・・後面
18−・・第1−のウェル20−・・第2のウェ
ル 22.44.64−通路24・・・第1の電極
26.40.46−1導体28−・・電解媒体
30−・・バリヤ32−・・外向き表面 34
・・・内向き表面35、37.83−・・塩橋 4
2・・・対向電極48−・・電子回路素子 52・・
・バンプ接続位置54.56・・・バンプ 60・
・・感知電極ベース62−・・感知電極 72−
・・配列(アレイ)73−・・空隙 75・
・・支持部78−・・封入体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ほぼ互いに対向して離間する前面及び後面を有する
モノリシックな基板であって、前記前面から前記後面に
向けてその基板内に延在する第1のウェルを有し、第1
のウェルは第1のウェル底部に終端し、更に、前記後面
から前記基板内に延在し前記第1のウェル底部に達する
第1の通路を有する基板と; 前記基板の前記前面と前記後面との間に全体的に配設さ
れた第1の電極と; 前記第1の通路内に設けられ、前記第1の電極を隣接す
る後面に電気的に接続する第1の導体とを具えてなるこ
とを特徴とする電気化学的電極構造。 2、請求項1記載の電極構造において、第1の通路内に
電解媒体を有し; 外向表面と内向表面とを有し、第1のウェルを前記内向
表面により前記電解媒体に流動接触させて被覆するバリ
ヤとを具え、前記バリヤは、前記外向表面により選択さ
れた種との接触に対応し、選択された成分を電解媒体内
に入れ、前記電解媒体に対し少なくとも不透過である電
気化学的電極構造。 3、請求項2記載の電極構造において、前記第1のウェ
ルを前記後面に関して十分に延在させ、前記第1の電極
を前記第1のウェル内に十分深く配置して、前記第1の
電極での前記成分の電気化学的反応が実質的にネルンス
テン勾配を賦与する電気化学的電極構造。 4、請求項2記載の電極構造において、前記電解媒体が
、固形伝導重合体を具える電気化学的電極構造。 5、請求項2記載の電極構造において、前記バリヤが、
ガスを透過し液体には不透過な膜である電気化学的電極
構造。 6、請求項5記載の電極構造を複数個具える電極構造に
おいて、前記複数の電極構造の中の複数個が、前記選択
された種の中の只一つに対して感度を有する電気化学的
電極構造。 7、請求項2記載の電極構造において、前記第1のウェ
ルが感知ウェルであり、前記第1のウェル底部が感知ウ
ェル底部であり、前記第1の通路が感知通路であり、前
記第1電極が感知電極である電気化学的電極構造。 8、請求項3記載の電極構造において、前記基板は、前
記基板内を前記第1の表面から前記後面方向に延在する
基準ウェルであつて基準ウェル底部に終端するウェルと
、前記後面から前記基準ウェル底部に延在する基準通路
とを有し;前記基準ウェル内の基準電極と; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記基準通路内に配設された基準導体とを具える
電気化学的電極構造。 9、請求項8記載の電極構造において、前記基板は、前
記基板内を前記表面から前記後面方向に延在する対向ウ
ェルであって対向ウェル底部に終端するウェルと、前記
後面から前記対向ウェル底部に延在する代行通路とを具
え、 前記対向電極は前期対向ウェル内に配置され、更に、前
記対向電極を隣接する前記後面に電気的に接続する、前
記対向通路内に配設された対向導体を具える電気化学的
電極構造。 10、請求項9記載の電極構造において、前記バリヤが
、更に前記基準ウェル及び前記対向ウェルを被覆する電
気化学的電極構造。 11、請求項7記載の電極構造において、前記電解媒体
と電気的に接続され、前記電解媒体を介して以外は前記
感知電極とは電気的に絶縁された基準電極を具える電気
化学的電極構造。 12、請求項11記載の電極構造において、前記後面に
隣接して前記基板内に配設され、前記感知電極及び前記
基準電極からの信号を処理する電子回路を具える電気化
学的電極構造。 13、請求項11記載の電極構造において、前記基板は
、前記後面から前記センサウェル底部に延在する基準通
路を有し; 前記基準電極を、前記基板の前記前面及び前記後面との
間に全体的に配設し; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記基準通路内に配設された第2の導体を具える
電気化学的電極構造。 14、前記基板上に配設された複数の前記電極構造であ
って、前記複数の電極構造は、請求項13に記載された
複数の感知電極及び複数の基準電極を具える電気化学的
電極構造。 15、請求項第13記載の電極構造において、前記感知
電極及び前記基準電極からの信号を処理する電子回路と
、前記第1及び前記第2の導体を前記電子回路に接続す
る手段とを具える別個の部材とを組み合わせた電気化学
的電極構造。 16、請求項第11記載の電極構造において、前記電解
媒体と電気的に接続し、前記感知電極及び前記基準電極
とは前記電解媒体を介して以外は電気的に絶縁された対
向電極を更に具える電気化学的電極構造。 17、請求項第16記載の電極構造において、前記基板
は、前記後面から前記センサウェル底部に延在する基準
通路を有し; 前記基準電極を、前記基板の前記前面及び前前記後面と
の間に全体的に配設し; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記基準通路内に配設された第2の導体を具える
電気化学的電極構造。 18、請求項第17記載の電極構造において、前記基板
は、前記後面から前記センサウェル底部に延在する対向
通路を有し; 前記対向電極を、前記基板の前記前面及び前前記後面と
の間に全体的に配設し; 更に、前記対向電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記対向通路内に配設された第3の導体を具える
電気化学的電極構造。 19、前記基板上に複数個の前記電極構造を配設した電
極構造であって、その電極構造は、請求項18に記載さ
れた複数の感知電極及び複数の対向電極を具える電気化
学的電極構造。 20、請求項18記載の電極構造において、前記後面に
隣接して前記基板内に配設され、前記感知電極及び前記
対向電極からの信号を処理する電子回路を具える電気化
学的電極構造。 21、請求項1記載の電極構造において、前記後面に隣
接して前記基板内に配設され、前記第1の電極からの信
号を処理する電子回路を具える電気化学的電極構造。 22、前記基板上に複数個の電極構造を配設した電極構
造であって、各前記、電極構造が請求項第1記載の電気
化学的電極構造である電極構造。 23、請求項22記載の複数個の電気化学的電極構造を
配設した電極構造において、前記複数個の電極構造の中
の複数個が、前記選択された種の中の只一つに対して感
度を有する電気化学的電極構造。 24、請求項22記載の複数個の電極構造を配設した電
極構造において、前記構造を隣接関係に配置すると共に
、直線に沿って位置させた電気化学的電極構造。 25、請求項24記載の複数個の電極構造を配設した電
極構造において、前記構造の各々は、たった約300ミ
クロンの幅を有し、それら複数個は、たった約150ミ
クロンに前記構造の数を掛けた長さを有する電気化学的
電極構造。 26、請求項24記載の複数個の電極構造を配設した電
極構造において、前記構造と前記直線をなして配設され
た一個又は複数個の圧力センサを具える電気化学的電極
構造。 27、請求項26記載の複数個の電極構造を配設した電
極構造において、前記構造及び前記一個又は複数個の圧
力センサは、各々たった約300ミクロンの幅を有し、
前記複数個の構造に前記一個又は複数個の圧力センサを
加えたものは、たった約150ミクロンに前記構造の数
に前記圧力センサの数加えた数を掛けた長さを有する電
気化学的電極構造。 28、請求項1記載の電極構造において、前記第1のウ
ェルは、約40乃至約200ミクロン前記後面方向に延
在し、前記後面は約10乃至約100ミクロン前記第1
のウェル底部から離れる電気化学的電極構造。 29、請求項28記載の電極構造において、前記第1の
ウェルは、約60乃至約125ミクロン前記後面方向に
延在し、前記後面は約10乃至約40ミクロン前記第1
のウェル底部から離間する電気化学的電極構造。 30、請求項1記載の電極構造において、前記基板が半
導体である電気化学的電極構造。 31、請求項30記載の電極構造において、前記基板を
ケイ素、炭化ケイ素、又はガリウムヒ素とした電気化学
的電極構造。 32、請求項30記載の電極構造において、前記センサ
ウェルは、異方性エッチングにて形成し、前記前面と鈍
角をなす側壁を有する電気化学的電極構造。 33、請求項1記載の電極構造において、前記第1のウ
ェルは、電極ベースと、それに固着された導電性イオン
選択膜とを具え、協同する電気活性種をその内部に有す
る電気化学的電極構造。 34、請求項33記載の電極構造において、前記第1の
ウェルは、前記後面方向に十分に延在し、前記第1の電
極は、前記第1のウェル内に十分に深く配置され、前記
第1の電極に於ける前記成分の電気化学的反応が、ほぼ
ネルスティアンの勾配を賦与する電気化学的電極構造。 35、請求項33記載の電極構造において、更に、前記
後面に隣接して前記基板内に配設され、前記第1の電極
からの信号を処理する電子回路を有する電気化学的電極
構造。 36、請求項33記載の電極構造において、前記基板を
ケイ素、炭化ケイ素、又はガリウムヒ素とした電気化学
的電極構造。 37、前記基板上に配設された複数の電極構造であって
、前記電極構造を請求項33記載のものとした電気化学
的電極構造。 38、請求項33記載の電極構造において、前記基板が
半導体である電気化学的電極構造。 39、請求項33記載の電極構造において、前記第1の
ウェルは、約40乃至約200ミクロン前記後面方向に
延在し、前記後面は約10乃至約100ミクロン前記第
1のウェル底部から離れる電気化学的電極構造。 40、請求項33記載の電極構造において、前記第1の
ウェルは、約60乃至約125ミクロン前記後面方向に
延在し、前記後面は約10乃至約40ミクロン前記第1
のウェル底部から離間する電気化学的電極構造。 41、請求項33記載の電極構造において、前記第1の
ウェルが感知ウェルであり、前記第1のウェル底部が感
知ウェル底部であり、前記第1の通路が感知通路であり
、前記第1の電極が感知電極であり、前記第1の導体が
感知導体である電気化学的電極構造。 42、請求項41記載の電極構造において、前記基板は
、前記基板内を前記第1の表面から前記後面方向に延在
する基準ウェルであって基準ウェル底部に終端するウェ
ルと、前記後面から前記基準ウェル底部に延在する第2
の通路とを有し;前記基準ウェル内の基準電極と; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記第2の通路内に配設された基準導体とを具え
る電気化学的電極構造。 43、請求項41記載の電極構造において、前記基板は
、前記基板内を前記表面から前記後面方向に延在する対
向ウェルであって対向ウェル底部に終端するウェルと、
前記後面から前記対向ウェル底部に延在する第3の通路
とを具え、 前記対向電極は前期対向ウェル内に配置され、更に、前
記対向電極を隣接する前記後面に電気的に接続する、前
記第3の通路内に配設された対向導体を具える電気化学
的電極構造。 44、請求項41記載の電極構造において、更に;前記
感知電極に接触する電解媒体と; 前記電解媒体と電気的に接続され、前記電解媒体を介し
て以外は前記感知電極とは電気的に絶縁された基準電極
とを具える電気化学的電極構造。 45、請求項44記載の電極構造において、前記電解媒
体が、固形伝導重合体を具える電気化学的電極構造。 46、請求項44記載の電極構造において、更に;前記
後面に隣接して前記基板内に配設され、前記感知電極及
び前記基準電極からの信号を処理する電子回路を具える
電気化学的電極構造。 47、請求項44記載の電極構造において、前記基板は
、前記後面から前記センサウェル底部に延在する第2の
通路を有し; 前記基準電極を、前記センサウェル内に配設し; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記第2の通路内に配設された基準導体を具える
電気化学的電極構造。 48、前記基板上に配設された複数の前記電極構造であ
って、前記複数の電極構造は、請求項47に記載された
複数の感知電極及び複数の基準電極を具える電気化学的
電極構造。 49、請求項44記載の電極構造において、更に;前記
感知電極に接触する電解媒体と; 前記電解媒体と電気的に接続され、前記電解媒体を介し
て以外は前記感知電極及び前記基準電極と電気的に絶縁
された対向電極とを具える電気化学的電極構造。 50、請求項49記載の電極構造において、前記基板は
、前記後面から前記センサウェル底部に延在する第2の
通路を有し; 前記基準電極を、前記センサウェル内に配設し; 更に、前記基準電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記第2の通路内に配設された基準導体を具える
電気化学的電極構造。 51、請求項50記載の電極構造において、前記基板は
、前記後面から前記センサウェル底部に延在する第3の
通路を有し; 前記対向電極を、前記センサウェル内に配設し; 更に、前記対向電極を隣接する前記後面に電気的に接続
する、前記第3の通路内に配設された対向導体を具える
電気化学的電極構造。 52、前記基板上に配設された複数の前記電極構造であ
って、前記複数の電極構造は、請求項42に記載された
複数の感知電極及び複数の基準電極を具える電気化学的
電極構造。 53、請求項51記載の電極構造において、更に;前記
後面に隣接して前記基板内に配設され、前記感知電極、
前記基準電極及び前記対向電極からの信号を処理する電
子回路を具える電気化学的電極構造。
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