JPH01113348A - 新規な2―メチル―4―フルオロ―フエノール類及びそれらの製造法 - Google Patents
新規な2―メチル―4―フルオロ―フエノール類及びそれらの製造法Info
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- JPH01113348A JPH01113348A JP63226697A JP22669788A JPH01113348A JP H01113348 A JPH01113348 A JP H01113348A JP 63226697 A JP63226697 A JP 63226697A JP 22669788 A JP22669788 A JP 22669788A JP H01113348 A JPH01113348 A JP H01113348A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
- C07C205/13—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by hydroxy groups
- C07C205/26—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by hydroxy groups and being further substituted by halogen atoms
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
式(I)
式中、
RはNo2またはNl2を表す、
の新規な2−メチル−4−フルオロ−フェノール類が見
い出された。
い出された。
これらは、2−メチル−4−フルオロ−5−二トロフェ
ノール及び2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェ
ノールである。
ノール及び2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェ
ノールである。
2−メチル−4−フルオロ−7エノール中のフェノール
の水素原子をまず保護基によって置換し、次に0ないし
40℃でニトロ基を導入し、次に保護基を水及び酸の存
在下で還流に加熱することによって再び取り除き、そし
てかくして導入されたニトロ基を随時アミノ基に還元す
ることを特徴とする、式(I)の化合物の製造方法も見
い出された。
の水素原子をまず保護基によって置換し、次に0ないし
40℃でニトロ基を導入し、次に保護基を水及び酸の存
在下で還流に加熱することによって再び取り除き、そし
てかくして導入されたニトロ基を随時アミノ基に還元す
ることを特徴とする、式(I)の化合物の製造方法も見
い出された。
出発物質としてこの方法に必要とされる2−メチル−4
−フルオロ−フェノールは、公知でありそして容易に入
手できる(例えは、ジエイ、アム、ケム。
−フルオロ−フェノールは、公知でありそして容易に入
手できる(例えは、ジエイ、アム、ケム。
ソス、 (J、Am、Chem、Soc、)81.94
(1959)参照)。
(1959)参照)。
本発明による方法の第一のステップ、2−メチル−4〜
フルオロ−フェノール中のフェノールの水素原子の保護
基による置換は、例えば、水素原子が、式(II a)
ないしくIrc) 〜CR+ (I[a)一〇OR+
(I[b)〜S−R+
(II c)式中、 R,はC1−ないしC1〜アルキルを、そして、式(U
a)及び(I[c)においては、随時置換されたフェ
ニルをも表す、 の基によって置換されるような方法で行われてよい。
フルオロ−フェノール中のフェノールの水素原子の保護
基による置換は、例えば、水素原子が、式(II a)
ないしくIrc) 〜CR+ (I[a)一〇OR+
(I[b)〜S−R+
(II c)式中、 R,はC1−ないしC1〜アルキルを、そして、式(U
a)及び(I[c)においては、随時置換されたフェ
ニルをも表す、 の基によって置換されるような方法で行われてよい。
このような基は、例えば、2−メチル−4−フルオロ−
フェノールを、好ましくはアルカリ水の存在下でそして
−20ないし+100℃の温度で、式(I[a)ないし
くII c)の一つに対応しそして自由原子価上にハロ
ゲン原子、好ましくは塩素原子を含む化合物と反応させ
ることによって導入することができる。特に好ましくは
、2−メチル−4−フルオロ−フェノールを、メチルま
たはエチルクロロホルメートと反応させる。純粋な生成
物は、例えば、反応混合物を水と混ざらない溶媒、例え
ば塩素化炭化水素で抽出し、有機抽出液を乾燥し、そし
て分別蒸留することによって反応混合物から単離するこ
とができる。
フェノールを、好ましくはアルカリ水の存在下でそして
−20ないし+100℃の温度で、式(I[a)ないし
くII c)の一つに対応しそして自由原子価上にハロ
ゲン原子、好ましくは塩素原子を含む化合物と反応させ
ることによって導入することができる。特に好ましくは
、2−メチル−4−フルオロ−フェノールを、メチルま
たはエチルクロロホルメートと反応させる。純粋な生成
物は、例えば、反応混合物を水と混ざらない溶媒、例え
ば塩素化炭化水素で抽出し、有機抽出液を乾燥し、そし
て分別蒸留することによって反応混合物から単離するこ
とができる。
本発明による方法の第二のステップ、ニトロ基の導入は
、例えば、第一のステップからの生成物を混酸でニトロ
化するような方法で実施することかできる。混酸は、例
えば、90ないし100重量%の濃度の硝酸と90ない
し100重量%の濃度の硫酸の、硝酸対硫酸の重量比が
例えば1:0.5ないしl:5の範囲にある混合物から
成ってよい。
、例えば、第一のステップからの生成物を混酸でニトロ
化するような方法で実施することかできる。混酸は、例
えば、90ないし100重量%の濃度の硝酸と90ない
し100重量%の濃度の硫酸の、硝酸対硫酸の重量比が
例えば1:0.5ないしl:5の範囲にある混合物から
成ってよい。
ニトロ化は、好ましくは溶媒、例えば塩素化炭化水素の
存在下で実施される。混酸の形での1ないし1.2モル
の硝酸を、例えば、本発明による方法の第一のステップ
からの生成物に対して用いてよい。
存在下で実施される。混酸の形での1ないし1.2モル
の硝酸を、例えば、本発明による方法の第一のステップ
からの生成物に対して用いてよい。
ニトロ化の間、温度は0ないし40°Cの範囲に保たれ
る。好ましくは、反応は、0ないし20°Cの範囲の温
度で開始され、そして10ないし30°Cの範囲の温度
で完結に導かれる。ニトロ化混合物の後処理は、例えば
、それを氷上に注ぎ、有機相を分離し、もし適当ならば
水と混ざらない溶媒を添加後、乾燥し、そして分別蒸留
することによって行われてよい。
る。好ましくは、反応は、0ないし20°Cの範囲の温
度で開始され、そして10ないし30°Cの範囲の温度
で完結に導かれる。ニトロ化混合物の後処理は、例えば
、それを氷上に注ぎ、有機相を分離し、もし適当ならば
水と混ざらない溶媒を添加後、乾燥し、そして分別蒸留
することによって行われてよい。
本発明による方法の第三のステップ、フェノールの酸素
原子に配置された保護基の取り除きは、第二のステップ
の生成物を、水と酸の存在下で還流に加熱するような方
法で実施される。例えば、塩酸水、臭酸水及び硫酸水が
、このために適当である。
原子に配置された保護基の取り除きは、第二のステップ
の生成物を、水と酸の存在下で還流に加熱するような方
法で実施される。例えば、塩酸水、臭酸水及び硫酸水が
、このために適当である。
好ましくは、この反応はまた、溶媒、例えば50ないし
120°C(大気圧で)の範囲の沸点を有する溶媒の存
在下で実施される。
120°C(大気圧で)の範囲の沸点を有する溶媒の存
在下で実施される。
一般には6ないし24時間後である、反応の完結後、反
応混合物を、例えば以下のようにして後処理してよい:
それをまず減圧下で濃縮し、次に抽出剤、例えばエーテ
ルを添加し、次に有機相を分離しそしてアルカリ水でよ
く洗浄する。水/アルカリ相を酸性化すると、2−メチ
ル−4−フルオロ−5−二トロフェノールが、例えハ、
トルエンかう再結晶できる固体として沈澱する。本発明
による方法の第二のステップからのまだ加水分解されて
いない生成物を、随時残りの有機相から回収することが
できる。
応混合物を、例えば以下のようにして後処理してよい:
それをまず減圧下で濃縮し、次に抽出剤、例えばエーテ
ルを添加し、次に有機相を分離しそしてアルカリ水でよ
く洗浄する。水/アルカリ相を酸性化すると、2−メチ
ル−4−フルオロ−5−二トロフェノールが、例えハ、
トルエンかう再結晶できる固体として沈澱する。本発明
による方法の第二のステップからのまだ加水分解されて
いない生成物を、随時残りの有機相から回収することが
できる。
2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェノールの製
造のためには、もしこれを望むならば、2−メチル−4
−フルオロ−5−二トロフェノールを更に還元しなけれ
ばならない。この還元は、種々の方法で、例えば還元剤
として鉄または亜鉛を使用して行うことができる。好ま
しくは、この還元は、水素を使用して接触的に実施され
る。触媒としては、例えば、う不一ニッケルまたは貴金
属の、特にパラジウムまたは白金の触媒を、このために
使用してよい。触媒は、述べられた金属を金属の形でま
たは化合物の形で含んでよい。それらはまた、金属及び
/または化合物が支持材料に、例えば炭素、アルミナ、
シリカまたはシリケートに付与された支持触媒でもよい
。もし還元を水素を使用して接触的に実施するのであれ
ば、この反応は、好ましくは溶媒、例えばメタノールま
たはエタノールのようなアルコールの存在下で、20な
いし50℃の温度及びlないし50barの水素圧力で
実施され、そしてこの還元は、計算量の水素が取り込ま
れるような時間の間実施される。
造のためには、もしこれを望むならば、2−メチル−4
−フルオロ−5−二トロフェノールを更に還元しなけれ
ばならない。この還元は、種々の方法で、例えば還元剤
として鉄または亜鉛を使用して行うことができる。好ま
しくは、この還元は、水素を使用して接触的に実施され
る。触媒としては、例えば、う不一ニッケルまたは貴金
属の、特にパラジウムまたは白金の触媒を、このために
使用してよい。触媒は、述べられた金属を金属の形でま
たは化合物の形で含んでよい。それらはまた、金属及び
/または化合物が支持材料に、例えば炭素、アルミナ、
シリカまたはシリケートに付与された支持触媒でもよい
。もし還元を水素を使用して接触的に実施するのであれ
ば、この反応は、好ましくは溶媒、例えばメタノールま
たはエタノールのようなアルコールの存在下で、20な
いし50℃の温度及びlないし50barの水素圧力で
実施され、そしてこの還元は、計算量の水素が取り込ま
れるような時間の間実施される。
還元の後に存在する反応混合物は、例えば、まず還元剤
の二次生成物を、随時過剰の還元剤と一緒に、あるいは
触媒を、分離し、存在する溶媒を随時蒸発し去り、そし
て残留する残査を、例えばトルエンから再結晶すること
によって後処理してよい。
の二次生成物を、随時過剰の還元剤と一緒に、あるいは
触媒を、分離し、存在する溶媒を随時蒸発し去り、そし
て残留する残査を、例えばトルエンから再結晶すること
によって後処理してよい。
各々のステップの後で存在する生成物を単離しかつ精製
することは必須ではない。特に、第二のステップで得ら
れるニトロ化合物は、粗製の状態でさらに処理すること
ができる。
することは必須ではない。特に、第二のステップで得ら
れるニトロ化合物は、粗製の状態でさらに処理すること
ができる。
対応するメトキシ化合物(HO−基の代わりにCH3−
〇−を含む)のニトロ化においては、その他の異性体が
生成する(実施例5参照)ので、前述の方法で、新規な
化合物、2−メチル−4−フルオロ−5−二トロフェノ
ール及び−5−アミノフェノールを楽に得ることができ
ることは、予期されなかった。
〇−を含む)のニトロ化においては、その他の異性体が
生成する(実施例5参照)ので、前述の方法で、新規な
化合物、2−メチル−4−フルオロ−5−二トロフェノ
ール及び−5−アミノフェノールを楽に得ることができ
ることは、予期されなかった。
本発明の新規な化合物(2−メチル−4−フルオロ−5
−二トロフェノール−A:2−メチル−4−フルオロ−
5−アミノフェノール−B)は、以下のような特性を有
することが明らかになった: 本発明の新規な化合物は、式(I[[)式中、 Hetは式 の複素環を表し、 R3は水素またはハロゲンを表し、 R1はアルキルを表し、そして R4は、各々の場合において随時置換されたアルキル、
アルケニル、アルキニルまたはシクロアルキルを、ある
いは基 −c−Ri または基 −302−R。
−二トロフェノール−A:2−メチル−4−フルオロ−
5−アミノフェノール−B)は、以下のような特性を有
することが明らかになった: 本発明の新規な化合物は、式(I[[)式中、 Hetは式 の複素環を表し、 R3は水素またはハロゲンを表し、 R1はアルキルを表し、そして R4は、各々の場合において随時置換されたアルキル、
アルケニル、アルキニルまたはシクロアルキルを、ある
いは基 −c−Ri または基 −302−R。
を表し、
ここで、
Aは式
の基を表し、
XI及びX2は、各々の場合において、酸素または硫黄
を表し、 Zは水素、ヒドロキシルまたは塩素を表し、R6はアル
キル、アルコキシまたはハロゲノアルキルを表し、 R,はアルキル、ハロゲノアルキルを、あるいは随時置
換されたアリールを表し、そしてR7及びR8は、お互
いに独立に各々の場合において、水素、ハロゲン、アル
キルまたはハロゲノアルキルを表す、 の特に活性な除草剤及び植物成長調節剤の製造のための
有用な中間体である。
を表し、 Zは水素、ヒドロキシルまたは塩素を表し、R6はアル
キル、アルコキシまたはハロゲノアルキルを表し、 R,はアルキル、ハロゲノアルキルを、あるいは随時置
換されたアリールを表し、そしてR7及びR8は、お互
いに独立に各々の場合において、水素、ハロゲン、アル
キルまたはハロゲノアルキルを表す、 の特に活性な除草剤及び植物成長調節剤の製造のための
有用な中間体である。
式(DI)の化合物は、例えば、R−NH,を有する式
(I)の化合物から、R−NH2を有する式(I)の化
合物を、式(IV) 式中、 Aは上述の意味を有する、 の無水物と反応させ、そして引き続いて通常のアルキル
化剤、アシル化剤またはスルホニル化剤を用いてフェノ
ールのOH基を0−R4基に転換することによって得る
ことができる。
(I)の化合物から、R−NH2を有する式(I)の化
合物を、式(IV) 式中、 Aは上述の意味を有する、 の無水物と反応させ、そして引き続いて通常のアルキル
化剤、アシル化剤またはスルホニル化剤を用いてフェノ
ールのOH基を0−R4基に転換することによって得る
ことができる。
実施例
実施例1
42gの水酸化ナトリウム及び106gの2−メチル−
4−フルオロ−フェノールを、660m1の水の中に順
番に導入した。次に、108gのメチルクロロホルメー
トを+5°Cで滴加した。この混合物を+ 56cで2
時間撹拌し、引き続いてジクロロメタンを用いて抽出し
、そして有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそして引き続
いて減圧下で分別蒸留した。15mbarで98ないし
100℃の沸点及び1.4770の屈折率n。20を有
する(2−メチル−4−フルオロ−フェニル)−メチル
カーボネート139gが得られた。かくして収率は理論
の88%であった。
4−フルオロ−フェノールを、660m1の水の中に順
番に導入した。次に、108gのメチルクロロホルメー
トを+5°Cで滴加した。この混合物を+ 56cで2
時間撹拌し、引き続いてジクロロメタンを用いて抽出し
、そして有機相を硫酸ナトリウムで乾燥しそして引き続
いて減圧下で分別蒸留した。15mbarで98ないし
100℃の沸点及び1.4770の屈折率n。20を有
する(2−メチル−4−フルオロ−フェニル)−メチル
カーボネート139gが得られた。かくして収率は理論
の88%であった。
★施例2
65gの実施例1からの生成物を130m1のジクロロ
メタン中に導入し、そして33重量%の硝酸と67%の
硫酸(それぞれの濃度は100%)から調製された65
gの混酸を20°Cで滴加した。この混合物をこの温度
で2時間そして最後には30℃でさらに1時間撹拌した
。冷却後、この混合物を氷の上に注ぎ、そして有機相を
分離しそして蒸留した。9.27mbarで120ない
し125°Cの沸点及び68°Cの融点を有する(2−
メチル−4−フルオロ−ニトロフェニル)−メチルカー
ボネート62gが得られた。収率は理論の76.6%で
あった。
メタン中に導入し、そして33重量%の硝酸と67%の
硫酸(それぞれの濃度は100%)から調製された65
gの混酸を20°Cで滴加した。この混合物をこの温度
で2時間そして最後には30℃でさらに1時間撹拌した
。冷却後、この混合物を氷の上に注ぎ、そして有機相を
分離しそして蒸留した。9.27mbarで120ない
し125°Cの沸点及び68°Cの融点を有する(2−
メチル−4−フルオロ−ニトロフェニル)−メチルカー
ボネート62gが得られた。収率は理論の76.6%で
あった。
実施例3
実施例2からの生成物156gを、ジオキサ’7400
m1及び37重量%濃度の塩酸水300m lとともに
12時間還流加熱した。冷却された反応混合物を引き続
いて減圧下で濃縮し、そして残査をメチルtert、−
ブチルエーテル中に取った。エーテル相を、10重量%
濃度の水酸化ナトリウム溶液40抛lでよく洗浄した。
m1及び37重量%濃度の塩酸水300m lとともに
12時間還流加熱した。冷却された反応混合物を引き続
いて減圧下で濃縮し、そして残査をメチルtert、−
ブチルエーテル中に取った。エーテル相を、10重量%
濃度の水酸化ナトリウム溶液40抛lでよく洗浄した。
アルカリ水相を酸性化すると沈澱する生成物を濾過しそ
してトルエンから再結晶した。それは、138ないし1
42℃の融点を有する2−メチル−4−フルオロ−5−
二トロフェノールであった。収量は86gにのぼり、こ
れは理論の73.5%に対応した。
してトルエンから再結晶した。それは、138ないし1
42℃の融点を有する2−メチル−4−フルオロ−5−
二トロフェノールであった。収量は86gにのぼり、こ
れは理論の73.5%に対応した。
実施例4
800m lのエタノールを54gの実施例3からの生
成物に添加し、そして3gの二酸化白金の添加の後で、
この混合物を20ないし30°C及び5barの圧力で
還元した。計算量の水素が取り込まれた後で、圧力を解
放し、触媒を濾別し、溶媒を真空中で蒸発し去り、モし
て残査をトルエンから再結晶した。147℃のilを有
する2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェノール
36.1gが得られた。これは理論の81%に対応した
。
成物に添加し、そして3gの二酸化白金の添加の後で、
この混合物を20ないし30°C及び5barの圧力で
還元した。計算量の水素が取り込まれた後で、圧力を解
放し、触媒を濾別し、溶媒を真空中で蒸発し去り、モし
て残査をトルエンから再結晶した。147℃のilを有
する2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェノール
36.1gが得られた。これは理論の81%に対応した
。
実施例5(本発明によらない)
56gの2−メチル−4−フルオロ−メトキシ−ベンゼ
ンをlOoCで150m1のジクロロメタン中に導入し
、そして85gのニトロ化する酸(HN Os含量33
%)を30分で滴加した。つぎにこの混合物を10℃で
1時間そして20°Cで1時間撹拌した。引き統いて反
応混合物を氷の上に注ぎ、ジクロロメタンを用いて抽出
し、そして有機相を分離しそして蒸留した。20mba
rで130ないし132℃で留出する生成物を集め、そ
して50m lのn−ヘキサンとともに撹拌後吸引濾別
した。38ないし40℃の融点を有する2−メチル−3
−ニトロ−4−フルオロ−メトキシ−ベンゼン26gが
得られた。
ンをlOoCで150m1のジクロロメタン中に導入し
、そして85gのニトロ化する酸(HN Os含量33
%)を30分で滴加した。つぎにこの混合物を10℃で
1時間そして20°Cで1時間撹拌した。引き統いて反
応混合物を氷の上に注ぎ、ジクロロメタンを用いて抽出
し、そして有機相を分離しそして蒸留した。20mba
rで130ないし132℃で留出する生成物を集め、そ
して50m lのn−ヘキサンとともに撹拌後吸引濾別
した。38ないし40℃の融点を有する2−メチル−3
−ニトロ−4−フルオロ−メトキシ−ベンゼン26gが
得られた。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1、式
式中、
RはNO□またはNH2を表す、
の2−メチル−4−フルオロ−フェノール類。
2.2−メチル−4−フルオa−5−二トロフェノール
。
。
3.2−メチル−4−フルオロ−5−アミノフェノール
。
。
4.2−メチル−4−フルオロ−フェノール中のフェノ
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40°Cでニトロ基を導入し、次に保護基を水及び
酸の存在下で還流に加熱することによって再び取り除き
、そしてかくして導入されたニトロ基を随時アミノ基に
還元することを特徴とする、上記lに記載の化合物の製
造方法。
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40°Cでニトロ基を導入し、次に保護基を水及び
酸の存在下で還流に加熱することによって再び取り除き
、そしてかくして導入されたニトロ基を随時アミノ基に
還元することを特徴とする、上記lに記載の化合物の製
造方法。
5.2−メチル−4−フルオロ−7エノール中のフェノ
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40°Cでニトロ基を導入し、そして次に保護基を
水及び酸の存在下で還流に加熱することによって再び取
り除くことを特徴とする、2−メチル−4−フルオロ−
5−二トロフェノールの製造方法。
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40°Cでニトロ基を導入し、そして次に保護基を
水及び酸の存在下で還流に加熱することによって再び取
り除くことを特徴とする、2−メチル−4−フルオロ−
5−二トロフェノールの製造方法。
6.2−メチル−4−フルオロ−フェノール中の7エノ
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40℃でニトロ基を導入し、次に保護基を水及び酸
の存在下で還流に加熱することによって再び取り除き、
そしてかくして導入されたニトロ基をアミノ基に還元す
ることを特徴とする、2−メチル−4−フルオロ−5−
アミノフェノールの製造方法。
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40℃でニトロ基を導入し、次に保護基を水及び酸
の存在下で還流に加熱することによって再び取り除き、
そしてかくして導入されたニトロ基をアミノ基に還元す
ることを特徴とする、2−メチル−4−フルオロ−5−
アミノフェノールの製造方法。
7.90ないし100重量%の濃度の硝酸と90ないし
100重量%の濃度の硫酸を、硝酸対硫酸の重量比がl
:o、5ないしl:5の範囲で含む混合物をニトロ化の
ために使用することを特徴とする、上記4ないし6に記
載の方法。
100重量%の濃度の硫酸を、硝酸対硫酸の重量比がl
:o、5ないしl:5の範囲で含む混合物をニトロ化の
ために使用することを特徴とする、上記4ないし6に記
載の方法。
8、ニトロ化をOないし20℃の範囲の温度で開始し、
そして10ないし30℃の範囲の温度で完結に導くこと
を特徴とする、上記4ないし7に記載の方法。
そして10ないし30℃の範囲の温度で完結に導くこと
を特徴とする、上記4ないし7に記載の方法。
9、還元を、還元剤として鉄または亜鉛を用いて、ある
いは水素を用いて接触的に実施することを特徴とする、
上記4ないし6に記載の方法。
いは水素を用いて接触的に実施することを特徴とする、
上記4ないし6に記載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 RはNO_2またはNH_2を表す、 の2−メチル−4−フルオロ−フェノール類。 2、2−メチル−4−フルオロ−フェノール中のフェノ
ールの水素原子をまず保護基によって置換し、次に0な
いし40℃でニトロ基を導入し、次に保護基を水及び酸
の存在下で還流に加熱することによって再び取り除き、
そしてかくして導入されたニトロ基を随時アミノ基に還
元することを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の
化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873731527 DE3731527A1 (de) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | Neue 2-methyl-4-fluor-phenole und deren herstellung |
| DE3731527.7 | 1987-09-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01113348A true JPH01113348A (ja) | 1989-05-02 |
| JP2577454B2 JP2577454B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=6336378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63226697A Expired - Lifetime JP2577454B2 (ja) | 1987-09-18 | 1988-09-12 | 新規な2ーメチルー4ーフルオローフエノール類及びそれらの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4885388A (ja) |
| EP (1) | EP0307777B1 (ja) |
| JP (1) | JP2577454B2 (ja) |
| DE (2) | DE3731527A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4017516A1 (de) * | 1990-05-31 | 1991-12-05 | Wella Ag | Oxidationshaarfaerbemittel mit einem gehalt an 3-aminophenol-derivaten, verfahren zum oxidativen faerben von haaren sowie neue 3-aminophenol-derivate |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL26949A (en) | 1965-12-17 | 1971-04-28 | Ile De France | 3-nitro-4-halophenol derivatives and their preparation |
| SE371359B (ja) * | 1968-06-04 | 1974-11-18 | Shell Int Research | |
| DE2001570B2 (de) * | 1970-01-15 | 1978-07-20 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung aromatischer Dinitrohalogenverbindungen |
| JPS5039654B1 (ja) * | 1971-04-07 | 1975-12-18 | ||
| US4006185A (en) * | 1973-07-23 | 1977-02-01 | Olin Corporation | 5-Substituted-2-fluoroanilines |
| CH631962A5 (de) * | 1977-12-23 | 1982-09-15 | Ciba Geigy Ag | Kontinuierliches reduktionsverfahren. |
| AU550845B2 (en) * | 1981-03-30 | 1986-04-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Tetrahydrophthalimides and their starting compounds |
| DE3524329A1 (de) * | 1985-07-08 | 1987-01-08 | Henkel Kgaa | Neue aminophenole und deren verwendung in oxidationshaarfaerbemitteln |
| JPH01246150A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フェライト膜の形成方法 |
| JP2512799B2 (ja) * | 1989-03-08 | 1996-07-03 | リンナイ株式会社 | 湯張り機能付き給湯器 |
-
1987
- 1987-09-18 DE DE19873731527 patent/DE3731527A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-07 EP EP88114593A patent/EP0307777B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-07 DE DE8888114593T patent/DE3877297D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-12 US US07/243,386 patent/US4885388A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-12 JP JP63226697A patent/JP2577454B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0307777A2 (de) | 1989-03-22 |
| DE3731527A1 (de) | 1989-03-30 |
| DE3877297D1 (de) | 1993-02-18 |
| US4885388A (en) | 1989-12-05 |
| JP2577454B2 (ja) | 1997-01-29 |
| EP0307777A3 (en) | 1989-11-02 |
| EP0307777B1 (de) | 1993-01-07 |
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