JPH01157156U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01157156U JPH01157156U JP5421388U JP5421388U JPH01157156U JP H01157156 U JPH01157156 U JP H01157156U JP 5421388 U JP5421388 U JP 5421388U JP 5421388 U JP5421388 U JP 5421388U JP H01157156 U JPH01157156 U JP H01157156U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- ion beam
- ion
- transmission window
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図はこの考案の第１の実施例の説明図、第
２図はデイスクのスキヤン方向の動作状態を示す
説明図、第３図はイオンビームとデイスクの関係
を示す説明図、第４図はビーム電流の時間に対す
る特性図、第５図はこの考案の第２の実施例の説
明図、第６図はそのビーム電流の時間に対する特
性図、第７図は従来例の説明図である。 １……イオンビーム、２……デイスク、３ａ…
…被照射体固定部、３′……被照射体、５……タ
ーゲツト、７……電流計測手段、１０……イオン
ビーム透過窓。
２図はデイスクのスキヤン方向の動作状態を示す
説明図、第３図はイオンビームとデイスクの関係
を示す説明図、第４図はビーム電流の時間に対す
る特性図、第５図はこの考案の第２の実施例の説
明図、第６図はそのビーム電流の時間に対する特
性図、第７図は従来例の説明図である。 １……イオンビーム、２……デイスク、３ａ…
…被照射体固定部、３′……被照射体、５……タ
ーゲツト、７……電流計測手段、１０……イオン
ビーム透過窓。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 複数の被照射体固定部が周方向に設けられ
るとともに前記被照射体固定部の各々の回転中心
側にイオンビーム透過窓を形成したデイスクと、
前記被照射体固定部に固定された被照射体にイオ
ンビームを照射する時に前記デイスクを前記イオ
ンビームの全体が前記デイスクの周縁部から径方
向に離れた位置と前記イオン透過窓の回転中心側
の位置との間で径方向に並進するとともに前記デ
イスクを回転する駆動手段と、このデイスクに接
続されて前記イオンビームの照射により流れるビ
ーム電流を計測する電流計測手段とを備えたメカ
ニカルスキヤン型イオン注入装置。 (2) 複数の被照射体固定部が周方向に設けられ
るとともに前記被照射体固定部の各々の回転中心
側にイオンビーム透過窓を形成したデイスクと、
前記被照射体固定部に固定された被照射体にイオ
ンビームを照射する時に前記デイスクを前記イオ
ンビームの全体が前記デイスクの周縁部から径方
向に離れた位置と前記イオン透過窓の回転中心側
の位置との間で径方向に並進するとともに前記デ
イスクを回転する駆動手段と、前記デイスクの前
記イオンビームの照射側と反対側に設けられて前
記デイスクが並進することにより前記デイスクか
ら離れた前記イオンビームおよび前記イオンビー
ム透過窓を透過した前記イオンビームが照射され
るターゲツトと、このターゲツトに接続されて前
記イオンビームの照射により流れるビーム電流を
計測する電流計測手段とを備えたメカニカルスキ
ヤン型イオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5421388U JPH01157156U (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5421388U JPH01157156U (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157156U true JPH01157156U (ja) | 1989-10-30 |
Family
ID=31280148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5421388U Pending JPH01157156U (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01157156U (ja) |
-
1988
- 1988-04-21 JP JP5421388U patent/JPH01157156U/ja active Pending
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