JPH01138217A - 親水性基含有ab型ブロック共重合体 - Google Patents

親水性基含有ab型ブロック共重合体

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JPH01138217A
JPH01138217A JP23606388A JP23606388A JPH01138217A JP H01138217 A JPH01138217 A JP H01138217A JP 23606388 A JP23606388 A JP 23606388A JP 23606388 A JP23606388 A JP 23606388A JP H01138217 A JPH01138217 A JP H01138217A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 産業上の利用分野 本発明は、親水性基含有高分子鎖及び樹脂と親和性を有
する高分子鎖とを併せ持つ親水性基含有AB型ブロック
。共重合体に関するものである。
樹脂の表面あるいは界面を改質し、その効果を永続化さ
せるためにブロック共重合体が有用であることはすでに
知られている。
本発明の親水性基含有AB型ブロック共重合体は、親水
性基含有高分子鎖が改質すべき樹脂の表面あるいは界面
へ配向し、一方、樹脂と親和性を有する高分子鎖が改質
すべき樹脂に固定されて働くものである。
従来の技術 従来より、親水性基含有ブロック共重合体は、優れた表
面あるいは界面改質効果が期待できるため、その合成が
試みられているが、通常のラジカル重合法による合成例
は数少ない。
特開昭59−202261号公報では、ポリメリックペ
ルオキシド又はポリアゾ化合物を用いて親水性基含有ブ
ロック共重合体が合成できると提案されている。
発明が解決しようとする課題 ところが、上述のポリメリックペルオキシド又はポリア
ゾ化合物を用いて親水性基含有ブロック共重合体を合成
する場合は生成共重合体の分子量が制御できないばかり
でなく、ホモポリマーが副成することが避は難いので、
純度の高いブロック共重合体を得ることが困難であると
いう間泡点がある。
〔発明の概要〕
要旨 本発明は、上記の点に解決を与えることを目的とするも
のであって、改質すべき高分子材料の表面あるいは界面
に、親水性基の有する諸性質、例えば、吸水性、帯電防
止性、導電性、防汚性、防曇性等を与え、且つその改良
効果が永続的であるような共重合体を提供しようとする
ものである。
即ち、本発明による親水性基含有AB型ブロック共重合
体は、下記一般式(イ)〜(ハ)で示される化合物群か
ら選ばれたIP!または2a以上の化合物(M1)から
なる高分子鎖と、下記一般式(ニ)〜(ヨ)で示される
化合物群から選ばれた1種または2種以上の化合物(M
2)からなる親水性基含有高分子鎖とを有する、下記一
般式(I)で表わされるものである。
(式(1)中、Mは(M2←M1÷  またはm   
   n 10の炭化水素基を、R2は水素原子または炭素数1〜
10の炭化水素基を、R3はベンジル基、のアルキル基
を示す)または炭素数1〜18のアルキル基を、示す。
mおよびnは、何れも20〜5000の自然数である。
) Mlは、下記の(イ)〜(ハ)のいずれかを示す。
■ で表わされる(メタ)アクリル酸エステル残基(式中、
R5は水素原子またはメチル基を、R6は炭素数1〜1
8の炭化水素基、またはアルコキシ基もしくは水酸基で
置換された炭素数1〜18の炭化水素基を、示す。)、 R7 ■ で表わされる芳香族ビニル残基 (式中、R7は水素原子またはメチル基を、R8はフェ
ニル基またはアルキルフェニル基を、示す)1; で表わされる脂肪酸ビニルエステル残基、(式中、R9
は炭素数1〜18の炭化水素基を示す。) M2は、下記のいずれかを示す。
10R11 (ニ)  −CH−C− 0OZ1 で表わされる親水性基含有ビニル残基、RlOR12C
OOZ’ (ホ)  −CH−C− ■ 00Z2 で表わされる親水性基含有ビニル残基、10R11 1; (へ)  −CH−C− R12COOZ1 で表わされる親水性基含有ビニル残基、10R11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩、 10R11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩、 1OR11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩、 10R11 (ヌ)   −CH−C− で表わされる親水性基含有ビニル残基、10R11 (ル)  −CH−C− で表わされる親水性基含有ビニル残基、で表わされる親
水性基含有ビニル残基、で表わされる親水性基含有ビニ
ル残基、10R11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、(ヨ〉  ビニ
ルピロリドン残基 (上記一般式(ニ)〜(力)各式中で、RおよびR11
は、それぞれ独立して、水素原O 子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。
R12は、炭素数1〜10のアルキレン基を示す。
ZlおよびZ−は、それぞれ独立して、水素原子、アル
カリ金属、アンモニウムまたは何機アミンのいずれかを
示す。
R、RおよびR15は、それぞれ独立して、水素原子、
炭素数1〜10のアルキル基またはれた意味を示す。)
で表わされるスルホン化アルキル基のいずれかを示す。
R16は、水酸基を1個以上有する炭素数1〜18のヒ
ドロキシル化アルキル基を示す。
Rは、−(CH2−CH2−O+a XまたはCH3 ングリコール基を示す。(ここで、aは1〜10の自然
数を表し、Xは水素原子、−P O3,H21、た意味
を示す。))) 効果 本発明によれば、前記の従来の問題点が克服されて、表
面特性を改質しようとする高分子材料に親和性のある高
分子鎖のブロックが、対象高分子ヰ]料のポリマー鎖に
対して親水性基含有高分子鎖を十分に「固定」するので
、親水性基含有高分子鎖に生得的な各種性質が高分子材
料に付与されて、その表面特性が改質される。
すなわち、親水性基の持つ諸性質、例えば、吸水性、帯
電防止性、導電性、防汚性、防曇性、耐油性あるいは金
属、ガラス、セラミック等への密着性、生体適合性等の
優れた性質を高分子材料に付与させることができ、かつ
この効果を長時間持続させることができる。
従って、本発明によるAB型共重合体は、塗料添加剤、
樹脂添加剤、界面活性剤、消泡剤、凝集剤、分散剤、ビ
ルグー、スケール防止剤として、あるいはトナー、接着
剤、繊維、膜、シーラント、ゴム、粘着剤、吸水性樹脂
等の改質剤として用いることかできる。
本発明によるブロック共重合体は、含親水性基高分子の
重合を行なわせることに固有の問題として適当な重合開
始剤を選択することが望ましいが、後記のように好まし
い重合開始剤は化合物としては簡単な周知の化合物であ
ると共にブロック共重合体も容易であって慣用の技術の
範囲のものであるので、このような共重合体によっても
たらされる表面特性改質効果の大きいこととあいまって
、本発明は極めて実用的な技術を提供するものというこ
とができる。
〔発明の詳細な説明〕
親水性基含有AB型ブロック共重合体 本発明による親水性基含有AB型ブロック共重合体は、
改質させたい高分子材料に親和性を有する高分子鎖(以
下、親和高分子鎖ということもある)と親水性基含有高
分子鎖とが直鎖状に化学結合した構造を有するものであ
って、上述の一般式(I)で示されるものである。なお
、本明細書中で、一般式(イ)〜(ヨ)中の「残基」と
はビニル基を有する単量体が付加重合により結合した場
合の繰り返し単位そのものを指すものとする。
上記一般式(1)中のmおよびnは、何れも20〜50
00の自然数である。mおよびnの具体的数字は、高分
子鎖(M1)および(M2)の種類、対象とする高分子
材料あるいは後述するブロック共重合体のff1R平均
分子量等に応じて適宜決定することができるが、好まし
くはmが、30〜500、nが30〜500、m + 
、nが60〜1000、であるものである。
また、この式(I)中のR1として好ましい炭化水素基
は、炭素数1〜4のものであり、R2として好ましい炭
化水素基は炭素数1〜4のしのであり、R4として好ま
しいアルキル基は、炭素数2〜10のも゛のである。
この様なAB型ブロック共重合体は、改質しようとする
高分子材料に溶融混線等の方法を用いて混和して組成物
を合成すると、共重合体の含親水性基高分子鎖部分は組
成物系全体の自由エネルギーが最低となる形態(モルフ
ォロジー)を取るように高分子材料の表面あるいは界面
に配向し、−方、親和高分子鎖部分は高分子材料中に埋
没して共重合体を高分子材料に共重合体を固定する役割
をはたしているものと推測されている。従って、この様
なAB型ブロック共重合体は、高分子材料の表面あるい
は界面を改質し、かつ容易にブリードアウトしたり、こ
のAB型ブロック共重合体自体が容易に樹脂から剥離す
ることがないのである。
従って、本発明の親水性基含有AB型ブロック共重合体
は、高分子材料の表面あるいは界面に親水性基の有する
諸性質を付与し、且つその性質に永続性を与えることが
できるのである。
(1)  高分子材料に親和性を有する高分子鎖高分子
材料に親和性を有する高分子鎖は、下記一般式(イ)〜
(ハ)で示される化合物群から選ばれた1種または2種
以上の化合物(M1)からなるものであって、本発明に
よるAB型ブロック共重合体のブロック(A)を形成す
るものである。
この高分子鎖が2種以上の化合物からなる場合、厳密に
はブロック(A)は同一モノマーが他をまじえずに結合
したブロック部分とは言えないかもしれないが、高分子
材料に親和性を有する化合物(M1)からなるものであ
るという点で、単一ブロックとして取り扱うものである
ぽ で表わされる(メタ)アクリル酸エステル残基(式中、
R5は水素原子またはメチル基を、R6は炭素数1〜1
8、好ましくは1〜10、の炭化水素基、またはアルコ
キシ基もしくは水酸基で置換された炭素数1〜18、好
ましくは1〜10、の炭化水素基を、示す。) (メタ)アクリル酸エステル残M(イ)を形成する単量
体としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アク
リル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ
)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル
、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル
酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソノニル
、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ステ
アリル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ
)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸
2−工、トキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ブトキ
シエチル、(メタ)アクリル酸ペンタエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ジエチレン
グリコール七ノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル等の(メタ)ア
クリル酸エステル類を挙げることができる。ここで、「
(メタ)アクリル酸」という表現が「アクリル酸」およ
び「メタクリル酸」のいずれをも包含するものであるこ
とはいうまでもない。
■ で表わされる芳香族ビニル残基 (式中、R7は水素原子またはメチル基を、R8はフェ
ニル基またはアルキルフェニル基を、示す。) 芳香族ビニル残基(ロ)を形成する単量体としでは、ス
チレン、パラメチルスチレン、オルトメチルスチレン、
α−メチルスチレン、β−メチルスチレン等を挙げるこ
とができる。
で表わされる脂肪酸ビニルエステル残基(式中、R9は
炭素数1〜18、好ましくは1〜10、の炭化水素基を
示す。) 脂肪酸ビニルエステル残基(ハ)を形成する単量体とし
ては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、醋酸ビニル、
カプロン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、ラウ
リン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等を挙げることがで
きる。
(2)  親水性基含有高分子鎖 親水性基含有高分子鎖は、下記一般式(ニ)〜(ヨ)で
示される化合物群から選ばれた1種または2種以上の化
合物(M2)からなるものである。
この高分子鎖が2種類以上の化合物(M2)からなる場
合、厳密には同−七ノマーが他をまじえずに結合したブ
ロック部分とは言えないかもしれないが、親水性基を含
有する特定化合物群(ニ)〜(ヨ)から選ばれたもので
あり、共に同様の作用を有するという点で単一ブロック
として取り扱うものである。
RIOR11 (ニ)  −CH−C− 0OZ1 で表わされる親水性基金をビニル残基 (式中、RIOおよびR11は、それぞれ独立して、水
素原子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。Zl
は、水素原子、アルカリ金属(好ましくはナトリウム、
カリウム)、アンモニウムまたは有機アミンのいずれか
を示す。
一般式(ニ)の親水性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、(メタ
)アクリル酸ナトリウム、クロトン酸カリウム、(メタ
)アクリル酸アンモニウム、OHOH I CH3 等が挙げられる。前記した様に「(メタ)アクリル酸」
という表現は、「アクリル酸」および「メタクリル酸」
のいずれをも包含するものである。
R10R12COOZ1 0OZ2 で表わされる親水性基含有ビニル残基 (式中、RIOは水素原子、メチル基または水酸基のい
ずれかを示す。R12は炭素数1〜10、好ましくは2
〜8、のアルキレン基を示す。ZlおよびZ2は、それ
ぞれ独立して、水素原子、アルカリ金属(好ましくはナ
トリウム、カリウム)、アンモニウムまたは有機アミン
のいずれかを示す。)一般式(ホ)の親水性基含有ビニ
ル残基を形成する単量体としては、イタコン酸、イタコ
ン酸ナトリウム、イタコン酸アンモニウム、  H3 等が挙げられる。
1OR11 R12COOZ1 で表わされる親水性基含有ビニル残基 (式中、RおよびRIIは、それぞれ独立して、水素原
子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。R12は
炭素数1〜10、好ましくは2〜8、のアルキレン基を
示す。Zlは、水素原子、アルカリ金属(好ましくはナ
トリウム、カリウム)、アンモニウムまたは有機アミン
のいずれかを示す。)    ゛−一般式へ)の親水性
基含有ビニル残基を形成する)11量体としては、 CH2C00HSC2H4COoH1 C3H6COOHS   CH2COONa1CH3 CH3 ■  H3 等が挙げられる。
10R11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩 O (式中、RおよびR11は、それぞれ独立して、水素原
子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。Rおよび
R14は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜1
0(好ましくは1〜6)のアR12は炭素数1〜10(
好ましくは2〜8)のアルキレン基を示し、Zlは水素
原子、アルカリ金属(好ましくはナトリウム、カリウム
)アンモニウムまたは有機アミンのいずれかを示す)で
表わされるスルホン化アルキル基のいずれかを示す。) 一般式(ト)の親水性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、(メタ)アクリルアミド、N、Nジメチル
(メタ)アクリルアミド、N、  Nジエチル(メタ)
アクリルアミド、 OHOH 等が挙げられる。
一般式(ト)の4級アンモニウム塩を形成する単量体と
しては、 等が挙げられる。
10R11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩 (式中、RおよびR11は、それぞれ独立して、O 水素原子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。R
12は炭素数1〜10、好ましくは2〜8、のアルキレ
ン基を示す。R13およびR14は、それぞれ独立して
、水素原子、炭素数1〜10(好ましくは1〜6)のア
ルキル基または れたR と同様に定義された意味を示し、Zlは水素原
子、アルカリ金属(好ましくはナトリウム、カリウム)
、アンモニウムまたは有機アミンのいずれかを示す)で
表わされるスルホン化アルキル基のいずれかを示す。) 一般式(チ)の親水性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、 OH OH 等が挙げられる。
一般式(チ)の4級アンモニウム塩を形成する単量体と
しては、 CH2−CHC00C2H4N” H3C1−1H 2H5 等が挙げられる。
1OR11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
アンモニウム塩 (式中、R10およびR11は、それぞれ独立して、水
素原子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。R1
2は炭素数1〜10、好ましくは2〜8、のアルキレン
基を示す。R13、R14およびR15は、それぞれ独
立して、水素原子、炭素数1〜10(好ましくは1〜6
)のアルキル基またはれたR12と同様に定義された意
味を示し、Zlは水素原子、アルカリ金属(好ましくは
ナトリウム、カリウム)、アンモニウムまたは有機アミ
ンのいずれかを示す)で表わされるスルホン化アルキル
基のいずれかを示す。) 一般式(す)の親水性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、 等が挙げられる。
一般式(す)の4級アンモニウム塩を形成する単量体と
しては、 CH3 0C2H5 CH3 OH OH CH”CCNC2H4N” H3Br−1CH3 0CH3CH3 等が挙げられる。
10R11 (ヌ’)   −CH−C− C−0−R16 で表わされる親水性基含有ビニル残基 O (式中、RおよびR11は、それぞれ独立して、水素原
子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。RlBは
水酸基を1個以上有する炭素数1〜18、好ましくは2
〜10、のヒドロキシル化アルキル基を示す。) 一般式(ヌ)の親和性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、OH OH OHOH OH OH OH 0HOH か挙げられる。
1OR11 (ル)  −CH−C− で表わされる親水性基含有ビニル残基、(式中、Rおよ
びRI Iは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基
または水酸基のいずれかを示す。Rは−(C)l  −
CH2−0+aX または H3 ングリコール基を示す(ここで、aは1〜10のZlは
水素原子、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機アミ
ンのいずれかを示す)のいずれかを示す。)) 一般式(ル)の親水基含有ビニル残基を形成する単量体
としては、 CH−CHC00CH20CH20H。
CH3CH3 CH−CHCOoCH20CH20PO3H2、CH−
CHC00CH20CH20CH20PO3HNa。
CH−CHC00CH20CH20P 03K 2、等
が挙げられる。
! で表わされる親水性基含有ビニル残基 (式中、R10は水素原子、メチル基または水酸基のい
ずれかを示す。Zlは水素原子、アルカリ金属(好まし
くはナトリウム、カリウム)、アンモニウムまたは有機
アミンのいずれかを示す。)一般式(ヲ)の親水性基含
有ビニル残基を形成する単量体としては、 等が挙げられる。
で表わされる親水性基含有ビニル残基、(式中、R10
は水素原子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。
) 一般式(ワ)の親水性基含有ビニル残基を形成するil
l量体としては、 等が挙げられる。
1OR11 で表わされる親水性基含有ビニル残基、O (式中、RおよびR11は、それぞれ独立して、水素原
子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。zlは水
素原子、アルカリ金属(好ましくはナトリウム、カリウ
ム)、アンモニウムまたは有機アミンのいずれかを示す
。) 一般式(力)の親水性基含有ビニル残基を形成する単量
体としては、 H3 等が挙げられる。
(ヨ)  ビニルピロリドン残基を形成する単量体とし
ては、ビニルピロリドンが挙げられる。
これらの親水性基含有高分子鎖を形成する親水性基含有
ビニル単量体の具体例は前記した通りである。
本発明では、これらの一種又は二種以上を親水性基含有
ビニル単量体の主成分として用いることができるが、ブ
ロック共重合体の高分子材料表面あるいは界面へ及ぼす
改質効果が発揮できる範囲内において、前記主成分以外
の親水性基含有ビニル単量体、ビニル単量体、架橋剤等
を加えることも可能である。
(3)  ブロック共重合体の製造 ブロック共重合体は、上記のように、ブロック共重合に
よって形成される。
すなわち、親和高分子鎖を形成すべきモノマー(M1)
と親水性基含有高分子鎖を形成すべきモノマー(M2)
の一方をラジカル重合開始剤の作用によって重合させて
親和高分子鎖または親水性基含有高分子鎖に対応しかつ
末端にフリーラジカルまたはその前駆体からなるフリー
ラジカル源を存するポリマー鎖を形成させ(第一工程)
、次いでこのフリーラジカル源によって他方のモノマー
を重合させることによってブロック共重合体を形成させ
る(第二工程)ことがふつうである。
この場合のラジカル重合開始剤は、連鎖移動および停止
の機能を併せ持つものが好ましい。そのようなラジカル
重合開始剤の一具体例は、生成ポリマー鎖末端にジチオ
カーバメート基を与えるようなものである。あるブロッ
クのポリマー鎖末端に形成されたジチオカーバメート基
は、光エネルギーを与えることによって分解してフリー
ラジカルを発生して、そこからの他のブロックの生成を
開始させる。
本発明でブロック共重合体を合成する際に好ましく用い
られる開始剤は、上記のように、ラジカル重合過程にお
いて連鎖移動および停止の機能を併せ持ちイニファータ
ーと呼ばれるものである(大津、高分子33.3.22
2 (1984))具体的には、イオウ系化合物であっ
て、その代表的なものは下記一般式(II)で示される
ものである。これら1種又は2種以上を用いてブロック
共重合体を合成することができる。
一般式 (式中、R18は炭素数1〜10、好ましくは1〜6、
の炭化水素基を、R19は水素原子または炭素数1〜1
0、好ましくは1〜6、の炭化水素基を、R20はベン
ジル基、 〜18、好ましくは2〜10、のアルキル基を示す。)
または炭素数1〜18、好ましくは2〜10、のアルキ
ル基を、示す。) なお、これらの開始剤の電子状態を著しく変化させたり
、立体的障害を著しく増加させてラジカル開始能を低下
させるものでなければ、R20の水素原子をハロゲン、
水酸基、アルコキシ基またはカルボン酸基等で置換した
ものであっても差支えない。
これらの化合物は、対応するハロゲン化物とジチオカル
バミン酸塩とから収率よく合成することができる。例え
ば、ベンジルブロマイドとN、  N−ジエチルジチオ
カルバミン酸ナトリウムよりN。
N−ジエチルベンジルジチオカーバメートが合成できる
これらの化合物は、それ自身が分解して開始剤として機
能するためには、すなわちブロック共重合の第−工程及
び第二工程を開始するためには、波長300〜500n
mの紫外線を用いることができる。
(4)  共重合 このようなブロック共重合体は、前記のように、以下に
示す二つの工程によって合成することができる。
(第一工程) 前述のイオウ系ラジカル重合開始剤を用
いて第一のビニル単量体を重合して高分子末端にジチオ
カーバメート基を有する高分子開始剤を合成する。
(第二工程) 第一工程で合成された高分子開始剤を用
いて第二のビニル単量体を重合させて、ブロック共重合
体とする。なお、ここで高分子末端のジチオカーバメー
トが分解してラジカル開始部位となる(詳細後記)。
このような二つの工程で第一の単量体として親水性基含
有ビニル中口体を用いて、第二の1jiE1体として親
和ビニル単量体を用いることができる。
また、逆に、第一の単量体として親和ビニル単量体を用
い、第二の単量体として親水性基含有ビニル単量体を用
いることもできる。
第一および第二工程を通じて光重合を行なう場合は、重
合系はジチオカーバメート基保護の観点から150℃以
下の温度であることが好ましい。
これら二つの工程で光重合を採用する場合は、開始部位
に解離に充分な光エネルギーが伝達されるのであれば、
重合は均−系および不均一系どちらでもよい。しかし、
一般には、第一工程では塊状重合または溶液重合、第二
工程では溶液重合あるいは高分子開始剤を第二モノマー
で溶解させた溶液の重合等が用いられる。
溶液重合用の溶剤としては、300〜500 nmの紫
外線に特性吸収がなく、連鎖移動定数が小さく、かつ単
量体及び重合体をよく溶解することのできるものが好ま
しい。その好ましい溶剤としては、たとえばベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アセトン、メチ
ルエチルケトン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、
イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサン、ペン
タン等が挙げられる。
ブロック共重合体の各成分の分子量は、開始剤と単量体
のモル比により制御することができる。
例えば、単量体の分子量が100のメタクリル酸メチル
に対してベンジルN、N−ジエチルジチオカーバメート
を1モル%添加した場合は、数平均分子量が約10,0
00であり、重量平均分子量は約20,000である。
m−100に相当する。
同様に0.1モル%添加の場合は、 約100,000および約20.000となる。
m−1,000に相当する。
第二工程においても同様に、高分子開始剤と第二単量体
とのモル比により分子量を制御することができる。
適当なブロック共重合体は、親水性基含有高分子鎖の平
均重合度が20〜5000、親和高分子鎖の平均重合度
が20〜5000、ブロック共重合体全体として平均重
合度が40〜10000、であるものである。親水性基
含有高分子鎖の平均重合度が20未満では高分子材料に
対する表面あるいは界面を充分覆うことができないので
、改質効果が充分でなく、一方、5000超過ではブロ
ック共重合体全体の拡散速度が小さいため必ずしも表面
あるいは界面へ移行しないため改質効果が充分でない。
又、親和高分子鎖の平均重合度が20未満では高分子材
料に対する親和性や固定化が充分でなく、分散不良を起
こしたり、ブリードアウトしやすい。
一方、5000超過ではブロック共重合体全体の拡散速
度が小さいため、必ずしも表面あるいは界面へ移行しな
いため改質効果が充分でない。
本発明によるブロック共重合体を混練することによって
その表面特性を改質しようとする対象高分子材料は、混
練が可能であるために熱6■塑性であるということを除
けば、任意のポリマーからなるものでありうる。
このような高分子材料の一群は、エチレン性不飽和モノ
マーの単独重合または共重合によって形成されたもので
あり、また、このような高分子材料の他の一群は、重縮
合反応あるいは重付加反応によって形成されたものであ
る。
また、本発明で対象とする高分子材料のもう一つの群は
、天然高分子からなるものである。
本発明はこれらのような高分子材料の固有の表面特性を
改質しようとするものであって、対象高分子材料に表面
改質材ポリマーを混練することによって生成ブレンドが
対象ないし基材高分子材料固有の表面特性とは異なった
性質(たとえば吸水性)を持つものとなるという現象を
利用するものであるが、そのようなブレンドは高分子材
料という無定形のものである場合の外に繊維、フィルム
ないしシート、パイプ、板材、ブロックその他の成形物
であることができることはいうまでもない。
即ち、本発明による親水性基含有AB型共重合体は、合
成高分子、天然高分子からなる樹脂、繊維、発泡体、ゴ
ム等の材料、より具体的にはプラスチックは言うに及ば
ずこの様な高分子を使った塗料、繊維、膜、布、シーラ
ント、その他の材料のすべてを対象とすることができる
。更に具体的には、本発明は、ポリアクリル樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ABS樹脂、スチレン−ブタジェン樹脂、AS
樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、塩素化
ポリエチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリア
ミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェ
ニレンオキシド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ノリル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ニトロセルロース樹脂、セルロ
ースアセテート樹脂、エチルセルロース樹脂、セルロー
スアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートプ
ロピオネート樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ユリア
樹脂、メラミン樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、石油樹
脂、クマロン樹脂、インデン樹脂、フェノール樹脂、ア
セタール樹脂、アクリロニトリル−ブタジェンゴム、ク
ロロブレンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、ポリブタ
ジェンゴム、ポリイソプレンゴム、エチレン−プロピレ
ン−ジエンゴム、ポリアクリル繊維、ナイロン繊維、ポ
リエステル繊維、ポリビニルアルコール繊維、ポリ塩化
ビニル繊維、ポリ塩化ビニリデン繊維、ポリエチレン繊
維、ポリプロピレン繊維、ポリウレタン繊維、ポリビニ
ルアセクール繊維、発泡ポリスチレン、発泡ポリプロピ
レン、発泡ポリウレタン等の合成高分子材料およびロジ
ン、天然ゴム、綿、麻、羊毛、絹等の天然高分子材料を
対象とすることができる。
表面特性改質 高分子材料の表面特性改質は、本発明による親水性基含
有AB型共重合体を、前記の高分子材料に配合すること
によって行なうことができる。例えば、本発明によるブ
ロック共重合体を溶剤に溶解あるいは分散させて高分子
材料の表面に塗布する方法、高分子材料の成型加工時に
混合したり、あるいは高分子材料とブロック共重合体と
を溶剤に溶解してフィルム化する方法、ブロック共重合
体をあらかじめシート状にして加温下で高分子材料表面
に圧着するか、接着剤で接着する方法、ブロック共重合
体を粉体のまま高分子材料表面上に溶着させる方法など
を挙げることができる。これらのうちでは、このブロッ
ク共重合体と対象高分子材料とが溶解ないし溶融する状
態を経て合体する態様が好ましい。
この場合のブロック共重合体の配合量は、高分子材料1
00重二部に対して0.01重2部から30重量部、好
ましくは0.1〜10重量部、の範囲が好ましい。配合
量が0.01重量部より少ないと本発明の効果が少なく
なり、30重量部を越えると高分子材料本来の特性か損
われる恐れがある。
〔実験例〕
以下に、ブロック共重合体合成例(実施例)及び試験例
をあげて本発明をさらに詳述する。なお、これらの例に
記載した「部」及び「%」は、重量部及び重量%をそれ
ぞれ意味する。
実施例1 (第1工程) 50℃の恒温槽内において、出力400Wの紫外線ラン
プ(東芝社製H−400L)から10cmの距離の位置
にパイレックスガラス製の直径3cm、容積200m1
の容器を置き、この容器内にスチレン100g、ベンジ
ル−N、N−ジエチルジチオカーバメート2.39gを
仕込み、容器内のガスを窒素置換したのち密閉し、10
時間上記の紫外線ランプで紫外線照射し、光重合を行な
わせた。
得られた重合物は淡黄色透明な固体であり、残存単量体
量は1.6%であった。また、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフ(G P C)で測定したポリスチレン換
算数平均分子量(以下、rMnJという。)は9800
であり、ポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「M
W」という。)は22.000であった。この重合物は
高分子開始剤である。
(第2工程) 第1工程で得られた重合物の粉砕粉末40g、メタクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル40g1及びメチルエチルケ
トン160gをよく混合し、溶解させたものを、前記の
第1工程において用いたのと同様の装置の容器内に仕込
み、窒素置換したのち、10時間紫外線照射して光重合
を行なわせた。
得られた半透明白色の重合体分散液からヘキサンを用い
て再沈、乾燥させてブロック共重合体を得た。このブロ
ック共重合体は、GPCによるMr+−22,0005
Mw−45,000であり、残存単量体量は合計で1%
未満であった。又溶剤抽出によるブロック化率は86%
であった。このブロック共重合体は、本発明のブロック
共重合体(I)に相当し、そのmの値が94、nの値が
94のものであった。
実施例2 (第1工程) 実施例1におけると同一の装置を用い、その容器にメタ
クリル酸メチル100K、ベンジルN。
N−ジエチルジチオカーバメート2.39gを仕込み、
実施例1におけると同様にして光重合させた。得られた
重合物は淡黄色透明な固体であり、残存単量体は1.0
%であった。そのGPCによるMn−9,900であり
、MW−23,000であった。
(第2工程) 第1工程で得られた重合物の粉砕粉末40g5メタクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル40g1及びメチルエチルケ
トン160gを用い、そのほかは実施例1と同様にして
光重合を行なわせ、同様の後処理をしてブロック共重合
体を得た。その共重合体のGPCによるMn−23,0
00、M w −48,000であり、残存単量体の合
計は1%未満であった。又、溶剤抽出によるブロック化
率は82%であった。
したがって、このブロック共重合体、本発明のブロック
共重合体(I)に相当し、そのmの値が101、nの値
が99のものであった。
実施例3 実施例2の第1工程で得られた重合物の粉砕粉末40g
1アクリル酸40g及びメチルエチルケトン160gを
使用し、そのほかは実施例1の第2工程と同様にして光
重合を行なわせ、同様にして後処理してブロック共重合
体を得た。この共重合体のGPCによるMn−22,0
00、Mwm46.000であり、残存単量体の合計は
1%未満であった。又、溶剤抽出によるブロック化率は
84%であった。
したがって、このブロック共重合体は、本発明のブロッ
ク共重合体(I)に相当し、そのmの値が168、nの
値が99のものであった。
実施例4 実施例2の第1工程で得られた重合物の粉砕粉末40g
、スチレンスルホン酸ナトリウム40g。
メタノール80g及びアセトン80gを用い、そのほか
は実施例1の第2工程と同様にして光重合させ、同様に
して後処理してブロック共重合体を得た。この共重合体
はGPCによるMn −21,000、Mw−46,0
00であり、残存単量体の合計は1%未満であった。
又、溶剤抽出によるブロック化率は78%であった。
したがって、このブロック共重合体は、本発明のブロッ
ク共重合体(I)に相当し、そのmの値が54、nの値
が99のものであった。
実施例5 (第1工程) メタクリル酸メチル100g、2−N、N−ジエチルジ
チオカルバミルイソ酪酸エチル2.47gを用い、その
ほかは実施例1の第1工程と同様にして光重合させ、同
様にして後処理して、Mn−9,800、Mw−22,
000の重合物を得た。
(第2工程) 第1工程で得られた重合物の粉砕粉末40g、メタクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル40f、及びメチルエチルケ
トン160gを使用し、そのほかは合成例1の第2工程
と同様にして光重合させ、同様にして後処理をしてブロ
ック共重合体を得た。
この共重合体GPCによるMn−23,000、Mw−
49,000であり、残存単量体の合計は1%未満であ
った。又、溶剤抽出によるブロック化率は80%であっ
た。
したがって、このブロック共重合体は、本発明のブロッ
ク共重合体(1)に相当し、そのmの値が101、nの
値が98のものであった。
試験例1 ポリスチレン樹脂粉末100部と、上記実施例1で得ら
れたブロック共重合体5部を押出成形機で練込んでシー
トとし、さらにプレス成形して厚さ0.5mmのシート
を得た。
このシートは着色がなく、表面ににじみ出るブリードが
認められず、加工性が良好であった。
このシートと、空試験としてポリスチレン樹脂だけを同
様にして成形したシートについて、それらの表面固有抵
抗値、及び純水の接触角をallJ定した(測定環境は
、相対湿度30%、気温20℃であった。)。その結果
は第1表に示すとおりであった。
第1表 第1表の注(以下の6表も同様): *1・・・三光精機社の表面抵抗測定器により測定した
*2・・・協和界而科学株式会社のFACE接触角針C
A−D型により71P]定した。
第1表から明らかなように、ブロック共重合体を配合し
たものは、配合しないものと較べて表面固有抵抗値、及
び接触角が非常に低く、表面改質効果が明瞭である。ま
た、この表面を25℃の水通水で2リットル/分の流速
で1時間水洗したのちに同様の特性を測定した結果は水
洗前と全く変わらなかった。
試験例2 メタクリル酸樹脂粉末100部と上記の実施例2で得ら
れたブロック共重合体5部を試験例1におけると同様に
して成形したところ、得られたシートは着色がなく、ブ
リードもな(、加工性も良好であった。さらに、そのシ
ートについて試験例1と同様の特性値を711定した結
果は第2表に示すとおりであった。
第2表 第2表から明らかなように、ブロック共重合体の添加に
より表面特性が著しく改質された。また、そのシートを
試験例1におけると同様の条件で水洗した結果は、水洗
前と全く変わらなかった。
試験例3 ポリ塩化ビニル樹脂粉末100部、実施例2て得られた
ブロック共重合体5部を用い、そのほかは試験例1と同
様にしてシートとした。得られたシートは着色がなく、
ブリードもなく、加工性も良好であり、試験例1と同様
にして測定した特性値は第3表に示すとおりであった。
第3表 第3表から明らかなように、ブロック共重合体の添加に
より表面特性が著しく改質された。また、そのシートを
試験例1におけると同様の条件で水洗した結果は、水洗
前と全く変わらなかった。
試験例4 ポリフッ化ビニリデン樹脂粉末100部、実施例2で得
られたブロック共重合体5部を用い、そのほかは試験例
1に阜じてシートを製造した。得られたシートは着色が
なく、ブリードもなく、加工性も良好であった。
また、そのシートについて試験例1と同様の特性を測定
した結果は第4表に示すとおりであった。
第4表 第4表の結果から明らかなように、ブロック共重合体の
添加により表面特性が著しく改質された。
また、そのシートを試験例1におけると同様の条件で水
洗した結果は、水洗前と全く変わらなかった。
試験例5 ポリイソプレンゴム100部と実施例2で得られたブロ
ック共重合体を用い、そのほかは試験例1と同様にして
厚さ1m+mのシートを作成した。このシートは着色が
なく、ブリードもなく、加工性も良好であった。また、
このシート及びブロック共重合体無添加シートについて
表面固有抵抗値及び摩擦後の表面固有抵抗値を測定した
結果は、第5表に示すとおりであった。
第5表 第5表の注(第6表も同様): *1・・・興亜間会社のロータリー・スタテイ・ツク・
テスターを用い、回転数15 Or、p、+nで綿布を
用いて3分間摩擦後に測定した(測定環境は試験例1に
おけると同様)。
第5表から明らかなように、ブロック共重合体を配合し
たものは固有抵抗値が低く、しかも摩擦した後もその値
に殆んど変化がなかった。これに対し、ブロック共重合
体無添加物のシートは固有抵抗値が高く、しかも摩擦後
の同値はさらに高くなった。また、試験例1と同様の条
件で水洗した結果は、水洗前と全く変わらなかった。
試験例6 ポリメタクリル酸メチル樹脂100部と実施例2で得ら
れたブロック共重合体5部を酢酸エチルで溶解し、溶剤
成膜法によりフィルムを作成した。
得られたフィルムは着色がなく、ブリードもなかった。
そのフィルム、及びブロック共重合体を全く用いずに同
様にして成膜したフィルムについて表面固有抵抗値、及
び摩擦後の表面固有抵抗値を測定した。その結果は第6
表に示すとおりであった。
第6表 ブロック共重合体を配合したものは、表面摩擦をしても
表面抵抗値が殆んど変らず、非常に良好な帯電防止効果
を示した。また、その表面を試験例1におけると同一の
条件で水洗した後も、水洗前と全く変わらなかった。
試験例7 実施例2で得られたブロック共重合体30部を酢酸エチ
ル100部に分散させた分散液を、乾燥後の厚さが8μ
になるように、バーコーティングによりアクリル樹脂板
に塗布し、室温で2時間、さらに60℃に加熱して2時
間乾燥させた。得られた塗布アクリル樹脂板の表面固有
抵抗値、及び純水に対する接触角を測定した(7]11
1定環境は試験例1と同様)。その結果は第7表に示す
とおりてあった。
第7表 第7表の結果から明らかなように、ブロック共重合体を
塗布したものは、塗布しないものに較べて表面固有抵抗
値及び接触角が著しく低い。また、その表面を試験例1
におけると同一の条件で水洗した後に同様の特性を−I
IJ定した結果は、水洗前と全く変わらなかった。
試験例8 塗料用のアクリル樹脂ワニス(固形分30%の酢酸エチ
ル溶液)100部に、実施例2で得られたブロック共重
合体2部を混合し、予めエタノール洗浄をしたポリメタ
クリル酸メチル樹脂のシートに、フォードカップNα4
で19〜20秒の粘度でスプレー塗布し、60℃で1時
間乾燥した。得られた塗布シート、及びブロック共重合
体を添加しないアクリル樹脂ワニスを同様に塗布、乾燥
したシートについて試験例1におけると同様の試験をし
た結果は第8表に示すとおりであった。
第8表 第8表の結果から明らかなように、ブロック共重合体添
加ワニスを塗布したものは、無添加ワニスを塗布したも
のに較べて、表面固有抵抗値及び接触角がともに非常に
低い。また、その塗布表面を試験例1におけると同じ条
件で水洗したのち、同様の特性をJIIJ定した結果は
、水洗前と全く変わらなかった。
試験例9 ポリメタクリル酸メチル樹脂100部及び実施例4で得
られたブロック共重合体5部を使用し、そのほかは試験
例1におけると同様にしてシートを製造し、同様にして
表面特性を試験した。その結果は第9表に示すとおりで
あった。また、得られたシートは着色がなく、ブリード
もなく、加工性も良好であった。
第9表 第9表から明らかなように、ブロック共重合体を添加し
たものは、無添加物に較べて表面固有抵抗値及び接触角
とも非常に低い。また、表面を試験例1の場合と同一の
条件で水洗した結果は、水洗前と全く変わらなかった。
試験例10 メタクリル酸メチル樹脂粉末100部及び実施例4で得
られたブロック共重合体を使用し、そのほかは試験例1
におけると同様にしてシートを製造し、同様にして試験
をした。その結果は第1.0表に示すとおりであった。
また、得られたシートは着色がなく、ブリードもなく、
加工性が良好であった。
第10表 第10表から明らかなように、ブロック共重合体を添加
したものは、無添加物と較べて表面固有抵抗値及び接触
角ともに非常に低い。また、試験例1におけると同様に
して表面を水洗した結果は、水洗前と全く変わらなかっ
た。
試験例11 ポリメタクリル酸メチル樹脂100部及び実施例5で得
られたブロック共重合体を使用し、そのほかは試験例1
におけると同様にしてシートを製造した。得られたシー
トは、着色がなく、ブリードもなく、加工性も良好であ
った。また、試験例1におけると同様にして表面特性を
測定した結果は、第11表に示すとおりであった。
第11表 第11表から明らかなように、ブロック共重合体を添加
したものは、無添加物と較べて表面固有抵抗値及び接触
角とも非常に低い。また、シート表面を試験例1におけ
ると同一の条件で水洗した結果は、水洗前と金(変わら
なかった。
試験例12 塗料用のアクリル樹脂フェス(固形分30%の酢酸エチ
ル溶液)100部に、実施例3で得られたブロック共重
合体2部を混合したものを、予めエタノールで洗浄した
第12表に示す種々の基板に、フォードカップNo、4
で19〜20秒の粘度でスプレー塗布し、60℃で1時
間乾燥した。また、ブロック共重合体を添加しない同じ
フェスを、同様にして種々の基板に塗布し、同様にして
乾燥した。
得られた各塗布板の塗膜(アクリル樹脂塗膜)の基板と
の密着性を試験した。その結果は第12表に示すとおり
であった。
第12表 注) 試験方法は基盤目セロファンテープ剥離試験法に
よる。
第12表から明らかなように、アクリル樹脂にブロック
共重合体を添加したものは、無添加物と較べて各種の基
板に対する密着性が著しく向上し、表面(界面)改質効
果が得られた。また、フェスで被覆された各基板を25
℃の水道水に24時間浸漬した後に同様の密着性試験を
したところ、ブロック共重合体を添加したものも、添加
しないものも、浸漬前と全く変わらなかった。
出願人代理人  佐  藤  −雄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  下記一般式(イ)〜(ハ)で示される化合物群から選
    ばれた1種または2種以上の化合物(M^1)からなる
    高分子鎖と、下記一般式(ニ)〜(ヨ)で示される化合
    物群から選ばれた1種または2種以上の化合物(M^2
    )からなる親水性基含有高分子鎖とを有する、下記一般
    式( I )で表わされる親水性基含有AB型ブロック共
    重合体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式( I )中、Mは▲数式、化学式、表等があります
    ▼または ▲数式、化学式、表等があります▼であり、R^1は炭
    素数1〜 10の炭化水素基を、R^2は水素原子または炭素数1
    〜10の炭化水素基を、R^3はベンジル基、のアルキ
    ル基を示す)または炭素数1〜18のアルキル基を、示
    す。mおよびnは、何れも20〜5000の自然数であ
    る。) M^1は、下記の(イ)〜(ハ)のいずれかを示す。 (イ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる(メタ)アクリル酸エステル残基(式中、
    R^5は水素原子またはメチル基を、R^6は炭素数1
    〜18の炭化水素基、またはアルコキシ基もしくは水酸
    基で置換された炭素数1〜18の炭化水素基を、示す。 )、 (ロ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる芳香族ビニル残基 (式中、R^7は水素原子またはメチル基を、R^8は
    フェニル基またはアルキルフェニル基を、示す)(ハ)
    ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる脂肪酸ビニルエステル残基、 (式中、R^9は炭素数1〜18の炭化水素基を示す。 ) M^2は、下記のいずれかを示す。 (ニ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ホ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ヘ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ト)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
    アンモニウム塩 (チ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
    アンモニウム塩、 (リ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、またはその4級
    アンモニウム塩、 (ヌ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ル)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ヲ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ワ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (カ)▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる親水性基含有ビニル残基、 (ヨ)ビニルピロリドン残基 (上記一般式(ニ)〜(カ)各式中で、 R^1^0およびR^1^1は、それぞれ独立して、水
    素原子、メチル基または水酸基のいずれかを示す。 R^1^2は、炭素数1〜10のアルキレン基を示す。 Z^1およびZ^2は、それぞれ独立して、水素原子、
    アルカリ金属、アンモニウムまたは有機アミンのいずれ
    かを示す。 R^1^3、R^1^4およびR^1^5は、それぞれ
    独立して、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基また
    は−R^1^2SO_3Z^1(ここで、R^1^2お
    よびZ^1は、上記で定義されたR^1^2およびZ^
    1と同様に定義された意味を示す。)で表わされるスル
    ホン化アルキル基のいずれかを示す。 R^1^6は、水酸基を1個以上有する炭素数1〜18
    のヒドロキシル化アルキル基を示す。 R^1^7は、▲数式、化学式、表等があります▼また
    は ▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる(ポリ
    )アルキレ ングリコール基を示す。(ここで、aは1〜10の自然
    数を表し、Xは水素原子、−PO_3H_2、−PO_
    3HZ^1または−PO_3Z^1_2(ここで、Z^
    1は、上記で定義されたZ^1と同様に定義された意味
    を示す。)))
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Cited By (4)

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