JPS6373379A - 透明導電膜パタ−ンの画像認識方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、透明基板の表面上に形成された透明導電膜パ
ターンの画像認識方法に関するものである。

〔従来の技術〕

液晶，エレクトロルミネセンス（ＥＬ）を使用した表示
デバイス等においては、ガラス基板等の透明基板の表面
に透明電極を形成した基板が使用される。この透明電極
としてＩＴＯ膜（インジウム・ティン・オキサイド膜）
等の透明導電膜をフォトリソグラフィーによってパター
ン形成したものが使用されている。このフォトリソグラ
フィーにおける露光工程では、マスクフィルムまたはガ
ラスマスク等の原稿画像パターンとＩＴＯ膜を形成しフ
ォトレジストをコートしたガラス基板との位置合せの際
に、いわゆるトンボ合せ（位置合せマークの照合）が行
われ、このとき予めガラス基板表面上に透明導電膜によ
って位置合せ用のアライメントマークを形成しておいて
、これを電気信号的に画像認識することにより、トンボ
合せを行う方法が行われている。

従来における画像認識方法としては、第３図に示すよう
に透明基板２の表面側、即ち原稿画像パターン１）の上
から照明をしその反射光によって行っていた。第４図は
その電気的に変換された識別画像のコントラストを示す
グラフである。

さらに、他の従来の画像認識方法としては、ＩＴＯ膜と
ガラス基板表面に断差があり、フォトレジストをコート
してもその断差に変わりないことを利用して、コヒレン
トな単色光（可干渉光）を照射することによりこの断差
部分による光の位相ズレ等からＩＴ○膜のパターンの画
像認識を行っていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記透明基板の表面側から照明し画像認
識する方法においては、透明基板、特に透明ガラス基板
２と透明導電膜、特にＩＴＯ膜１とは、透過特性１反射
特性、屈折特性が非常に類偵し透明に見えるため、透明
導電膜面と透明ガラス基板表面の区別が限界状態にある
ところに加えて、基板表面のほぼ全面にコートされたフ
ォトレジスト３の光吸収特性とフォトレジスト表面が平
坦でないことから来る反射光の散乱のために、第４図の
グラフに示すように明暗レベルを６４階調で示した場合
においてＩＴ○膜パターンとガラス基板の明暗差が１ビ
ット程度というようにノイズ成分レベルとなってしまい
、画像認識が極めて困難であるという問題点があった。

さらに、従来の可干渉光を使用する透明導電膜パターン
の画像認識方法では、やや認識の信頼性は向上するもの
の、コヒレントな単色光を使用し、位相ズレを検出する
など装置が複雑化し高価であるという問題点や、その検
出にも長い時間を要するという問題点があった。

本発明は上記の問題点を解決するためのものであり、安
価に、高速に、かつ安定に透明基板上の透明導電膜パタ
ーンの認識ができる画像認識方法を提供することを目的
とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の上記目的を達成するための手段は、透明基板の
表面に形成された透明導電膜パターンを画像認識する方
法において、前記透明基板の裏面から照明を行いその照
明の反射光により画像認識を行うことである。

上記画像認識においては、透明導電膜パターンとともに
、露光に使用する原稿画像パターンを同時に画像認識す
ることも可能である。

〔作用〕

本発明は透明基板の裏面から照明を行い、その反射光に
よって画像認識を行うので、表面のフォトレジストの影
響を受けずに安定に画像認識を行うことができる。前述
のように透明基板と透明導電膜とは反射特性等が近似し
ているが、フォトレジストの影響がなければ必要十分な
画像認識が可能であり、また原稿画像パターンとの識別
もそのコントラストが大きいので可能である。従って、
用いる照明は通常の可視光で十分であり、イメージセン
サ等による普通の画像認識ができるので、安価でかつ高
速な画像認識方法を提供できる。

Ｃ実施例〕 以下に本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。

第１図は、本発明の一実施例の説明図である。

位置合せのため画像認識すべきＩＴＯ膜パターン１が透
明なガラス基板２の表面に形成されており、フォトリソ
グラフィーにおける露光のため紫外線露光に対し感光硬
化性を有するフォトレジスト３がＩＴＯ膜の上から一様
にコートされている。ガラス基板２はその露光のために
その裏面をワーク定盤４に真空吸着等によって固定され
る。このワーク定盤４において、前記の位置合せ用のＩ
ＴＯ膜パターン１の下方には顕微鏡カメラ５による撮像
のために開口部４ａが設けられる。顕微鏡カメラ５は対
物レンズ５ａと接眼レンズ５ｂ間にハーフミラ−６を有
し、側方の照明光源７から観測光軸と同軸に観測面に可
視光の照明を与える（同軸落射照明方式）。観測面から
の反射光は直進して撮像素子８に結像し、電気信号に変
換される。この電気信号はアンプ９で増幅等の処理がな
された後、Ａ／ＤコンバータＩＯによって画像の明暗レ
ベルを示すデジタル値（例えば６４階調）に変換される
。ガラス基板２の上方には露光に使用するガラスマスク
１）があり、原稿画像パターンがアライメントマークと
ともにクロム膜１）ａとして蒸着され形成されている。

第２図は上記実施例において得られた画像の明暗レベル
を示すグラフである。照明の明るさを適切に調整するこ
とにより、ガラス基板２からの反射光の明暗レベル■と
ＩＴＯ膜パターン１からの反射光の明暗レベル■とはフ
ォトレジスト３を通さないので、上記のデジタル値にお
いて２〜３ビット以上のコントラストが得られる。ノイ
ズ成分のレベルは通常１ビツト以下に押えられので、Ｉ
ＴＯ膜パターン１の画像認識は充分可能となる。

また、ガラスマスクのパターンの明暗レベル■はガラス
基板２およびフォトレジスト３を通して観測することに
なるが、そもそもガラスマスクのパターンはコントラス
トが大きいため問題なく同時認識が可能である。

本発明は上記実施例に限るものではなく、本発明の主旨
に沿って種々の応用と実施態様を取り得るものである。

例えば透明基板はガラス基板に限るものではなく透明樹
脂などであっても良いし、透明導電膜もＩＴＯ膜に限ら
ず他の材料によるものでも良いことはもちろんのことで
ある。また、本発明の用途もいわゆるトンボ合せに限ら
ず、製品の検査などにも応用できる。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、フォトレジストを通
すことなく透明基板裏面から照明しその表面上の透明導
電膜パターンの画像認識を行うので、フォトレジスト中
の光の吸収や散乱の影響や、フォトレジストによる反射
光と直接光の干渉による撮像素子面上の結像の不安定性
やコントラストの低下を避けることができ、また可干渉
光を用いて画像認識を行う必要がなくなるので、安価か
つ高速に透明基板上の透明導電膜パターンの画像認識を
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の説明図、第２図は実施例に
おいて得られた画像の明暗レベルを示すグラフ、第３図
は従来例の説明図、第４図は従来例の画像の明暗レベル
を示すグラフである。 ■・・・ＩＴＯ膜パターン（透明導電膜パターン）２・
・・ガラス基板（透明基板） ５・・・顕微鏡カメラ ７・・・照明用光源 ８・・・撮像素子 １）・・・ガラスマスク（原稿画像パターン）特許出願
人　　株式会社オーク製作所 画イ事［イ名号のＩｌ］ＦＩＢｆし公゛ｌν第３図 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基板の表面に形成された透明導電膜パターン
   を画像認識する方法において、 前記透明基板の裏面から照明を行い、 その照明の反射光により画像認識を行うことを特徴とす
   る透明導電膜パターンの画像認識方法。
2. （２）前記画像認識は透明導電膜パターンとともに露光
   に使用する原稿画像パターンとを同時に画像認識するも
   のであることを特徴とする前記特許請求の範囲第１項に
   記載の透明導電膜パターンの画像認識方法。