JPH01129989A - 金属及び非金属上のイオン障壁層及びその製法 - Google Patents
金属及び非金属上のイオン障壁層及びその製法Info
- Publication number
- JPH01129989A JPH01129989A JP63243782A JP24378288A JPH01129989A JP H01129989 A JPH01129989 A JP H01129989A JP 63243782 A JP63243782 A JP 63243782A JP 24378288 A JP24378288 A JP 24378288A JP H01129989 A JPH01129989 A JP H01129989A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- metal
- barrier layer
- ion barrier
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 33
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims description 29
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 title claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 28
- -1 ethylpenzole Chemical compound 0.000 claims description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 13
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 150000004010 onium ions Chemical group 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 claims 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 claims 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 17
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 229910000938 samarium–cobalt magnet Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015842 Hesperis Nutrition 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012633 Iberis amara Nutrition 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZECUPJJEIXUKY-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[U+6] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[U+6] WZECUPJJEIXUKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910000828 alnico Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- KPLQYGBQNPPQGA-UHFFFAOYSA-N cobalt samarium Chemical compound [Co].[Sm] KPLQYGBQNPPQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000012691 depolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001192 hot extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H lead(2+);dicarbonate;dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N molecular nitrogen;molecular oxygen Chemical compound N#N.O=O DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000439 uranium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/42—Electroplating: Baths therefor from solutions of light metals
- C25D3/44—Aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces
- C25D5/56—Electroplating of non-metallic surfaces of plastics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属及び非金属、特にポリオレフィン上のイオ
ン障壁層に関する。
ン障壁層に関する。
C従来の技術〕
非金属はその僅少な導電性のためにit流の金属導体と
の絶縁材として使用されるが、この非金属は導体物質か
らの金属イオンの拡散浸入により、特に拡散浸入可能の
重金属イオンによりその絶縁特性を損なわれるだけでな
く、この拡散浸入した金属イオンを解放しまた加熱時に
促進される触媒反応により組織を崩壊され、これにより
重大な損傷並びに破壊が生じることは公知である。この
現象は特に銅、銀、ニッケル、コバルト、マンガン及び
それらの合金のような重金属のイオンについて生じ、そ
の結果特に例えばポリエチレン、ポリプロピレン及びそ
れらの混合ポリマーのようなポリオレフィンの場合には
解重合反応及び酸化分解が生じ得る。
の絶縁材として使用されるが、この非金属は導体物質か
らの金属イオンの拡散浸入により、特に拡散浸入可能の
重金属イオンによりその絶縁特性を損なわれるだけでな
く、この拡散浸入した金属イオンを解放しまた加熱時に
促進される触媒反応により組織を崩壊され、これにより
重大な損傷並びに破壊が生じることは公知である。この
現象は特に銅、銀、ニッケル、コバルト、マンガン及び
それらの合金のような重金属のイオンについて生じ、そ
の結果特に例えばポリエチレン、ポリプロピレン及びそ
れらの混合ポリマーのようなポリオレフィンの場合には
解重合反応及び酸化分解が生じ得る。
一方また非金属イオン、特に酸素イオン及び硫黄イオン
は非金属層、例えばポリオレフィンのようなプラスチッ
クからなる非金属層を透過しまた重金属表面を化学的に
攻撃して、例えばこれら金属の酸化物並びに硫化物を形
成し、それらが再び非金属に浸透して有害な変化を生せ
しめるおそれがある。この場合化学的な&Il織変比変
化こすだけでなく、金属と非金属との間の、すなわち導
体金属と不導体層との間の純粋に機械的な結合を緩め、
分解させる。これによりその電気的特性は劣化し、また
その使用及び使用価値を損なうか又は不確実なものとす
る。
は非金属層、例えばポリオレフィンのようなプラスチッ
クからなる非金属層を透過しまた重金属表面を化学的に
攻撃して、例えばこれら金属の酸化物並びに硫化物を形
成し、それらが再び非金属に浸透して有害な変化を生せ
しめるおそれがある。この場合化学的な&Il織変比変
化こすだけでなく、金属と非金属との間の、すなわち導
体金属と不導体層との間の純粋に機械的な結合を緩め、
分解させる。これによりその電気的特性は劣化し、また
その使用及び使用価値を損なうか又は不確実なものとす
る。
このうよな損傷及び欠陥を回避するため従来導体金属及
び不導体との間に錫又はニッケルからなる比較的厚い従
って高価な中間層を設けるか、又は例えばポリオレフィ
ン中に、金属イオンを結合しまたその障害作用を除去、
すなわち抑制する特定の抑制物質を混入する。しかしこ
の種の又は他の種類の添加物は絶縁材の電気的及び機械
的特性を多くの場合低下させ、従って単にこの種の問題
に対する妥協策にすぎない。殊に絶縁導体を比較的高い
温度で使用する場合実際的なまた十分な保護は得ること
ができなかった。
び不導体との間に錫又はニッケルからなる比較的厚い従
って高価な中間層を設けるか、又は例えばポリオレフィ
ン中に、金属イオンを結合しまたその障害作用を除去、
すなわち抑制する特定の抑制物質を混入する。しかしこ
の種の又は他の種類の添加物は絶縁材の電気的及び機械
的特性を多くの場合低下させ、従って単にこの種の問題
に対する妥協策にすぎない。殊に絶縁導体を比較的高い
温度で使用する場合実際的なまた十分な保護は得ること
ができなかった。
欧州特許出願公開第0044668号明細書から酸素イ
オンバリヤとしてアルミニウム箔を使用することは公知
である。アルミニウム箔は15μ纏以E、有利には20
amの厚さを有さなければならない。その実施例によ
ればアルミニウム箔は25μ情の厚さである。これは被
覆又は付着処理を必要とする。この公報に例示された金
属箔での導体被覆(これは隙間があってはならない)は
処理技術的に経費が嵩み、苛酷な条件下に実現し得るに
過ぎない。
オンバリヤとしてアルミニウム箔を使用することは公知
である。アルミニウム箔は15μ纏以E、有利には20
amの厚さを有さなければならない。その実施例によ
ればアルミニウム箔は25μ情の厚さである。これは被
覆又は付着処理を必要とする。この公報に例示された金
属箔での導体被覆(これは隙間があってはならない)は
処理技術的に経費が嵩み、苛酷な条件下に実現し得るに
過ぎない。
本発明の課題は、金属及び非金属、特にプラスチック、
例えばポリオレフィンからなる構造部材及び成形部品を
拡散浸入性の金属イオンから保護し、特にm、銀、ニッ
ケル、コバルト、マンガン及びそれらの合金の重金属イ
オンが押し進める熱的−接触的破壊を阻止し、同時にま
た拡散浸入性非金属イオン、特に酸素及び硫黄イオンが
原因となる金属及び金属合金に対する化学的攻撃を阻止
することにある。
例えばポリオレフィンからなる構造部材及び成形部品を
拡散浸入性の金属イオンから保護し、特にm、銀、ニッ
ケル、コバルト、マンガン及びそれらの合金の重金属イ
オンが押し進める熱的−接触的破壊を阻止し、同時にま
た拡散浸入性非金属イオン、特に酸素及び硫黄イオンが
原因となる金属及び金属合金に対する化学的攻撃を阻止
することにある。
この課題は本発明によれば、金属又は導電性にされた非
金属の表面がアルミニウム純度> 99.99%のガル
バノアルミニウム層を有し、これが場合によっては陽極
酸化されていることによって、すなわち高純度のガルバ
ノアルミニウム層によって解決される。
金属の表面がアルミニウム純度> 99.99%のガル
バノアルミニウム層を有し、これが場合によっては陽極
酸化されていることによって、すなわち高純度のガルバ
ノアルミニウム層によって解決される。
本発明の他の実施態様は請求項2以下に記載されている
。
。
保護層及び中間層として機能することのできる本発明に
よる高純度のガルバノアルミニウム層は、有利には10
〜20μ精の厚さで少なくとも300″Cの温度までは
優れたイオン障壁であることが判明した。従って本発明
によるガルバノアルミニウム層は金属又は導電性にされ
た非金属表面、例えばポリオレフィンにはり付けられて
、そのものとして又は酸化反応を触媒的に開始させるこ
とによりポリマー組繊を損傷するか又は解重合により破
壊する金属イオンの浸透に対して前記の表面を保護する
。非金属表面は導電性の約0.05〜2μ−の薄い金属
、黒鉛又は炭素層を塗布することにより導電性にするこ
とができる。しかし同時に本発明によるガルバノアルミ
ニウム層は、金属を不利に又は好ましくなく変化させ、
例えば酸素イオン又は硫黄イオンにより酸化並びに硫化
するか又は貴金属イオンにより固化及び合金化する透過
性金属又は非金属イオンから金属、特に金属表面を保護
する。また塊状導体並びに管状導体を連続的に本発明に
よるガルバノアルミニウムイオン障壁層で被覆すること
ができ、また少なくとも300 ’Cまでは被覆された
絶縁材中に、例えば酸素又は硫黄イオンのようなイオン
が外部から内部にまた銅イオン又はニッケルイオンが内
部から外部に透過するのを阻止し得ることは大きな利点
である。
よる高純度のガルバノアルミニウム層は、有利には10
〜20μ精の厚さで少なくとも300″Cの温度までは
優れたイオン障壁であることが判明した。従って本発明
によるガルバノアルミニウム層は金属又は導電性にされ
た非金属表面、例えばポリオレフィンにはり付けられて
、そのものとして又は酸化反応を触媒的に開始させるこ
とによりポリマー組繊を損傷するか又は解重合により破
壊する金属イオンの浸透に対して前記の表面を保護する
。非金属表面は導電性の約0.05〜2μ−の薄い金属
、黒鉛又は炭素層を塗布することにより導電性にするこ
とができる。しかし同時に本発明によるガルバノアルミ
ニウム層は、金属を不利に又は好ましくなく変化させ、
例えば酸素イオン又は硫黄イオンにより酸化並びに硫化
するか又は貴金属イオンにより固化及び合金化する透過
性金属又は非金属イオンから金属、特に金属表面を保護
する。また塊状導体並びに管状導体を連続的に本発明に
よるガルバノアルミニウムイオン障壁層で被覆すること
ができ、また少なくとも300 ’Cまでは被覆された
絶縁材中に、例えば酸素又は硫黄イオンのようなイオン
が外部から内部にまた銅イオン又はニッケルイオンが内
部から外部に透過するのを阻止し得ることは大きな利点
である。
本発明はまた導電性表面を有する金属加工材料及び非金
属加工材料上にイオン障壁層を製造する方法に関する。
属加工材料上にイオン障壁層を製造する方法に関する。
この場合導電性の表面に、中性の酸素及び水不含のアル
ミニウム有機錯塩電解質中でアルミニウム層を電気的に
析出させ、これを更に圧縮及び/又は陽極酸化すること
ができる。
ミニウム有機錯塩電解質中でアルミニウム層を電気的に
析出させ、これを更に圧縮及び/又は陽極酸化すること
ができる。
ガルバノアルミニウムを施すには0.5〜3A/dnf
の電流密度で十分で、ある。連続めっき装置中で電解質
向流で連続的に被覆される導体物質の場合には、3〜I
OA/dポの一層高い電流密度を使用することができる
。
の電流密度で十分で、ある。連続めっき装置中で電解質
向流で連続的に被覆される導体物質の場合には、3〜I
OA/dポの一層高い電流密度を使用することができる
。
中性の酸素及び水不含の適当な電解質媒体は、一般式:
%式%
〔式中Mはアルカリ金属イオン又は第四オニウムイオン
を表し、又はハロゲンイオン、有利にはF。
を表し、又はハロゲンイオン、有利にはF。
又はCI−を表し、Rはアルキル基、有利にはCHy
、Ct Hs 、Cs H’r又はC4H9を表し、L
smは芳香族溶剤分子、有利にはトルエン、エチルペン
ゾール、キジロール又はこれらの混合物を表し、n−0
〜12モルを表す]で示される電解質媒体である。
、Ct Hs 、Cs H’r又はC4H9を表し、L
smは芳香族溶剤分子、有利にはトルエン、エチルペン
ゾール、キジロール又はこれらの混合物を表し、n−0
〜12モルを表す]で示される電解質媒体である。
均質で緊密な電解結晶性ガルバノアルミニウム組織を得
るには、可逆電流又は衝llI電流を使用することが有
利である。更にガルバノアルミニウム層は例えばガラス
玉放射又は硬物質粒連打により機械的に圧縮及び硬化す
ることができる。
るには、可逆電流又は衝llI電流を使用することが有
利である。更にガルバノアルミニウム層は例えばガラス
玉放射又は硬物質粒連打により機械的に圧縮及び硬化す
ることができる。
本発明によるガルバノアルミニウム表面を引続き絶縁材
、例えばポリオレフィンで融液からか又は高温プレスに
より被覆する場合、ガルバノアルミニうムと絶縁材との
間の接着性は、公知のGS浴、GX浴又は混合浴中での
陽極酸化によって約2〜6μ端の厚さのガルバノアルミ
ニウムーアルマイト層を製造することにより高めること
ができる。この表面活性の微細構造及びセラミック状表
面特性によりプラスチックと接着物との間に優れた結合
強さが得られる。
、例えばポリオレフィンで融液からか又は高温プレスに
より被覆する場合、ガルバノアルミニうムと絶縁材との
間の接着性は、公知のGS浴、GX浴又は混合浴中での
陽極酸化によって約2〜6μ端の厚さのガルバノアルミ
ニウムーアルマイト層を製造することにより高めること
ができる。この表面活性の微細構造及びセラミック状表
面特性によりプラスチックと接着物との間に優れた結合
強さが得られる。
こうして被覆された導体、成形部品及び構造部材は、そ
の機能を確実に発揮させまた不導体(プラスチック、特
にポリオレフィン)の絶縁特性を劣化させないために掻
く限られた範囲で絶縁性でなければならない電圧印加可
能の部材及び装置の高価で恒久的な絶縁が必要とされる
箇所で、有利に使用される。すなわち導線又は装置の金
属部分から拡散浸入する金属イオンは直接的に又は間接
的に(例えば分解反応を促進することにより)このよう
な劣化をもたらす。
の機能を確実に発揮させまた不導体(プラスチック、特
にポリオレフィン)の絶縁特性を劣化させないために掻
く限られた範囲で絶縁性でなければならない電圧印加可
能の部材及び装置の高価で恒久的な絶縁が必要とされる
箇所で、有利に使用される。すなわち導線又は装置の金
属部分から拡散浸入する金属イオンは直接的に又は間接
的に(例えば分解反応を促進することにより)このよう
な劣化をもたらす。
更にプラスチックが酸素イオン、水酸基イオン及び硫黄
イオンに対して周知の通り高い透過性を有する場合、プ
ラスチックをこれらのイオンから保護するか又はこれら
のイオンが化学的に敏感な金属基板に透過するのを阻止
することは重要である。それというのも金属表面に生じ
る反応生成物例えば酸化物、水酸化物及び硫化物はその
結合性を低下し、更にそれ自体絶縁組織の次の接触的分
解を促進する有害な金属イオンの発生を増大させるから
である。
イオンに対して周知の通り高い透過性を有する場合、プ
ラスチックをこれらのイオンから保護するか又はこれら
のイオンが化学的に敏感な金属基板に透過するのを阻止
することは重要である。それというのも金属表面に生じ
る反応生成物例えば酸化物、水酸化物及び硫化物はその
結合性を低下し、更にそれ自体絶縁組織の次の接触的分
解を促進する有害な金属イオンの発生を増大させるから
である。
大気中の諸成分に対して敏感でありまたその阻止し得な
い浸入によりその機部に障害を生じる金属加工材料から
なる成形部品及び構造部材についても同じことがいえる
(例えばAILiyのようなリチウム又はリチウム含有
軽金属合金、又は有利には磁気材料SmCo、からなる
成形部品)。
い浸入によりその機部に障害を生じる金属加工材料から
なる成形部品及び構造部材についても同じことがいえる
(例えばAILiyのようなリチウム又はリチウム含有
軽金属合金、又は有利には磁気材料SmCo、からなる
成形部品)。
これはまた毒性でかつ安全性の理由から取り扱い上“被
覆”されているべきである金属(例えばベリリウム、タ
リウム及びウランからなる成形部品)の場合にも該当す
る。上記のすべての場合に非プロトン性で、酸素及び水
不含のアルミニウム有機錯塩電解質から施されるガルバ
ノアルミニウムからなるイオン障壁がこれを保護し、保
有する。その際この保護被覆は内部及び外部に対して効
果的に、ガルバノアルミニウムーアルマイトへの陽極酸
化により更に強化することができる。成形部品の陰極負
荷に際してその表面に電気化学的にしっかりと付着して
析出するガルバノアルミニウムは銀白色であり、極めて
延性で導電性が良好でありまた非磁性である。
覆”されているべきである金属(例えばベリリウム、タ
リウム及びウランからなる成形部品)の場合にも該当す
る。上記のすべての場合に非プロトン性で、酸素及び水
不含のアルミニウム有機錯塩電解質から施されるガルバ
ノアルミニウムからなるイオン障壁がこれを保護し、保
有する。その際この保護被覆は内部及び外部に対して効
果的に、ガルバノアルミニウムーアルマイトへの陽極酸
化により更に強化することができる。成形部品の陰極負
荷に際してその表面に電気化学的にしっかりと付着して
析出するガルバノアルミニウムは銀白色であり、極めて
延性で導電性が良好でありまた非磁性である。
〔実施例]
本発明を以下の実施例に基づき詳述する。
■−上
厚さ約10μ蒙のガルバノアルミニウム層を銅イオン(
一般に重金属イオン)に対するイオン障壁層として銅導
体の表面にポリオレフィン−被覆処理(熱押出により)
前に施すことによる、特にポリエチレンまはたポリプロ
ピレンからなるポリオレフィン絶縁被覆及び銅からなる
導線の網状化ポリマー組織の銅イオンにより促進される
熱並びに酸化分解に対する保護エレクトロニクス技術に
おける電気回路用として使用される直径3fflIlの
電気銅(銅99.95%)からなる導線を脱脂浴にまた
次いで酸洗い浴に通した後水流管中で洗浄し、引続き赤
光導管中で向流の窒素下に乾燥した0次いでこうして前
処理した銅線を直ちに連続ガルバノ−アルミニウム装置
内で錯塩電解質(Na F ・2A I (Cz Hs
) 3・4ctHa)からなる電解質の向流下に、溶
剤としてトルエンを用いて浴温100〜110”C及び
電流密度約6A/dポで約10μ管のガルバノアルミニ
ウで周囲を被覆した。粘着性の電解液をトルエンで洗い
流し、このトルエンで濡れた表面を更に熱窒素流中で乾
燥した。こうして約10μmのガルバノアルミニウムで
固着被覆された銅線に可能ならば直ちに又は塵のない乾
燥した空気中で貯蔵した後に市販の導線−押出−被覆機
中で熱したポリオレフィン、有利にはポリプロピレンを
噴霧し、こうして高品質の絶縁層を施した。この場合微
結晶性のガルバノアルミニウム表面は極めて良好な接着
ベースを提供した。冷却後絶縁された銅線を導線ドラム
に巻き上げた。ポリプロピレンの弾性及びガルバノアル
ミニウムの高い延性がこれを可能にした。
一般に重金属イオン)に対するイオン障壁層として銅導
体の表面にポリオレフィン−被覆処理(熱押出により)
前に施すことによる、特にポリエチレンまはたポリプロ
ピレンからなるポリオレフィン絶縁被覆及び銅からなる
導線の網状化ポリマー組織の銅イオンにより促進される
熱並びに酸化分解に対する保護エレクトロニクス技術に
おける電気回路用として使用される直径3fflIlの
電気銅(銅99.95%)からなる導線を脱脂浴にまた
次いで酸洗い浴に通した後水流管中で洗浄し、引続き赤
光導管中で向流の窒素下に乾燥した0次いでこうして前
処理した銅線を直ちに連続ガルバノ−アルミニウム装置
内で錯塩電解質(Na F ・2A I (Cz Hs
) 3・4ctHa)からなる電解質の向流下に、溶
剤としてトルエンを用いて浴温100〜110”C及び
電流密度約6A/dポで約10μ管のガルバノアルミニ
ウで周囲を被覆した。粘着性の電解液をトルエンで洗い
流し、このトルエンで濡れた表面を更に熱窒素流中で乾
燥した。こうして約10μmのガルバノアルミニウムで
固着被覆された銅線に可能ならば直ちに又は塵のない乾
燥した空気中で貯蔵した後に市販の導線−押出−被覆機
中で熱したポリオレフィン、有利にはポリプロピレンを
噴霧し、こうして高品質の絶縁層を施した。この場合微
結晶性のガルバノアルミニウム表面は極めて良好な接着
ベースを提供した。冷却後絶縁された銅線を導線ドラム
に巻き上げた。ポリプロピレンの弾性及びガルバノアル
ミニウムの高い延性がこれを可能にした。
ガルバノアルミニウムーイオン障壁層の有効性を示すた
めに鋼上に直接的2.5 ttmの厚さのポリオレフィ
ンで被覆された導線と、先ず約1oamのガルバノアル
ミニウムで被覆し、次いで約2.5鴫のポリオレフィン
で被覆された導線とからなるそれぞれ約800の試片を
温風焼なまし炉に置き、ポリオレフィン層の外見(変色
)及び機械的特性に関して60,100及び120℃で
それぞれ10日間観察した。ガルバノアルミニウムで被
覆された試片のポリオレフィン層はすべての試験温度で
全試験期間にわたってまったく着色せずまた曲げ弾性も
そのままであるが、ガルバノアルミニウムーイオン障壁
を施さない他の試片では試験温度が上昇するにつれて象
、速に黄ばみが生じ、60“Cでは9日後に初めて観察
されたが、100°Cでは4日後にまた120“Cでは
2日後に既に黄ばみが現れた。120°Cでの熱負荷1
0日後には室温に冷却した試片で曲げ弾性に明らかな損
傷が確認でき、これはポリオレフィン層中に生ずる亀裂
から明らかであった。これによりガルバノアルミニウム
ーイオン障壁層の有効性は銅イオンに対して示され、多
くの場合100″C以下である銅電線の使用温度に対し
てはポリオレフィン−絶縁を完全に適用することができ
た。これに関する証明として300℃以上で初めてガル
バノアルミニウム中への銅の緩慢な拡散浸入が合金形成
下に〈1μm/hで始まることが確認された。他の重金
属に関してはこの拡散膨張温度は更に高く、例えばニッ
ケル及びコバルトでは400°C〜450℃であった。
めに鋼上に直接的2.5 ttmの厚さのポリオレフィ
ンで被覆された導線と、先ず約1oamのガルバノアル
ミニウムで被覆し、次いで約2.5鴫のポリオレフィン
で被覆された導線とからなるそれぞれ約800の試片を
温風焼なまし炉に置き、ポリオレフィン層の外見(変色
)及び機械的特性に関して60,100及び120℃で
それぞれ10日間観察した。ガルバノアルミニウムで被
覆された試片のポリオレフィン層はすべての試験温度で
全試験期間にわたってまったく着色せずまた曲げ弾性も
そのままであるが、ガルバノアルミニウムーイオン障壁
を施さない他の試片では試験温度が上昇するにつれて象
、速に黄ばみが生じ、60“Cでは9日後に初めて観察
されたが、100°Cでは4日後にまた120“Cでは
2日後に既に黄ばみが現れた。120°Cでの熱負荷1
0日後には室温に冷却した試片で曲げ弾性に明らかな損
傷が確認でき、これはポリオレフィン層中に生ずる亀裂
から明らかであった。これによりガルバノアルミニウム
ーイオン障壁層の有効性は銅イオンに対して示され、多
くの場合100″C以下である銅電線の使用温度に対し
てはポリオレフィン−絶縁を完全に適用することができ
た。これに関する証明として300℃以上で初めてガル
バノアルミニウム中への銅の緩慢な拡散浸入が合金形成
下に〈1μm/hで始まることが確認された。他の重金
属に関してはこの拡散膨張温度は更に高く、例えばニッ
ケル及びコバルトでは400°C〜450℃であった。
五−I
化学的反応により保磁場力を弱めまた磁気材料を破壊す
る大気中の諸成分、特に酸素イオン、水酸基イオン、炭
酸イオン及び硫黄イオンから保護するためのイオン障壁
としての厚さ約20μmのガルバノアルミニウム層によ
る、磁気増 ′工材料であるサマリウム−コバルト(S
mCos)からなる成形部品の被包処理 S m Co sはSmCoFe及びAlNiCoと同
様に“磁気硬化”材料に属し、特に高い残留磁化及び大
きな保磁場力により優れている。従って技術分野、特に
エレクトロニクス分野におけるその応用技術的利用に対
する関心は多種多様である。
る大気中の諸成分、特に酸素イオン、水酸基イオン、炭
酸イオン及び硫黄イオンから保護するためのイオン障壁
としての厚さ約20μmのガルバノアルミニウム層によ
る、磁気増 ′工材料であるサマリウム−コバルト(S
mCos)からなる成形部品の被包処理 S m Co sはSmCoFe及びAlNiCoと同
様に“磁気硬化”材料に属し、特に高い残留磁化及び大
きな保磁場力により優れている。従って技術分野、特に
エレクトロニクス分野におけるその応用技術的利用に対
する関心は多種多様である。
その極めてネガチブな標準電極電位ε。が−2゜483
(Ce)〜−2,255V (Lu)で存在するすべ
てのランタノイドにおけるようにサマリウムも強力な還
元剤(強度において例えばMgと比較し得る)であり、
従ってH2発生下に水(水分)とまた酸化物形成下に酸
素と反応し、後者の場合にはCO8と炭酸塩を生じる。
(Ce)〜−2,255V (Lu)で存在するすべ
てのランタノイドにおけるようにサマリウムも強力な還
元剤(強度において例えばMgと比較し得る)であり、
従ってH2発生下に水(水分)とまた酸化物形成下に酸
素と反応し、後者の場合にはCO8と炭酸塩を生じる。
これらの化学的特性は僅かな程度であれS m Co
sにも存在し、従って磁石として使用することのできる
この物質からなる成形部品は大気中の諸成分から保護す
るためにカプセルに装入する必要がある。すなわちその
大きな保磁場力を減少させることなく長く使用できれば
、それだけ好ましい。
sにも存在し、従って磁石として使用することのできる
この物質からなる成形部品は大気中の諸成分から保護す
るためにカプセルに装入する必要がある。すなわちその
大きな保磁場力を減少させることなく長く使用できれば
、それだけ好ましい。
レジスト層及びプラスチック層は、これが酸素及び水蒸
気透過性であることから、恒久的な保護を保証すること
ができない。また金属被覆は酸素、水酸基及び硫黄その
他のイオン透過に対して緊密でなければならず、できる
だけ薄い層で有効であり、直接密接して施すことができ
(iff場力を完全に利用し得るために極く小さな亀裂
が許容されるにすぎない)、またそれ自体非磁性でなけ
ればならない。水性電解質浴からの電気的被覆は上記の
理由から使用できず、また真空蒸着法は気密な被覆を生
じない。
気透過性であることから、恒久的な保護を保証すること
ができない。また金属被覆は酸素、水酸基及び硫黄その
他のイオン透過に対して緊密でなければならず、できる
だけ薄い層で有効であり、直接密接して施すことができ
(iff場力を完全に利用し得るために極く小さな亀裂
が許容されるにすぎない)、またそれ自体非磁性でなけ
ればならない。水性電解質浴からの電気的被覆は上記の
理由から使用できず、また真空蒸着法は気密な被覆を生
じない。
従って本発明により、ガルバノアルミニウム(それ自体
は非磁性である)を有利には15〜20μ+*A1の層
厚で中性の酸素及び水不含の上記電解質媒体から、Sm
Co5の磁気を損なわない80〜110’Cの浴温で施
す処理は選択された方法である。
は非磁性である)を有利には15〜20μ+*A1の層
厚で中性の酸素及び水不含の上記電解質媒体から、Sm
Co5の磁気を損なわない80〜110’Cの浴温で施
す処理は選択された方法である。
接触は好ましくは成形部品の磁気ヘッドの裏側で、例え
ばアルミニウム導線を小さな穴に差し込むことにより実
施し、成形部品の表面をガルバノアルミニウムで被覆し
た後その穴を柔らかいアルミニウム小片で鋲留めする。
ばアルミニウム導線を小さな穴に差し込むことにより実
施し、成形部品の表面をガルバノアルミニウムで被覆し
た後その穴を柔らかいアルミニウム小片で鋲留めする。
この極めて延性のガルバノアルミニウムは密閉物質とし
て作用し、摩擦溶接にも極めて通しているので、この被
包処理は全面的に緊密にすることができる。
て作用し、摩擦溶接にも極めて通しているので、この被
包処理は全面的に緊密にすることができる。
そのヘッド部が操作時に又は使用中にしばしば機械的に
負荷されるこの種の磁気材料成形部品を、ガルバノアル
ミニウムーイオン障壁層で被包することによる付加的な
利点は、引続きガルバノアルミニウムーアルマイト層を
10〜15μmの厚さで陽極酸化することによってこの
成形部品に硬質の極めて耐摩耗性の表面を付与し得るこ
とであり、これは沸騰水中で固化しない中に更に任意に
着色するか又は各種のデータを印刷することもできる。
負荷されるこの種の磁気材料成形部品を、ガルバノアル
ミニウムーイオン障壁層で被包することによる付加的な
利点は、引続きガルバノアルミニウムーアルマイト層を
10〜15μmの厚さで陽極酸化することによってこの
成形部品に硬質の極めて耐摩耗性の表面を付与し得るこ
とであり、これは沸騰水中で固化しない中に更に任意に
着色するか又は各種のデータを印刷することもできる。
その際表面は500HV以上に達することができ、この
高い硬度により機械的に研磨することもできる。
高い硬度により機械的に研磨することもできる。
ガルバノアルミニウム並びにこのガルバノアルミニウム
ーアルマイト層は極めて良好なイオン障壁層であり、こ
れは酸素イオン並びに水酸基イオン及び硫黄イオンを磁
気材料SmCO5に浸入させず、その完全な作用力及び
高い磁性は長期にわたって保存され、また空気中ばかり
でなくSO8及びN−0化合物で負荷された雰囲気中に
おいても保証される。SmCo5成形部品上のガルバノ
アルミニウムーイオン障壁層の品質及び信φN性は測定
技術的に(及び層厚、相対的な空気中湿度及び試験温度
との関連において)空気調節棚中に置いた試片により確
認することができ、この保磁場力を試験時間との関連に
おいて記録し、同じ出発品質の被覆されていないSmC
o5成形部品のそれと比較する。このようにしてSmC
o、成形部品に対する最適のガルバノアルミニウム層厚
及びガルバノアルミニウムアルマイト層厚を調べること
ができる。
ーアルマイト層は極めて良好なイオン障壁層であり、こ
れは酸素イオン並びに水酸基イオン及び硫黄イオンを磁
気材料SmCO5に浸入させず、その完全な作用力及び
高い磁性は長期にわたって保存され、また空気中ばかり
でなくSO8及びN−0化合物で負荷された雰囲気中に
おいても保証される。SmCo5成形部品上のガルバノ
アルミニウムーイオン障壁層の品質及び信φN性は測定
技術的に(及び層厚、相対的な空気中湿度及び試験温度
との関連において)空気調節棚中に置いた試片により確
認することができ、この保磁場力を試験時間との関連に
おいて記録し、同じ出発品質の被覆されていないSmC
o5成形部品のそれと比較する。このようにしてSmC
o、成形部品に対する最適のガルバノアルミニウム層厚
及びガルバノアルミニウムアルマイト層厚を調べること
ができる。
上記した形式の試片の試験は湿った窒素−酸素混合物(
50:50容量%又は重量%)中で25.60又は80
℃で実施することもでき、引続き試片の傾斜断面でSm
Co5成形部品の酸化物又は水酸化物に変成した縁層を
顕微鏡で視覚的に確認することができる。これが黄色で
あることからSm、0.は良好に認識することができる
。
50:50容量%又は重量%)中で25.60又は80
℃で実施することもでき、引続き試片の傾斜断面でSm
Co5成形部品の酸化物又は水酸化物に変成した縁層を
顕微鏡で視覚的に確認することができる。これが黄色で
あることからSm、0.は良好に認識することができる
。
■−主
極めて酸素親和性のウランを酸化から保護するためにま
た試片を操作する際に有害な重金属及びその酸化生成物
との接触を阻止するために、特に酸素イオン及び水酸基
イオン並びにウランイオンに対するイオン障壁として、
その寸法に応じて10〜30μ惰及びそれ以とのガルバ
ノアルミニウムでのウラン金属、特にいわゆる濃縮ウラ
ン金属からなる成形部品の被覆処理ウラン金属は1 B
、97 (g/cl” )のその極めて高い密度、良好
な機械的特性及び1132°Cの比較的高い融点により
航空機、船舶、ロケット及びジャイロスコープ(照準装
置の安定機)におけるバラスト及び釣合おもりとして、
また装置及び容器内でのT線及びX線に対する遮蔽膜と
して使用される。
た試片を操作する際に有害な重金属及びその酸化生成物
との接触を阻止するために、特に酸素イオン及び水酸基
イオン並びにウランイオンに対するイオン障壁として、
その寸法に応じて10〜30μ惰及びそれ以とのガルバ
ノアルミニウムでのウラン金属、特にいわゆる濃縮ウラ
ン金属からなる成形部品の被覆処理ウラン金属は1 B
、97 (g/cl” )のその極めて高い密度、良好
な機械的特性及び1132°Cの比較的高い融点により
航空機、船舶、ロケット及びジャイロスコープ(照準装
置の安定機)におけるバラスト及び釣合おもりとして、
また装置及び容器内でのT線及びX線に対する遮蔽膜と
して使用される。
しかしこの種の使用目的にとってほぼ理想的な金属はε
。(U/U”に対す’6) −−1,494Vの標準電
極電位で卑金属であり、これは空気中で直ちに曇り、す
なわち酸化し、希酸、更には沸謄水によっても、 U+2Hオ0→UO□↓+2H,↑ により急速に攻撃される。この錆層は強固には付着して
おらず、拭い去ることができまたウランはその放射罐と
は無関係に重金属として毒性であることから、上記の成
形部品はその操作及び使用のために保護被膜で被覆され
ていることを要する。
。(U/U”に対す’6) −−1,494Vの標準電
極電位で卑金属であり、これは空気中で直ちに曇り、す
なわち酸化し、希酸、更には沸謄水によっても、 U+2Hオ0→UO□↓+2H,↑ により急速に攻撃される。この錆層は強固には付着して
おらず、拭い去ることができまたウランはその放射罐と
は無関係に重金属として毒性であることから、上記の成
形部品はその操作及び使用のために保護被膜で被覆され
ていることを要する。
これは従来多かれ少なかれ容認することのできない水性
電解質浴からのプラスチック被覆又はニッケル被覆で実
施されてきた。
電解質浴からのプラスチック被覆又はニッケル被覆で実
施されてきた。
従って本発明によればウラン金属成形部品をその製造直
後にまた寸法通り機械的に表面加工した後に、後精製処
理した窒素又はアルゴンからなる乾燥不活性ガス雰囲気
中で陰極枠に張り、同時に接触し、ゲートを介して先に
記載した組成の非プロトン性の酸素及び水不含のアルミ
ニウム有機錯塩電解質媒体中に沈め、陰極を移動させな
がら(往復運動又は円筒状の成形部品の場合には回転)
、浴温80〜110°C及び電流密度0.5〜3A/d
ポで10〜30μ割のガルバノアルミニウムを全面的に
被覆した。この場合酸化物及び被覆層を有さないむき出
しのウラン表面に、ガルバノアルミニウムイオン障壁層
の極めて良好な接着強度が得られた。付着している電解
液をトルエンで洗い落とし、水洗いし、トルエン/イソ
プロパツール中で洗い流した後、被覆された成形部品を
赤光導管内で窒素下に乾燥した。
後にまた寸法通り機械的に表面加工した後に、後精製処
理した窒素又はアルゴンからなる乾燥不活性ガス雰囲気
中で陰極枠に張り、同時に接触し、ゲートを介して先に
記載した組成の非プロトン性の酸素及び水不含のアルミ
ニウム有機錯塩電解質媒体中に沈め、陰極を移動させな
がら(往復運動又は円筒状の成形部品の場合には回転)
、浴温80〜110°C及び電流密度0.5〜3A/d
ポで10〜30μ割のガルバノアルミニウムを全面的に
被覆した。この場合酸化物及び被覆層を有さないむき出
しのウラン表面に、ガルバノアルミニウムイオン障壁層
の極めて良好な接着強度が得られた。付着している電解
液をトルエンで洗い落とし、水洗いし、トルエン/イソ
プロパツール中で洗い流した後、被覆された成形部品を
赤光導管内で窒素下に乾燥した。
所望の場合及び有利な場合には、ガルバノアルミニウム
層をガラス玉放射又は硬物質粒の連打によって機械的に
圧縮及び硬化するか、又はGS浴、GSX浴又はGX浴
中で陽極酸化することによって表面的に硬質で耐摩耗性
のガルバノアルミニウムアルマイトに変え、これを沸謄
水中で圧縮する、こともできた、これにより緊密でガラ
ス様に透明でまたセラミック様に硬質のガルバノアルミ
ニウムアルマイト層が、イオン障壁層の銀様に輝くガル
バノアルミニウム上に得られた。
層をガラス玉放射又は硬物質粒の連打によって機械的に
圧縮及び硬化するか、又はGS浴、GSX浴又はGX浴
中で陽極酸化することによって表面的に硬質で耐摩耗性
のガルバノアルミニウムアルマイトに変え、これを沸謄
水中で圧縮する、こともできた、これにより緊密でガラ
ス様に透明でまたセラミック様に硬質のガルバノアルミ
ニウムアルマイト層が、イオン障壁層の銀様に輝くガル
バノアルミニウム上に得られた。
必要な場合にはガルバノアルミニウムアルマイト層を圧
縮処理する前に任意に着色し、及び/又は例えば成形部
品を特徴付けるため標識をつけることもできた9着色又
は印刷後同様に約30分間沸騰水中で圧縮し、これによ
り染料又は印刷インキを耐水性に硬質表面に閉じ込めた
。
縮処理する前に任意に着色し、及び/又は例えば成形部
品を特徴付けるため標識をつけることもできた9着色又
は印刷後同様に約30分間沸騰水中で圧縮し、これによ
り染料又は印刷インキを耐水性に硬質表面に閉じ込めた
。
この本発明による被N決でイオン密度の極めて恒久的な
被覆がウラン金属成形部品に得られ、これはウランの酸
化を阻止し、またウラニルイオン、UOt”並びに酸化
ウランの拡散漏出を、遮断する。
被覆がウラン金属成形部品に得られ、これはウランの酸
化を阻止し、またウラニルイオン、UOt”並びに酸化
ウランの拡散漏出を、遮断する。
イオン障壁としてのこの被覆の作用は、熱風棚又は空気
sl1節棚(空気及び湿気)中に該部品を置くことによ
って試験することができた。透過性UO1!9イオンは
UV光中でのその緑色蛍光により容易に認識することが
できた。水酸基イオンの浸入により生じるU Otはそ
の褐−黒色によって容易に認められ、また−緒に生じた
水素は被覆の下方に泡を形成した。
sl1節棚(空気及び湿気)中に該部品を置くことによ
って試験することができた。透過性UO1!9イオンは
UV光中でのその緑色蛍光により容易に認識することが
できた。水酸基イオンの浸入により生じるU Otはそ
の褐−黒色によって容易に認められ、また−緒に生じた
水素は被覆の下方に泡を形成した。
全面的な少なくとも10μmの十分に厚い緊密なガルバ
ノアルミニウムイオン障壁層では、この種の透過現象は
生じない。ウラン成形部品の大きさ及び重量に応じて、
成形部品の数度の操作で恒久的な安全性を保証するため
には、より厚いガルバノアルミニウム層が好適であるこ
とが判明した。
ノアルミニウムイオン障壁層では、この種の透過現象は
生じない。ウラン成形部品の大きさ及び重量に応じて、
成形部品の数度の操作で恒久的な安全性を保証するため
には、より厚いガルバノアルミニウム層が好適であるこ
とが判明した。
同様にしてベリリウム、タリウム等からなる成形部品を
ガルバノアルミニウムイオン障壁層で被覆することもで
きる。
ガルバノアルミニウムイオン障壁層で被覆することもで
きる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)金属又は導電性にされた非金属の表面がアルミニウ
ム純度>99.99%の場合によっては陽極酸化されて
いるガルバノアルミニウム層を有することを特徴とする
金属及び非金属上のイオン障壁層。 2)ガルバノアルミニウム層が10〜20μmの厚さを
有することを特徴とする請求項1記載のイオン障壁層。 3)ガルバノアルミニウム層を機械的方法で圧縮するこ
とを特徴とする請求項1又は2記載のイオン障壁層。 4)陽極酸化されたガルバノアルミニウム層が2〜15
μmの厚さを有することを特徴とする請求項1ないし3
のいずれか1項に記載のイオン障壁層。 5)請求項1ないし4のいずれか1項に記載の導電性表
面を有する金属加工材料及び非金属加工材料上にイオン
障壁層を製造する方法において、導電性表面に場合によ
っては精製及び前処理後、一般式: M^1X・2AIR_3・nLsm 〔式中Mはアルカリ金属イオン又は第四オニウムイオン
を表し、Xはハロゲンイオン(有利にはF^−又はCl
^−)を表し、Rはアルキル基(有利にはCH_3、C
_2H_5、C_3H_7又はC_4H_9)を表し、
Lsmは芳香族溶剤分子(有利にはトルエン、エチルペ
ンゾール、キシロール又はこれらの混合物)を表し、n
=0〜12モルを表す〕で示される非プロトン性の酸素
及び水不含のアルミニウム有機錯塩電解質中で場合によ
っては芳香族溶剤の存在下に、浴温50〜110℃及び
電流密度0.5〜10A/dm^2で、浴を激しく運動
させながら、ガルバノアルミニウム層を電気的に析出、
場合によっては圧縮及び/又は陽極酸化することを特徴
とする金属加工材料及び非金属加工材料上へのイオン障
壁層の製造方法。 6)銅リード線上にイオン障壁層を製造するのに利用さ
れることを特徴とする請求項5記載の方法。 7)磁気加工材料又はウラン金属からなる成形部品上に
カプセルとしてイオン障壁層を製造するのに利用される
ことを特徴とする請求項5記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3732805 | 1987-09-29 | ||
| DE3732805.0 | 1987-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129989A true JPH01129989A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=6337130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63243782A Pending JPH01129989A (ja) | 1987-09-29 | 1988-09-27 | 金属及び非金属上のイオン障壁層及びその製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4948475A (ja) |
| EP (1) | EP0309831A1 (ja) |
| JP (1) | JPH01129989A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010525161A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ネーデルランドセ オルガニサティエ フォール トエゲパストナトールヴェテンシャッペリク オンデルゾエク ティエヌオー | バリヤー層及びその製造方法 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3919068A1 (de) * | 1989-06-10 | 1990-12-13 | Studiengesellschaft Kohle Mbh | Aluminiumorganische elektrolyte zur elektrolytischen abscheidung von hochreinem aluminium |
| DE3919069A1 (de) * | 1989-06-10 | 1990-12-13 | Studiengesellschaft Kohle Mbh | Aluminiumorganische elektrolyte und verfahren zur elektrolytischen abscheidung von aluminium |
| US7856750B2 (en) | 1997-12-08 | 2010-12-28 | Horus Vision Llc | Apparatus and method for calculating aiming point information |
| US7250102B2 (en) * | 2002-04-30 | 2007-07-31 | Alumiplate Incorporated | Aluminium electroplating formulations |
| WO2002088434A1 (en) * | 2001-04-30 | 2002-11-07 | Alumiplate Incorporated | Aluminium electroplating formulations |
| FR2840623B1 (fr) * | 2002-06-11 | 2004-09-10 | Sarthoise De Revetements Elect | Procede de depot d'aluminium sur une piece en matiere plastique |
| JP4583048B2 (ja) * | 2004-02-26 | 2010-11-17 | 信越化学工業株式会社 | 希土類磁石密封体およびipmモータの製造方法 |
| DE102010032581A1 (de) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | Auto-Kabel Managementgesellschaft Mbh | Galvanische Beschichtung eines elektrischen Verbindungsteils mit Reinaluminium |
| KR20150129660A (ko) * | 2013-03-14 | 2015-11-20 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판 상의 고순도 알루미늄 탑 코트 |
| US9624593B2 (en) | 2013-08-29 | 2017-04-18 | Applied Materials, Inc. | Anodization architecture for electro-plate adhesion |
| US9663870B2 (en) | 2013-11-13 | 2017-05-30 | Applied Materials, Inc. | High purity metallic top coat for semiconductor manufacturing components |
| BR112017006724A2 (pt) | 2014-10-03 | 2017-12-19 | 3M Innovative Properties Co | métodos para gerenciar a dispersão de luz incidente e artigos criados a partir dos mesmos |
| US10823532B2 (en) | 2018-09-04 | 2020-11-03 | Hvrt Corp. | Reticles, methods of use and manufacture |
| CN109527660B (zh) * | 2019-01-18 | 2024-08-20 | 无锡杰程光电有限公司 | 一种电子烟薄膜发热片的制作方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4101386A (en) * | 1971-05-07 | 1978-07-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Methods of coating and surface finishing articles made of metals and their alloys |
| DE2146346A1 (de) * | 1971-09-16 | 1973-03-22 | Siemens Ag | Wasserstoffdiffusionssperre fuer kernreaktorbrennstaebe |
| DE2821047A1 (de) * | 1978-05-13 | 1979-11-22 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Hohler schichtkoerper |
| GR74951B (ja) * | 1980-07-17 | 1984-07-12 | Engel Thomas Paul | |
| DE3104161A1 (de) * | 1981-02-06 | 1982-08-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Kunststoffschlauch oder kunststoffrohr fuer den transport korrosionsfoerdernder medien |
| DE3111369A1 (de) * | 1981-03-23 | 1982-11-25 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Bad und verfahren zum galvanischen aluminieren von polytetrafluoraethylenteilen |
-
1988
- 1988-09-16 EP EP88115222A patent/EP0309831A1/de not_active Withdrawn
- 1988-09-27 JP JP63243782A patent/JPH01129989A/ja active Pending
- 1988-09-29 US US07/250,947 patent/US4948475A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010525161A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ネーデルランドセ オルガニサティエ フォール トエゲパストナトールヴェテンシャッペリク オンデルゾエク ティエヌオー | バリヤー層及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4948475A (en) | 1990-08-14 |
| EP0309831A1 (de) | 1989-04-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01129989A (ja) | 金属及び非金属上のイオン障壁層及びその製法 | |
| He et al. | Conducting Polymers and Corrosion III. A Scanning Vibrating Electrode Study of Poly (3‐octyl pyrrole) on Steel and Aluminum | |
| US6328874B1 (en) | Anodically formed intrinsically conductive polymer-aluminum oxide composite as a coating on aluminum | |
| US1946151A (en) | Protecting aluminum from corrosion | |
| JPH06192887A (ja) | 高温で使用される金属部品のための保護被覆 | |
| CN106757275B (zh) | 一种钛合金电化学氧化后低温玻璃封接工艺 | |
| KR100227581B1 (ko) | 구리재 표면에 강인한 전기 절연층의 형성방법 | |
| US4455201A (en) | Bath and method for anodizing aluminized parts | |
| JPH05271986A (ja) | アルミニウム・有機高分子積層体 | |
| KR100297348B1 (ko) | 구리재의표면상에의강인한전기절연층의형성방법 | |
| JP4327177B2 (ja) | 耐食性溶射皮膜および溶射皮膜の封孔被覆方法 | |
| EP0669668A1 (en) | Process for converting lead and lead oxides to barium metaplumbate | |
| US3655543A (en) | Method of coating the surfaces of electrically conducting and semiconducting materials with an electrically insulating polymeric film by means of electrolysis | |
| US3763003A (en) | Method for producing ferrite thin film body | |
| US3466234A (en) | Electrolytic formation of films of fe2o3 | |
| EP1445352A1 (en) | A method for forming a passivation layer on an article having at least one tin-plated surface | |
| JPH01129995A (ja) | 金属及び非金属加工材料用ガス障壁層及びその製法 | |
| EP1870907B1 (en) | Electric conductor made of aluminium with a magnetic outer surface and method for its production | |
| JP2002115098A (ja) | 有機メッキ方法及び有機メッキ製品 | |
| Fung et al. | Electrochemical deposition of superconductor alloy precursor in a low melting molten salt medium | |
| Vazirani | Surface preparation of copper and its alloys for adhesive bonding and organic coatings | |
| Zhang et al. | Corrosion protection of AZ91D Mg alloy coating with micro-arc oxidation film evaluated by immersion and electrochemical tests | |
| Carson et al. | Electrode Potentials and Compound Formation in the Palladium–Platinum–Hydrogen System | |
| Hinde et al. | Sealing of aluminium oxide anodic films | |
| Finne et al. | Gold Plating Directly on Molybdenum |