JPH01112468A - プリント基板検査装置 - Google Patents
プリント基板検査装置Info
- Publication number
- JPH01112468A JPH01112468A JP62270552A JP27055287A JPH01112468A JP H01112468 A JPH01112468 A JP H01112468A JP 62270552 A JP62270552 A JP 62270552A JP 27055287 A JP27055287 A JP 27055287A JP H01112468 A JPH01112468 A JP H01112468A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- wiring pattern
- image
- original image
- operator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプリント基板の配線パターンの欠陥を検出する
プリント基板検査装置に関するものである。
プリント基板検査装置に関するものである。
従来において、プリント基板の配線パターンをレーザビ
ームで走査し、その反射光像を突起や所載等の検出論理
に対応して認識パターンが設定された所定分解能のオペ
レータによって調べ、反射光像で示される配線パターン
の線幅が許容値以下の部分は線細り、許容以上の部分は
線太りという具合に、配線パターンの欠陥を自動的に検
出するプリント基板検査装置がある。
ームで走査し、その反射光像を突起や所載等の検出論理
に対応して認識パターンが設定された所定分解能のオペ
レータによって調べ、反射光像で示される配線パターン
の線幅が許容値以下の部分は線細り、許容以上の部分は
線太りという具合に、配線パターンの欠陥を自動的に検
出するプリント基板検査装置がある。
この場合のオペレータとしては、例えば第7図(a)に
示すようにnxm画素のマトリクスで構成され、これに
例えば第7図(b)に示すような十字状の認識パターン
が設定される。そして、このオペレータで配線パターン
の反射光像を走査して十字状認識パターンの中心点から
伸びた4つの測長子U、R,D、Lにより配線パターン
幅を測長した結果、導体部100から途切れた部分が第
8図(a)に示すような長さになっていたならば、配線
パターンの欠落部分101として認識される。
示すようにnxm画素のマトリクスで構成され、これに
例えば第7図(b)に示すような十字状の認識パターン
が設定される。そして、このオペレータで配線パターン
の反射光像を走査して十字状認識パターンの中心点から
伸びた4つの測長子U、R,D、Lにより配線パターン
幅を測長した結果、導体部100から途切れた部分が第
8図(a)に示すような長さになっていたならば、配線
パターンの欠落部分101として認識される。
同様に、導体部100から途切れた部分が第8図(b)
に示すような形状で、かつその部分の長さがランド径よ
りも小さい場合にはピンホール102として認識される
。
に示すような形状で、かつその部分の長さがランド径よ
りも小さい場合にはピンホール102として認識される
。
〔発明が解決しようとする問題点]
このように従来のプリント基板検査装置は所定分解能の
オペレータによって配線パターンの幅を調べていった結
果、途切れている部分の長さが許容値以内にな・いとき
に欠落部分として認識するものであるが、例えば第8図
(C)に示すように故意に導体部100の一部分を細く
した配線パターンを十字状認識パターンで検査した時、
その細くした部分の幅が許容値以下になっていると“′
線細り”として過剰に検出されてしまう問題があった。
オペレータによって配線パターンの幅を調べていった結
果、途切れている部分の長さが許容値以内にな・いとき
に欠落部分として認識するものであるが、例えば第8図
(C)に示すように故意に導体部100の一部分を細く
した配線パターンを十字状認識パターンで検査した時、
その細くした部分の幅が許容値以下になっていると“′
線細り”として過剰に検出されてしまう問題があった。
これは、欠陥として識別する条件を緩和することにより
容易に解消されるが、条件を緩和した場合、例えば第8
図(d)に示すように導体部100が切断しているにも
かかわらず欠陥無しとして見逃してしまうという新たな
問題が生じている。
容易に解消されるが、条件を緩和した場合、例えば第8
図(d)に示すように導体部100が切断しているにも
かかわらず欠陥無しとして見逃してしまうという新たな
問題が生じている。
本発明の目的は、過剰検出を防止し、真の欠陥部分のみ
を正確に検出することができるプリント基板検査装置を
提供することにある。
を正確に検出することができるプリント基板検査装置を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段]
本発明では、前記配線パターンの像を光学的に抽出する
走査光学系と、抽出された配線パターンの像を前記オペ
レータによって走査し、配線パターンの欠陥の有無をセ
グメント単位で検出する欠陥検出手段と、配線パターン
の原画像情報をセグメント単位で記憶した原画記憶手段
と、配線パターンの欠陥検出時に、欠陥が検出されたセ
グメントの原画像情報を前記原画記憶手段から読出し、
当該セグメントの配線パターン像と比較し、両省が一致
するときは前記欠陥検出手段の過剰検出として処理する
欠陥検出検証手段とを設けることにより、上記の目的を
達成している。
走査光学系と、抽出された配線パターンの像を前記オペ
レータによって走査し、配線パターンの欠陥の有無をセ
グメント単位で検出する欠陥検出手段と、配線パターン
の原画像情報をセグメント単位で記憶した原画記憶手段
と、配線パターンの欠陥検出時に、欠陥が検出されたセ
グメントの原画像情報を前記原画記憶手段から読出し、
当該セグメントの配線パターン像と比較し、両省が一致
するときは前記欠陥検出手段の過剰検出として処理する
欠陥検出検証手段とを設けることにより、上記の目的を
達成している。
欠陥検出手段は走査光学系で抽出された配線パターン像
をオペレータによって走査し、欠陥の有無を配線パター
ン像のセグメント単位で検査する。
をオペレータによって走査し、欠陥の有無を配線パター
ン像のセグメント単位で検査する。
この時、過剰検出となるように欠陥の検出条件面設定さ
れている。従って、欠陥の見逃しは無いが、過剰な欠陥
検出が行なわれる。
れている。従って、欠陥の見逃しは無いが、過剰な欠陥
検出が行なわれる。
これに対して検証手段は、検出された欠陥部分の原画像
と配線パターン像とを比較する。これにより、両者が一
致すれば、欠陥検出手段で過剰検出が行なわれたことに
なるので、欠陥無しとして処理する。しかし、両者が不
一致ならば真の欠陥部分ということになるので、欠陥有
りとして処理する。
と配線パターン像とを比較する。これにより、両者が一
致すれば、欠陥検出手段で過剰検出が行なわれたことに
なるので、欠陥無しとして処理する。しかし、両者が不
一致ならば真の欠陥部分ということになるので、欠陥有
りとして処理する。
このように欠陥の検出条件を厳しく設定し、かつ欠陥有
りとして抽出された部分の配線パターン像を原画像で検
証することにより、真の欠陥部分のみを検出することが
できる。
りとして抽出された部分の配線パターン像を原画像で検
証することにより、真の欠陥部分のみを検出することが
できる。
〔実施例]
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図で在り、大
別すると、走査光学系19画像メモリ部2、欠陥検出部
3.検証部4および原画像記憶部5とから構成されてい
る。
別すると、走査光学系19画像メモリ部2、欠陥検出部
3.検証部4および原画像記憶部5とから構成されてい
る。
走査光学系1は、認識対象となるプリント基板PWBの
配線パターン面をレーザビームによって走査し、その反
射光像の画信号を出力するもので、レーザビームを走査
するポリゴンスキャナ10と、配線パターン面からの反
射光像を集光する集光用光ファイバ11と、この集光用
光ファイバで集光された反射光像をポリゴンスキャナ1
0の走査速度に同期した速度でサンプリングした後、2
値化画信丹として出力するAD変換モジュール12とか
ら構成されている。
配線パターン面をレーザビームによって走査し、その反
射光像の画信号を出力するもので、レーザビームを走査
するポリゴンスキャナ10と、配線パターン面からの反
射光像を集光する集光用光ファイバ11と、この集光用
光ファイバで集光された反射光像をポリゴンスキャナ1
0の走査速度に同期した速度でサンプリングした後、2
値化画信丹として出力するAD変換モジュール12とか
ら構成されている。
画像メモリ部2は、走査光学系1から出力される2値化
画信丹を画素単位で記憶するもので、ここでは後述する
オペレータにそれぞれ対応した分解能で2値化信号を記
憶可能に構成されている。
画信丹を画素単位で記憶するもので、ここでは後述する
オペレータにそれぞれ対応した分解能で2値化信号を記
憶可能に構成されている。
ここで、オペレータをn行×m列のmxn画素のマトリ
クスで構成したとすると、メモリ部2はmxn画素の記
憶容0を備える必要がある。一方、走査光学系1で得た
配線パターンの像は実時間で高速処理する必要がある。
クスで構成したとすると、メモリ部2はmxn画素の記
憶容0を備える必要がある。一方、走査光学系1で得た
配線パターンの像は実時間で高速処理する必要がある。
そこで、メモリ部2はオペレータの同一マトリクス構成
のバイブラインモジュール20と第1行目の画像信号を
i+1行目に順送りするラインバッフ121とを備えて
いる。この場合、ラインバッファ21はバイブラインモ
ジュール20と同意記憶容量を備えている。
のバイブラインモジュール20と第1行目の画像信号を
i+1行目に順送りするラインバッフ121とを備えて
いる。この場合、ラインバッファ21はバイブラインモ
ジュール20と同意記憶容量を備えている。
メモリ部2はこのようにオペレータと同一画素数の記憶
容量を有するものであるが、この実施例では、オペレー
タの分解能を第2図に示すように分解能=10μm、n
xm=15x15としているため、バイブラインモジュ
ール20とラインバッファ21は15X15画素の記憶
容Φに設定されている。
容量を有するものであるが、この実施例では、オペレー
タの分解能を第2図に示すように分解能=10μm、n
xm=15x15としているため、バイブラインモジュ
ール20とラインバッファ21は15X15画素の記憶
容Φに設定されている。
次に、欠陥検出部3はnxm画素のオペレータを用いて
配線パターンの欠陥を10μmの分解能で検出するもの
で、nxm画素のオペレータ30と、このオペレータ3
0に設定された認識パターンにより欠陥を検出する欠陥
抽出モジュール31とから構成されている。
配線パターンの欠陥を10μmの分解能で検出するもの
で、nxm画素のオペレータ30と、このオペレータ3
0に設定された認識パターンにより欠陥を検出する欠陥
抽出モジュール31とから構成されている。
欠陥抽出モジュール31はオペレータ30によって配線
パターン像を走査し、配線パターンの欠陥を検出するも
のであるが、具体的にはROMまたはRAMなどのメモ
リで構成され、その出力から配線の欠け、線太り、突起
などの欠陥を表す情報および欠陥部のセグメント位置の
情報を出力する。すなわち、配線パターンの欠陥はnx
m画素の2値化画像の組合せによって認識できる。従っ
て、nxm画素の2値化画像の組合ぜに対応したアドレ
スに欠陥の種類を表す情報を記・nさせてJ5き、nx
m画素のオペレータを通して見た配線パターンの画信号
をアドレス入力として供給することにより、配線パター
ンの欠陥の種類を表す情報を出力することができる。こ
の場合、nxm画素のすべての画素の組合せについて判
別しようとすると、アドレス数が非常に多くなる。
パターン像を走査し、配線パターンの欠陥を検出するも
のであるが、具体的にはROMまたはRAMなどのメモ
リで構成され、その出力から配線の欠け、線太り、突起
などの欠陥を表す情報および欠陥部のセグメント位置の
情報を出力する。すなわち、配線パターンの欠陥はnx
m画素の2値化画像の組合せによって認識できる。従っ
て、nxm画素の2値化画像の組合ぜに対応したアドレ
スに欠陥の種類を表す情報を記・nさせてJ5き、nx
m画素のオペレータを通して見た配線パターンの画信号
をアドレス入力として供給することにより、配線パター
ンの欠陥の種類を表す情報を出力することができる。こ
の場合、nxm画素のすべての画素の組合せについて判
別しようとすると、アドレス数が非常に多くなる。
そこで、本実施例では第3図(a)に示すような十字状
に’[パターンを設定した場合、上下、左右方向に伸び
る測長子U、D、L、Rの8画素の2値化画信丹と中心
画素Cの組合せで欠陥の種類をFA 5するように構成
している。また、第3図(b)に示すようなX字状の認
識パターンを設定した場合、左上、右下、右上、左下に
伸びに測長子UL、DR,UR,DLの8画素の2値化
画信丹と中心画素Cの組合せで欠陥の種類を認識するよ
うにゼ4成している。
に’[パターンを設定した場合、上下、左右方向に伸び
る測長子U、D、L、Rの8画素の2値化画信丹と中心
画素Cの組合せで欠陥の種類をFA 5するように構成
している。また、第3図(b)に示すようなX字状の認
識パターンを設定した場合、左上、右下、右上、左下に
伸びに測長子UL、DR,UR,DLの8画素の2値化
画信丹と中心画素Cの組合せで欠陥の種類を認識するよ
うにゼ4成している。
従って、欠陥抽出モジュール31は、具体的には第4図
に示すようにオペレータ30の各測長子における8画素
のアドレスを表わす3ビツトの信号と中心画素Cのアド
レスを表わす1ビツトの信号の合計13ビツトの信号が
アドレス信号として入力されるROM310で構成され
ている。そして、このROM310には次のような情報
が記・n、されている。すなわち、第8図(a)に示す
ように一部分が欠落した配線パターンを十字状のQ q
パターンで見た時、欠落部分をn 1 +t、導体部分
を”o”とすると、U、D、R,L、C(7)8測ff
i子は u=oooooooo、D=11 11 1000゜R
=1 1 100000. L=1 1 1 1 1
000、C=0となる。そこで、これら測長子の“d
11+。
に示すようにオペレータ30の各測長子における8画素
のアドレスを表わす3ビツトの信号と中心画素Cのアド
レスを表わす1ビツトの信号の合計13ビツトの信号が
アドレス信号として入力されるROM310で構成され
ている。そして、このROM310には次のような情報
が記・n、されている。すなわち、第8図(a)に示す
ように一部分が欠落した配線パターンを十字状のQ q
パターンで見た時、欠落部分をn 1 +t、導体部分
を”o”とすると、U、D、R,L、C(7)8測ff
i子は u=oooooooo、D=11 11 1000゜R
=1 1 100000. L=1 1 1 1 1
000、C=0となる。そこで、これら測長子の“d
11+。
Onの組合せパターンに対応したアドレスにパ欠け″と
いう欠陥情報を記憶させておくことにより、心体部10
0の欠陥の種類を表わす信号をROM310の出力から
取出すことができる。
いう欠陥情報を記憶させておくことにより、心体部10
0の欠陥の種類を表わす信号をROM310の出力から
取出すことができる。
この場合、ROM310に記憶させる欠陥情報は、故意
に配線パターン幅を太くしたり、細くしたりしている部
分でも欠陥として抽出するように検出条件が厳しく設定
されている。
に配線パターン幅を太くしたり、細くしたりしている部
分でも欠陥として抽出するように検出条件が厳しく設定
されている。
従って、僅かな切断部があっても欠陥部分として検出さ
れるので欠陥の見逃しはなくなる。しかし、配線パター
ン幅を故意に太くしり、細くしたりしている部分でも欠
陥として検出される。
れるので欠陥の見逃しはなくなる。しかし、配線パター
ン幅を故意に太くしり、細くしたりしている部分でも欠
陥として検出される。
検証部4は欠陥抽出モジュール31で検出された欠陥部
分が真の欠陥部分であるか否かを検証するもので、欠陥
の種類を表わす情報と欠陥部分のセグメント位置情報が
欠陥抽出モジュール31から入力されると、欠陥部分の
セグメント位置の原画像情報を原画像記憶部5から読出
し、この原画像情報と欠陥部分の配線パターン像とを比
較する。
分が真の欠陥部分であるか否かを検証するもので、欠陥
の種類を表わす情報と欠陥部分のセグメント位置情報が
欠陥抽出モジュール31から入力されると、欠陥部分の
セグメント位置の原画像情報を原画像記憶部5から読出
し、この原画像情報と欠陥部分の配線パターン像とを比
較する。
この結果、両者が一致している時には、欠陥抽出モジュ
ール31で欠陥部分として抽出した配線パターン像は真
の欠陥部分ではなく、過剰に検出された欠陥部分として
判定し、次のセグメントの欠陥検出に移行する。しかし
、両省が一致しない時は、真の欠陥部分として判定し、
その欠陥の種類を表わす情報とセグメント位置の情報を
外部に出力する。
ール31で欠陥部分として抽出した配線パターン像は真
の欠陥部分ではなく、過剰に検出された欠陥部分として
判定し、次のセグメントの欠陥検出に移行する。しかし
、両省が一致しない時は、真の欠陥部分として判定し、
その欠陥の種類を表わす情報とセグメント位置の情報を
外部に出力する。
ここで、原画像記憶部5に記憶される原画像情報は、C
ADなどの配線パターン描画装置に格納されている原画
像情報が2値化されて記憶されるものである。
ADなどの配線パターン描画装置に格納されている原画
像情報が2値化されて記憶されるものである。
以上のような欠陥検出動作と検証動作は、1枚のプリン
ト基板から取出した配線パターン像を第5図で示すよう
に所定面積単位に分割したセグメントSG (x、y)
の単位で実施される。第6図に以上の動作を要約してフ
ローチャートで示している。
ト基板から取出した配線パターン像を第5図で示すよう
に所定面積単位に分割したセグメントSG (x、y)
の単位で実施される。第6図に以上の動作を要約してフ
ローチャートで示している。
以上説明したように本発明においては、欠陥として検出
した部分を原画像によって検証するように構成したため
、欠陥の過剰検出を防ぎ、真の欠陥部分のみを正確に検
出することができる。
した部分を原画像によって検証するように構成したため
、欠陥の過剰検出を防ぎ、真の欠陥部分のみを正確に検
出することができる。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
オペレータの構成を示す図、第3図は認識パターンの一
例を示す図、第4図は欠陥抽出モジュールの構成を示す
図、第5図はセグメント化した配線パターン像を示す図
、第6図は欠陥検出動作および検証動作の要約を示すフ
ローチャート、第7図はオペレータに設定する認識パタ
ーンの一例を示す図、第8図は従来の欠陥検出方法の説
明図である。 1・・・走査光学系、2・・・画像メモリ部、3・・・
欠陥検出部、4・・・検証部、5・・・原画像記憶部、
10・・・ポリゴンスキャナ、12・・・AD変換モジ
ュール、20・・・パイプラインモジュール、21・・
・ラインバッファ、30・・・オペレータ、31・・・
欠陥抽出モジュール。 第2図 第3図(0) 第3図(b) 第4図 第5図 矢=41すl’)カラ里 ズ声1臀しつタシ劉
巳第6図 第7図 第8図(Q) 第8図(b) 第81図(C)
オペレータの構成を示す図、第3図は認識パターンの一
例を示す図、第4図は欠陥抽出モジュールの構成を示す
図、第5図はセグメント化した配線パターン像を示す図
、第6図は欠陥検出動作および検証動作の要約を示すフ
ローチャート、第7図はオペレータに設定する認識パタ
ーンの一例を示す図、第8図は従来の欠陥検出方法の説
明図である。 1・・・走査光学系、2・・・画像メモリ部、3・・・
欠陥検出部、4・・・検証部、5・・・原画像記憶部、
10・・・ポリゴンスキャナ、12・・・AD変換モジ
ュール、20・・・パイプラインモジュール、21・・
・ラインバッファ、30・・・オペレータ、31・・・
欠陥抽出モジュール。 第2図 第3図(0) 第3図(b) 第4図 第5図 矢=41すl’)カラ里 ズ声1臀しつタシ劉
巳第6図 第7図 第8図(Q) 第8図(b) 第81図(C)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 所定分解能のオペレータによりプリント基板における
配線パターンの欠陥の有無を検出するプリント基板検査
装置において、 前記配線パターンの像を光学的に抽出する走査光学系と
、 抽出された配線パターンの像を前記オペレータによって
走査し、配線パターンの欠陥の有無をセグメント単位で
検出する欠陥検出手段と、 配線パターンの原画像情報をセグメント単位で記憶した
原画記憶手段と、 配線パターンの欠陥検出時に、欠陥が検出されたセグメ
ントの原画像情報を前記原画記憶手段から読出し、当該
セグメントの配線パターン像と比較し、両者が一致する
ときは前記欠陥検出手段の過剰検出として処理する欠陥
検出検証手段とを具備するプリント基板検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62270552A JPH01112468A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | プリント基板検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62270552A JPH01112468A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | プリント基板検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112468A true JPH01112468A (ja) | 1989-05-01 |
Family
ID=17487767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62270552A Pending JPH01112468A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | プリント基板検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112468A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19509179A1 (de) * | 1994-03-15 | 1995-09-28 | Fujitsu Ltd | Beschleunigungssensor, der ein piezoelektrisches Element verwendet |
| JP2007101448A (ja) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | Tdk Corp | 加速度センサ及び加速度センサの製造方法 |
| US8129869B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-03-06 | Asahi Glass Company, Limited | Electret and electrostatic induction conversion device |
| US11231438B2 (en) | 2018-12-25 | 2022-01-25 | Seiko Epson Corporation | Inertial sensor, electronic device, and vehicle |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP62270552A patent/JPH01112468A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19509179A1 (de) * | 1994-03-15 | 1995-09-28 | Fujitsu Ltd | Beschleunigungssensor, der ein piezoelektrisches Element verwendet |
| DE19509179C2 (de) * | 1994-03-15 | 2000-01-05 | Fujitsu Ltd | Beschleunigungssensor zum Detektieren einer Drehbeschleunigung |
| JP2007101448A (ja) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | Tdk Corp | 加速度センサ及び加速度センサの製造方法 |
| US8129869B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-03-06 | Asahi Glass Company, Limited | Electret and electrostatic induction conversion device |
| US11231438B2 (en) | 2018-12-25 | 2022-01-25 | Seiko Epson Corporation | Inertial sensor, electronic device, and vehicle |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0385742A (ja) | 欠陥検査方法及びその装置 | |
| JPH01224881A (ja) | パターン検査装置 | |
| JP2005121546A (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JPH07159337A (ja) | 半導体素子の欠陥検査方法 | |
| JPH01112468A (ja) | プリント基板検査装置 | |
| JP2710527B2 (ja) | 周期性パターンの検査装置 | |
| JP2002296192A (ja) | カラー照明を用いた欠陥検査方法 | |
| JP2003203218A (ja) | 外観検査装置および方法 | |
| JP4474006B2 (ja) | 検査装置 | |
| JPH03170930A (ja) | パターン検査装置 | |
| JP2005189167A (ja) | キャップのブリッジ検査装置 | |
| JPH01150987A (ja) | 形状認識方法 | |
| JPS62177681A (ja) | パタ−ン検査方法 | |
| US20250209597A1 (en) | Substrate inspecting apparatus and method of inspecting substrate | |
| JP2576768B2 (ja) | プリント基板パターン検査装置 | |
| JPH04319649A (ja) | スルーホール検査装置 | |
| JP2998518B2 (ja) | パターン検査装置 | |
| JPH01269035A (ja) | プリント回路基板の検査装置 | |
| JPH06249792A (ja) | プリント基板パターン検査装置 | |
| JPH02187652A (ja) | 画像処理方法 | |
| JPS59165183A (ja) | パタ−ン認識装置 | |
| JP2003270171A (ja) | プリント回路板検査装置 | |
| JPH07107711A (ja) | 鉄心コイルのずれ検出方法 | |
| JPS62127987A (ja) | プリント板パタ−ン検査方法 | |
| JPH0619252B2 (ja) | 印刷配線基板のはんだ付検査装置 |