JPH01116074A - 走行基板の真空シール装置 - Google Patents

走行基板の真空シール装置

Info

Publication number
JPH01116074A
JPH01116074A JP27192387A JP27192387A JPH01116074A JP H01116074 A JPH01116074 A JP H01116074A JP 27192387 A JP27192387 A JP 27192387A JP 27192387 A JP27192387 A JP 27192387A JP H01116074 A JPH01116074 A JP H01116074A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
traveling
vacuum
rolls
sealing device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27192387A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Yanagi
謙一 柳
Yoshiaki Mito
三登 良紀
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Hajime Okita
沖田 肇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP27192387A priority Critical patent/JPH01116074A/ja
Publication of JPH01116074A publication Critical patent/JPH01116074A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分計〕 本発明は、プラスチックフィルム、紙等の連続真空蒸着
装置等に適用される走行基板の真空シール装置に関する
。
〔従来の技術〕
従来はプラスチックフィルム、紙等に対する真空蒸着は
バッチ方式で行なわれており、連続して走行するフィル
ム、紙等の真空シール装置はない。また、鋼板を対象と
した従来の真空シール製電を第4図に示す。
第参図において、1は走行基板(鋼板)、2a、2b、
2c・・・・・・・・・は互いに間隔をおいて配置さK
た入側シールロール装置、3a。
3b、3a・・・・・・・・・は互いに間隔をおいて配
置され九出側シールロール装置、4a、4b。
4C・・・・・・・・・は真空ポンプ、5は蒸着装置、
6a。
6b、6e・・・・・・・・・は圧力室、7は蒸着室、
8はデフレクタ−ロール、9は巻付四−ルである。
走行基板1は一対のピンチロールで構成すれたシールロ
ール装置、2a、2b、2c・・・・・・・・・で仕切
られそれぞれ真空ポンプ4a、4b。
4cK連絡されている圧力室6a、6b、6c・・・・
・・・・・を経て所定の真空度に保たれ念蒸着室7に達
し、該蒸着室内で蒸着装置5によって蒸着めっきされる
。走行基板1は蒸着室7内で入口側の走行方向と180
度その走行方向が変換されて逆方向に走行し、出側シー
ルロール装置、aa、ab、3c・・・・・・・・・を
経て大気中へ搬出される。
各シールロール装置の詳細を第5図及び第6図に示す。
第1図において、11.12はその間に走行基板1を挾
むニップを形成し図示の方向九回転する1対のピンチロ
ール、16はケーシング、14はケーシング16からピ
ンチローtv 11 #12の面に近接する位tまで延
びているシールパー、17は上流側圧力室、18は下流
側圧力室、19a、19b、19cはo−/l/11゜
12のまわりに図示のように形成されるリークすきまで
ある。上流側圧力室17と下流側圧力室18とはピンチ
ロール11,12及びシールパー14とで仕切られ、わ
ずかなリークすきま19a、19b、19cを通って下
流側から下流側へガスが流れる。
なお、19aはピンチロール11とシールパー14との
すきま、19bはピンチロール11の軸端とケーシング
16とのすきt、19cはピンチロール11及び12の
間で走行基板工のない部分のすきまである。
基板の真空シール装置では、リークすきま面積を小さく
して上流側から下流側へ流れるガス流量を小さくするこ
とが、真空ポンプ容it小さく抑える丸めに必要である
。
しかしながら、回転す名ビンチロールと固定されたシー
ルパーあるいはケーシングとの間のすきまは接触防止の
ためある一定値以上小さくすることができず、リークす
きま面積を小さくするには限界があつ之。
本発明は、この問題点を解決しようとするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上流側シール四−ル、下流側シールロールを
一本化して、3本−組のピンチロールを構成するように
したシールロール装置を採用した。
即ち、本発明の走行基板の真空シール装置は、連続的に
大気中から真空室に導かれ同真空室内で180度その走
行方向が変換されて逆行して再び大気中に導かれる走行
基板の真空シール装置において、上記走行基板の互に逆
方向に走行する部分間に位置して真空室(向って走行す
る部分の走行基板の一方の面と大気中に向って走行する
部分の走行基板の一方の面にそれぞれ接する第一のロー
ル、上記第一のロールとニップを形成して真空室に向っ
て走行する走行基板のiも面に接する第二のロール、及
び上記第一のロールとニップを形成して大気中に向って
走行する走行基板のJの面に接する第三のロールで形成
されるシールロール装置を複数個間隔をおいて配設し、
隣接するシールロール装置間に圧力室を形成した。
〔作用〕
本発明においては、上記3個の四−ルによって大気中か
ら真空室に向う走行基板の部分と真空室から大気中に向
う走行基板に向う走行基板の部分の双方をシールするシ
ールロール装置が形成される。
このために、従来の装置に比して所要ロール数が減少し
、リールすき間の合計値が低減しシール性能が向上する
。
また所要ロール数が減少することによって、装置のコス
トが低減する。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第1図ないし第3図によって説明す
る。
本実施例は以下説明する点を除いては、第4図なめし第
6図に示された従来の装着と同様であるので対応する部
分は同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施例では、走行基板1は下方に向って大気中より蒸
発室7に走行して同室内で蒸着され、同蒸発室7内で1
80度方向を変換さ゛れ上方に向って大気中へ走行する
。
2a、2b、2c・・・・・・・・・はシールロール装
置で後記するように3本−組でピンチロールを構成して
いて、各シールロール装置は、入側及び出側シールロー
ル装置を兼ねている。
シールロール装置2a、2b、2cの各々は第2図及び
第3図に示すように、大気中から蒸着室7に向う走行基
板1の部分Aとこれに平行して蒸着室7から大気中に逆
行して向う走行基板10部分Bとの中に配設され、同部
分A、Bにある走行基板1の一面に接する第一のロール
12、同ロール12と走行基板1を挟むニップを形成し
てそれぞれ部分A、BKある走行基板1の他の面に接す
る第二、第三のロール11゜13を備え、ケーシング1
6から同第二、第三ノロール11,13の走行基板1に
向ってロール11.13の面に近接した位置まで延びる
シールパー14.14が設けられている。第2図の矢印
はそれぞれ走行基板10走行方向及びロール11.12
.13の回転方向を示す。
また、上記のように構成されたシールロール装置2a 
、2b 、20の間に形成される圧力室6a、6b、6
cは第1図に示されるようにケーシング16に連接され
た真空ポンプ4a。
4b、4eによって所定の真空度に保たれるようになっ
ている。
本実施例は以上のように構成されていて、シー # ロ
ー ル装置2a 、2b 、2cはピンチマールを構成
する3個のロー、/I/11,12.13を備え、その
各々が従来装置における入口側及び出口側のシールロー
ル装置の機能を兼ねているために、所要のロール数が減
少する。
このために合計のリークすき間の個所が従来の装置にく
らべて減少すること\なシ、リークすき開面積の合計値
を低減させることができ、シール性能が向上する。また
、所要のロール数が減少することによって装置のコスト
が低減される。
〔発明の効果〕
本発明は、以上の通りシールロール装置の所要ロール数
を減少させることができるので、リークすき間がそれだ
け少なくな夛シール性能が向上する。また所要ロール数
の減少によって装置のコストを低減させることができる
。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構成図、第2図は上記実施
例のシールロール装置部分の拡大断面図、第3図は第2
図のA−A線に沿う断面図、第4図は従来の鋼板用の真
空シール装置の構成図、第5図は上記従来の真空シール
装置のシールロール装置部分の拡大断面図、第6図は第
5図のB−B線に沿う断面図である。 1・・・走行基板、2a、2b、2c・・・シールロー
ル装置、4a、4b、4c・・・真空ポンプ、5・・・
蒸着装置、6a、6b、6c・・・圧力室、7・・・蒸
着室、8・・・デフレクタ四−ル、9・・・巻付ロール
、11,12.13・・・ロール、14川シールバー、
16・・・ケーシング。 代理人 弁理士 坂 間  暁  外2名垢2図 84図 1泪       鵬6門 →B

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 連続的に大気中から真空室に導かれ同真空内で180度
    その走行方向が変換されて逆行して再び大気中に導かれ
    る走行基板の真空シール装置において、上記走行基板の
    互に逆方向に走行する部分間に位置して真空室に向つて
    走行する部分の走行基板の一方の面と大気中に向つて走
    行する部分の走行基板の一方の面にそれぞれ接する第一
    のロール、上記第一のロールとニップを形成して真空室
    に向つて走行する走行基板の他方の面に接する第二のロ
    ール、及び上記第一のロールとニップを形成して大気中
    に向つて走行する走行基板の他方の面に接する第三のロ
    ールで形成されるシールロール装置を複数個間隔をおい
    て配設し、隣接するシールロール装置間に圧力室を形成
    したことを特徴とする走行基板の真空シール装置。
JP27192387A 1987-10-29 1987-10-29 走行基板の真空シール装置 Pending JPH01116074A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27192387A JPH01116074A (ja) 1987-10-29 1987-10-29 走行基板の真空シール装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27192387A JPH01116074A (ja) 1987-10-29 1987-10-29 走行基板の真空シール装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01116074A true JPH01116074A (ja) 1989-05-09

Family

ID=17506748

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27192387A Pending JPH01116074A (ja) 1987-10-29 1987-10-29 走行基板の真空シール装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01116074A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010062012A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010062012A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3032890A (en) Sealing structures for treating chambers
JP3199162B2 (ja) 連続真空処理装置
US20110086167A1 (en) Apparatus for atomic layer deposition
US20110023775A1 (en) Apparatus for atomic layer deposition
US8926756B2 (en) Strip passing apparatus, apparatus for treating surface of strip with the same, and method for treating surface of strip
EP2530705A2 (en) Vacuum deposition apparatus
US3868106A (en) Vacuum chamber seal
JPH0152473B2 (ja)
JP2000225331A (ja) エアロック
JPS6326365A (ja) シ−ル装置
JP3059000B2 (ja) 連続真空シール装置
JPH01287275A (ja) 連続真空蒸着装置
JP2006104494A (ja) 表面処理装置
JPH01306562A (ja) 真空チャンバー用シール装置
JPH0735579B2 (ja) 帯状物のエア−ロツク
JP2005060806A (ja) 連続真空処理装置
JP3784846B2 (ja) 連続真空処理装置
JP2532860Y2 (ja) ロールシール装置
JPH054063A (ja) 塗布装置
JPH04346220A (ja) 半導体膜製造装置並びに該装置に用いるローラ
WO2018149510A1 (en) Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate
JP2647513B2 (ja) 連続真空蒸着装置
JPH06256946A (ja) 真空シール装置
JP2789629B2 (ja) デフレクタロール式シールロール装置
JP2615217B2 (ja) 連続真空蒸着装置