JPH02187652A - 画像処理方法 - Google Patents
画像処理方法Info
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- JPH02187652A JPH02187652A JP690489A JP690489A JPH02187652A JP H02187652 A JPH02187652 A JP H02187652A JP 690489 A JP690489 A JP 690489A JP 690489 A JP690489 A JP 690489A JP H02187652 A JPH02187652 A JP H02187652A
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 15
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＴＶカメラで撮像した被検査物の画像を画像メ
モリに蓄え、この画像から被検査物に存在する欠け、汚
れ、異物などの欠陥を認識する画像処理方法に関するも
のである。
モリに蓄え、この画像から被検査物に存在する欠け、汚
れ、異物などの欠陥を認識する画像処理方法に関するも
のである。
［従来の技術］
従来被検査物の欠陥を画像を用いて認識する画像処理方
法としては特開昭６２ ８８９４６号のように被検査物
に照明系で光照射を行って、この照射された光の反射光
から被検査物の画像を得、被検査物の反射特性が一様で
ないことを利用して被検査物の欠陥を識別する画像処理
方法があった。
法としては特開昭６２ ８８９４６号のように被検査物
に照明系で光照射を行って、この照射された光の反射光
から被検査物の画像を得、被検査物の反射特性が一様で
ないことを利用して被検査物の欠陥を識別する画像処理
方法があった。
［発明の解決しようとする課題］
しかしなから従来方法は固定又は浮動の閾値で画像を２
値化した後、２値化画像として欠陥を認識する方法であ
ったため、著しい反射によって生じるハイライト部位の
みを２値化してハイライト部位における欠陥を識別する
ことは非常に困難であった。
値化した後、２値化画像として欠陥を認識する方法であ
ったため、著しい反射によって生じるハイライト部位の
みを２値化してハイライト部位における欠陥を識別する
ことは非常に困難であった。
本発明は上述のような点に鑑みて為されたもので、請求
項１記載の発明はハイライト部位の欠陥を認識するため
のハイライト部位の基準線を抽出する画像処理方法を提
供することを目的とし、請求項２〜請求項４記載の発明
は上記基準線によって欠陥を精度良く検出することがで
きる画像処理方法を提供することを目的とする。
項１記載の発明はハイライト部位の欠陥を認識するため
のハイライト部位の基準線を抽出する画像処理方法を提
供することを目的とし、請求項２〜請求項４記載の発明
は上記基準線によって欠陥を精度良く検出することがで
きる画像処理方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
請求項１記載の発明は被検査物をＴＶカメラで撮像して
得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶さ
せ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上
の画素を中心として直交し、中心点から両方向に一定画
素分のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の
画素中、濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時に上記バッファに
記憶させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得
られた直線をハイライト部位の基準線とするものである
。
得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶さ
せ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上
の画素を中心として直交し、中心点から両方向に一定画
素分のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の
画素中、濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時に上記バッファに
記憶させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得
られた直線をハイライト部位の基準線とするものである
。
また請求項２記載の発明は被検査物をＴＶカメラて撮像
して得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記
憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ
線上の画素を中心とし２て直交し、中心点から両方向に
一定のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に
イ）γ置する画素中濃度が最大である画素の画像メモリ
上のアドレスをバッファに記憶させ、走査絆了時にバッ
ファに記憶させたアドレスを読７ノ出し、て直線近似を
行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線とし、
該基準線上の全画素について一定画素離れた２点の画素
についての濃度を画像メモリより読み出して両画素の濃
度差の絶対値が予め設定した第１の閾値より大きい場合
に欠陥候補点と判定し、この欠陥候補点より一定画素数
分マスクの走査方向に対して遅れた点の画素からマスク
の走査方向に一定個数離れた画素までの各画素に、上記
欠陥候補点よりある一定画素数分マスクの走査方向に対
して進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離
れた画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の
濃度差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全
て若しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも
大きいときに欠陥候補点を欠陥と判定するものである。
して得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記
憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ
線上の画素を中心とし２て直交し、中心点から両方向に
一定のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に
イ）γ置する画素中濃度が最大である画素の画像メモリ
上のアドレスをバッファに記憶させ、走査絆了時にバッ
ファに記憶させたアドレスを読７ノ出し、て直線近似を
行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線とし、
該基準線上の全画素について一定画素離れた２点の画素
についての濃度を画像メモリより読み出して両画素の濃
度差の絶対値が予め設定した第１の閾値より大きい場合
に欠陥候補点と判定し、この欠陥候補点より一定画素数
分マスクの走査方向に対して遅れた点の画素からマスク
の走査方向に一定個数離れた画素までの各画素に、上記
欠陥候補点よりある一定画素数分マスクの走査方向に対
して進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離
れた画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の
濃度差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全
て若しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも
大きいときに欠陥候補点を欠陥と判定するものである。
請求項３記載の発明は基準線上の全画素について、各画
素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して進ん
だ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の
絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しく
は一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいと
きに当該点を欠陥と判定するものである。
素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して進ん
だ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の
絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しく
は一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいと
きに当該点を欠陥と判定するものである。
請求項４記載の発明は請求項２又は３記載の発明に於い
て、マスク内に位置する画素中濃度が最大である画素の
画像メモリ上のアドレスをバッファに記憶させ際に別の
バッファに当該画素の濃度データを画像メモリより読み
出して記憶させ、走査終了後に別のバッファに記憶した
濃度データから最も頻度の高い濃度を基準濃度値とし、
この基準濃度値と、上記基準線上の全ての点の画素の濃
度とを各画素毎に比較して画素の濃度が基準濃度値より
大きいときに当該画素の濃度を基準濃度値に補正するも
のである。
て、マスク内に位置する画素中濃度が最大である画素の
画像メモリ上のアドレスをバッファに記憶させ際に別の
バッファに当該画素の濃度データを画像メモリより読み
出して記憶させ、走査終了後に別のバッファに記憶した
濃度データから最も頻度の高い濃度を基準濃度値とし、
この基準濃度値と、上記基準線上の全ての点の画素の濃
度とを各画素毎に比較して画素の濃度が基準濃度値より
大きいときに当該画素の濃度を基準濃度値に補正するも
のである。
［作用］
しかして本発明の画像処理方法ては被検査物のハイライ
ト部位の欠陥を判定する基準線を求めることができ、こ
の基準線たる直線より欠陥を精度よく抽出判定でき、被
検査物の良否の判定が確実となる。特に請求項３記載の
発明では処理過程が少なくて判定時間を短くすることが
でき、また請求項４記載の発明ではハイライト部位の高
い濃度の部分のばらつきを少なくすることができる。
ト部位の欠陥を判定する基準線を求めることができ、こ
の基準線たる直線より欠陥を精度よく抽出判定でき、被
検査物の良否の判定が確実となる。特に請求項３記載の
発明では処理過程が少なくて判定時間を短くすることが
でき、また請求項４記載の発明ではハイライト部位の高
い濃度の部分のばらつきを少なくすることができる。
［実施例］
以下本発明の画像処理方法を実施例によって説明する。
第１図は実施例を用いた画像処理装置の概略構成図を示
す。
す。
この装置ではＴＶカメラ１で撮像して得た被検査物の濃
淡画像の信号をＡ 、／ Ｄ変換器２によってデジタル
信号に変換し、このデジタル信号を画像メモリ３に原画
像データとして記憶さぜる°。この原画像データはバス
４を通じてプロセッサやコンピユータからなる演算処理
部５によって読み出しがてきるようになっている。
淡画像の信号をＡ 、／ Ｄ変換器２によってデジタル
信号に変換し、このデジタル信号を画像メモリ３に原画
像データとして記憶さぜる°。この原画像データはバス
４を通じてプロセッサやコンピユータからなる演算処理
部５によって読み出しがてきるようになっている。
ここで画像メモリ３に書き込まれた第２図の原画像ｆは
Ｘ−Ｙ座標系でマツピングされているものとし、画像上
の任意の点Ｐ（ｘ、ｙ）の濃度ａは次の関数で与えられ
るものとする。
Ｘ−Ｙ座標系でマツピングされているものとし、画像上
の任意の点Ｐ（ｘ、ｙ）の濃度ａは次の関数で与えられ
るものとする。
ａ＝ｆ （ｘ、ｙ）
而して令弟３図に示すように光源９によ゛って照射され
た被検査物７を斜め方向から］゛Ｖカメラ１で撮像する
と、その画像、つまり原画像ｆは第４図に示す如く得ら
れる。ここで被検査物７の端縁に丸味があったり、照明
条件では正反射して反射量か多くなり、図示するＡ点と
Ｂ点とを結ぶ端縁のようにハイライト部位Ｈを生しるこ
とがある。
た被検査物７を斜め方向から］゛Ｖカメラ１で撮像する
と、その画像、つまり原画像ｆは第４図に示す如く得ら
れる。ここで被検査物７の端縁に丸味があったり、照明
条件では正反射して反射量か多くなり、図示するＡ点と
Ｂ点とを結ぶ端縁のようにハイライト部位Ｈを生しるこ
とがある。
本発明画像処理方法はこのハイライト部位Ｈのりｚ陥を
検出するための方法であって、通常ハイライ１一部位Ｈ
は−様な明るさを持っているが、欠け、欠陥が発生する
と、ハイライト部位Ｈが途切れたり、暗くなったりする
ことに着目して、明るさの途切れや暗部を抽出するので
ある。
検出するための方法であって、通常ハイライ１一部位Ｈ
は−様な明るさを持っているが、欠け、欠陥が発生する
と、ハイライト部位Ｈが途切れたり、暗くなったりする
ことに着目して、明るさの途切れや暗部を抽出するので
ある。
まず演算処理部５では画像メモリ３に記憶した原画像デ
ータからハイライト部位Ｈの両端点ＡＢを適宜方法で求
めるとともに、第５図に示すマスク６を設定する。この
マスク６は着目点６ａの画素を中心として上下方向に４
画素すつとった（２β＋１）画素からなり、以下スティ
ックマスクと称する。
ータからハイライト部位Ｈの両端点ＡＢを適宜方法で求
めるとともに、第５図に示すマスク６を設定する。この
マスク６は着目点６ａの画素を中心として上下方向に４
画素すつとった（２β＋１）画素からなり、以下スティ
ックマスクと称する。
さて計算で求めた点Ａ１点Ｂの座標（アドレス）を夫々
（ＸＡ、ｙＡ）ｌ（ＸＢ、３’Ｒ）とするとともに例え
ば点Ａを始点とし、点Ｂを終点とし、スティックマスク
６を第６図で示すように矢印方向に一画素ずつハイライ
ト部位Ｈの方向に対して直交する方向で且つ着目点の画
素が点Ａと点Ｂとを結ぶ線上の画素に対応するように進
める。このときスティックマスク６内の（２Ｎ＋１）個
の画素についての濃淡データを読み出し、最も大きな画
素のアドレスを演算処理部５内のバッファ８ａにストア
する。
（ＸＡ、ｙＡ）ｌ（ＸＢ、３’Ｒ）とするとともに例え
ば点Ａを始点とし、点Ｂを終点とし、スティックマスク
６を第６図で示すように矢印方向に一画素ずつハイライ
ト部位Ｈの方向に対して直交する方向で且つ着目点の画
素が点Ａと点Ｂとを結ぶ線上の画素に対応するように進
める。このときスティックマスク６内の（２Ｎ＋１）個
の画素についての濃淡データを読み出し、最も大きな画
素のアドレスを演算処理部５内のバッファ８ａにストア
する。
この操作を終点の点Ｂに至るまで続ける。
このスティックマスク６の走査終了後において演算処理
部５はバッファ８ａにストアした各アドレスを読み出し
て最小二乗法など適宜な手法によって直線近似を行い、
直線りを求める。求められた直線をハイライト部位Ｈの
基準線りとするのである。
部５はバッファ８ａにストアした各アドレスを読み出し
て最小二乗法など適宜な手法によって直線近似を行い、
直線りを求める。求められた直線をハイライト部位Ｈの
基準線りとするのである。
ここで基準線りを求めるのはハイライト部位Ｈは第４図
に示すように幅を持ち、この幅が１画素とは限らないな
め、この幅の内設も明るい点を求めて精度を高めること
と、始点Ａと、終点Ｂとを結ぶ線上の画素が必ずしもハ
イライト部位Ｈと一致しないなとの理由からである。
に示すように幅を持ち、この幅が１画素とは限らないな
め、この幅の内設も明るい点を求めて精度を高めること
と、始点Ａと、終点Ｂとを結ぶ線上の画素が必ずしもハ
イライト部位Ｈと一致しないなとの理由からである。
このようにして基準線りを求めると次の欠陥の認識処理
に移るのである。
に移るのである。
一実施例ではまず基準線り上の任意の点Ｐ（ｘｐ。
ｙｐ）において、この点Ｐと第７図に示すこの点よりＩ
Ｉ画素だけ進んだ点Ｑ （Ｘ ｐ−ｎ、３’ ｐ。。）
の濃度データを原画像ｆより読み出す。この読み出した
濃度は夫々ｆ （ｘ、、ｙｐ）、ｆ（ｘｐ、、、ｙｐ、
、ｈ）で表される。
Ｉ画素だけ進んだ点Ｑ （Ｘ ｐ−ｎ、３’ ｐ。。）
の濃度データを原画像ｆより読み出す。この読み出した
濃度は夫々ｆ （ｘ、、ｙｐ）、ｆ（ｘｐ、、、ｙｐ、
、ｈ）で表される。
この時濃度差の第１の閾値ＳＬＩとの間でｆ（Ｘｐ、ｙ
ｐ） ｆ（Ｘｐ４ｎ、ｙｐ＋ｎＮ＞ＳＬｌ・・・■が
成り立てば点Ｐを欠陥の候補点として、成り立たなけれ
ば走査を続ける。
ｐ） ｆ（Ｘｐ４ｎ、ｙｐ＋ｎＮ＞ＳＬｌ・・・■が
成り立てば点Ｐを欠陥の候補点として、成り立たなけれ
ば走査を続ける。
今■式が成り立ち、点Ｐが欠陥の候補点であったとする
と、この時第８図に示すように点Ｐよりｍ画素遅れた点
を点Ｒ，とじ、以下走査方向に隣接する画素を点Ｒ２、
Ｒ３、・・・Ｒｋとに個の点を設定する。同様に点Ｐよ
り１画素進んだ点を８１とし、以下走査方向に点Ｓ ２
、 Ｓ ３ 、・・・Ｓうを設定する。
と、この時第８図に示すように点Ｐよりｍ画素遅れた点
を点Ｒ，とじ、以下走査方向に隣接する画素を点Ｒ２、
Ｒ３、・・・Ｒｋとに個の点を設定する。同様に点Ｐよ
り１画素進んだ点を８１とし、以下走査方向に点Ｓ ２
、 Ｓ ３ 、・・・Ｓうを設定する。
ここで点Ｒう２点Ｓうのアドレスは夫々Ｒｙ （ｘ ｐ
−ゆ＋に一＋＋３’ｐ−ｍ＋ｍ−＋）＋５ｖ（Ｘｐ＋＋
＋６−＋＋ｙｐ＋＋＋ｖ−＋）で表される。
−ゆ＋に一＋＋３’ｐ−ｍ＋ｍ−＋）＋５ｖ（Ｘｐ＋＋
＋６−＋＋ｙｐ＋＋＋ｖ−＋）で表される。
これらの点Ｒ３−Ｒ５９点Ｓ１〜Ｓ□の画素の濃度を第
２の濃度差の閾値ＳＬ２について ｆ（Ｘｐ−＋＋、ｙｐ−ｊ ｒ（ｘｐ−＋、ｙｐ−＋
）ＤｓＬ２で且つ ｆ （Ｘ＋＋−ｍ＋１＋３’＃−ｍ＋Ｉ＞ ｆ （Ｘ
ｐ＋＋＋＋＋ｙｐ＊＋＋＋）＞Ｓｌ２ で且つ ｆ （Ｘ ｐ−ａｒｋ−＋ ＋ ３’ ｐ−＋ａ＋ｗ−
１） ｆ □（ｐ＋’（＋に＋＋ ＋３’ ｐ ＋
１＋ ｌｌ□）ｌ＞Ｓｌ２ ・・・■が成立すると
き、点Ｐを中心に欠陥が存在していると演算処理部が判
定する。この場合０式の内ある個数以上成立すれば欠陥
であると判定しても良い。
２の濃度差の閾値ＳＬ２について ｆ（Ｘｐ−＋＋、ｙｐ−ｊ ｒ（ｘｐ−＋、ｙｐ−＋
）ＤｓＬ２で且つ ｆ （Ｘ＋＋−ｍ＋１＋３’＃−ｍ＋Ｉ＞ ｆ （Ｘ
ｐ＋＋＋＋＋ｙｐ＊＋＋＋）＞Ｓｌ２ で且つ ｆ （Ｘ ｐ−ａｒｋ−＋ ＋ ３’ ｐ−＋ａ＋ｗ−
１） ｆ □（ｐ＋’（＋に＋＋ ＋３’ ｐ ＋
１＋ ｌｌ□）ｌ＞Ｓｌ２ ・・・■が成立すると
き、点Ｐを中心に欠陥が存在していると演算処理部が判
定する。この場合０式の内ある個数以上成立すれば欠陥
であると判定しても良い。
また走査を完了した時点で０式を満足する点が存在しな
かった場合にはその被検査物が良品であると判定する。
かった場合にはその被検査物が良品であると判定する。
尚パラメータｍ、ｌ及びｋはハイライト部位Ｈの線上に
発生する欠け、異物等による欠陥の大きさにより、また
閾値ＳＬＩ、ＳＬ２は欠陥のコントラストにより適切な
値に設定する。
発生する欠け、異物等による欠陥の大きさにより、また
閾値ＳＬＩ、ＳＬ２は欠陥のコントラストにより適切な
値に設定する。
ところで上述の実施例では欠陥の判定を行う前に欠陥の
候補点を抽出するための走査を閾値Ｓ１を用いて行なっ
ているが、候補点を求めずに基準線り上の全ての画素に
ついて点Ｐよりｍ画素遅れた点を点Ｒ４とし、以下走査
方向に隣接する画素を点Ｒ２，Ｒ３，・・・Ｒうとに個
の点を設定するとともに同様に点Ｐより１画素進んだ点
を８１とし、以下走査方向に点Ｓ２．Ｓ１．・・・Ｓｌ
を設定し、これらの点Ｒ，〜Ｒア１点ＳＩ〜Ｓ３の画素
の濃度を濃度差の閾値ＳＬ２と比較し欠陥を検出するよ
うにしても良い。欠陥候補点が少ない場合には、この実
施例は候補点の抽出にかかる処理時間を短縮することが
できる。
候補点を抽出するための走査を閾値Ｓ１を用いて行なっ
ているが、候補点を求めずに基準線り上の全ての画素に
ついて点Ｐよりｍ画素遅れた点を点Ｒ４とし、以下走査
方向に隣接する画素を点Ｒ２，Ｒ３，・・・Ｒうとに個
の点を設定するとともに同様に点Ｐより１画素進んだ点
を８１とし、以下走査方向に点Ｓ２．Ｓ１．・・・Ｓｌ
を設定し、これらの点Ｒ，〜Ｒア１点ＳＩ〜Ｓ３の画素
の濃度を濃度差の閾値ＳＬ２と比較し欠陥を検出するよ
うにしても良い。欠陥候補点が少ない場合には、この実
施例は候補点の抽出にかかる処理時間を短縮することが
できる。
また上述の実施例ではスティックマスク６を用いてマス
ク内の最も濃度の大きな値を持つ画素のアドレスをバッ
ファ７にストアする操作を行なっているがこの時同時に
その濃度を別のバッファ８ｂにストアし、基準線となる
基準線りを求める際に同時にバッファ８ｂにストアしｔ
：濃度についてモード値（最も頻度の高い値）を求めて
このモード値をハイライト部位Ｈの基準濃度値ａとし、
この基準濃度値ａを用いて濃度補正を行ない、ハイライ
ト部位Ｈの中の濃度の高い部分のバラツキを少なくする
ようにしても良い。
ク内の最も濃度の大きな値を持つ画素のアドレスをバッ
ファ７にストアする操作を行なっているがこの時同時に
その濃度を別のバッファ８ｂにストアし、基準線となる
基準線りを求める際に同時にバッファ８ｂにストアしｔ
：濃度についてモード値（最も頻度の高い値）を求めて
このモード値をハイライト部位Ｈの基準濃度値ａとし、
この基準濃度値ａを用いて濃度補正を行ない、ハイライ
ト部位Ｈの中の濃度の高い部分のバラツキを少なくする
ようにしても良い。
つまり求めた基準線りの任意の点しＩ（ｘ、、、ｙ。）
の濃度Ｚ ｕ−ｆ ＋ （Ｘ ｕ、３’ ｕ）と基準濃
度値ａについて、 ｆ＋（ｘｕ、ｙｕ）＞ａならばＺｕ＝ａｆ Ｉ（Ｘｕ、
３／ ｕ）≦ａならばｚ ｕ ＝ ｆ（ｘ ｕ 、 ｙ
ｕ ）とする。この操作を基準線り上の全ての点につ
いて行ない、以下基準線■−上の濃度を用いるときはこ
の変換された濃度ｆ（ｘ、、ｙ、） −Ｚ、、を用いる
。
の濃度Ｚ ｕ−ｆ ＋ （Ｘ ｕ、３’ ｕ）と基準濃
度値ａについて、 ｆ＋（ｘｕ、ｙｕ）＞ａならばＺｕ＝ａｆ Ｉ（Ｘｕ、
３／ ｕ）≦ａならばｚ ｕ ＝ ｆ（ｘ ｕ 、 ｙ
ｕ ）とする。この操作を基準線り上の全ての点につ
いて行ない、以下基準線■−上の濃度を用いるときはこ
の変換された濃度ｆ（ｘ、、ｙ、） −Ｚ、、を用いる
。
第９図はこの様子を示しており、図中イは濃度分布を、
口は欠陥の部位を示す。
口は欠陥の部位を示す。
この基準濃度値ａで濃度補正を行なう実施例の場合も欠
陥の判定処理は上述した各実施例と同様に行なう。
陥の判定処理は上述した各実施例と同様に行なう。
［発明の効果］
請求項１記載の発明の画像処理方法は被検査物をＴＶ右
カメラ撮像して得られた濃淡画像からなる原画像を画像
メモリに記憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終
点とを結ぶ線上の画素を中心として直交し、中心点から
両方向に一定画素分のエリアを持つマスクをハイライト
部位の始点から終点まで一画素ずつ走査させ、その走査
毎にマスク内の画素中、濃度が最大である画素の画像メ
モリ上のアドレスをバッファに記憶させ、走査終了時に
上記バッファに記憶させたアドレスを読み出して直線近
似を行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線と
するので、幅を持っている被検査物のハイライト部位の
欠陥を判定するための基準線を設定することができ、ま
た請求項２記載の発明は基準線上の全画素について一定
画素離れた２点の画素についての濃度を画像メモリより
読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定した第１
の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、この欠陥
候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対して遅れ
た点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画素数分
マスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマスクの
走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対応させ
て対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定めた第２
の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間の濃度
差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を欠陥と
判定するので、基準線基づいてハイライト部位の欠陥を
精度よく抽出判定でき、被検査物の良否の判定が確実と
なるという効果がある。
カメラ撮像して得られた濃淡画像からなる原画像を画像
メモリに記憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終
点とを結ぶ線上の画素を中心として直交し、中心点から
両方向に一定画素分のエリアを持つマスクをハイライト
部位の始点から終点まで一画素ずつ走査させ、その走査
毎にマスク内の画素中、濃度が最大である画素の画像メ
モリ上のアドレスをバッファに記憶させ、走査終了時に
上記バッファに記憶させたアドレスを読み出して直線近
似を行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線と
するので、幅を持っている被検査物のハイライト部位の
欠陥を判定するための基準線を設定することができ、ま
た請求項２記載の発明は基準線上の全画素について一定
画素離れた２点の画素についての濃度を画像メモリより
読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定した第１
の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、この欠陥
候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対して遅れ
た点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画素数分
マスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマスクの
走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対応させ
て対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定めた第２
の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間の濃度
差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を欠陥と
判定するので、基準線基づいてハイライト部位の欠陥を
精度よく抽出判定でき、被検査物の良否の判定が確実と
なるという効果がある。
また請求項３記載の発明は基準線上の全画素について、
各画素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して
進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた
画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度
差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若
しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大き
いときに当該点を欠陥と判定するので、欠陥の候補点が
多く発生ずる対象物に対しては判定時間を短くすること
ができる。
各画素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して
進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた
画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度
差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若
しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大き
いときに当該点を欠陥と判定するので、欠陥の候補点が
多く発生ずる対象物に対しては判定時間を短くすること
ができる。
更に請求項４記載の発明はマスク内に位置する画素中濃
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶させ際に別のバッファに当該画素の濃度データ
を画像メモリより読み出して記憶させ、走査終了後に別
のバッファに記憶した濃度データから最も頻度の高い濃
度を基準濃度値とし、この基準濃度値と、上記基準線上
の全ての点の画素の濃度とを各画素毎に比較して画素の
濃度が基準濃度値より大きいときに当該画素の濃度を基
準濃度値に補正するので、ハイライト部位の高い濃度の
部分のばらつきを少なくすることがてき、−層欠陥の判
定を確実なものとすることができるという効果がある。
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶させ際に別のバッファに当該画素の濃度データ
を画像メモリより読み出して記憶させ、走査終了後に別
のバッファに記憶した濃度データから最も頻度の高い濃
度を基準濃度値とし、この基準濃度値と、上記基準線上
の全ての点の画素の濃度とを各画素毎に比較して画素の
濃度が基準濃度値より大きいときに当該画素の濃度を基
準濃度値に補正するので、ハイライト部位の高い濃度の
部分のばらつきを少なくすることがてき、−層欠陥の判
定を確実なものとすることができるという効果がある。
第１図は本発明画像処理方法に用いる画像処理装置の構
成図、第２図は同上装置のＴＶカメラで撮像された原画
像の画像メモリ上の説明図、第３図は同上装置の撮像系
の配置構成図、第４図同−Ｆ実原画像の説明側図、第５
図は本発明の一実施例に使用のスティックマスクの構成
図、第６図は同上のスティックマスクの走査説明図、第
７図は同上の欠陥候補の抽出の説明図、第８図は同上の
欠陥の認識の説明図、第９図は本発明の別の実施例に用
いる基準濃度値による濃度補正の説明図である。 １はＴＶカメラ、３は画像メモリ、５は演算処理部、６
はスティックマスク、７は被検査物、８ａ、８ｂはバッ
ファ、ｆは原画像、Ｈはハイライト部位、しは基準線、
ａは基準濃度値である。
成図、第２図は同上装置のＴＶカメラで撮像された原画
像の画像メモリ上の説明図、第３図は同上装置の撮像系
の配置構成図、第４図同−Ｆ実原画像の説明側図、第５
図は本発明の一実施例に使用のスティックマスクの構成
図、第６図は同上のスティックマスクの走査説明図、第
７図は同上の欠陥候補の抽出の説明図、第８図は同上の
欠陥の認識の説明図、第９図は本発明の別の実施例に用
いる基準濃度値による濃度補正の説明図である。 １はＴＶカメラ、３は画像メモリ、５は演算処理部、６
はスティックマスク、７は被検査物、８ａ、８ｂはバッ
ファ、ｆは原画像、Ｈはハイライト部位、しは基準線、
ａは基準濃度値である。
Claims (4)
- （１）被検査物をＴＶカメラで撮像して得られた濃淡画
像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像のハ
イライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中心と
して直交し、中心点から両方向に一定画素分のエリアを
持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一画素
ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の画素中、濃度が
最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッファに
記憶させ、走査終了時に上記バッファに記憶させたアド
レスを読み出して直線近似を行ない、得られた直線をハ
イライト部位の基準線とすることを特徴とする画像処理
方法。 - （２）被検査物をＴＶカメラで撮像して得られた濃淡画
像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像のハ
イライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中心と
して直交し、中心点から両方向に一定のエリアを持つマ
スクをハイライト部位の始点から終点まで一画素ずつ走
査させ、その走査毎にマスク内に位置する画素中濃度が
最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッファに
記憶させ、走査終了時にバッファに記憶させたアドレス
を読み出して直線近似を行ない、得られた直線をハイラ
イト部位の基準線とし、該基準線上の全画素について一
定画素離れた２点の画素についての濃度を画像メモリよ
り読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定した第
１の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、この欠
陥候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対して遅
れた点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画
素までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画素数
分マスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマスク
の走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対応さ
せて対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定めた第
２の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間の濃
度差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を欠陥
と判定することを特徴とする画像処理方法。 - （３）被検査物をＴＶカメラで撮像して得られた濃淡画
像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像のハ
イライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中心と
して直交し、中心点から両方向に一定画素分のエリアを
持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一画素
ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置する画素中
濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッ
ファに記憶させ、走査終了時にバッファに記憶させたア
ドレスを読み出して直線近似を行ない、得られた直線を
ハイライト部位の基準線とし、該基準線上の全画素につ
いて、各画素よりある一定画素数分マスクの走査方向に
対して進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数
離れた画素までの各画素を対応させて対応する画素同士
の濃度差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して
全て若しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値より
も大きいときに当該点を欠陥と判定することを特徴とす
る画像処理方法。 - （４）被検査物をＴＶカメラで撮像して得られた濃淡画
像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像のハ
イライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中心と
して直交し、中心点から両方向に一定画素分のエリアを
持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一画素
ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置する画素中
濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッ
ファに記憶させるときに同時に別のバッファに当該画素
の濃度データを画像メモリより読み出して記憶させ、走
査終了後に別のバッファに記憶した濃度データから最も
頻度の高い濃度を基準濃度値とし、この基準濃度値と、
上記基準線上の全ての点の画素の濃度とを各画素毎に比
較して画素の濃度が基準濃度値より大きいときに当該画
素の濃度を基準濃度値に補正することを特徴とする請求
項２又は３記載の画像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP690489A JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP690489A JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02187652A true JPH02187652A (ja) | 1990-07-23 |
| JPH0690144B2 JPH0690144B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=11651224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP690489A Expired - Lifetime JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0690144B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019159889A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | オムロン株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びそのプログラム |
-
1989
- 1989-01-14 JP JP690489A patent/JPH0690144B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019159889A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | オムロン株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びそのプログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0690144B2 (ja) | 1994-11-14 |
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