JPH01144629A - 電子ビーム露光装置の直交度補正方法 - Google Patents
電子ビーム露光装置の直交度補正方法Info
- Publication number
- JPH01144629A JPH01144629A JP62303610A JP30361087A JPH01144629A JP H01144629 A JPH01144629 A JP H01144629A JP 62303610 A JP62303610 A JP 62303610A JP 30361087 A JP30361087 A JP 30361087A JP H01144629 A JPH01144629 A JP H01144629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coordinate
- electron beam
- point
- axis
- coordinates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子ビーム露光装置における直交度補正方法に関し、
補正の予備作業の簡素化および短時間化を目的とし、
ＸＹ動機構上にあって露光乾板を載置する乾板台の表面
に正確に直交するＸＹ軸を設定し、そのＸＹ座標の原点
と該原点から適宜の距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点お
よびＹ軸上のＹ軸指標点に、電子ビームの走査により位
置検出可能なマークを設け、ＸＹ動機構による移動およ
び電子ビームの走査により、上記原点の座標を（０，Ｏ
）としたときの、電子ビーム照射点を制御する側から見
たＸ軸指標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびＹ軸指標点
の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）を求め、座標（Ｘ、Ｙ）に電子
ビームを照射する際に、電子ビーム照射点を制御する側
の制御を、Ｘ ＋ （Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ 、 Ｙ ＋
（Ｙｘ／Ｘｘ） Ｘ 。
に正確に直交するＸＹ軸を設定し、そのＸＹ座標の原点
と該原点から適宜の距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点お
よびＹ軸上のＹ軸指標点に、電子ビームの走査により位
置検出可能なマークを設け、ＸＹ動機構による移動およ
び電子ビームの走査により、上記原点の座標を（０，Ｏ
）としたときの、電子ビーム照射点を制御する側から見
たＸ軸指標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびＹ軸指標点
の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）を求め、座標（Ｘ、Ｙ）に電子
ビームを照射する際に、電子ビーム照射点を制御する側
の制御を、Ｘ ＋ （Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ 、 Ｙ ＋
（Ｙｘ／Ｘｘ） Ｘ 。
とするように構成する。
（産業上の利用分野〕
本発明は、電子ビーム露光装置の直交度補正方法に関す
。
。
電子ビーム露光装置は、電子ビームによって露光乾板に
パターンを描画露光するものであり、例えば、半導体装
置製造のりソグラフィ技術に使用するホトマスクのパタ
ーン形成に用いられている。
パターンを描画露光するものであり、例えば、半導体装
置製造のりソグラフィ技術に使用するホトマスクのパタ
ーン形成に用いられている。
そしてその場合、複数のホトマスクのパターンが半導体
基板上に重ねられるため、相互のパターンが整合するよ
うに、個々のホトマスクのパターンのＸＹ軸は直交度が
重要になる。
基板上に重ねられるため、相互のパターンが整合するよ
うに、個々のホトマスクのパターンのＸＹ軸は直交度が
重要になる。
第４図は電子ビーム露光装置の概略側面図である。
第４図において、露光の対象となる乾板１は乾板ボール
ダ２を介してＸＹ動機構（ＸＹ子テーブル３上に載置さ
れる。電子ビーム４は、電子ビーム源５から出射し、電
子ヒーム制御機構６を通って乾板１を照射し露光する。
ダ２を介してＸＹ動機構（ＸＹ子テーブル３上に載置さ
れる。電子ビーム４は、電子ビーム源５から出射し、電
子ヒーム制御機構６を通って乾板１を照射し露光する。
ＸＹｖＪ機構３は乾板１をその面に沿ったＸＹ力方向任
意に移動させ、電子ビーム制御機構６は電子ビーム４を
集束させ且つ乾板１上の微小範囲（例えば２ＩＩｌ角）
内でＸＹ力方向任意に偏向させる。なお、７は電子ビー
ム４の照射点から出射する反射電子の強度を検出する反
射電子検出機構であり、露光の際の調整などに使用され
る。
意に移動させ、電子ビーム制御機構６は電子ビーム４を
集束させ且つ乾板１上の微小範囲（例えば２ＩＩｌ角）
内でＸＹ力方向任意に偏向させる。なお、７は電子ビー
ム４の照射点から出射する反射電子の強度を検出する反
射電子検出機構であり、露光の際の調整などに使用され
る。
乾板１の露光領域は例えば１００＋ｓｍ角といった大き
さである。このため、露光パターンの描画は、ＸＹ動機
構３による乾板１の移動制御と電子ビーム制御機構６に
よる電子ビーム４の偏向制御を併用した電子ビーム照射
点のＸＹ制御によって行われる。なお、このＸＹ制御は
、露光パターン情報を記憶させたメモリからの情報とＸ
Ｙ ｌｉ制御プログラムにより自動的に行われる。
さである。このため、露光パターンの描画は、ＸＹ動機
構３による乾板１の移動制御と電子ビーム制御機構６に
よる電子ビーム４の偏向制御を併用した電子ビーム照射
点のＸＹ制御によって行われる。なお、このＸＹ制御は
、露光パターン情報を記憶させたメモリからの情報とＸ
Ｙ ｌｉ制御プログラムにより自動的に行われる。
しかしながら、上記のＸＹ制御により描画された露光パ
ターンのＸＹ軸は、必ずしも正確に直交したものとなら
ず、直交度が経時的に変化するのを経験している。この
ため、乾板１が半導体装置を製造するためのポＩ・マス
クである場合には、先に述べた事情からこの直交度が正
確になるように、上記ＸＹ制御に補正を加える必要が生
ずる。
ターンのＸＹ軸は、必ずしも正確に直交したものとなら
ず、直交度が経時的に変化するのを経験している。この
ため、乾板１が半導体装置を製造するためのポＩ・マス
クである場合には、先に述べた事情からこの直交度が正
確になるように、上記ＸＹ制御に補正を加える必要が生
ずる。
上記の補正は、従来次のようにして行っている。
即ち、に記ＸＹＩＩＩ御の座標軸をＸ。Ｙｏ軸として、
第５図の平面図に示すように、無補正のＸＹ制御により
任意の乾板１に、ＸｏＹｏ座標における座標（０，Ｏ）
の点（原点）を示すマークパターン１】、座標Ｂ、Ｏ）
の点を示すマークパターン１２、座標（０，Ｉｔ）
の点を示すマークパターン１３を露光し、これを現像し
てから別途の測定器によりマークパターン１１〜１３の
位置を正確に測定して、Ｘｏ軸に原点で正確に直交させ
たＹｉ軸とＹｏ軸との間のずれを求める。その際、求め
るずれの精度が確保できるようにβの値を１００１ｍ程
度にする。
第５図の平面図に示すように、無補正のＸＹ制御により
任意の乾板１に、ＸｏＹｏ座標における座標（０，Ｏ）
の点（原点）を示すマークパターン１】、座標Ｂ、Ｏ）
の点を示すマークパターン１２、座標（０，Ｉｔ）
の点を示すマークパターン１３を露光し、これを現像し
てから別途の測定器によりマークパターン１１〜１３の
位置を正確に測定して、Ｘｏ軸に原点で正確に直交させ
たＹｉ軸とＹｏ軸との間のずれを求める。その際、求め
るずれの精度が確保できるようにβの値を１００１ｍ程
度にする。
そして、このずれを補正項として先に述べたＸＹ制御プ
ログラムに組み込むことによって所望のる ５ 補正が行われ昼よっにしている。
ログラムに組み込むことによって所望のる ５ 補正が行われ昼よっにしている。
しかしながら、上述した補正の方法は、補正項となるＹ
、軸とＹ。軸との間のずれを求めるまでの予備作業が煩
雑で長時間を要するため、多大の工数を要する問題があ
ると共に、ＸＹ制御プログラムに対する補正項の組み込
み頻度が例えば１回／１日といった程度に少なくなり、
直交度の経時的変化に対する補正の対応が不充分となる
問題がある。
、軸とＹ。軸との間のずれを求めるまでの予備作業が煩
雑で長時間を要するため、多大の工数を要する問題があ
ると共に、ＸＹ制御プログラムに対する補正項の組み込
み頻度が例えば１回／１日といった程度に少なくなり、
直交度の経時的変化に対する補正の対応が不充分となる
問題がある。
上記問題点は、電子ビーム露光装置において、ＸＹ動機
構上にあって露光乾板を載置する乾板台の表面に正確に
直交するＸＹ軸を設定し、このＸＹ座標の原点と該原点
から適宜の距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点およびＹ軸
上のＹ軸指標点に、電子ビームの走査により位置検出可
能なマークを設け、ＸＹ動機構による移動および電子ビ
ームの走査により、上記原点の座標を（０，０）とした
ときの、電子ビーム照射点を制御する側から見たＸ軸指
標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびＹ軸指標点の座標（
Ｘｙ、 Ｙｙ）を求め、座標（Ｘ、Ｙ）に電子ビームを
照射する際に、電子ビーム照射点を制御する側の制御を
、Ｘ 十（Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ 、 Ｙ ＋ （Ｙｘ／
Ｘｘ） Ｘ 。
構上にあって露光乾板を載置する乾板台の表面に正確に
直交するＸＹ軸を設定し、このＸＹ座標の原点と該原点
から適宜の距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点およびＹ軸
上のＹ軸指標点に、電子ビームの走査により位置検出可
能なマークを設け、ＸＹ動機構による移動および電子ビ
ームの走査により、上記原点の座標を（０，０）とした
ときの、電子ビーム照射点を制御する側から見たＸ軸指
標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびＹ軸指標点の座標（
Ｘｙ、 Ｙｙ）を求め、座標（Ｘ、Ｙ）に電子ビームを
照射する際に、電子ビーム照射点を制御する側の制御を
、Ｘ 十（Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ 、 Ｙ ＋ （Ｙｘ／
Ｘｘ） Ｘ 。
とする本発明の直交度補正方法によって解決される。
上記したＸ軸指標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびＹ軸
指標点の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）は、露光に使用する電子
ビーム露光装置を用いて直接に求められる。
指標点の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）は、露光に使用する電子
ビーム露光装置を用いて直接に求められる。
そして、この座標値が、前述のＸＹ制御プログラム（電
子ビーム照射点を制御するプログラム）に組み込む補正
項のデータとなるので、補正項を求める予備作業は簡素
化且つ短時間化される。
子ビーム照射点を制御するプログラム）に組み込む補正
項のデータとなるので、補正項を求める予備作業は簡素
化且つ短時間化される。
このことから、少ない工数で補正項の組み込み頻度を多
くすることが可能になり、直交度の経時的変化に対する
補正を十分に行うことが可能になる。
くすることが可能になり、直交度の経時的変化に対する
補正を十分に行うことが可能になる。
以下本発明による補正方法の実施例について第１図〜第
３図を用いて説明する。第１図は実施例を説明する平面
図、第２図は実施側のマークの平面図（ａｌと側断面図
（ｂｌ、第３図はマーク座標求めの説明図ｆ８） （ｂ
ｌである。
３図を用いて説明する。第１図は実施例を説明する平面
図、第２図は実施側のマークの平面図（ａｌと側断面図
（ｂｌ、第３図はマーク座標求めの説明図ｆ８） （ｂ
ｌである。
第１図において、乾板１を載置する乾板台、具体的には
第尋図図示の乾板ホールダ２、の表面の乾板１が占める
領域外に、正確に直交するＸＹ軸を設定し、そのＸＹ座
標の原点と、その原点からβ （１００ｍｍ程度）なる
距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点およびＹ軸上のＹ軸指
標点に、それぞれ電子ビームの走査により位置検出可能
なマーク２１〜２３を設ける。
第尋図図示の乾板ホールダ２、の表面の乾板１が占める
領域外に、正確に直交するＸＹ軸を設定し、そのＸＹ座
標の原点と、その原点からβ （１００ｍｍ程度）なる
距離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点およびＹ軸上のＹ軸指
標点に、それぞれ電子ビームの走査により位置検出可能
なマーク２１〜２３を設ける。
マーク２１〜２３は、適宜なもので良く、例えば、第２
図に示すように、２本の山形のストライプ２４をＸＹ軸
に対し４５度に傾斜させて交叉させ、中心点即ち頂きの
交点を、原点、Ｘ軸指標点、Ｙ軸指標点、に合致させた
ものである。
図に示すように、２本の山形のストライプ２４をＸＹ軸
に対し４５度に傾斜させて交叉させ、中心点即ち頂きの
交点を、原点、Ｘ軸指標点、Ｙ軸指標点、に合致させた
ものである。
そして、ホールダ２がＸＹ動機構３上にある際のマーク
２１〜２３の中心点座標は、２本のストライプ２４を過
るように電子ビーム４をＸ方向およびＹ方向に走査する
ことにより、その際の反射電子検出機構７の検出信号か
らり求めることができる。
２１〜２３の中心点座標は、２本のストライプ２４を過
るように電子ビーム４をＸ方向およびＹ方向に走査する
ことにより、その際の反射電子検出機構７の検出信号か
らり求めることができる。
即ち、第２図に示すマーク２１〜２３では、第３図（ａ
ｌに示すようなビーム走査により、反射電子検出機構７
の検出信号が第３図（ｂｌの如くストライプ２４を過る
ところで凹信号となり、二つの凹信号の間の中心点が求
める中心点座標のＸ座標となる。Ｙ方向についても同様
である。
ｌに示すようなビーム走査により、反射電子検出機構７
の検出信号が第３図（ｂｌの如くストライプ２４を過る
ところで凹信号となり、二つの凹信号の間の中心点が求
める中心点座標のＸ座標となる。Ｙ方向についても同様
である。
そこで、電子ビーム照射点を制御するＸＹ制御の座標軸
をＸＯＹＯ軸として、ＸＹ動機構３によるホールダ２の
移動および電子ビーム４の走査により、マーク２１中心
点の座標即ち原点の座標を（０，Ｏ）としたときの、Ｘ
ｏＹｏ座標におけるマーク２２中心点の座標即ちＸ軸指
標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびマーク２３中心点の
座標即ちＹ軸指標点の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）を求める。
をＸＯＹＯ軸として、ＸＹ動機構３によるホールダ２の
移動および電子ビーム４の走査により、マーク２１中心
点の座標即ち原点の座標を（０，Ｏ）としたときの、Ｘ
ｏＹｏ座標におけるマーク２２中心点の座標即ちＸ軸指
標点の座標（Ｘｘ、 Ｙｘ）およびマーク２３中心点の
座標即ちＹ軸指標点の座標（Ｘｙ、 Ｙｙ）を求める。
かくして得られた座標値Ｘｘ、 Ｙｘ、 Ｘｙ、 Ｙｙ
、は、所望の補正を施すために先に述べたＸＹ制御プロ
ダラムに組み込む補正項のデータとなる。
、は、所望の補正を施すために先に述べたＸＹ制御プロ
ダラムに組み込む補正項のデータとなる。
即ち、このデータの組み込みにより、露光パターン情報
を記憶させたメモリから座標（Ｘ、 Ｙ）の情報を受け
たＸＹ制御プログラムは、電子ビーム４の照射点をＸｏ
Ｙｏ座標における座標（Ｘ ＋ （Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ
、 Ｙ ＋ （Ｙｘ／Ｘｘ） Ｘ ）の点にするように
制御する。この照射点は、ＸＹ座標における座標（Ｘ、
Ｙ）の点に合致することから、所望の補正が実行される
ことになる。
を記憶させたメモリから座標（Ｘ、 Ｙ）の情報を受け
たＸＹ制御プログラムは、電子ビーム４の照射点をＸｏ
Ｙｏ座標における座標（Ｘ ＋ （Ｘｙ／Ｙｙ） Ｙ
、 Ｙ ＋ （Ｙｘ／Ｘｘ） Ｘ ）の点にするように
制御する。この照射点は、ＸＹ座標における座標（Ｘ、
Ｙ）の点に合致することから、所望の補正が実行される
ことになる。
そして、補正項のデータを求める回数が何回になっても
、マーク２１〜２３の配設は事前に一回行えば良い。
、マーク２１〜２３の配設は事前に一回行えば良い。
かくして、上述した補正の方法においては、補正項を求
める予備作業が簡素化且つ短時間化されるので、少ない
工数で補正項の組み込み頻度を多くすることが可能にな
り、直交度の経時的変化に対する補正を十分に行うこと
が可能になる。
める予備作業が簡素化且つ短時間化されるので、少ない
工数で補正項の組み込み頻度を多くすることが可能にな
り、直交度の経時的変化に対する補正を十分に行うこと
が可能になる。
なお、上記実施例では、マーク２１〜２３をホールダ２
に設けたが、乾板１をＸＹ動機構３のテーブルに直接載
置する場合には、マーク２１〜２３をそのテーブルに設
ければ良い。
に設けたが、乾板１をＸＹ動機構３のテーブルに直接載
置する場合には、マーク２１〜２３をそのテーブルに設
ければ良い。
以上説明したように本発明の構成によれば、電子ビーム
露光装置における直交度補正方法において、補正の予備
作業が簡素化且つ短時間化されて、少ない工数で直交度
の経時的変化に対する補正を十分に行うことを可能にさ
せる効果がある。
露光装置における直交度補正方法において、補正の予備
作業が簡素化且つ短時間化されて、少ない工数で直交度
の経時的変化に対する補正を十分に行うことを可能にさ
せる効果がある。
第１図は実施例を説明する平面図、
第２図は実施側のマークの平面図と側断面図、第３図は
マーク座標求めの説明図、 第４図は電子ビーム露光装置の概略側面図、第５図は従
来例を説明する平面図、 である。 図において、 ■は乾板（露光乾板）、 ２は乾板ホールダ（乾板台）、 ３はＸＹ動機構、 ４は電子ビーム、 ５は電子ビーム源、 ６は電子ビーム制御機構、 ７は反射電子検出機構、 １１〜１３はマークパターン、 ２１〜２３はマーク、 ２４は山形ストライプ、 Ｘ軸、Ｙ軸は正確に設定した直交座標軸、Ｘｏ軸、Ｙｏ
軸は電子ビー１． Ｘ Ｙ制御の座標軸、である。 Ｃぐ − 寸 Ｏす ＄ （０−）２ｆ２る２Ｊ （ｅ） 市′３ｒじ一乙奮に尤装置−の翁禾昭ト視１硝区弔 ４
邑 マー２ゾ巨オ宗じｎ′め３兇す月口 牛３ （イ） 徒床ぜ゛比説Ｈ訂る干面図 榮 ５ ■
マーク座標求めの説明図、 第４図は電子ビーム露光装置の概略側面図、第５図は従
来例を説明する平面図、 である。 図において、 ■は乾板（露光乾板）、 ２は乾板ホールダ（乾板台）、 ３はＸＹ動機構、 ４は電子ビーム、 ５は電子ビーム源、 ６は電子ビーム制御機構、 ７は反射電子検出機構、 １１〜１３はマークパターン、 ２１〜２３はマーク、 ２４は山形ストライプ、 Ｘ軸、Ｙ軸は正確に設定した直交座標軸、Ｘｏ軸、Ｙｏ
軸は電子ビー１． Ｘ Ｙ制御の座標軸、である。 Ｃぐ − 寸 Ｏす ＄ （０−）２ｆ２る２Ｊ （ｅ） 市′３ｒじ一乙奮に尤装置−の翁禾昭ト視１硝区弔 ４
邑 マー２ゾ巨オ宗じｎ′め３兇す月口 牛３ （イ） 徒床ぜ゛比説Ｈ訂る干面図 榮 ５ ■
Claims (1)
- 電子ビーム露光装置において、ＸＹ動機構上にあって
露光乾板を載置する乾板台の表面に正確に直交するＸＹ
軸を設定し、そのＸＹ座標の原点と該原点から適宜の距
離を取ったＸ軸上のＸ軸指標点およびＹ軸上のＹ軸指標
点に、電子ビームの走査により位置検出可能なマークを
設け、ＸＹ動機構による移動および電子ビームの走査に
より、上記原点の座標を（０、０）としたときの、電子
ビーム照射点を制御する側から見たＸ軸指標点の座標（
Ｘｘ、Ｙｘ）およびＹ軸指標点の座標（Ｘｙ、Ｙｙ）を
求め、座標（Ｘ、Ｙ）に電子ビームを照射する際に、電
子ビーム照射点を制御する側の制御を、Ｘ＋（Ｘｙ／Ｙ
ｙ）Ｙ、Ｙ＋（Ｙｘ／Ｘｘ）Ｘ、とすることを特徴とす
る電子ビーム露光装置の直交度補正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62303610A JPH01144629A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 電子ビーム露光装置の直交度補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62303610A JPH01144629A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 電子ビーム露光装置の直交度補正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01144629A true JPH01144629A (ja) | 1989-06-06 |
Family
ID=17923066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62303610A Pending JPH01144629A (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 電子ビーム露光装置の直交度補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01144629A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007292344A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | ボイラの運転方法 |
-
1987
- 1987-12-01 JP JP62303610A patent/JPH01144629A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007292344A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | ボイラの運転方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5884976A (ja) | 電子ビ−ム処理方法 | |
| US4322626A (en) | Method of electron beam exposure | |
| JPH09320931A (ja) | 結像特性計測方法及び該方法を使用する転写装置 | |
| US4264822A (en) | Electron beam testing method and apparatus of mask | |
| JP2000277425A (ja) | 電子線描画方法とその装置 | |
| JPS587823A (ja) | アライメント方法およびその装置 | |
| JPS6258621A (ja) | 微細パタ−ン形成方法 | |
| JP2950283B2 (ja) | 電子線アライメント方法及び装置 | |
| JP2865164B2 (ja) | 粒子線描画装置 | |
| JPH0282515A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| JPS61228626A (ja) | パタ−ン修正装置 | |
| JP2892068B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
| JPH04278516A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JPH07120618B2 (ja) | 粒子線描画方法 | |
| JPH07105322B2 (ja) | アライメント装置 | |
| JPH0630332B2 (ja) | 位置決め装置、及び該装置を用いた基板の位置決め方法 | |
| JPH06140309A (ja) | 電子ビーム露光方法 | |
| JPH04242919A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| JPS60238836A (ja) | パタ−ン検出方法と該方法を用いた投影光学装置 | |
| JPS636862B2 (ja) | ||
| JPS6232613B2 (ja) | ||
| JPS62160721A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JPH01283758A (ja) | 電子ビーム装置 | |
| JPS5914221B2 (ja) | 電子ビ−ム装置 | |
| JPH03104112A (ja) | 電子ビーム露光装置 |