JPH01153364U - - Google Patents

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JPH01153364U
JPH01153364U JP4920388U JP4920388U JPH01153364U JP H01153364 U JPH01153364 U JP H01153364U JP 4920388 U JP4920388 U JP 4920388U JP 4920388 U JP4920388 U JP 4920388U JP H01153364 U JPH01153364 U JP H01153364U
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gas
gas injection
electrode
introduction pipe
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JP4920388U
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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図a〜cはそれぞれ本考案におけるガス注
入板の構成例を示す簡略断面図、第2図a,bは
それぞれ同じくガス注入板の下面図及び第2図a
の―線断面図、第3図は本考案を適用できる
リアクテイブイオンエツチング装置の一例の構成
を示す説明図、第4図a〜cは本考案の作用の説
明図、第5図は従来におけるガス注入板の下面図
である。 1……真空室、2,3……上、下部電極、4…
…ガス注入板、5……ガス導入管、6……ウエー
ハ、7……細孔、8……メクラ栓、9……螺着孔
、10……細孔治具、11……高周波電源、12
……排気口、13……圧力制御弁、14……排気
装置、15……放射溝、17……リング状細溝。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空室1内に上、下部電極2,3を対向して配
    置し、上記電極2の下面にガス注入板4を取付け
    、上、下部電極2,3間に高周波電力を印加する
    と共に上部電極2のガス導入管5より反応ガスを
    導入しこのガス導入管5に連通するガス注入板4
    から反応ガスを注入しつつ排気して下部電極3上
    のウエーハ6のエツチングを行う装置において、
    ガス注入板4に多数の細孔7を設け、必要に応じ
    てこれらの細孔7の一部にメクラ栓8を施設せし
    めてなるプラズマエツチング装置。
JP4920388U 1988-04-11 1988-04-11 Pending JPH01153364U (ja)

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JPH01153364U true JPH01153364U (ja) 1989-10-23

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