JPS63239607A - 磁気ヘツドコアの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドコアの製造方法Info
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- JPS63239607A JPS63239607A JP7333787A JP7333787A JPS63239607A JP S63239607 A JPS63239607 A JP S63239607A JP 7333787 A JP7333787 A JP 7333787A JP 7333787 A JP7333787 A JP 7333787A JP S63239607 A JPS63239607 A JP S63239607A
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- magnetic
- magnetic head
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、ディジタルＶＴＲ用ヘッド等に用いられる
磁気ヘッドコアの製造方法に関するものである。
磁気ヘッドコアの製造方法に関するものである。
［従来の技術］
第１４図は、特開昭６０−２０２５０６号公報に開示さ
れている従来のＶＴＲ用磁気ヘッド製造方法によって製
作された磁気ヘッドコアの斜視図である。
れている従来のＶＴＲ用磁気ヘッド製造方法によって製
作された磁気ヘッドコアの斜視図である。
同図において、（１５ａ） 、（１５ｂ）は１対の磁気
ヘッドコア、（１Ｂ）は上記一方の磁気ヘッドコア（１
５ａ）の巻線溝（１７）内に嵌め込まれた巻線窓形成用
の中空パイプ、（１８） 、 （１９）は磁気ギャップ
Ｇを形成するための非磁性源ｎｓ！（２０）を挾んで上
記両ヘッドコア（１５ａ）、（１５ｂ）の接着面に積層
された金属磁性薄膜、（２１）は上記一方の磁気ヘッド
コア（１５ａ）の所定位置に形成されたコア接着用溝（
２３）に充填された溶着ガラス、（２１）は上記中空パ
イプ（１６）を一方の磁気ヘッドコア（１５ａ）に固定
する溶着ガラスである。
ヘッドコア、（１Ｂ）は上記一方の磁気ヘッドコア（１
５ａ）の巻線溝（１７）内に嵌め込まれた巻線窓形成用
の中空パイプ、（１８） 、 （１９）は磁気ギャップ
Ｇを形成するための非磁性源ｎｓ！（２０）を挾んで上
記両ヘッドコア（１５ａ）、（１５ｂ）の接着面に積層
された金属磁性薄膜、（２１）は上記一方の磁気ヘッド
コア（１５ａ）の所定位置に形成されたコア接着用溝（
２３）に充填された溶着ガラス、（２１）は上記中空パ
イプ（１６）を一方の磁気ヘッドコア（１５ａ）に固定
する溶着ガラスである。
つぎに、上述した従来の磁気ヘッドコアの製造方法を、
第１５図ないし第１９図にもとづいて説明する。
第１５図ないし第１９図にもとづいて説明する。
まず、第１５図に示すように、巻線溝（１７）を形成し
た一方の磁気ヘッドコア（１５ａ）の面に全面的に第１
の金属磁性薄膜（１８）を形成する。
た一方の磁気ヘッドコア（１５ａ）の面に全面的に第１
の金属磁性薄膜（１８）を形成する。
ついで、第１６図に示すように、上記一方の磁気ヘッド
コア（１５ａ）の巻線（１７）内に、巻線窓形成用の中
空パイプ（１Ｂ）を嵌め込み、溶着ガラス（２２）によ
って、この中空パイプ（１８）を磁気ヘッドコア（１５
ａ）に固定する。
コア（１５ａ）の巻線（１７）内に、巻線窓形成用の中
空パイプ（１Ｂ）を嵌め込み、溶着ガラス（２２）によ
って、この中空パイプ（１８）を磁気ヘッドコア（１５
ａ）に固定する。
つぎに、第１７図に示すように、上記第１の金属磁性薄
膜（１８）のヘッド先端側の上面一部に、磁気ギャップ
Ｇを形成するための非磁性源Ｍ （１０）を形成したの
ち、この非磁性源１１５Ｉ（１０）と、上記溶着ガラス
（２２）、および第１の金属薄膜（１８）に跨ってこれ
らの上面に第２の金属磁性薄膜（１８）を形成する。
膜（１８）のヘッド先端側の上面一部に、磁気ギャップ
Ｇを形成するための非磁性源Ｍ （１０）を形成したの
ち、この非磁性源１１５Ｉ（１０）と、上記溶着ガラス
（２２）、および第１の金属薄膜（１８）に跨ってこれ
らの上面に第２の金属磁性薄膜（１８）を形成する。
ついで、第１８図に示すように、一方の磁気ヘッドコア
（１５ａ）のヘッド先端側に、コアｖｃ若用と、所定幅
のトラック形成用の溝（２３）を加工する。
（１５ａ）のヘッド先端側に、コアｖｃ若用と、所定幅
のトラック形成用の溝（２３）を加工する。
しかるのち、第１９図に示すように、一方の磁気ヘッド
コア（１５ａ）の第２の金属磁性薄膜（１８）に、何等
加工を施していない他方の磁気ヘッドコア（１５ｂ）を
上記溝（２３）内に充填した溶着ガラス（２１）によっ
て接着したあと、上記磁気ギャップＧに所定のアジマス
角θをもたせるような切断面Ｂに沿って切断し、第１４
図に示す磁気ヘッドコアが完成する。
コア（１５ａ）の第２の金属磁性薄膜（１８）に、何等
加工を施していない他方の磁気ヘッドコア（１５ｂ）を
上記溝（２３）内に充填した溶着ガラス（２１）によっ
て接着したあと、上記磁気ギャップＧに所定のアジマス
角θをもたせるような切断面Ｂに沿って切断し、第１４
図に示す磁気ヘッドコアが完成する。
［発明が解決しようとする問題点］
上述した従来の製造方法は多量生産に適しているけれど
も、これによって製作された磁気ヘッドコアの、磁気ギ
ャップの両側におけるコアブロックは、うず電流損を減
少させたり、高周波特性を向上させることが困難であり
、高密度な磁気記録やメタルテープ等の高保持力媒体用
の磁気ヘッドとして不適当である。
も、これによって製作された磁気ヘッドコアの、磁気ギ
ャップの両側におけるコアブロックは、うず電流損を減
少させたり、高周波特性を向上させることが困難であり
、高密度な磁気記録やメタルテープ等の高保持力媒体用
の磁気ヘッドとして不適当である。
この発明は、上記欠点を改善するためになされたもので
、多量生産に適しているとともに、うず電流損が少なく
、シかもすぐれた高周波特性を有する磁気ヘッドコアの
製造方法を提供しようとするものである。
、多量生産に適しているとともに、うず電流損が少なく
、シかもすぐれた高周波特性を有する磁気ヘッドコアの
製造方法を提供しようとするものである。
［問題点を解決するための手段］
この発明による磁気ヘッドコアの製造方法は、基板上に
金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層して形成された積層
膜を介して溶着用絶縁層を形成する工程と、複数の上記
基板を積層してこれらの基板を上記溶着用絶縁層の加熱
で互いに溶着し基板集合体を形成する工程と、この基板
集合体を上記積層膜に直交する切断面に沿って切断して
複数のコアブロック単体を形成する工程と、この各コア
ブロック単体の上記各積層膜を磁気ギャップを介し互い
につき合わせて一体に溶着してコアブロックを形成する
工程と、このコアブロックを上記各積層膜の中間部で切
断して複数の磁気ヘッドコアを形成する工程とを具備し
たことを特徴としている。
金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層して形成された積層
膜を介して溶着用絶縁層を形成する工程と、複数の上記
基板を積層してこれらの基板を上記溶着用絶縁層の加熱
で互いに溶着し基板集合体を形成する工程と、この基板
集合体を上記積層膜に直交する切断面に沿って切断して
複数のコアブロック単体を形成する工程と、この各コア
ブロック単体の上記各積層膜を磁気ギャップを介し互い
につき合わせて一体に溶着してコアブロックを形成する
工程と、このコアブロックを上記各積層膜の中間部で切
断して複数の磁気ヘッドコアを形成する工程とを具備し
たことを特徴としている。
［作用］
この発明によれば、コアブロック単体から多数のヘッド
コアを切断するものであるから、多量生産に適している
上に、金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層して形成され
た積層膜を、磁気ギャップの両側において、これと直交
する方向にコアブロック間に介在させることができるか
ら、うず電流損が少なく、しかも、すぐれた高周波特性
を有する磁気ヘッドコアが得られる。
コアを切断するものであるから、多量生産に適している
上に、金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層して形成され
た積層膜を、磁気ギャップの両側において、これと直交
する方向にコアブロック間に介在させることができるか
ら、うず電流損が少なく、しかも、すぐれた高周波特性
を有する磁気ヘッドコアが得られる。
［実施例］
以下、この発明の一実施例を図面にもとづいて説明する
。
。
！８１図は、この発明の一実施例による磁気ヘッドコア
の斜視図である。
の斜視図である。
同図において、（１）は磁気ヘッドコア、（２）は巻線
溝、（３）は絶縁層（１３）によって形成された磁気ギ
ャップ、（５）は金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層し
て形成された８層膜で、この積層膜（５）の膜厚ｔは、
トラック幅と同一寸法に形成されている。 （８）
、 （７ａ）および（７ｂ）は上記磁気ヘッドコア（１
）の所定位置に設けられた複数のコア接着用溝、（８）
はこの各コア接着用溝（８） 、 （７ａ）および（
７ｂ）内に充填され、加熱融解によって１対の磁気ヘッ
ドコア（１）を互いに接着する溶着ガラスである。
溝、（３）は絶縁層（１３）によって形成された磁気ギ
ャップ、（５）は金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層し
て形成された８層膜で、この積層膜（５）の膜厚ｔは、
トラック幅と同一寸法に形成されている。 （８）
、 （７ａ）および（７ｂ）は上記磁気ヘッドコア（１
）の所定位置に設けられた複数のコア接着用溝、（８）
はこの各コア接着用溝（８） 、 （７ａ）および（
７ｂ）内に充填され、加熱融解によって１対の磁気ヘッ
ドコア（１）を互いに接着する溶着ガラスである。
つぎに、上記構成の磁気ヘッドコアの製造方法を、第２
図ないし第１θ図にもとづいて説明する。
図ないし第１θ図にもとづいて説明する。
まず、第２図に示すように、所定の面積を有するセラミ
ックのような非磁性材料からなる基板（９）の上面に、
たとえばスパッタリング法、気相成長法、または蒸着法
によって積層膜（５）を形成する。
ックのような非磁性材料からなる基板（９）の上面に、
たとえばスパッタリング法、気相成長法、または蒸着法
によって積層膜（５）を形成する。
この積層膜（５）は、第３図の要部拡大断面図に示すよ
うに、センダスト、アモルファス、またはパーマロイの
ような金属磁性材料からなる金属磁性膜（６）と、酸化
シリコンまたはアルミナのような絶縁材料からなる絶縁
膜（７）とによって構成され、上記基板（９）上に交互
に積層して形成する。
うに、センダスト、アモルファス、またはパーマロイの
ような金属磁性材料からなる金属磁性膜（６）と、酸化
シリコンまたはアルミナのような絶縁材料からなる絶縁
膜（７）とによって構成され、上記基板（９）上に交互
に積層して形成する。
ついで、第４図に示すように、上記積層膜（５）の上面
に、さらにスパッタリング法、気相成長法または蒸着法
によって溶着用絶縁体層（１０）を形成する。この状態
を第５図の要部拡大断面図に示す、また、上記溶着用絶
縁体層（１０）は約７００℃ないし８００℃゛で融解す
る高融点ガラスを用いる。
に、さらにスパッタリング法、気相成長法または蒸着法
によって溶着用絶縁体層（１０）を形成する。この状態
を第５図の要部拡大断面図に示す、また、上記溶着用絶
縁体層（１０）は約７００℃ないし８００℃゛で融解す
る高融点ガラスを用いる。
つぎに、第６図に示すように、複数の上記基板（８）を
積層し、これを約７００℃ないし８００℃１１η後に加
熱して、これらの基板（９）を上記溶着用絶縁体＆！’
（１０）の融解により互いに溶着し、基板集合体（１１
）を形成する。このとき、最上段の基板（８ａ）は、上
面に上記積層膜（５）を形成していないものを用いる。
積層し、これを約７００℃ないし８００℃１１η後に加
熱して、これらの基板（９）を上記溶着用絶縁体＆！’
（１０）の融解により互いに溶着し、基板集合体（１１
）を形成する。このとき、最上段の基板（８ａ）は、上
面に上記積層膜（５）を形成していないものを用いる。
このあと、この基板集合体（１１）を、第６図に示すよ
うに、上記積層膜（５）に直交する複数の切断面（Ａ）
に沿って切断し、複数のコアブロック単体（１２ａ）
、（１２ｂ）を形成する。
うに、上記積層膜（５）に直交する複数の切断面（Ａ）
に沿って切断し、複数のコアブロック単体（１２ａ）
、（１２ｂ）を形成する。
ついで、上記一方のコアブロック単体（１２ｂ）の−側
面を鏡面研磨したあと、第７図に示すように、この鏡面
研磨面に磁気ヘッドコアとしての所定の磁気ギャップ（
３）を形成するための酸化シリコンのような絶縁層（１
３）を形成し、その後第９図に示すように、このコアブ
ロック単体（１２ｂ）の各積層Ｍ （５）間に、所定深
さの複数のコア接着用溝（７ｂ）を形成する。
面を鏡面研磨したあと、第７図に示すように、この鏡面
研磨面に磁気ヘッドコアとしての所定の磁気ギャップ（
３）を形成するための酸化シリコンのような絶縁層（１
３）を形成し、その後第９図に示すように、このコアブ
ロック単体（１２ｂ）の各積層Ｍ （５）間に、所定深
さの複数のコア接着用溝（７ｂ）を形成する。
一方、上記他方のコアブロック単体（１２ａ）の長手方
向に、第８図に示すように、各積層膜（５）を横切る巻
線溝（２）と、コア接着用溝（８）とを互いに所定間隔
をあけて形成し、ついで、このコアブロック単体（１２
ａ）の上記ａ層１１！Ｉ （５）間に、上記一方のコア
ブロック単体（１２ｂ）に形成したコア接着用溝（７ｂ
）に対応する複数のコア接着用溝（７ａ）を形成する。
向に、第８図に示すように、各積層膜（５）を横切る巻
線溝（２）と、コア接着用溝（８）とを互いに所定間隔
をあけて形成し、ついで、このコアブロック単体（１２
ａ）の上記ａ層１１！Ｉ （５）間に、上記一方のコア
ブロック単体（１２ｂ）に形成したコア接着用溝（７ｂ
）に対応する複数のコア接着用溝（７ａ）を形成する。
つぎに、第８図と第９図とにそれぞれ示す上記両ブロッ
ク単体（１２ａ）、（１２ｂ）のそれぞれの各積層膜（
５）を互いにつき合わせるとともに、上記一方のコアブ
ロック単体（１２ａ）に形成された巻線溝（２）内に上
記溶着ガラス（８）が侵入しないようにするための中子
（図示省略）を挿入したあと、上記各接着用溝（８）
、 （７ａ）および（７ｂ）内に約３００℃ないし４
００℃で融解する低融点ガラスのような溶着ガラス材料
を詰め、これを加熱融解することにより上記両コアブロ
ック単体（１２ａ） 、（１２ｂ）を一体に溶着し、最
後に上記巻線溝（２）から中子を引き抜いて第１０図に
示すコアブロック（１４）を形成する。
ク単体（１２ａ）、（１２ｂ）のそれぞれの各積層膜（
５）を互いにつき合わせるとともに、上記一方のコアブ
ロック単体（１２ａ）に形成された巻線溝（２）内に上
記溶着ガラス（８）が侵入しないようにするための中子
（図示省略）を挿入したあと、上記各接着用溝（８）
、 （７ａ）および（７ｂ）内に約３００℃ないし４
００℃で融解する低融点ガラスのような溶着ガラス材料
を詰め、これを加熱融解することにより上記両コアブロ
ック単体（１２ａ） 、（１２ｂ）を一体に溶着し、最
後に上記巻線溝（２）から中子を引き抜いて第１０図に
示すコアブロック（１４）を形成する。
ついで、第１０図に示すように、上記コアブロック（１
４）の各積層膜（５）の中間部において、上記絶縁層（
１３）によって形成された磁気ギャップ（３）に所定の
アジマス角θを与える切断面Ｂに沿って切断し、第１図
に示すこの発明による磁気ヘッドコア（０が完成する。
４）の各積層膜（５）の中間部において、上記絶縁層（
１３）によって形成された磁気ギャップ（３）に所定の
アジマス角θを与える切断面Ｂに沿って切断し、第１図
に示すこの発明による磁気ヘッドコア（０が完成する。
なお、第１１図はこの発明の他の実施例による磁気ヘッ
ドコアを示すもので、同図中、上記一実施例と同一符号
は同一手段によって製作されるため、その説明を省略す
るが、この場合の磁気ヘッドコアにおける積層膜（５）
の膜厚Ｔは、トラック幅よりも広く形成し、第１２図お
よびだ１３図に示すように、積層膜（５）間に１対のコ
ア接着用溝（７ａ） 、 （７ｂ）を形成するときに、
上記積層膜（５）の両側を同時にカットして、所定のト
ラック幅と同一寸法の膜厚ｔになるようにしたもので、
特に狭トラツク用磁気ヘッドコアの製作手段として優れ
ている。
ドコアを示すもので、同図中、上記一実施例と同一符号
は同一手段によって製作されるため、その説明を省略す
るが、この場合の磁気ヘッドコアにおける積層膜（５）
の膜厚Ｔは、トラック幅よりも広く形成し、第１２図お
よびだ１３図に示すように、積層膜（５）間に１対のコ
ア接着用溝（７ａ） 、 （７ｂ）を形成するときに、
上記積層膜（５）の両側を同時にカットして、所定のト
ラック幅と同一寸法の膜厚ｔになるようにしたもので、
特に狭トラツク用磁気ヘッドコアの製作手段として優れ
ている。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば、ヘッドコアを多量生
産できるとともに、金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層
して形成された積層膜を、磁気ギャップの両側において
、これと直交する方向にコアブロック間に介在させるこ
とができる。したがって、この積層膜の各金属磁性膜が
きわめて薄く、しかもこの各金属磁性膜間がそれぞれ絶
縁膜によって電気的に絶縁されるため、うず電流積が少
なく、かつすぐれた高周波特性を有する磁気ヘッドコア
を提供することが可能となる。
産できるとともに、金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層
して形成された積層膜を、磁気ギャップの両側において
、これと直交する方向にコアブロック間に介在させるこ
とができる。したがって、この積層膜の各金属磁性膜が
きわめて薄く、しかもこの各金属磁性膜間がそれぞれ絶
縁膜によって電気的に絶縁されるため、うず電流積が少
なく、かつすぐれた高周波特性を有する磁気ヘッドコア
を提供することが可能となる。
また、上記積層膜の膜厚は、この積層膜の形成時に所定
のトラック幅に合わせて簡単に選択することができるた
め、高密度な磁気記録ができる。
のトラック幅に合わせて簡単に選択することができるた
め、高密度な磁気記録ができる。
よって、たとえばメタルテープ等の高保持力媒体用の超
狭トラック磁気ヘッドコアの加工が著しく簡単になる効
果も有している。
狭トラック磁気ヘッドコアの加工が著しく簡単になる効
果も有している。
第１図はこの発明の一実施例による磁気ヘッドコアを示
す斜視図、第２図ないし第１θ図はこの発明の一実施例
による磁気ヘッドコアの製造方法を工程順に示す説明図
、第１１図はこの発明の他の実施例による磁気ヘッドコ
アを示す斜視図、第１２図および第１３図はこの発明の
他の実施例による磁気ヘッドコアの製造方法の一部を説
明するための斜視図、第１４図ないし第１９図は従来の
磁気ヘッドコアの製造方法を工程順に示す説明図である
。 （２）・・・巻線溝、（３）・・・磁気ギャップ、（０
・・・磁気ヘッドコア、（５）・・・積層膜、（６）・
・・金属磁性膜、（７）・・・絶縁膜、（３）・・・基
板、（１０）・・・溶着用絶縁体層、（１１）−・・基
板集合体、（１２ａ）、（１２ｂ） ・・・コアブロッ
ク単体、（１４）・・・コアブロック、θ・・・アジマ
ス角。 なお１図中同一符号は、同一または相当部分を示す。
す斜視図、第２図ないし第１θ図はこの発明の一実施例
による磁気ヘッドコアの製造方法を工程順に示す説明図
、第１１図はこの発明の他の実施例による磁気ヘッドコ
アを示す斜視図、第１２図および第１３図はこの発明の
他の実施例による磁気ヘッドコアの製造方法の一部を説
明するための斜視図、第１４図ないし第１９図は従来の
磁気ヘッドコアの製造方法を工程順に示す説明図である
。 （２）・・・巻線溝、（３）・・・磁気ギャップ、（０
・・・磁気ヘッドコア、（５）・・・積層膜、（６）・
・・金属磁性膜、（７）・・・絶縁膜、（３）・・・基
板、（１０）・・・溶着用絶縁体層、（１１）−・・基
板集合体、（１２ａ）、（１２ｂ） ・・・コアブロッ
ク単体、（１４）・・・コアブロック、θ・・・アジマ
ス角。 なお１図中同一符号は、同一または相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）基板上に金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層して
形成された積層膜を介して溶着用絶縁体層を形成する工
程と、複数の上記基板を積層してこれらの基板を溶着用
絶縁体層の加熱で互いに溶着する工程と、一体に溶着さ
れた基板集合体を上記積層膜に直交する切断面に沿つて
切断して複数のコアブロック単体を形成する工程と、互
いに対をなす１対のコアブロック単体の少なくとも一方
の側面に上記各積層膜を横切る巻線溝を形成する工程と
、この巻線溝が形成されたコアブロック単体の側面を他
方のコアブロック単体の側面に絶縁層で形成された所定
の磁気ギャップを存しかつ上記各コアブロック単体の各
積層膜を互いにつき合わせて一体に溶着し中央部が巻線
溝で貫通されたコアブロックを形成する工程と、このコ
アブロックを各積層膜の中間部において上記磁気ギャッ
プに所定のアジマス角をもたせて切断して複数の磁気ヘ
ッドコアを形成する工程とを具備したことを特徴とする
磁気ヘッドコアの製造方法。 - （２）金属磁性膜は、センダスト、アモルファス、また
はパーマロイのような金属磁性材料からなる特許請求の
範囲第１項記載の磁気ヘッドコアの製造方法。 - （３）絶縁膜は、酸化シリコン、またはアルミナのよう
な絶縁材料からなる特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘ
ッドコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7333787A JPS63239607A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7333787A JPS63239607A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63239607A true JPS63239607A (ja) | 1988-10-05 |
Family
ID=13515247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7333787A Pending JPS63239607A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63239607A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0426904A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59110023A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-25 | Olympus Optical Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6233309A (ja) * | 1985-08-06 | 1987-02-13 | Nippon Mining Co Ltd | アジマス付積層ヘツドピ−スの製造方法 |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP7333787A patent/JPS63239607A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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