JPH09320939A - 位置検出方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ガラス基板上に形成されたアライメントマーク
に可視光を照射し、アライメントマークで反射された反
射光を検出装置により検出して位置情報を得る位置検出
方法及び装置において、ガラス基板上のアライメントマ
ークの上に更に膜が形成された場合においても、検出容
易で良好な反射光が得られ、それによって、正確な位置
検出を行うことができる位置検出方法及び装置を提供す
る。 【解決手段】ガラス基板上に形成されたアライメントマ
ークに光を照射し、アライメントマークに到達した後に
ガラス基板を通った光を検出し、検出された光に基づい
てそのガラス基板の位置を得ることとした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、位置合わせを必要
とする装置の位置検出方法及び装置に関し、特に、ガラ
ス基板上に金属等の不透明な物質による層が形成された
後に、このガラス基板を位置合わせして、露光を行う露
光装置や、欠陥検査を行う欠陥検査装置、あるいは観察
を行う顕微鏡等における位置検出方法及び装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】欠陥検査装置により液晶基板の欠陥検査
を行うときに、あるいは、観察顕微鏡により液晶基板の
観察を行うときに、欠陥検査や観察の対象となる液晶基
板の位置決めが必要となることがある。また、露光装置
においては、ガラス基板上に金属等の不透明な層を形成
した後の露光プロセスにおいて、それ以前の層とその上
に転写すべきレチクルのパターンとの重ね合わせを行う
ときに、ガラス基板の位置決めを行う必要がある。そし
て、従来の液晶表示素子作成のための露光装置における
位置決めは、図１に示すような方法及び装置で行われて
いた。

【０００３】図１において、露光装置１は、投影光学系
ＰＬと、マスクとしてのレチクルＲと、光源を含む照明
光学系ＩＬとからなる。位置決めの対象となるガラス基
板２は、図示しない真空吸着手段を介してステージ３上
に載置されている。ステージ３は、モータ４により図面
の左右方向に移動することができる。また、ステージ３
は、図示しないモータにより図面に垂直方向にも移動す
ることができる。ガラス基板２の上には、図示しない電
子回路と同時に形成されるアライメントマーク５が設け
られている。アライメントマーク５は、クロムなどの金
属でできている。アラインメントセンサー６としては、
レーザ光をガラス基板上のアライメントマーク５に照射
し、レーザ光とアライメントマークとを相対移動させ
て、マークからの回折・散乱された光を利用してアライ
メントマークの位置を計測するシステム（以下、Laser
Step Alignment 「ＬＳＡ」という。）である。このよ
うなＬＳＡアライメントシステムは、特開昭６０−１３
０７４２号に詳しく開示されている。光源７から発した
光は、集光レンズ８及び送光スリット９を通り、アライ
メントマーク５に到達する。光源７は、可視光（波長３
８０〜７８０ｎｍ）、例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザ（波長
６３３ｎｍ）を用いている。アライメントマーク５で反
射した反射光は、リレーレンズ１０を通り、偏光プリズ
ム１１によって偏光されて、検出器１２に入射する。検
出器１２は、アライメントマーク５の位置を計測する。
アライメントマーク５の位置情報は、制御系１３へ送ら
れる。制御系１３は、位置情報からズレ量を算出し、こ
のズレ量に基づいて、光波干渉計やリニアエンコーダな
どの位置読み取り器１４を使用して、モータ４によりス
テージ３を移動して、ガラス基板２の位置決めを行う。

【０００４】このように、従来の装置においては、ガラ
ス基板の上面すなわちアライメントマークが配置された
面の側からレーザ光を照射し、それと同じ側に反射する
反射光を検出してガラス基板の位置を計測し位置決めを
行っていた。すなわち、アライメントマークの位置の検
出は、落射照明にて行われていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記したように、一般
に液晶表示素子作製の露光プロセスにおいては、例えば
図２のように、まず、ガラス基板２の上に微細な電子回
路をアライメントマーク５と同時に形成する。第１層目
の電子回路とアライメントマークは、金属などの不透明
な物質で形成されている。更に、この第１層目の上に第
２層目以降の層のための半導体膜１５及びレジスト１６
を形成するのが一般的である。従って、第２層目以降の
露光や欠陥検査等において、ガラス基板を位置決めする
ために、従来の落射照明によって第１層目の金属で形成
されたアライメントマークを検出することは困難であ
り、そのために位置決め精度が著しく低下するという問
題点があった。この問題点を解決するために、アライメ
ントマークの打ち換えを行って新しいアライメントマー
クで位置決めを行うという方法も採られるが、この方法
は煩雑であるという問題点があった。

【０００６】液晶表示素子作成の露光プロセスにおいて
は、更に、以下のような問題点もある。液晶表示素子の
カラーフィルターは、赤色（Ｒ）フィルター、緑色
（Ｇ）フィルター及び青色（Ｂ）フィルターから成る。
これらのカラーフィルターは、ガラス基板上の金属膜又
は透明導電膜（ＩＴＯ膜）等により形成された電子回路
パターンの上に、上記各色のカラーレジストを塗布し、
露光プロセスを経て作製されることがある。この場合に
は、電子回路パターンと同時に形成されるアライメント
マークも上記金属膜又は透明導電膜でできている。カラ
ーレジストは、可視光に対する透過率が通常のレジスト
よりも著しく低く、特に、青色のカラーレジストは、可
視光に対する透過率が１％程度である。例えば、この青
色のカラーレジストをアライメントマークの上に塗布し
た場合に、ガラス基板の上面すなわちアライメントマー
クが配置された面の側から可視光を照射し、それと同じ
側に反射する反射光を検出する従来の方法では、反射光
の光強度は、照射光の光強度の０．０１×０．０１倍、
すなわち、０．０１％程度になってしまい、反射光の検
出が困難であるという問題点がある。

【０００７】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、ガラス基板上に形成されたアライメ
ントマークに可視光を照射し、アライメントマークで反
射された反射光を検出装置により検出して位置情報を得
る位置検出方法において、ガラス基板上のアライメント
マークの上に更に膜が形成された場合においても、検出
容易で良好な検出光（反射光、透過光、回折光、散乱光
など）が得られ、それによって、正確な位置検出を行う
ことができる位置検出方法を提供することを目的とす
る。

【０００８】更に、本発明は、ガラス基板上の第１層目
に形成されたアライメントマークの上に金属膜のような
不透明な膜が形成された場合においても、検出容易な反
射光が得られ、正確な位置検出を行うことができる位置
検出方法及び位置検出装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】更に、また、本発明は、ガラス基板上の第
１層目に形成されたアライメントマークの上に可視光に
対する透過率が通常のレジストよりも著しく低いカラー
レジストが塗布された場合においても、検出容易な反射
光又は透過光が得られ、正確な位置検出を行うことがで
きる位置検出方法及び位置検出装置を提供することを目
的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明は、被検物上に形成されたパターンに光
を照射し、パターンに到達した後に被検物を通った光を
検出し、検出された光に基づいて、その被検物の位置を
得るものである。

【００１１】本発明は、被検物上に形成されたパターン
に光を照射し、パターンに到達した後に被検物を通った
光を検出するようにしたので、パターンで回折・散乱さ
れた光を被検物を通して容易に検出することができ、正
確な位置検出を行うことができる。また、上記のように
構成したことから、従来の方法において、パターンで回
折・散乱された光を、被検物を通してではなくパターン
の上に形成された金属層やカラーレジスト層を通して検
出するために、これらの金属層やカラーレジスト層によ
って光が吸収されて検出が困難となる問題点を解消する
ことができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明は、被検物の位置を検出す
る位置検出方法であって、被検物上に形成されたパター
ンに光を照射する照射工程と、パターンに到達した後に
被検物を通る光を検出する工程と、検出された光に基づ
いて、被検物の位置を求める工程とを有する。

【００１３】照射工程は、光を、被検物を通してパター
ンに照射してもよい。すなわち、パターンが形成された
被検物の裏側から照射してもよい。

【００１４】また、本発明は、被検物の位置を検出する
位置検出装置であって、被検物上に形成されたパターン
に光を照射する照射光学系と、パターンに到達した後に
被検物を通る光を検出する検出器と、検出された光に基
づいて、被検物の位置を求める計算機とから成る位置検
出装置である。

【００１５】照射光学系は、光を、被検物を通してパタ
ーンに照射するように配置されているとよい。すなわ
ち、パターンが形成された被検物の裏側から照射するよ
うに配置されているとよい。

【００１６】被検物は、透明基板であるとよい。透明基
板は、ガラス基板であるとよい。また、パターンは、位
置合わせ用のアライメントマークであるとよい。

【００１７】更に、また、本発明は、ステージの位置決
めをする位置決め方法であって、ステージ上に透明基板
を配置する工程と、透明基板上にアライメントマークを
形成する工程と、アライメントマークに光を照射する照
射工程と、アライメントマークに到達した後に透明基板
を通る光を検出する工程と、検出された光に基づいて、
透明基板の位置情報を求める工程と、位置情報に基づい
てステージを移動してステージの位置決めを行う工程と
から成る位置決め方法である。

【００１８】照射工程は、光を、被検物を通してパター
ンに照射してもよい。すなわち、パターンが形成された
被検物の裏側から照射してもよい。

【００１９】アライメントマークの上に光の反射率の高
い物質又は光の透過率の低い物質を塗布する工程を含ん
でいてもよい。

【００２０】更に、また、本発明は、ステージの位置決
めをする位置決め装置であって、ステージ上に配置され
た透明基板上に形成されたアライメントマークに光を照
射する照射光学系と、アライメントマークに到達した後
に透明基板を通る光を検出する検出器と、検出された光
に基づいて透明基板の位置ズレ量を求める計算機と、位
置ズレ量に基づいてステージの位置決めを行うためにス
テージを移動する駆動装置とから成る位置決め装置であ
る。

【００２１】ステージはアライメントマークに対応する
位置に開口部を有しており、照射光学系は透明基板上の
アライメントマークが形成されている側と反対の側に配
置されており、かつ、ステージの開口部を介してアライ
メントマークに光を照射するように構成されており、検
出器は透明基板上のアライメントマークが形成されてい
る側と反対の側に配置されており、かつ、アライメント
マークで反射された照射光学系からの光を透明基板及び
ステージの開口部を介して検出するように構成されてい
るとよい。

【００２２】ステージはアライメントマークに対応する
位置に開口部を有しており、照射光学系は透明基板上の
アライメントマークが形成されている側に配置されてお
り、検出器は透明基板上のアライメントマークが形成さ
れている側と反対の側に配置されており、かつ、アライ
メントマークで回折・散乱された照射光学系からの光を
透明基板及びステージの開口部を介して検出するように
構成されていてもよい。

【００２３】アライメントマークの上に光の反射率の高
い物質又は光の透過率の低い物質が塗布されていてもよ
い。

【００２４】位置決め装置は、露光装置に設けられてい
るとよい。

【００２５】上記のように構成された本発明によれば、
被検物の上面に形成されたパターンの上に、更にある膜
が形成されても、被検物の裏面側から光を照射して、被
検物を通してパターンに到達しパターンで反射された後
再び被検物を通る光を検出し、検出された光を光電変換
することにより、その被検物の位置を検出することがで
きる。また、本発明によれば、被検物のパターンの上に
光の透過率の低い膜が形成されている場合に、被検物の
上面から光を照射したときであっても、パターンで反射
して再度透過率の低い膜を通る光ではなく被検物を透過
する透過光を検出することができるので、パターンで回
折・散乱された光を透過率の低い膜を通さずに検出して
正確な位置検出を行うことができる。

【００２６】本発明によれば、１枚の基板に少なくとも
２回以上の露光を行う液晶基板露光プロセスにおいて、
露光装置で互いに位置合わせのためのアライメントマー
クを持つ原板とガラス基板の位置合わせの際、あるい
は、既にアライメントマークを含めて作成されたガラス
基板の検査及び観察を行うための装置においてガラス基
板の位置合わせを行う際、ガラス基板のアライメントマ
ークを含まない面、すなわち裏面側に光源と、その光源
から照射された光のガラス基板からの反射光を検出でき
る受光素子とを配置しているので、正確な位置検出がで
きる。

【００２７】本発明においては、被検物が液晶基板であ
るとするとその基板とはガラスである。ガラスは通常、
可視光に対して透過率は高い。また、液晶基板において
金属層を形成する際のその材質はクロムやアルミニウム
で、それらの金属はレーザ光に対して反射率が高い。ま
た、露光時使用するレジストは透過率が高く反射率が低
いという特性を持っている。そこで、例えば通常のガラ
ス基板上に金属膜のパターンを形成し、その面上の何層
目かに更に金属膜を形成し、その上に更にレジストを塗
布したような場合に、位置検出する際の光源からの照射
方法として基板の裏面から照射し、その反射光を検出す
ることにより、基板の表面からの落射や透過による方法
では、ガラス基板上の上記パターン位置検出が困難又は
不可能という不都合は解消する。

【００２８】

【実施例】図３は、本発明による第１実施例を示す図で
ある。図３において、露光装置２１は、投影光学系ＰＬ
と、マスクとしてのレチクルＲと、光源を含む照明光学
系ＩＬとからなる。位置決めの対象となる液晶基板は、
ガラス基板２２からなる。ガラス基板２２は、図示しな
い真空吸着手段を介してステージ２３上に載置されてい
る。ステージ２３は、モータ２４により図面の左右方向
に移動することができる。また、ステージ２３は、図示
しないモータにより図面に垂直方向にも移動することが
できる。ガラス基板２２の上には、第１層目に金属膜で
アライメントマーク２５が形成されている。アライメン
トマーク２５は、図示しない電子回路と同時に形成され
る。この第１層目のアライメントマーク２５の上に、第
２回目の露光プロセスのための半導体膜２６及びレジス
ト２７が蒸着、塗布されて第２層目を構成している。

【００２９】このような液晶基板を、図１に示した従来
の位置検出装置により、液晶基板の上面の側から光を落
射照明して反射光を検出しようとすると、レジスト２７
及び半導体膜２６を介して反射光を検出しなければなら
ないので、アライメントマーク２５のコントラストは低
下し、位置検出が難しくなる。更に、第３層目を塗布し
た場合には、第２層目における位置検出以上に位置検出
が困難となる。

【００３０】そこで、本発明の第１実施例は、前記した
液晶基板の裏面の側から光（ビーム）を照射するもので
ある。第１実施例のアラインメントセンサー２８として
は、ＬＳＡを用いている。光源２９から発した光は、集
光レンズ３０及び送光スリット３１を通り、ステージ２
３に設けられた開口部２３ａを通って、ガラス基板２２
に入射し、アライメントマーク２５に到達する。ここ
で、ステージ２３に設けられた開口部２３ａは、少なく
ともアライメントマーク２５に対応する位置の部分だけ
が筒抜けになっていればよい。光源２９は、可視光（波
長３８０〜７８０ｎｍ）、例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
（波長６３３ｎｍ）を用いている。アライメントマーク
２５で反射した反射光は、再びガラス基板２２を通って
リレーレンズ３２を通り、偏光プリズム３３によって偏
光されて、検出器３４に入射する。検出器３４は、アラ
イメントマーク２５の位置を計測し、位置情報を発生す
る。アライメントマーク２５の位置情報は、制御系３５
へ送られる。制御系３５は、位置情報からズレ量を算出
し、このズレ量に基づいて、光波干渉計やリニアエンコ
ーダなどの位置読み取り器３６を使用して、モータ２４
によりステージ２３を移動して、ガラス基板２２の位置
決めを行う。

【００３１】ここで重要なのは、アライメントマーク２
５の上に塗布されるものが、半導体膜２６ではなく、例
えば、カラーフィルター用のカラーレジストであって
も、この第１実施例に示した方法により、同様に位置検
出ができるということである。

【００３２】図４は、本発明による第２実施例を示す図
である。図４において、図３に示した第１実施例と同様
の構成要素には同じ符号を付して説明を省略する。第２
実施例は、光源を液晶基板の上面の側に配置し、検出器
を液晶基板の下面の側に配置して、透過光を検出するも
のである。第２実施例においては、第１層目のアライメ
ントマーク２５の上に、カラーレジスト４１が塗布され
ているものとする。光源４２は、ガラス基板２２の上
面、すなわち、アライメントマーク２５が設けられてい
る面の側に配置されている。光源４２から発した光は、
集光レンズ４３及び送光スリット４４を通り、カラーレ
ジスト４１に入射する。光は、カラーレジスト４１を通
って、アライメントマーク２５に到達する。カラーレジ
スト４１は、光の透過率が低く、例えば、青色のカラー
レジストにおいては、透過率は、１％程度である。従っ
て、アライメントマーク２５からの反射光は、入射光の
０．０１％程度であるため、従来技術のように反射光を
検出しようとすると、検出精度が落ちる。これに対し
て、第２実施例は、アライメントマーク２５で回折・散
乱された光をガラス基板２２を介して検出しようとする
ものである。すなわち、アライメントマーク２５で回折
・散乱された光は、ガラス基板２２を通り、ステージ２
３に設けられた開口部２３ａを通って、ガラス基板の下
面側に設けられたリレーレンズ４５へ至る。リレーレン
ズ４５を通った光は、偏光プリズム４６によって偏光さ
れて、検出器４７に入射する。検出器４７は、アライメ
ントマーク２５の位置を計測して位置情報を発生する。
アライメントマーク２５の位置情報は、制御系３５へ送
られる。制御系３５は、第１実施例と同様にして、ガラ
ス基板２２の位置決めを行う。

【００３３】図５は、本発明による第３実施例を示す図
である。図５において、図３に示した第１実施例と同様
の構成要素には同じ符号を付して説明を省略する。第３
実施例は、ガラス基板の上面の側から光を照射して、上
面の側への反射光を検出する機能と、ガラス基板の下面
の側から光を照射して、下面の側への反射光を検出する
機能との、両方の機能を合わせ持ち、被検物に応じてこ
れらの方法を切り換えられるようにしたものである。

【００３４】図５において、金属膜によって形成された
第１層目のアライメントマーク２５を使って第２層目の
露光のための位置合わせを行う際は、ガラス基板２２の
上面の側に配置された光源５１を使用する。光源５１か
ら発した光は、集光レンズ５２及び送光スリット５３を
通り、アライメントマーク２５に到達する。アライメン
トマーク２５で反射した反射光は、リレーレンズ５４を
通り、偏光プリズム５５によって偏光されて、検出器５
６に入射する。検出器５６は、アライメントマーク２５
の位置を計測して位置情報を発生する。アライメントマ
ーク２５の位置情報は、制御系３５へ送られる。制御系
３５は、第１実施例と同様にして、ガラス基板２２の位
置決めを行う。

【００３５】次に、第３層目の露光のための位置合わせ
の際に、もし上記第２層目と同様な方法が困難な場合
は、切換スイッチ５７により、光源５１をガラス基板２
２の下面の側に配置された光源２９に切り換えることに
より、第１実施例と同様にして、ガラス基板２２の下面
の側から、光をアライメントマーク２５へ照射する。ア
ライメントマーク２５からの反射光をリレーレンズ３
２、偏光プリズム３３を経由して、検出器３４によって
検出することができる。

【００３６】第４層目以降についても前記と同様な方法
で行うことができる。このように位置合わせのための反
射光検出を行ってから、正確な位置決めを光波干渉計や
リニアエンコーダ等の位置読み取り器３６を使って行
う。

【００３７】前記した第３実施例においては、ガラス基
板の上面の側に配置された光源５１により、アライメン
トマーク２５を照射して、ガラス基板２２を透過した透
過光を偏光プリズム３３を介して検出器３４で検出する
機構とすることもできる。この場合にも、切換スイッチ
５７により、機構を切り換えることができるようにする
とよい。

【００３８】以上の実施例では、アライメントマーク２
５に照射する光は可視光を前提に説明しているが、本発
明は、可視光のみ成らず、例えば、透明導電膜（ＩＴＯ
膜）に対する反射率が高い赤外線などの他の波長の光を
使用した場合においても、同様に適用できる。

【００３９】

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。

【００４０】本発明によれば、ガラス基板の位置合わせ
のためのアライメントマークを常に高いコントラストに
て検出できるため、精度の高い位置合わせを行うことが
可能である。また、常に精度の高い位置合わせを行える
アライメントマークが存在することから、第３層以降の
層において位置合わせのためのアライメントマークを打
ち換える必要がなくなり、その分、原板の設計の簡略化
ができ、また処理時間において短縮できるという効果も
ある。

【００４１】更に、本発明は、液晶基板のみ成らずカラ
ーフィルターのように可視光の透過率が低い感光材を塗
布したガラス基板における露光プロセスや検査プロセス
においても適用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の技術における位置合わせ装置の概念図で
ある。

【図２】位置合わせされる被検物としてのガラス基板上
にアライメントマークが形成され、その上に第２層目の
成膜及びレジストの塗布が行われたときの断面図であ
る。

【図３】本発明による第１実施例を示す図である。

【図４】本発明による第２実施例を示す図である。

【図５】本発明による第３実施例を示す図である。

【符号の説明】

２９、４２、５１ 光源 ３０、４３、５２ 集光レンズ ３１、４４、５３ 送光スリット ３２、４５、５４ リレーレンズ ３３、４６、５５ 偏光プリズム ３４、４７、５６ 検出器（光電変換素子） ２２ ガラス基板 ２３ ステージ ３６ 位置読み取り器 ２５ アライメントマーク ２６ 半導体膜 ２７ レジスト ４１ カラーレジスト

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被検物の位置を検出する位置検出方法で
   あって、 前記被検物上に形成されたパターンに光を照射する照射
   工程と、 前記パターンに到達した後に前記被検物を通る光を検出
   する工程と、 検出された光に基づいて、前記被検物の位置を求める工
   程とから成る位置検出方法。
2. 【請求項２】 前記照射工程は、光を、前記被検物を通
   して前記パターンに照射することを特徴とする請求項１
   に記載の方法。
3. 【請求項３】 前記被検物は、透明基板であることを特
   徴とする請求項１又は２に記載の方法。
4. 【請求項４】 前記パターンは、アライメントマークで
   あることを特徴とする請求項１乃至３に記載の方法。
5. 【請求項５】 被検物の位置を検出する位置検出装置で
   あって、 前記被検物上に形成されたパターンに光を照射する照射
   光学系と、 前記パターンに到達した後に前記被検物を通る光を検出
   する検出器と、 検出された光に基づいて、前記被検物の位置を求める計
   算機とから成る位置検出装置。
6. 【請求項６】 前記照射光学系は、光を、前記被検物を
   通して前記パターンに照射することを特徴とする請求項
   ５に記載の装置。
7. 【請求項７】 前記被検物は、透明基板であることを特
   徴とする請求項５又は６に記載の装置。
8. 【請求項８】 前記パターンは、アライメントマークで
   あることを特徴とする請求項５乃至７に記載の装置。
9. 【請求項９】 ステージの位置決めをする位置決め方法
   であって、 前記ステージ上に透明基板を配置する工程と、 前記透明基板上にアライメントマークを形成する工程
   と、 前記アライメントマークに光を照射する照射工程と、 前記アライメントマークに到達した後に前記透明基板を
   通る光を検出する工程と、 検出された光に基づいて、前記透明基板の位置情報を求
   める工程と、 前記位置情報に基づいて、前記ステージを移動して前記
   ステージの位置決めを行う工程とから成る位置決め方
   法。
10. 【請求項１０】 前記照射工程は、光を、前記透明基板
    を通して前記アライメントマークに照射することを特徴
    とする請求項９に記載の方法。
11. 【請求項１１】 前記アライメントマークの上に光の反
    射率の高い物質を塗布する工程を更に含むことを特徴と
    する請求項９又は１０に記載の方法。
12. 【請求項１２】 前記アライメントマークの上に光の透
    過率の低い物質を塗布する工程を更に含むことを特徴と
    する請求項９又は１０に記載の方法。
13. 【請求項１３】 ステージの位置決めをする位置決め装
    置であって、 前記ステージ上に配置された透明基板上に形成されたア
    ライメントマークに光を照射する照射光学系と、 前記アライメントマークに到達した後に前記透明基板を
    通る光を検出する検出器と、 検出された光に基づいて、前記透明基板の位置ズレ量を
    求める計算機と、 前記位置ズレ量に基づいて、前記ステージの位置決めを
    行うために前記ステージを移動する駆動装置とから成る
    位置決め装置。
14. 【請求項１４】 前記ステージは、前記アライメントマ
    ークに対応する位置に開口部を有しており、 前記照射光学系は、前記透明基板上の前記アライメント
    マークが形成されている側と反対の側に配置されてお
    り、かつ、前記ステージの前記開口部を介して前記アラ
    イメントマークに光を照射するように構成されており、 前記検出器は、前記透明基板上の前記アライメントマー
    クが形成されている側と反対の側に配置されており、か
    つ、前記アライメントマークで反射された前記照射光学
    系からの光を前記透明基板及び前記ステージの前記開口
    部を介して検出するように構成されていることを特徴と
    する請求項１３に記載の装置。
15. 【請求項１５】 前記ステージは、前記アライメントマ
    ークに対応する位置に開口部を有しており、 前記照射光学系は、前記透明基板上の前記アライメント
    マークが形成されている側に配置されており、 前記検出器は、前記透明基板上の前記アライメントマー
    クが形成されている側と反対の側に配置されており、か
    つ、前記アライメントマークで回折・散乱された前記照
    射光学系からの光を前記透明基板及び前記ステージの前
    記開口部を介して検出するように構成されていることを
    特徴とする請求項１３に記載の装置。
16. 【請求項１６】 前記アライメントマークの上に光の反
    射率の高い物質が塗布されていることを特徴とする請求
    項１３又は１４に記載の装置。
17. 【請求項１７】 前記アライメントマークの上に光の透
    過率の低い物質が塗布されていることを特徴とする請求
    項１３又は１５に記載の装置。
18. 【請求項１８】 請求項１３乃至１７に記載の位置決め
    装置を有する露光装置。