JPH01130524A

JPH01130524A - 電子ビーム描画装置

Info

Publication number: JPH01130524A
Application number: JP62289982A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Nakamura; 中村　正之
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1987-11-16
Filing date: 1987-11-16
Publication date: 1989-05-23

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は配線用プリント基板のパターンを形成するた
めの電子ビーム描画装置に関するものである。

〔従来の技術〕

第１０図及び第１１図は例えば特開昭５４−１４０８７
４号公報に示された従来の試料保持装置である。図にお
いて、曽は試料室の底板である。底１…上に数個のボー
ル（３２ａ）　（３２ｂ）を介して設置された移動体（
２）上の中央部には第１１図に分解斜視図を示すよう著
ζ切欠部關が形成しである。又、移動体（ロ）の四隅に
は第１の受板（３４ａ）〜（３４ｄ）が夫々ビス等を介
して固定されており、各受板（３４ａ）〜（３４ｄ）は
切欠部−の上に張出している。又、受板（ａ４ｍ）〜（
３４ｄ）の底面は鏡面に加工され、しかも電子ビーム軸
と直交する同一平面内におかれている。試料ホルダー（
至）は試料−を保持するためのものである。試料ホルダ
ー（至）は移動体ａｅの切欠部（２）内に装着される。

又、試料ホルダー（至）は切欠部（至）内番ζ装着され
たとき４個のスプリング（３７ａ）　（３７ｂ）により
、第１の受板（３４ｍ）〜（３４ｄ）に押付けられ、安
定に固定される。スプリング（３７ａ）　（３７ｂ）は
移動体（２）に形成した孔（ａＳａ）〜（３８ｄ）内に
装着されている。試料ホルダー（至）の中央部には開口
−が形成されており、試料ホルダー（至）上面の開口四
隅には第２の受板（４０ａ）〜（４０ｄ）が夫々ビス等
署こより固定しである。各第２の受板（４０ａ）〜（４
０ｄ）は開口（至）の上に張出しており、その底部に試
料−が当接される。又、第２の受板（４０ａ）〜（４０
ｄ）の底面とこれらの受板を固定する試料ホルダー−の
上面（ａｓａ）　、　（ａｓｂ）は夫・々、鏡面に一加
工され、しかも同一平面内におかれている。板ばね（４
１ａ）　（４１ｂ）は試料−を第２の受板ｒ４ｏａ）〜
（４０ｄ）に押付けるためのもので、両板ばね（４ｔａ
）　（４ｔｈ）は試料ホルダー−に植設された２つのピ
ン（４２ａ）　（４２ｂ）及び（４３ａ）　（４３ｂ）
よよって保持されている。又、両板ばね（４１ａ）　（
４１ｂ）の中央部には試料ホルダー（至）に回転可能に
取付けられた回転軸−によって下方に押圧される。回転
軸−の各板ばね（４１ｍ）　（４１ｂ）と接触する部分
（４４ａ）　（４４ｂ）はカム状に形成されている。従
って、レバーに）を操作して、回転軸（財）を第１０図
の状態から１８０度回転させれば、板ばね（４１ａ）　
（４ｔｈ）を下方に押付ける押圧力が解除されるため、
各板ばね（４１ａ）　（４１ｂ）の両端が夫々下がるの
で、試料側の第２の受板（４０ｇ）〜（４０ｄ）への押
圧力が解除され試料（至）の交換を行なうことができる
。又、逆に回転軸（ロ）を１８０度反転させ第１Ｏ図の
状態に戻せば、回転軸−が各板はね（４１ａ）（４１ｂ
）の中央部を押し下げるため、板ばね（４ｔａ）（４ｘ
ｂ）の両端が逆に押し上げられるので、試料（至）は第
２の受板（４０５１）〜（４０ｄ）に押圧、固定される
。移動体部は移動体（２）をＸ方向に移動させるための
もので、ボール［４７１を介して移動体０ηの側壁に係
合しているｂ又、図示はしないが、Ｙ軸方向用移動杆が
、移動杆囮と直交した方向に設置しである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の試料保持装置は以上のように構成され、半導体ウ
ニへのような試料が比較的小物の電子ビ＝ム描画装置に
適用されるが、配線用プリント基板のような大画面例え
ば５１０Ｘ６１０１１１１１　　に用いるには大形とな
るので、操作が困難であるという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、大画面の配線用プリント基板等の被加工物を
固定ができる電子ビーム描画装置を得ることを目的とす
る。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る電子ビーム描画装置は、テーブルに載置
された被加工物の電子ビームが照射される近傍をテーブ
ルに押圧する押圧手段を設けたものである。

〔作用〕

この発明における電子ビーム描画装置は、被加工物の電
子ビームが照射される部分を押圧手段で押圧することに
よって、被加工物をテーブルに定着できるので、ビーム
軸方向の変位量を少なくする。

〔発明の実施１例〕以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（１）は電子銃、（２）は電子銃を移動す
る移動台、（３）はガイド、（４）は移動台を駆動する
ボールネジ、（５）はナツト、（６）はベース、（７）
はベース（６）全取付ける加工室上板、（８）はプリン
ト基板、（９）はプリント基板（８）を保持する保持プ
レート、ａＯゆ移動台（２）と直交方向に動くＸテーブ
ル、（ｌｌａ）（ｌｌｂ）はプリント基板（８）と保持
プレート（９）を固定する、クランプ、（１２ａ）　（
１２ｂ）はクランプ（ｌｌａ）（ｌｌｂ）を、ビーム軸
方向に駆動するアクチュエータ、（２）はＸテーブルの
走行ガイド、Ｑ４はプリント基板（８）、保持プレート
（９）、ＸテーブルαＱ１走行ガイド（２）、を支持す
るベツド、（ト）は加工室、Ｑ・はボールネジ（４）を
回転支持するブラケット、（ロ）はボールネジ（４）を
回転駆動するモータ、（ト）はモータを取付ける取付台
、α９はＸテーブルαＱを駆動するボールネジ、（イ）
はナツトである。第２図において、（２）は円筒形のク
ランプ、（２２ａ）　（２２ｂ）は円筒形クランプ（２
）を回転可能に支持する軸受である。第４図は第３図円
筒形クランプ（２）の断面図であり、儲は回転軸、（財
）は回転軸表面にコーティングされたゴムである。第５
図において、プリント基板（８３（？ビーム偏向可能な
最小描画範囲ＣＦで示す；以下フィールドと称す）に分
割し、クランプ（ｘｘａ）　（ｏｂ）の位置関係を示す
。第６図はプリント基板（８）を保持プレート（９）上
に載置し、基板押え（ｚｓａ）　〜（ｚｓｄ）で固定し
、更にそのセットになったものをＸテーブルＱｌ）上面
に位置決め（２６ａ　）〜（２６Ｃ）により位置を決め
た図である。なお、図示されていないが、保持プレート
（８）はＸテーブル００に固持されている。

第７図は本装置における、プリント基板（８）、保持プ
レート（９）のセットをＸテーブルＱ（Ｉの上に、載置
される部分を示すもので、（財）はゲート弁、（至）は
予備室、勾は予備室に）にプリント基板（８）、保持プ
レート（９）のセットを作業者が入れるための扉である
。

第８図は第６図の状態にプリント基板（８）をセットし
、ビームを照射した際、プリント基板（８）が、図のよ
うにビーム軸方向に変位が見られる場合、直交する平面
に描画パターン位置誤差（ΔＸ、Δｙ）が生ずることを
示し、第９図は保持プレート（９）が；！−ム軸方向に
変位した場合も同様であることを説明した図である。

次に動作について説明する。第１図〜第６図において、
電子銃（１）、それを塔載する移動台（２）、第１図に
６いて紙面Ｙ方向に移動可能にするガイド（３）、又そ
れを駆動するボールネジ（４）とナツト（５）、（１）
〜（５）を支持するベース（６）で構成するものをＹ軸
テーブル験称する。加工室上板（ｎは加工室（２）に取
付け、真空を形成することと、Ｙ軸テーブルを塔載する
機能を併せ持つ。プリント基板（８）は保持プレート（
９）上面に基板押え（２５ａ）〜（２５ｄ）で固定し、
且つ、Ｘテーブルα０の上に位置決め（２６ｍ）〜（２
６Ｃ）により位置を決め固持される。Ｘテーブルｒｍは
ガイド（至）で案内され走行するが、その駆動はボール
ネジαりにより行なわれ、そのガイド（至）をベツドα
→で保持する。ＸテーブルＱＧは電子銃（１）と直交す
る方向（Ｘ軸）に移動する。そこで、電子銃（１）より
プリント基板（８）面上にビームを照射し、パターン描
画を行なうことができる。その際、クランプ（ｌｌａ）
　（ｌｌｂ）でプリント基板（８）の上面を固定し、第
８及び第９図に示したように、プリント基板（８）ある
いは保持プレート（９）のビーム軸方向の変位によるパ
ターンの位置誤差ΔＸ、Δｙを阻止する。クランプ（ｌ
ｌａ）　（ｌｌｂ）は加工室上板（７）に取付けられた
アクチュエータ（１２ａ）（１２ｂ）により、上昇、下
降することができる。前記装置の一連の動作を説明する
と、第５図に示すように、プリント基板（８）はフィー
ルド（寸法Ｆ）分割され、そのフィールドの中心に１１
子銃（１）のビーム軸を一致させるため、電子銃（１）
をＹ軸方向に、ＸテーブルＱ（ＩをＸ４ＩＡ方向に夫々
移動させ、停止する。そこで、アクチュエータ（１２ａ
）　（１２ｂ）を動作させ、クランプ（ＸＸａ）（１１
ｂ）全下降させる。次いで、ビームを照射させ、且つ偏
向をかけつ一パターンを描画する。終了したところで、
Ｙ軸方向の隣接するフィールドに、電子銃（１）を移動
停止し、ビームを照射する。これを繰返し、Ｙ軸方向−
列のフィールドのパターン描画を完了した後、クランプ
（ｌｌａ）　（ｌｌｂ）を、に昇させ、Ｘ軸方向に隣接
するフィールドに、Ｘテーブルα０、電子銃（１）を移
動する。これを順次次繰返し、全フィールドのパターン
描画を完了させる。

なお、上記実施例では、クランプ（ｘｔａ）　（ｔｘｂ
）は板状のものを示したが、第３図に示すようＣζ円筒
形クランプ（２）を使用してもよい。このクランプは第
４図に円筒部分の断面を示すが、回転＃１（２）とその
表面にコーティングされたゴム（財）で構成され、板状
のクランプ（ｘｔａ）　（ｘｘｂ）に比較して、次の利
点がある。即ち、回転可能に作れるため、板状クランプ
のように、Ｘ軸方向のフィールド列数分上昇・下降させ
ることはなく、パターン描”画の最初と、最後に夫々１
回づつ行なうだけでよく、勿論時間短縮になる。

〔発明の効果〕

以上のように仁の発明によれば、クランプを加工室内に
自動で行なえるように構成することにより、プリント基
板を載置する保持プレートを作業者が操作する際。重量
的に軽減できるため無理な（行なえる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による電子ビーム描画装置
を示す正面断面図、第２図は第１図の側面断面図、第３
図はこの発明の他の実施例を示す要部の側面図、第４図
は第３図のｆｆｌ線の断面図、第５図はこの発明の被加
工物（プリント基板）の説明図、第６図はこの発明の被
加工物の位置決め状態図、第７図はこの発明の被加工物
の操作説明を示す説明図、第８図は被加工物のビーム軸
方向の変位によるパターン位置誤差を示す説明図、第９
図は保持プレートのビーム軸方向の変位によるパターン
位置誤差を示す説明図、第１０図は従来例を示す断面図
、第１１図は第１Ｏ図の要部を示す斜視図である。図に
おいて、（８）はプリント基板（被加工物）、（ｌｌａ
）　（ｔｔｂ）はクランプ（抑圧手段）、。（７）は加工室である。なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）真空が維持される加工室内をテーブルに載置され
た被加工物がＸ軸及びＹ軸方向に移動可能にして、上記
被加工物に電子ビームを照射するようにしたものにおい
て、上記被加工物の上記電子ビームが照射される近傍を
上記テーブルに押圧する押圧手段を設けたことを特徴と
する電子ビーム描画装置。
（２）押圧手段は電子ビームが移動する方向に上記電子
ビームを挾んで対向した位置を上下方向に移動して押圧
するように構成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の電子ビーム描画装置。
（３）押圧手段は電子ビームが移動する方向に上記電子
ビームを挾んで対向した位置を押圧する一対のローラで
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の電子ビーム描画装置。