JPH01136002A - 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置 - Google Patents

透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置

Info

Publication number
JPH01136002A
JPH01136002A JP62293745A JP29374587A JPH01136002A JP H01136002 A JPH01136002 A JP H01136002A JP 62293745 A JP62293745 A JP 62293745A JP 29374587 A JP29374587 A JP 29374587A JP H01136002 A JPH01136002 A JP H01136002A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive film
transparent conductive
light
monochromatic light
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62293745A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0587763B2 (ja
Inventor
Itaru Takano
高野 格
Akiyoshi Fujimori
昭芳 藤森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Orc Manufacturing Co Ltd filed Critical Orc Manufacturing Co Ltd
Priority to JP62293745A priority Critical patent/JPH01136002A/ja
Publication of JPH01136002A publication Critical patent/JPH01136002A/ja
Publication of JPH0587763B2 publication Critical patent/JPH0587763B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス基板上に形成された透明導電膜(以下、
ITO膜と呼ぶ)の位置検出方法ならびにその装置に関
する。
(従来の技術) 従来、ガラス基板上に蒸着またはスパッタリングされた
ITO膜の位置検出方式としては、大別して2種類があ
った。
その1つは、レーザ光のビームによって平面的にスキャ
ンニングし、ガラス等の基板材表面と!To膜表面より
反射するレーザ光のビームの変位量やITO膜パターン
の輪郭部の位相の乱れを検出し、電気信号に変換し、I
TO膜パターンを検出する方式である。他の1つは、光
学顕微鏡を使用し、ガラス基板表面およびITO膜パタ
ーン表面全体に透過照明または反射照明をほどこし、透
過光または反射光によって、ガラス等の基板部とITO
IQパターン部との明暗のコントラストを電気信号に変
換してITO膜のパターンを検出する方式である。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、前記従来方式には次のような欠点があっ
た。
(1)  レーザービーム・スキャニング方式の欠点複
雑な光学系構造を必要とするので、装置が高価となり、
調整や最適条件の設定をするのに長い時間が必要であっ
た・ (2)光学顕微鏡法の欠点 ガラス等の基板材とITO膜との透過性が非常に類似し
ているために、明暗のコントラストが小さい。従って、
電気信号に変換したときに、雑音との判別が困難であっ
て、誤認識しやすい。次に、この方式は、ITO膜の厚
さや組成による光学特性の変化によって影響される。さ
らに、ガラス等の基板材およびITO膜パターン上へフ
ォトレジスト等の感光剤がコーティングされている場合
は、ITO膜のパターンとガラス基板とのコントラスト
がITO膜の透明度が高いために、殆んどゼロに等しく
、このため、ITO膜のパターン認識が不可能であった
本発明の技術的課題は、前記従来技術が有する欠点を解
決し、比較的装置が安価であり、かつ■To膜パターン
の明確な認識が可能である透明導伝膜の位置検出方法な
らびに壱の装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明は前記問題点を解決するためになされたもので、
本発明の方法としては、透明なガラス基板に形成された
透明な導電膜パターンを認識すべきワークとし、この導
電膜パターンをフォトレジスト膜でコーティングし、単
色光を照明系とする光学顕微鏡を用いて撮像イメージを
画像処理する透明導電膜の位置検出方法であり、前記単
色光としては中心波長を380〜1.200 nmの範
囲とし、かつ波長幅を0.1〜250 nmに段階可変
または連続可変に選択するものである。
さらに、本発明の装置としては、被検出ワークとしての
透明ガラス基板に形成された透明な導電膜パターンと、
該導電膜パターンをフォトレジスト膜でコーティングす
る手段と、このコーティングされた被検出ワークをサン
プル載置テーブルに設け、単色光を照明系とする光学顕
微鏡と、該光学顕微鏡に取付けられて前記被検出ワーク
のイメージを撮像するビデオカメラと、該ビデオカメラ
の出力信号を入力し出力信号によって前記光学顕微鏡の
照明系の光源をフィードバンク制御する画像処理装置と
で構成する透明導電膜の位置検出装置である。しかも前
記単色光は単色計の出力光か、または白色光の干渉フィ
ルタを介した出力光とする。
(作用) 本発明は単色光照明系を用いた光学顕微鏡を使用し、ガ
ラス基板部と、ITO膜上のレジスト膜との干渉効果に
より、反射光に強弱を生じさせ、これによってコントラ
ストを良好とし、ITO膜パターンの認識を可能とする
(実施例) 以下、本発明に係る実施例を図面を参照して説明する。
実施例の説明に先だって、本発明方式の原理を述べる。
発明者は透明なガラス基板上に蒸着またはスパッタリン
グされた透明ITO膜の認識に対して有効なパターン認
識の方式を創案した。
第1図は、透明なガラス基板上にコーティングされたフ
ォトレジスト膜を光学顕微鏡を用いて測定した分光反射
率の特性図であり、第2図は透明なガラス基板に蒸着ま
たはスパッタリングされた■TO膜パターン上にコーテ
ィングしたフォトレジスト膜を光学顕微鏡を用いて測定
した分光反射率の特性図である。
光学顕微鏡は従来、白色に近い光を照射しているために
、照明波長全域における反射率の平均値がガラス表面と
troy々パターンの夫々の反射光となり、明暗のコン
トラストとして表われる。しかし、第2図においては、
照射した各単色光は、フォトレジスト表面において反射
した光と、ITO膜パターン表面において反射した光と
の位相のいずれから互に干渉し、その結果、その波長に
より明暗が発生している。
従って、照射した光源の波長全域で考えた場合、その反
射率の平均値が第1図に示す反射率に極めて近くなり、
フォトレジスト表面の反射光とIT0膜表面での反射光
との明暗のコントラストが殆んど零となっていた。仮に
、そのコントラストが電気信号に可変可能な場合でも、
パターン認識上好ましくない。ノイズ成分すなわち、フ
ォトレジストのコーティングむら、パターンのエツチン
グ残り、ゴミ、汚れ、傷等によるコントラストの判別は
不可能に近いので、正確なパターン認識は不可能であっ
た。さらに、ノイズ成分を無視できたとしても、ITO
膜の厚さの変化による屈折率の変化、フォトレジストの
コーティング厚さの変化等の影響を受け、安定したパタ
ーン認識はできなかった。 − そこで、発明者は、従来の顕微鏡の白色光による照明の
代りに、単色光で照射し、しかも、種々の条件下におい
て実験した結果、中心波長380〜1.200 nmの
範囲において、単色光の波長幅を0.1〜250 nm
の範囲内で、ガラス基板上のITO膜パターンを高い明
暗のコントラストで検出できた。
この方法によると、ノイズ成分の影響を受けることなく
、正確かつ確実にITO膜のパターン認識が可能であっ
た。
なお、この実験において、照射すべき単色光の中心波長
380 nm以下では、顕微鏡での試料の位置合わせ作
業中に、フォトマスク材のガラスに照明波長が吸収され
て光量が不足する外に、ガラス基板上にコーティングさ
れているフォトレジストを感光させるので、使用不可能
であった。また、■。
200 nts以上の長波長では、光学顕微鏡のレンズ
収差の影響が大きく、顕微鏡の拡大結像にボケが生じ、
パターン認識に不向きであった。さらに、単色光の波長
幅0.1 nm以下においては、照明光量が極度に低下
し、実用上不適当であった。更に250nm以上の波長
幅では、照射波長における平均反射光量が減り、ガラス
基板に対して明暗のコントラストの低下がみられ、実用
上不適当であった。
上記の外に、ITO膜の組成、膜厚値およびフォトレジ
ストのコーティング厚さの各条件の組合わせによって、
ガラス基板上のITO膜よりの分光反射特性が変化する
問題点がある。
しかし、第3図に示すように、透明なガラス基板1に薄
着またはスパッタリングされたITO膜パタージ2上に
フォトレジスト3をコーティングし、光学顕微鏡7の光
源として白色光ランプ16を用い、複数種類の単色光フ
ィルタ33を有するターレフト板34によって、投射光
として特定波長および限定された波長幅を準備し、ガラ
ス基板lとITO膜パターン2とのコントラストが最大
となるフィルタを選択することができた。
なお、第3図において、8は対物レンズ、11はコンデ
ンサレンズ2,10はハーフミラ−99はビデオカメラ
である。
また、第4図に示すように光学顕微鏡7の光源として、
単色計14を用い、中心波長および波長幅を可変とする
ことにより、ガラス基板lとITO膜パターン2とのコ
ントラストが最大となるポイントを選択することができ
た。
次に、本発明に係る実施例を第5図(A)、(B)を参
照して説明する。第5図(A)、(B)は本発明実施例
の構成を示すブロック図であって、光学顕微鏡の光源に
単色光を用いた場合を示す。第5図(A)において、ガ
ラス基板lとして板厚0.7〜5.Qn+の透明ガラス
を用い、その表面に膜厚150A〜5,000人のIT
O膜パターン2を形成させる。
ガラス基板1とITO膜パターン2の全面にポジ形また
はネガ形のフォトレジスト3等の感光剤を0.3μm〜
7.0μmコーティングされたものをサンプルとして使
用する。4はサンプルを載置したテーブル上に設けたフ
ォトマスクであって前記サンプル側にクロームパターン
5が設けられている。
6は光学顕微鏡7の鏡筒で、サンプル側に対物レンズ8
、反対側にはビデオカメラ9が取付けられる。10はハ
ーフミラ−で、コンデンサレンズll側の筒口12には
ライトガイド13を介して単色計14に接続されている
単色計14は、電源15により点灯される白色光ランプ
16と、この白色光の投照光束をレンズ17、スリット
18を介して入射されると同時にモータ19によって回
動される回折格子20と、この回折格子20の反射光束
をライトガイド13に導くスリット21、コンデンサレ
ンズ22とから成る。なお、39はスリット21を開閉
させるモータである。
前記ビデオカメラ9はカメラコントロール・ユニット2
3を介して画像処理装置32に接続される。この画像処
理装置32はビデオカメラ9の出力信号をアナログ/デ
ィジタル変換する。A/D変化24と、このディジタル
変換された信号を格納するメモリ25と、このメモリ内
のデータ等を制御するCPU (中央処理装置)26と
、このCPU26からコントロールバス31aを介し回
折格子20の駆動モータ19への入出力器27と、CP
U26からコントロールバス31bを介し単色計14の
白色ランプ用電源15への入出力器28と、CPU26
からコントロールバス31Cを介しサンプル載置テーブ
ルのX−Y−θ駆動モータ29への入出力器27とから
成る。
第5図(B)は第5図(A)において示した単色計14
の代りに使用される干渉フィルタの構成図である。第5
図(B)において、34は複数の異なる単色光フィルタ
33を円形の周辺に備えたターレット板であって、電源
15によって点灯される白色光ランプ16の投射光はコ
ンデンサレンズ36、単色光フィルタ33およびコンデ
ンサレンズ37を介してライトガイド13の一端に投入
され、この他端は光学顕微鏡7の鏡筒6の筒口12に接
続される。
次に、本実施例の動作を説明するが、先ず、光学顕微鏡
7の光源ランプとして単色計14を使用した場合につい
て述べる。
顕微鏡7によって、ワークの画像はビデオカメラ9およ
びこのカメラと対となるカメラコントロール・ユニット
23を経て画像処理装置32へ入力する。この画像処理
装置内では、A/D変換器24、画像メモリ25を経て
、ディジタル化された画像信号がCPU26で演算処理
され、入出力器30を介してサンプル載置テーブルのX
−Y−θ駆動モータ29を制御して自動位置合わせの機
能を果たす。画像処理装置32内では、ビデオカメラ9
より入力される信号をチエツクしながら、単色計14の
回折格子20の駆動モータ19を制御し、光学顕微鏡7
の照明用光源の波長を変化させ、画像処理が最適となる
波長を無段階に検索する。また、入力信号の全体の明る
さのレベルが最適となるように、CPU26が入出力器
28を介して電源15への出力信号を増大し単色計14
の白色光ランプ16の輝度を制御する。
第5図(B)は第5図(A)に示された単色計14の代
りに干渉フィルタを使用する場合を示し、前述した「単
色計の回折格子を駆動して顕微鏡の照明用光源の波長を
変える」の文言の代りに、[複数個の単色光フィルタ3
3を取り付けたターレット板34の切換えモータ38を
駆動し、単色光フィルタ33を切換えることによって顕
微鏡の照明波長を変化させ、画像処理に最適となる単色
光フィルタ従って、照明光源の波長を選ぶ。」第6図は
画像処理装置が光学顕微鏡の対物レンズを通してフォト
マスクターゲットマークに対するITO膜パターンの位
置合わせをするフローチャートを示す。まず、本実施例
の装置を起動させ(ステップ40) 、CPU26は入
出力器30を介してサンプル載置テーブルのX−Y−θ
駆動モータ29を駆動し、光学顕微鏡7を介して゛フォ
トマスク4のターゲットマークの画像を取り込み(ステ
ップ41)、その画像の重心位置を計算する(ステップ
42)。次に、CPU26はITO膜パターン2ターゲ
ットマークを取り込み(ステップ43)、このITO膜
パターンの重心を計算しくステップ44)、フォトマス
ク4のターゲットとITO膜パターン2のターゲットマ
ークとの双方の重心座標のズレ量を計算する(ステップ
45)。次いで、CPU26は光学顕微鏡のITO膜パ
ターンに対する位置合わせの終了を判断する(ステップ
46)。上記位置合わせが終了していない場合、CPU
26がサンプル載置テーブルのX−Y−θ駆動モータを
駆動して(ステップ47)再び上述の各工程を繰り返し
位置合わせを終了す(ステップ48)。
第7図は画像処理装置が単色計を使用した光学顕微鏡の
照明を制御するフローチャートである。
最初に、本実施例装置を起動しくステップ50)、画像
処理装置32がITO膜パターン2の画像を取り込゛み
(ステップ51)、画像濃度分布のヒストグラムを作成
する(ステップ52)。次いで、CPU26は入出力器
27を介して回折格子20の駆動モータ19を駆動して
回動させ(ステップ53)、波長スキャンニングが終了
したかを判断する(ステップ54)。波長スキャンニン
グが終了していないときは、画像濃度が最大値となるよ
うに回折格子20を回動して(ステップ55)、ITO
膜パターン2の画像を取り込み(ステップ56)、画像
濃度分布のヒストグラムを作成する(ステップ57)。
もし、所定の平均濃度が得られないときは、モータ39
を介してスリット21の幅を動かして(ステップ58)
所定の平均濃度を保つように照明照度を可変とする(ス
テップ59)。上記スリット幅の調整が終らないときは
、ステップ56ないし59を繰り返し、終了したと判断
した場合には、CPU26は二値化スライスレベルの計
算をしくステップ61)、終了する(ステップ62)。
(発明の効果) 透明ガラス基板上に蒸着またはスパッタリングされたI
TO膜パターンの認識のために、従来使用されていたレ
ーザービーム・スキャニング方式に比べて、本発明は装
置が安価となる外に、最適使用の調整時間が短くなった
。さらに、従来の光学顕微鏡方式は透明のITO膜と透
明のガラス基板との明暗のコントラストの小さいことに
よって、ITO膜パターンの認識が不可能であったのに
比べると、本発明では、液晶表示用自動露光装置に使用
するために、光学倍率五倍の顕微鏡、口径2/3インチ
のビデオカメラを夫々サンプル資料載置テーブルのX−
Y−θ座標台わせのために2基使用し、厚さ1.1 t
mの透明ガラス基板上に蒸着またはスパッタリングされ
た膜厚1100〜700人のITO膜パターンに対し、
膜厚0.5〜1.9μmのフ ・オレジスト膜をコーテ
ィングすると、フォトマスクの位置合わせ精度を主1゜
0μmとすることができた。しかも、従来の光学顕微鏡
方式では不可能、であったITO膜パターンをターゲッ
トマークとしたワークに対し、フォトマスクのターレッ
ト板)−クとの自動位置合わせが安価な装置で可能とな
るとともに、高精度とすることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は透明ガラス基板上にコーティングしたフォトレ
ジスト膜を光学顕微鏡で測定した分光反射率の特性図、
第2図は透明ガラス基板上に蒸着またはスパッタリング
されたITO膜上にコーティングしたフォトレジスト膜
を光学顕微鏡で測定した分光反射率特性図、第3図は本
発明の実施例として、光源として白色光ランプを使用し
、単色光フィルタの複数個を取り付けたターレット板を
用いた光学顕微鏡の概略構成図、第4図は第3図におけ
るターレット板の代りに単色計を用いた光学顕微鏡の概
略構成図、第5図(A)は本発明に係る実施例の構成を
示すブロック図、第5図(B)は第5図(A)の単色計
の代りに使用される単色光フィルタの構成図、第6図は
本発明に係る実施例における画像処理装置が顕微鏡の対
物レンズを通してフォトマスク・ターゲットに対するI
TO膜パターンの位置合わせをするフローチャート。 第7図は本発明実施例の照明制御のフローチャートであ
る。 1・・・ガラス基板    2・・・ITO膜パターン
3・・・フォトレジテスト膜 4・・・フォトマスク 7・・・光学顕微鏡    9・・・ビデオカメラ13
・・・ライトガイド  14・・・単色計16・・・白
色光ランプ  18・・・スリット19.38.39・
・・モータ 20・・・回折格子 23・・・カメラコントロールユニット24・・・アナ
ログ/ディジクル変換器25・・・メモリ      
26・・・CPU29・・・サンプル載置テーブルのX
−Y−θ駆動モータ 32・・・画像処理装置  33・・・単色光フィルタ
34・・・ターレット板。 第1図     第2図 波長(、,1波長【口a] 第3図      第4図 第6図 第7図

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明なガラス基板に形成された透明な導電膜パタ
    ーンを認識すべきワークとし、このワークの導電膜パタ
    ーンをフォトレジスト膜でコーティングし、単色光を照
    明系とする光学顕微鏡を用いて撮像イメージを画像処理
    することを特徴とする透明導電膜の位置検出方法。
  2. (2)前記単色光は中心波長が380〜1,200nm
    の範囲であり、かつ波長幅は0.1〜250nmである
    ことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の透明
    導電膜の位置検出方法。
  3. (3)前記単色光はその中心波長及び波長幅を段階可変
    としたことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載
    の透明導電膜の位置検出方法。
  4. (4)前記単色光はその中心波長及び波長幅を連続可変
    としたことを特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載
    の透明導電膜の位置検出方法。
  5. (5)被検出ワークとしての透明ガラス基板に形成され
    た透明な導電膜パターンと、該導電膜パターンをフォト
    レジスト膜でコーティングする手段と、このコーティン
    グされた被検出ワークをサンプル載置テーブルに設け、
    単色光を照明系とする光学顕微鏡と、該光学顕微鏡に取
    付けられて前記被検出ワークのイメージを撮影するビデ
    オカメラと、該ビデオカメラの出力信号を入力し出力信
    号によって前記光学顕微鏡の照明系の光源をフィードバ
    ック制御する画像処理装置とで構成する透明導電膜の位
    置検出装置。
  6. (6)前記単色光は単色計の出力光であることを特徴と
    する前記特許請求の範囲第5項記載の透明導電膜の位置
    検出装置。
  7. (7)前記単色光は白色光の干渉フィルタを介した出力
    光であることを特徴とする前記特許請求の範囲第5項記
    載の透明導電膜の位置検出装置。
JP62293745A 1987-11-20 1987-11-20 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置 Granted JPH01136002A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62293745A JPH01136002A (ja) 1987-11-20 1987-11-20 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62293745A JPH01136002A (ja) 1987-11-20 1987-11-20 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01136002A true JPH01136002A (ja) 1989-05-29
JPH0587763B2 JPH0587763B2 (ja) 1993-12-17

Family

ID=17798689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62293745A Granted JPH01136002A (ja) 1987-11-20 1987-11-20 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01136002A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01170803A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 透明電極膜パターンの検出方法
JPH0712543A (ja) * 1993-06-23 1995-01-17 Nec Corp 光ディスク原盤観察装置
US6100987A (en) * 1994-03-25 2000-08-08 Nikon Corporation Position detecting apparatus
JP2004223437A (ja) * 2003-01-24 2004-08-12 Toppan Printing Co Ltd カラーレジスト塗布ムラ検査装置
JP2009276167A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Panasonic Corp 画像認識装置及び画像認識方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60249325A (ja) * 1984-05-25 1985-12-10 Hitachi Ltd 投影露光装置
JPS62169414A (ja) * 1986-01-22 1987-07-25 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 露光装置
JPS62171125A (ja) * 1986-01-24 1987-07-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 露光装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60249325A (ja) * 1984-05-25 1985-12-10 Hitachi Ltd 投影露光装置
JPS62169414A (ja) * 1986-01-22 1987-07-25 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 露光装置
JPS62171125A (ja) * 1986-01-24 1987-07-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 露光装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01170803A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 透明電極膜パターンの検出方法
JPH0712543A (ja) * 1993-06-23 1995-01-17 Nec Corp 光ディスク原盤観察装置
US6100987A (en) * 1994-03-25 2000-08-08 Nikon Corporation Position detecting apparatus
US6219130B1 (en) 1994-03-25 2001-04-17 Nikon Corporation Position detecting apparatus
JP2004223437A (ja) * 2003-01-24 2004-08-12 Toppan Printing Co Ltd カラーレジスト塗布ムラ検査装置
JP2009276167A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Panasonic Corp 画像認識装置及び画像認識方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0587763B2 (ja) 1993-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100246268B1 (ko) 패턴화된기판의광학검사용장치
US7372062B2 (en) Defect inspection device and substrate manufacturing system using the same
CN104950584B (zh) 成像对准系统
JPH10123062A (ja) 透過光及び反射光を用いたエアリアルイメージ測定装置及びこれを用いた測定方法
JPH0875661A (ja) 欠陥検出装置
US7924517B2 (en) Spatial filter, a system and method for collecting light from an object
JP3431247B2 (ja) 薄膜製造方法および薄膜多層基板製造方法
JPH06307826A (ja) マスク検査装置
JPH01136002A (ja) 透明導電膜の位置検出方法ならびにその装置
JPH09133517A (ja) 分布測定装置
JP3936959B2 (ja) パターンの欠陥検査方法およびその装置
JPH08247957A (ja) 液晶基板又はicウエハの外観検査用の欠陥検出方法及び欠陥検出装置
JP3375732B2 (ja) 薄膜配線の形成方法
JP2712362B2 (ja) レジストパターンの検査装置
JP3017572B2 (ja) 表面状態検査方法
JPH0815064B2 (ja) 集束エネルギービーム加工装置および加工方法
JP2011044486A (ja) 実装装置および実装方法
JPH05340869A (ja) 薄膜測定器
JPH09320939A (ja) 位置検出方法及び装置
JPS61122648A (ja) 欠陥検査装置
JP2001264266A (ja) 基板検査装置
JPH11287631A (ja) 観測装置
JPS6373379A (ja) 透明導電膜パタ−ンの画像認識方法
JPH05198475A (ja) 投影露光装置
JP2005003689A (ja) 被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置