JPH01130101A - 水ヤケが防止された反射防止膜 - Google Patents
水ヤケが防止された反射防止膜Info
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- JPH01130101A JPH01130101A JP62288993A JP28899387A JPH01130101A JP H01130101 A JPH01130101 A JP H01130101A JP 62288993 A JP62288993 A JP 62288993A JP 28899387 A JP28899387 A JP 28899387A JP H01130101 A JPH01130101 A JP H01130101A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、水ヤケが防止された反射防止膜に関する。
(従来の技術)
カメラ、メガネ等のレンズには、通常、表面及び/又は
裏面に反射防止膜が設けられている。
裏面に反射防止膜が設けられている。
最も簡単な反射防止膜は、下記条件式を満足する屈折率
nXを有する光学的膜厚がλ。/4(λ。は基準設計波
長)の単層膜である。
nXを有する光学的膜厚がλ。/4(λ。は基準設計波
長)の単層膜である。
n、<n、<n。
nx=7τ7
ガラスレンズの屈折率は、通常4.52〜1.80であ
り、反射防止膜の材料としては、できるだけ低屈折率の
ものが反射防止性能が高いので、一般にはフッ化マグネ
シウム(MgF、)が使用されている。
り、反射防止膜の材料としては、できるだけ低屈折率の
ものが反射防止性能が高いので、一般にはフッ化マグネ
シウム(MgF、)が使用されている。
一般に、可視波長域で使用される光学ガラスの表面に施
される反射防止膜は、可視波長全域において残存反射率
が小さいことが望ましい。しかし、単層あるいは2層構
造のものでは、残存反射率が大きいうえに反射抑制波長
域が狭いので、これを改善するために3層以上の構造か
らなる反射防止膜が種々提案されている。
される反射防止膜は、可視波長全域において残存反射率
が小さいことが望ましい。しかし、単層あるいは2層構
造のものでは、残存反射率が大きいうえに反射抑制波長
域が狭いので、これを改善するために3層以上の構造か
らなる反射防止膜が種々提案されている。
その一つは、米国特許第3,604.78〜4号に示さ
れているもので、これは空気側から基板ガラス側へ順に
、第1層は光学的膜厚がλ。/4のMgF z (n
−1,38) 、第2層は光学的膜厚がλ。
れているもので、これは空気側から基板ガラス側へ順に
、第1層は光学的膜厚がλ。/4のMgF z (n
−1,38) 、第2層は光学的膜厚がλ。
/2のチタン酸化物と1!、 O,との°混合物(nL
i2.00)、第3層は光学的膜厚がλ。/2のA2.
03あるいはMgO(M=1.64〜1.72 )によ
って構成されている。
i2.00)、第3層は光学的膜厚がλ。/2のA2.
03あるいはMgO(M=1.64〜1.72 )によ
って構成されている。
以上の通り、ガラスレンズの反射防止膜は、最外層がM
g F tで構成されている。
g F tで構成されている。
なお、反射防止膜は、一般には例えば真空蒸着、スパッ
タリングなどの真空堆積技術により形成されるが、強靭
なMgF、の薄膜を下地に密着性良く形成するには、下
地を300 ’C位の高温に加熱しなければならないこ
とから、プラスチックレンズの場合には、最外層を5i
O0にすることが多い、しかし、最近、低温でフッ化マ
グネシウム薄膜を形成する反応性蒸着法が開発されたの
で、将来は、プラスチックレンズでも最外層をM g
F tとした反射防止膜が使用されるかもしれない。
タリングなどの真空堆積技術により形成されるが、強靭
なMgF、の薄膜を下地に密着性良く形成するには、下
地を300 ’C位の高温に加熱しなければならないこ
とから、プラスチックレンズの場合には、最外層を5i
O0にすることが多い、しかし、最近、低温でフッ化マ
グネシウム薄膜を形成する反応性蒸着法が開発されたの
で、将来は、プラスチックレンズでも最外層をM g
F tとした反射防止膜が使用されるかもしれない。
他方、反射防止膜は、汚れが付着し易く、そのため、例
えば水ヤケするという問題点があった。
えば水ヤケするという問題点があった。
水ヤケとは表面に水滴を垂して乾燥すると、シミのよう
なマークが残る現象を言う。
なマークが残る現象を言う。
そこで、最近、最外層の上に光学的に障害とならない超
薄膜の水ヤケ防止膜を設けることが提案された(例えば
、特開昭61−130902号公報参照)、提案された
水ヤケ防止膜は、最外層がSiO□の反射防止股上に設
けるもので、有機ケイ素化合物の超薄膜(膜厚100Å
以下)からなる、この超薄膜はコーテイング液のコート
→乾燥(加熱硬化)という塗布法で形成される。
薄膜の水ヤケ防止膜を設けることが提案された(例えば
、特開昭61−130902号公報参照)、提案された
水ヤケ防止膜は、最外層がSiO□の反射防止股上に設
けるもので、有機ケイ素化合物の超薄膜(膜厚100Å
以下)からなる、この超薄膜はコーテイング液のコート
→乾燥(加熱硬化)という塗布法で形成される。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、このような水ヤケ防止膜を最外層がMg
F、の反射防止股上に直接形成したところ、水ヤケ防止
膜の密着性が悪く、容易に剥離してしまうという問題点
のあることが判明した。
F、の反射防止股上に直接形成したところ、水ヤケ防止
膜の密着性が悪く、容易に剥離してしまうという問題点
のあることが判明した。
(問題点を解決するための手段)
そこで鋭意研究した結果、反射防止膜の上に酸化ケイ素
SiO+(2≧X〉1)の超薄膜を形成した後に水ヤケ
防止膜を形成すると、水ヤケ防止膜の密着性が向上し、
容易に剥離しないことを見出し、本発明を成すに至った
。
SiO+(2≧X〉1)の超薄膜を形成した後に水ヤケ
防止膜を形成すると、水ヤケ防止膜の密着性が向上し、
容易に剥離しないことを見出し、本発明を成すに至った
。
従って、本発明の特徴は、水ヤケ防止膜と反射防止膜と
の間に酸化ケイ素の超薄膜からなる接着層を設けたこと
にある。
の間に酸化ケイ素の超薄膜からなる接着層を設けたこと
にある。
(作用)
反射防止膜は、従来技術の項で説明したように単層又は
多層構造を有し、最外層にはMgF、が使用される。
多層構造を有し、最外層にはMgF、が使用される。
本発明の特徴である酸化ケイ素SiC++(2≧X>1
)の超薄膜は、反射防止膜に続いて真空堆積技術により
形成されるが、形成方法はこれに限ることなく、塗布法
でもよい。
)の超薄膜は、反射防止膜に続いて真空堆積技術により
形成されるが、形成方法はこれに限ることなく、塗布法
でもよい。
StO,超薄膜は、光学的な障害とならないように膜厚
100Å以下、好ましくは10〜50人にすべきである
。
100Å以下、好ましくは10〜50人にすべきである
。
Si0g超薄膜の上に形、成される水ヤケ防止膜それ自
体は知られており、一般には有機ケイ素化合物の超薄膜
(膜厚100Å以下)からなる。
体は知られており、一般には有機ケイ素化合物の超薄膜
(膜厚100Å以下)からなる。
有機ケイ素化合物は、側鎖にアルキル基フェニル基又は
パーフルオロアルキル基を有する二次元および/または
三次元構造のポリオルガノシロキサンであるのが好まし
い、前記ポリオルガノシロキサンにおいて、アルキル基
、フェニル基、パーフルオロアルキル基をRで示すと二
次元構造は下記式(I)、三次元構造は下記式(n)で
表わされる繰り返し単位からなる。Rは同一でも異なり
ていてもよい。
パーフルオロアルキル基を有する二次元および/または
三次元構造のポリオルガノシロキサンであるのが好まし
い、前記ポリオルガノシロキサンにおいて、アルキル基
、フェニル基、パーフルオロアルキル基をRで示すと二
次元構造は下記式(I)、三次元構造は下記式(n)で
表わされる繰り返し単位からなる。Rは同一でも異なり
ていてもよい。
Rがパーフルオロアルキル基であるパーフルオロアルキ
ル基含有ポリオルガノシロキサンにおいて、パーフルオ
ロアルキル基は炭素数1〜20のものが特に好ましい。
ル基含有ポリオルガノシロキサンにおいて、パーフルオ
ロアルキル基は炭素数1〜20のものが特に好ましい。
ここで、パーフルオロアルキル基含有ポリオルガノシロ
キサンの超薄膜を形成するには、まずパーフルオロアル
キル基含有シラン化合物のコーテンイグ流で処理する。
キサンの超薄膜を形成するには、まずパーフルオロアル
キル基含有シラン化合物のコーテンイグ流で処理する。
処理されたシラン化合物を加熱すると、脱水、縮合反応
が進行して、ポリシロキサン構造の超薄膜が形成される
。使用されるパーフルオロアルキル基含有シラン化合物
としては、パーフルオロアルキル基をR1で表わすと、
Rt (CHg)++ S i X3R,(CH,)
、5i(OR″)3 R。
が進行して、ポリシロキサン構造の超薄膜が形成される
。使用されるパーフルオロアルキル基含有シラン化合物
としては、パーフルオロアルキル基をR1で表わすと、
Rt (CHg)++ S i X3R,(CH,)
、5i(OR″)3 R。
Rr (CHg)、lS i Xg
R”
Re (CH,)a S i (OR’)z(ここ
でXはハロゲン、R′は低級アルキル基、nは2〜4の
整数)などが好ましく、これらは−部市販品として入手
可能である。
でXはハロゲン、R′は低級アルキル基、nは2〜4の
整数)などが好ましく、これらは−部市販品として入手
可能である。
パーフルオロアルキル基含有シラン化合物の代表的なも
のを例示すると、 CF3 (CFz)z Ct H4S i (OC
Hs)iCF3 (CFg)s Cg H4S i
(OCHi)sCF3 (CFり6 Ct H4S
i (OCHs):+CFコ (CFt)+iC*
H4S i (OCHs)sCF3 (CFり
& Cg Ha S i C1zCFs (CFs)
i Cs Hh S i (OCHi)zCH。
のを例示すると、 CF3 (CFz)z Ct H4S i (OC
Hs)iCF3 (CFg)s Cg H4S i
(OCHi)sCF3 (CFり6 Ct H4S
i (OCHs):+CFコ (CFt)+iC*
H4S i (OCHs)sCF3 (CFり
& Cg Ha S i C1zCFs (CFs)
i Cs Hh S i (OCHi)zCH。
■
CF3 (CFz)h Cz H4Si (OCHa
)zCH。
)zCH。
■
CF3 (CFg)* Cz Ha S i (O
CH3)1zHs CFs (CFz)s S i (OCg Hs)
x(CHsO) 5sIctHa (CFz) *CJ
4Si (OCfls) sCj! 5sictHa
(CFt) hctHasE j! 5(CHsO)s
sicsHJHcOOctH4−CI! 3SiC31
1JHCOOCJa −などが挙げられる。
CH3)1zHs CFs (CFz)s S i (OCg Hs)
x(CHsO) 5sIctHa (CFz) *CJ
4Si (OCfls) sCj! 5sictHa
(CFt) hctHasE j! 5(CHsO)s
sicsHJHcOOctH4−CI! 3SiC31
1JHCOOCJa −などが挙げられる。
そのほか、バーフataアルキル基の代りに単なる置換
又は非置換アルキル基又はフェニル基を有するシラン化
合物も単独使用又は併用できる。
又は非置換アルキル基又はフェニル基を有するシラン化
合物も単独使用又は併用できる。
このようなシラン化合物をいくつか例示すると、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン
、アミノメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、T−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、T−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシランなどの3官能性シラン、ジメチルジメトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジブトキ
シシランなどの2官能性シラン、四メトキシケイ素、四
エトキシケイ素、四プロポキシケイ素、四ブトキシケイ
素などの4官能性シランがあげられる。あるいは、これ
らのアルコキシシランに代えて相当するクロロシランや
相当するシラノールを使用することもできる。例えば、
末端シラノール有機ポリシロキサン例えば、末端にシラ
ノールを有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフ
ェニルシロキサン、ポリメチルとニルシロキサン等も使
用することができる。
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン
、アミノメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、T−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、T−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシランなどの3官能性シラン、ジメチルジメトキシ
シラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジブトキ
シシランなどの2官能性シラン、四メトキシケイ素、四
エトキシケイ素、四プロポキシケイ素、四ブトキシケイ
素などの4官能性シランがあげられる。あるいは、これ
らのアルコキシシランに代えて相当するクロロシランや
相当するシラノールを使用することもできる。例えば、
末端シラノール有機ポリシロキサン例えば、末端にシラ
ノールを有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフ
ェニルシロキサン、ポリメチルとニルシロキサン等も使
用することができる。
上記シラン化合物及びシラノール化合物は、予め加水分
解その他の手段で多少縮合を進めたオリゴマーの形で使
用することもできる。
解その他の手段で多少縮合を進めたオリゴマーの形で使
用することもできる。
シラン化合物及びシラノール化合物は溶媒、例えば、水
、アルコール類、ケトン類、エーテル類、ハロゲン化炭
化水素系溶媒などの少なくとも1種によって例えば0.
01S−1%の固形分濃度の溶液となるようにすること
によりコーテイング液を調製する。
、アルコール類、ケトン類、エーテル類、ハロゲン化炭
化水素系溶媒などの少なくとも1種によって例えば0.
01S−1%の固形分濃度の溶液となるようにすること
によりコーテイング液を調製する。
調製されたコーテイング液は、S i OX m1ll
膜の上にスプレー、ディッピング、スピンコード等によ
りコートした後、(乾燥)、加熱硬化させることにより
水ヤケ防止膜の超薄膜(100Å以下)が形成される。
膜の上にスプレー、ディッピング、スピンコード等によ
りコートした後、(乾燥)、加熱硬化させることにより
水ヤケ防止膜の超薄膜(100Å以下)が形成される。
場合によっては、SiOx超薄膜の表面原子のStがO
H基を有しているので、この場合にはクロロシラン化合
物をそのままOH基と反応させることにより水ヤケ防止
膜の超薄膜を形成さ廿てもよい。
H基を有しているので、この場合にはクロロシラン化合
物をそのままOH基と反応させることにより水ヤケ防止
膜の超薄膜を形成さ廿てもよい。
クロロシラン化合物をS i OX 81m膜に反応さ
せるには、ディッピング、スピンコード、スプレー等に
より表面にクロロシラン化合物を塗布(反応)させ“る
方法、または、真空雰囲気中あるいは大気中でクロロシ
ラン化合物ガスをStow超薄膜と反応させる方法など
用いることができる。
せるには、ディッピング、スピンコード、スプレー等に
より表面にクロロシラン化合物を塗布(反応)させ“る
方法、または、真空雰囲気中あるいは大気中でクロロシ
ラン化合物ガスをStow超薄膜と反応させる方法など
用いることができる。
前者の場合、塗布中の雰囲気、たとえば湿度、温度を最
適にコントロールすることにより、より反応が促進され
るし、浸漬時間も反応が十分終了する時間が望ましい。
適にコントロールすることにより、より反応が促進され
るし、浸漬時間も反応が十分終了する時間が望ましい。
また、止め塗布後コート膜の特性に影響を与えない程度
の熱を加えることにより反応を促進すればより効果的で
ある。
の熱を加えることにより反応を促進すればより効果的で
ある。
反応に用いるクロロシラン化合物は単体で用いてもよい
し、溶媒で希釈して用いることも可能であるが、この場
合、水酸基を有しない溶媒を用いることが、液寿命の点
で好ましい0例えば、溶媒として、トルエン、塩化メチ
レン、1,3,3゜−トリフロワトリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、テトラヒドロフラン等を用いること
ができる。水ヤケ防止膜の形成後、−1Wには反射防止
膜を洗浄する。洗浄方法としては、水道水、純水などで
洗浄した後、トルエン、塩化メチレン、1゜3.3.−
トリフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、テ
トラヒドロフラン等の溶媒で洗浄する2七より効果的で
ある。
し、溶媒で希釈して用いることも可能であるが、この場
合、水酸基を有しない溶媒を用いることが、液寿命の点
で好ましい0例えば、溶媒として、トルエン、塩化メチ
レン、1,3,3゜−トリフロワトリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、テトラヒドロフラン等を用いること
ができる。水ヤケ防止膜の形成後、−1Wには反射防止
膜を洗浄する。洗浄方法としては、水道水、純水などで
洗浄した後、トルエン、塩化メチレン、1゜3.3.−
トリフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、テ
トラヒドロフラン等の溶媒で洗浄する2七より効果的で
ある。
尚注意しなければならないことは、5iOX超薄膜と水
ヤケ防止膜との合計膜厚も、光学的な障害を引き起こさ
ないように、100Å以下にしなければならない。膜厚
が100人より厚く形成されると干渉色あるいは反射色
などが発生し、透視性を損なうなどの弊害が現われるの
で不適当である。
ヤケ防止膜との合計膜厚も、光学的な障害を引き起こさ
ないように、100Å以下にしなければならない。膜厚
が100人より厚く形成されると干渉色あるいは反射色
などが発生し、透視性を損なうなどの弊害が現われるの
で不適当である。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本
発明はこれに限られるものではない。
発明はこれに限られるものではない。
(実施例)
(1)、市販の眼鏡用ガラスレンズ(n′d=1.52
)を超音波洗浄した後、その表裏両面に真空蒸着法(基
板温度200〜300°C)により3層反射防止膜を形
成した。
)を超音波洗浄した後、その表裏両面に真空蒸着法(基
板温度200〜300°C)により3層反射防止膜を形
成した。
反射防止膜は、レンズ側からAitOh (nxl、
630!膜厚0.25λ。)、Zro! (nX=2゜
040:DIIO250λ。)、M g F t (
n X = 1.385:膜厚0.22λ。)の3Mか
らなる。尚、n8は波長λ。における屈折率であり、λ
。は設計基準波長520nmであり、膜厚は光学的膜厚
nxdであり、dは機械的膜厚である。また、ZrO□
に代えてTi0g、SiO又はCentを使用してもよ
い。
630!膜厚0.25λ。)、Zro! (nX=2゜
040:DIIO250λ。)、M g F t (
n X = 1.385:膜厚0.22λ。)の3Mか
らなる。尚、n8は波長λ。における屈折率であり、λ
。は設計基準波長520nmであり、膜厚は光学的膜厚
nxdであり、dは機械的膜厚である。また、ZrO□
に代えてTi0g、SiO又はCentを使用してもよ
い。
(2)0反射防止膜に続いて、その上に膜厚:0.03
λ。のStow (X=1.5〜2)の接着層を真空
蒸着により形成した。
λ。のStow (X=1.5〜2)の接着層を真空
蒸着により形成した。
(3)、別に下記構造式:
%式%)
のパーフロオロアルキル基を有するアルコキシシラン化
合物(nが6.8.10.12のものの混合物であり、
nの平均値は9である)を用意し、これを100倍量の
t−ブタノールに溶かして0゜01重量%濃度のコーテ
イング液を調製した。
合物(nが6.8.10.12のものの混合物であり、
nの平均値は9である)を用意し、これを100倍量の
t−ブタノールに溶かして0゜01重量%濃度のコーテ
イング液を調製した。
前項(2)で得られたレンズを上記コーテイング液に1
分間浸漬し、静かに引上げた後、50 ’Cに3時間保
持することにより、膜厚: 0.02λ。の水ヤケ防止
膜を形成させた。
分間浸漬し、静かに引上げた後、50 ’Cに3時間保
持することにより、膜厚: 0.02λ。の水ヤケ防止
膜を形成させた。
(4)1次に前項で得られたレンズを、純水で洗浄した
後、トリクロロエチレンで洗浄し、風乾させた。
後、トリクロロエチレンで洗浄し、風乾させた。
こうして得られた本実施例の反射防止膜を第1図(断面
図)に示す。
図)に示す。
(実施例2)
(1)、実施例1と同様にガラスレンズ上に3層反射防
止膜及び接着層を形成した。
止膜及び接着層を形成した。
(2)、別にチッソ■製の末端シラノールポリジメチル
シロキサン(商品名:PS340)をメタノールに10
重量%溶かしてコーテイング液を調製した。
シロキサン(商品名:PS340)をメタノールに10
重量%溶かしてコーテイング液を調製した。
(3)、前項(1)で得られたレンズに上記ゴーティン
グをスピンコードした後、100″Cに1時間加熱、乾
燥、硬化させることにより膜JFJ、0.02λ。の水
ヤケ防止膜を形成させた。
グをスピンコードした後、100″Cに1時間加熱、乾
燥、硬化させることにより膜JFJ、0.02λ。の水
ヤケ防止膜を形成させた。
(比較例1)
実施例1で接着層を設けることなく直接に水ヤケ防止膜
を設けた反射防止膜を作製した。
を設けた反射防止膜を作製した。
(比較例2)
実施例1と同様にして反射防止膜だけを作製し、これを
比較例2とした。
比較例2とした。
(試験例)
実施例及び比較例の反射防止膜について、肉眼で反射防
止性能の有無及び水ヤケ防止性能を調べた。水ヤケ防止
性能は水道水をレンズ表面に数滴たらし乾燥させた後、
布で残留物を払き取り、水跳が残ればC1完全に払き取
れればA、一部残ればBと評価した。
止性能の有無及び水ヤケ防止性能を調べた。水ヤケ防止
性能は水道水をレンズ表面に数滴たらし乾燥させた後、
布で残留物を払き取り、水跳が残ればC1完全に払き取
れればA、一部残ればBと評価した。
以上の結果を第1表に示す。
第1表
(*Gはガラスレンズ、ARは反射防止膜、ADは接着
層、Wは水ヤケ防止膜を意味する。)(考察) 第1表の結果で、比較例1の反射防止膜が水ヤケ防止性
能について「C」と評価されたのは、洗浄工程で水ヤケ
防止膜が剥離して無くなったためである。
層、Wは水ヤケ防止膜を意味する。)(考察) 第1表の結果で、比較例1の反射防止膜が水ヤケ防止性
能について「C」と評価されたのは、洗浄工程で水ヤケ
防止膜が剥離して無くなったためである。
(発明の効果)
以上の通り、本発明に従い、反射防止膜と水ヤケ防止膜
との間にS i OX超薄膜からなる接着層を設けるこ
と、水ヤケ防止膜の密着性が向上し、しかも光学的性能
は低下しない。
との間にS i OX超薄膜からなる接着層を設けるこ
と、水ヤケ防止膜の密着性が向上し、しかも光学的性能
は低下しない。
第1図は、本発明の実施例1にかかる反射防止膜の垂直
断面を概念的に示す断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・ガラスレンズ(基板) 2・・・反射防止膜 3・・・接着層 4・・・水ヤケ防止膜
断面を概念的に示す断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・ガラスレンズ(基板) 2・・・反射防止膜 3・・・接着層 4・・・水ヤケ防止膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 最外層がフッ化マグネシウムからなる反射防止膜におい
て、 最外層の上に酸化ケイ素の超薄膜からなる接着層を介し
て水ヤケ防止膜を設けたことを特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62288993A JP2794701B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 水ヤケが防止された反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62288993A JP2794701B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 水ヤケが防止された反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130101A true JPH01130101A (ja) | 1989-05-23 |
| JP2794701B2 JP2794701B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=17737454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62288993A Expired - Fee Related JP2794701B2 (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | 水ヤケが防止された反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794701B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009210733A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Hoya Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57139701A (en) * | 1981-02-25 | 1982-08-28 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Reflection preventing film of plastic optical member |
| JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
| JPS62178902A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Seiko Epson Corp | 無機コ−ト膜の表面改質法 |
| JPS62247302A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 光学物品の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-16 JP JP62288993A patent/JP2794701B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57139701A (en) * | 1981-02-25 | 1982-08-28 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Reflection preventing film of plastic optical member |
| JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
| JPS62178902A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Seiko Epson Corp | 無機コ−ト膜の表面改質法 |
| JPS62247302A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 光学物品の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009210733A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Hoya Corp | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794701B2 (ja) | 1998-09-10 |
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