JPH01122006A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH01122006A JPH01122006A JP27834087A JP27834087A JPH01122006A JP H01122006 A JPH01122006 A JP H01122006A JP 27834087 A JP27834087 A JP 27834087A JP 27834087 A JP27834087 A JP 27834087A JP H01122006 A JPH01122006 A JP H01122006A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- magnetic
- magnetic head
- thin film
- film forming
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、２つのｈア半体を接合してなる磁気ヘッドに
関する。
関する。
磁気記録の高密度化にともない、磁気記録媒体の保磁力
が高められ、この磁気記録媒体に記録可能な磁気ヘッド
として、少なくとも磁気ギャップと対向する部分を高飽
和磁束密度材料で構成した磁気ヘッドの開発が進められ
ている（特開昭６１−９９９１３号公報）。
が高められ、この磁気記録媒体に記録可能な磁気ヘッド
として、少なくとも磁気ギャップと対向する部分を高飽
和磁束密度材料で構成した磁気ヘッドの開発が進められ
ている（特開昭６１−９９９１３号公報）。
第２図は従来例に係る磁気ヘッドの斜視図である。
ここで、ｌａ、ｌｂは非磁性体よりなる基体、２ａ、２
ｂは磁性層、４はギャップ、５は接合用ガラスである。
ｂは磁性層、４はギャップ、５は接合用ガラスである。
媒体は基体ｌ、金属磁性層２ａ、 ２ｂ、接合ガラス
５上を走行する。このような磁気ヘッドでは金属磁性材
の結晶化温度は５２０℃程度であるため、接合用のガラ
スとしては４６０℃前後で融解するものでなければなら
ない。この条件を満足するものにはＰｂＯや■２０．を
主成分とするガラスがあるが、これらのガラスは媒体走
行時にかけ落ちや摩耗が大きいなどの問題がある。
５上を走行する。このような磁気ヘッドでは金属磁性材
の結晶化温度は５２０℃程度であるため、接合用のガラ
スとしては４６０℃前後で融解するものでなければなら
ない。この条件を満足するものにはＰｂＯや■２０．を
主成分とするガラスがあるが、これらのガラスは媒体走
行時にかけ落ちや摩耗が大きいなどの問題がある。
この発明は、上記の磁気ヘッドが持っていた媒体走行時
のガラスの摩耗及び欠落という問題を解決し、以て媒体
走行性の良好な磁気ヘッドを得ることを目的とする。
のガラスの摩耗及び欠落という問題を解決し、以て媒体
走行性の良好な磁気ヘッドを得ることを目的とする。
そこで従来、媒体対向面にガラスが充填されていた部分
にセラミックを薄膜形成技術を用いて充填し、２つのコ
アの接合は巻線窓部及びバックコア部に溝を設け、この
溝にガラス棒を挿入して、これを融解して接合すること
により、媒体走行性の良好な磁気ヘッドを得る。セラミ
ックとしてはＭｙ、Ｏ，Ｍｎ Ｏ，Ｎｉ Ｏ，Ｓｉ Ｏ
ｚ 、ＡｌｚＯ３゜Ｚｎ Ｏなど混合したものが使用で
きる。
にセラミックを薄膜形成技術を用いて充填し、２つのコ
アの接合は巻線窓部及びバックコア部に溝を設け、この
溝にガラス棒を挿入して、これを融解して接合すること
により、媒体走行性の良好な磁気ヘッドを得る。セラミ
ックとしてはＭｙ、Ｏ，Ｍｎ Ｏ，Ｎｉ Ｏ，Ｓｉ Ｏ
ｚ 、ＡｌｚＯ３゜Ｚｎ Ｏなど混合したものが使用で
きる。
以下、本発明の実施例を図面によって説明する。
第１図は本発明による磁気ヘッドの斜視図を表している
。図のように摺動面にはガラスが露出しない構造となっ
ている。ここでｌａ、ｌｂはフェライト、或いは他の非
磁性基板よりなる基体、２ａ、２ｂは磁性層、３ａ、３
ｂは薄膜作製法で形成した非磁性セラミック、４はギャ
ップ、５は接合用ガラスである。
。図のように摺動面にはガラスが露出しない構造となっ
ている。ここでｌａ、ｌｂはフェライト、或いは他の非
磁性基板よりなる基体、２ａ、２ｂは磁性層、３ａ、３
ｂは薄膜作製法で形成した非磁性セラミック、４はギャ
ップ、５は接合用ガラスである。
この磁気ヘッドの作製方法を第３図（ａ）乃至（ｈｌの
工程手順を示す図に基づき説明する。
工程手順を示す図に基づき説明する。
まずフェライトあるいは非磁性基板よりなる基体１に、
巻線窓となり且つ接合用となる溝を入れ〔同図（ａ））
、この溝に直角方向に接近して平行な溝を設ける〔同図
（ｂ））、この上に蒸着やスパッタリングなどの薄膜製
造技術をもって高透磁率、高飽和磁束密度材料の磁性層
２を形成する〔同図（Ｃ）〕。フェライトとしてはマン
ガン−亜鉛フェライトの単結晶あるいは多結晶材が用い
られる。また非磁性基板としては非磁性フェライト或い
は結晶化ガラス、ＭｇＯ，ＮｉＯなどの酸化物を混合し
たセラミックなどが用いられる。高透ｍｌ、高飽和磁束
密度材料としてはパーマロイやセンダストなどの結晶質
合金、或いはコバルト系合金など非結晶質合金が用いれ
る７高μ高Ｂｓ材を形成した上に、本発明によるセラミ
ック３を薄膜形成技術を用いて形成する〔同図（ｄ）〕
。このときセラミック３と高μ高Ｂｓ材との反応を防止
するため、５ｉＣｈやＣｒなどを介する。このようにし
て作製した基板を薄膜形成を施した側より研磨して高μ
高Ｂｓ材が所定のトラック幅分露出するようにする〔同
図（ｅ）〕。次に２つに切り、研磨面にギャップ規制膜
Ｓｔｏｗなどを薄膜形成技術により形成し〔同図ｆｆ）
〕、この２つのコアを合わせ、巻線窓及び接合溝に低融
点ガラスまたはガラスパンダ材で作った丸棒（接合用ガ
ラス５）を挿入して熱を加えて接合する〔同図（ｇｌ）
。これをチップ幅に切ってヘッドを作製する〔同図（ｈ
）〕。
巻線窓となり且つ接合用となる溝を入れ〔同図（ａ））
、この溝に直角方向に接近して平行な溝を設ける〔同図
（ｂ））、この上に蒸着やスパッタリングなどの薄膜製
造技術をもって高透磁率、高飽和磁束密度材料の磁性層
２を形成する〔同図（Ｃ）〕。フェライトとしてはマン
ガン−亜鉛フェライトの単結晶あるいは多結晶材が用い
られる。また非磁性基板としては非磁性フェライト或い
は結晶化ガラス、ＭｇＯ，ＮｉＯなどの酸化物を混合し
たセラミックなどが用いられる。高透ｍｌ、高飽和磁束
密度材料としてはパーマロイやセンダストなどの結晶質
合金、或いはコバルト系合金など非結晶質合金が用いれ
る７高μ高Ｂｓ材を形成した上に、本発明によるセラミ
ック３を薄膜形成技術を用いて形成する〔同図（ｄ）〕
。このときセラミック３と高μ高Ｂｓ材との反応を防止
するため、５ｉＣｈやＣｒなどを介する。このようにし
て作製した基板を薄膜形成を施した側より研磨して高μ
高Ｂｓ材が所定のトラック幅分露出するようにする〔同
図（ｅ）〕。次に２つに切り、研磨面にギャップ規制膜
Ｓｔｏｗなどを薄膜形成技術により形成し〔同図ｆｆ）
〕、この２つのコアを合わせ、巻線窓及び接合溝に低融
点ガラスまたはガラスパンダ材で作った丸棒（接合用ガ
ラス５）を挿入して熱を加えて接合する〔同図（ｇｌ）
。これをチップ幅に切ってヘッドを作製する〔同図（ｈ
）〕。
以上説明したように、本発明では媒体摺動面に低融点ガ
ラスが露出しないようにすることにより、ヘッド媒体走
行時のトラブルを解決することができる。
ラスが露出しないようにすることにより、ヘッド媒体走
行時のトラブルを解決することができる。
第１図は本発明の一実施例に係る磁気ヘッドの斜視図、
第２図は従来例に係る磁気ヘッドの斜視図、第３図（ａ
）乃至ｊｈｌは本発明に係る磁気ヘッドの作製工程手順
を示す図である。 １ａ、１ｂ−基体、２ ａ、 ２ ｂ・１ｆｆｉ性層
、３ ａ＋３ｂ・・・非磁性セラミック、４・・・ギャ
ップ、５・・・接合用ガラス。 第３ （Ｃ） （ｂ） （ｄ） （ｆ）
第２図は従来例に係る磁気ヘッドの斜視図、第３図（ａ
）乃至ｊｈｌは本発明に係る磁気ヘッドの作製工程手順
を示す図である。 １ａ、１ｂ−基体、２ ａ、 ２ ｂ・１ｆｆｉ性層
、３ ａ＋３ｂ・・・非磁性セラミック、４・・・ギャ
ップ、５・・・接合用ガラス。 第３ （Ｃ） （ｂ） （ｄ） （ｆ）
Claims (2)
- （１）作動ギャップを介して相対峙する２個の基体の各
作動ギャップ形成面側に、高飽和磁束密度の金属磁性材
を被着してなる磁気ヘッドにおいて、媒体対向面が前記
基体および金属磁性材と、蒸着、スパッタリング等の薄
膜形成技術を用いて充填されたセラミックより構成され
たことを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッドにお
いて、前記セラミックの熱膨張係数が５０〜１５０×１
０＾−＾７の範囲のセラミックを用いたことを特徴とす
る磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27834087A JPH01122006A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27834087A JPH01122006A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01122006A true JPH01122006A (ja) | 1989-05-15 |
Family
ID=17595969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27834087A Pending JPH01122006A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01122006A (ja) |
-
1987
- 1987-11-05 JP JP27834087A patent/JPH01122006A/ja active Pending
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