JPH01158452A - 感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は感光体の製造方法に関し、例えば電子写真感光
体の製造方法に関するものである。

口、従来技術 カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表面
を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を消
去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによっ
て現像し、次いでそのトナー像を紙等に転写、定着させ
る。

一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄
化が施され、長期に亘って反復使用される。

従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性（耐環境性）においても良好であるこ
とが要求される。

従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体が広く用いられていた。

近年、電子写真感光体の感光層として、キャリア発生機
能とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望
する特性に照らして各機能を発揮する物質を広い範囲か
ら選択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用
化する動向にある。

このような機能分担型の有機感光体は従来主として負帯
電用として用いられ、特開昭６０−２４７６４７号に記
載されるように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、
この上に比較的厚いキャリア輸送層を設ける構成がとら
れている。

この理由は、負帯電使用の場合には、キャリアのうちホ
ールの移動度が大きいことから、ホール輸送性の材料を
使用でき、光感度等の点で有利であるのに対し、電子輸
送性の材料には優れた特性をもつものがほとんど無く、
あるいは発がん性、催奇性を有するので使用できないた
めである。

しかしながら、このような負帯電使用では、次の如き問
題があることが判明している。

（１）　　負のコロナ放電時、帯電器による負帯電時に
、雰囲気中に発生するオゾンの量が多く、環境条件の悪
化を生ずる。このため、イオン性物質の感光体表面への
吸着や、感光体表面の材質の劣化を招（ため、繰り返し
使用時に電位低下をきたし、画像の品質の低下の原因と
なり、感光体そのものの寿命にも影響する。また、コロ
ナ放電器の放電ワイヤが汚れ易い等の理由で、放電ムラ
、画像ムラが発生することもある。

（２）負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要
となるが、正極性のトナーは強磁性体キャリア粒子に対
する摩擦帯電系列からみて製造が困難である。

（３）　　光活性なキャリア発生層は極めて薄い層とし
て支持体上に設けられるため、支持体又は必要により設
けられる中間層の表面状態又は化学的作用等の影響を層
単位体積当たり篤くうけ、不安定となり易い。

そこで、有機光導電性物質を用いる正帯電用感光体が魅
力ある技術分野として検討されている。

かかる正帯電用感光体においては、前記負帯電用感光体
に比して帯電時のオゾンの発生が非常に少なく、現像に
供される負帯電性トナー構成が容易である等の利点があ
る。

この正帯電用感光体の構成については、例えば、キャリ
ア発生層上にキャリア輸送層を積層し、キャリア輸送層
を電子輸送能の大きい物質で形成した感光体は、正帯電
用として使用できる。しかし、前述したように、電子輸
送性の材料には優れた特性を有するものがほとんど無く
、あるいは環境的配慮から使用できないので、上述の構
成の感光体は実用的でない。例えば、キャリア輸送層に
電子輸送能をもたせるため、トリニトロフルオレノンを
含有させることが考えられるが、この物質には発がん性
があるため不適当である。そこで、現在、ホール輸送能
の大きいキャリア輸送層上にキャリア発生層を積層した
正帯電用感光体が使用されている。

かかる感光体の層形成に際しては、各層を薄膜でかつ均
一に層形成しなければならない、こうした塗布方法とし
ては、例えばスプレー塗布、デイツプ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布方法等が検討されている。

ここにおいて、従来、キャリア発生層又はキャリア発生
層上に設けられた保護層の塗布方法としては、一般にデ
イツプ塗布方法が行われていた。

しかし、キャリア発生層をデイツプ塗布する場合は下層
側のキャリア輸送層が溶解、膨潤し、界面が不均一とな
って画像欠陥を生じていた。保護層をデイツプ塗布した
場合も同様であった。

他方、キャリア発生層、保護層をスプレー塗布方法より
塗布形成することも行われている。しかし、この方法で
は、必ずしも良質な塗膜が得られず、気泡等の凸状欠陥
（突起）が生成して白ポチ等の画像欠陥となったり、感
度低下も招き、また生産性にも劣るため、量産化が困難
であった。

従って、かかる問題を解決しうる感光体製造方法が要望
されている。

ところで反転現像法はトナー像が形成される部分だけが
露光され、トナー像を形成する必要のない部分には露光
が与えられず表面電荷は残存したままである。

従って複写対象の主体が文字画像である場合には感光体
に対する光照射量密度が甚だ少なくすみ、感光体の光照
射による傷みを大いに軽減し実用上好ましい効用をもっ
ている。

一方、正負帯電性感光体のいずれの場合にも、一般に露
光に用いる光源は、通常種々の波長の光を数多く含む白
色光が用いられている。

他方、近年、画像情報を電気信号に変換し、疹電気信号
により駆動するレーザダイオード（Ｌ　Ｄ）、或いは発
光ダイオード（ＬＥＤ）等の光源体からの単色光を用い
て感光体を像露光して静電潜像を形成する技術が開発さ
れている。

かかる技術は例えば特開昭５７−１６５８４５号に記載
されている。該技術は、支持体上に中間層及びＳｅ系感
光層を設けた感光体を用い、該感光体上に電気信号によ
り変調されたレーザビームを露光して像形成を行うもの
である。しかし、前記レーザビームに対し充分に高感度
で耐用性の高い有機光導′電性感光体が得られていない
。

このレーザビーム等を用いる技術体系はプリンタへの用
途が拡がっている。このプリンタの技術分野は有機正帯
電性感光体の反転現像法に最も適した技術分野であり、
有用な有機光導電性感光体製造方法の出現が期待される
ゆえんである。

ハ０発明の目的 本発明の目的は、下層側の溶解による界面の乱れ、不均
一を防止し、塗膜中に気泡等の凸状欠陥が生成するのも
防止でき、かつ特に正帯電で使用するのに適した感光体
を製造できる、感光体の製造方法を提供することを目的
とする。

二４発明の構成 本発明は、キャリア輸送層上に少なくともキャリア発生
層を設けてなる惑、光体の製造方法において、 （ａ）　　基体上に少なくとも前記キャリア輸送層を形
成して被塗布体を作成する工程と、 （ｂ）しかる後にこの作成工程とは別に、前記被塗布体
の外周面に対向してホッパーエッジを設け、このホッパ
ーエツジに塗布液を供給して前記被塗布体と前記ホッパ
ーエツジとの間に塗布液ビードを形成し、この塗布液ビ
ードと接触させながら前記被塗布体を相対的に移動せし
めて前記キャリア輸送層上に別の塗布層を形成する工程
と を有する感光体の製造方法に係るものである。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図はキャリア輸送層上にキャリア発生層をスライド
ホンパー装置を用いて塗布している状態を示し、同図（
ａ）は断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の一部拡大図、
同図（Ｃ）はスライドホンパー装置を示す斜視図である
。

塗布液供給バイブ１４へと図示しないポンプにより塗布
に必要な量だけ供給された塗布液Ｓは、塗布液分配室１
２によって円周方向へと均一に分配され、分配スリット
１３を通過し、スライド面１７を円周方向に均一に流下
する。しかる後、塗布８Ｓはホッパーエッジ１６とキャ
リア輸送層２外周面との間にビードを形成する。このピ
ードとキャリア輸送Ｊｉ２とを接触せしめた状態で、導
電性基体１を矢印Ａの方向へと駆動すると、キャリア輸
送層２上にキャリア発生層３が塗布される。

なお、予め前工程において、円筒状導電性基体１上には
エンドレスにキャリア輸送層２が形成されている。なお
、第１図中１５は液受けである。

かかる塗布方法によれば、キャリア輸送層上にキャリア
発生層を塗布した場合にも、−旦塗布されたキャリア発
生層から速やかに溶媒が蒸発する。

従って、下層側にあるキャリア輸送層の溶解、潤滑を防
止でき、界面の乱れ、°不均一を防止できる。

むろん、スプレー塗布方法の如く塗布時に気泡を巻き込
むような機会もないことから、気泡等の凸状欠陥も生じ
ず、多孔質になるようなこともなく、良質で均一な塗膜
を塗布形成できる。

また、本例の装置においては、被塗布体の円周方向に継
ぎ目なく分配スリットが配置されているため、継ぎ目の
ない均一な塗膜が得られ、また膜厚は塗布液供給量、粘
度、導電性基体の移動速度により決定されるため、制御
可能であり、迅速塗布が可能で生産性が高い。

また、塗布に必要な量の塗布液を供給しているので、特
にキャリア発生層形成用塗布液のように液物性の変化し
易い塗布液を用いた場合にも、塗布液の物性変化を抑え
ることができ、有利である。

なお、キャリア発生層上に直接若しくは中間層を介して
保護層を塗布形成する際にも、第１図の装置を適用でき
、この場合にも良質で均一な塗膜が得られ、かつキャリ
ア発生層及び／又は中間層の溶解等を防止できる。この
点は後述する第２図〜第４図の塗布装置においても同様
である。

第２図は他のスライドホッパー装置を用いてキャリア輸
送層上にキャリア発生層を塗布形成している状態を示し
、同図（ａ）は断面図、同図価）は他のスライドホッパ
ー装置の斜視図である。

本例においては減圧室１５に空気排気管１８を接続した
点に特徴を有する。

即ち、空気排気管１８を通して減圧室１５内より空気を
排気し、雰囲気圧より減圧の状態としく好ましくは雰囲
気圧より１鵬■水柱〜３００＋ａｏ＋水柱の範囲内で減
圧とする。）、この状態でキャリア発生層３の塗布を行
う。

即ち、用意された塗布液の粘度からきまる膜厚範囲を下
回る膜厚で塗布する場合、塗布液粘度が高すぎる場合、
又塗布速度が高速となりすぎたりした場合に、円筒形基
材円周上にスライド面終端配分で塗布、された液が持ち
去られる時に、液の粘性により架橋部の液を上に持ち上
げようとする力が強く働いて円筒形基材とスライド面終
端唇部との間に形成される架橋が安定に存在することが
できなくなることがある。このように塗布速度の変動や
円筒形基材とスライド面終端との間隙の変動等の条件に
よって均一塗布が不可能になる場合がある。この点は、
第２図の装置を使用することにより、大きく改善される
。

第３図（ｎ）は更に他のスライドホッパー装置によりキ
ャリア輸送層上にキャリア発生層を塗布形成している状
態を示す断面図、同図価）は更に他のスライドホンパー
装置を示す平面図である。

本例においては、塗布液分配室１２に塗布液供給口１４
及び塗布液排出口１９が接続され、過剰の塗布液Ｓは排
出口１９より排出される。

第４図は押し出しホッパー装置によりキャリア輸送層上
にキャリア発生層を塗布している状態を示す断面図であ
る。

塗布液供給パイプ１４へと図示しないポンプより塗布に
必要な量だけ供給された塗布液Ｓは、塗布液分配室１２
によって円周方向へと均一に分配され、分配スリット１
３内を押し出され、ホッパーエッジ１６より均一かつ連
続的に流出してキャリア輸送層２との間に塗布液ビード
を形成し、これによりキャリア発生層３が塗布される。

ホッパーエツジ１６の長さは０．１〜１０１ＩＩｆｆｌ
、好ましくは０．５〜４ｉ＋＋ｓが良い。ホッパーエッ
ジの傾斜角は鉛直下方から３０度迄の範囲内がよく、鉛
直下方から２０度迄の範囲内とするのが更によい、ホッ
パーエッジの傾斜角が３０度を超えると塗布液の架橋が
短くなり、良好な塗膜を得にくくなる。

エンドレスに形成された連続面を有する被塗布体が円筒
形である場合塗布液分配スリン）が円形であり、この円
筒形基材直径よりやや大なる直径（０，０５〜１１大な
る直径）の円周状終端部をもち、かつ円錐状斜面をもつ
塗布装置を用いることによって好適に塗布できる。

塗布液分配室に塗布液を供給する塗布液供給手段として
パイプを用いることが好ましく、２つ以上のパイプを用
いてもよい。塗布液の安全性、均−性等のためには２つ
以上のパイプを用いてもよい。

スライド面終端部の径と被塗布体（円筒状）の外径との
間隙は０．０５〜ｌ１ｍ１１が好ましく、０．１〜０．
６■Ｉがより好ましい、スライド面の傾斜角は水平に対
して１０＠〜７０°が好ましく、２０＠〜４５″が更に
好ましい。

塗布液の粘度は０．５〜７００　ｃｐの範囲内が良く、
１〜５００　ｃｐが更に良い。

なお、塗布液が塗布液分配スリットから円周方向に均一
に流出するようにするためには、スライドホッパー装置
にあっては、分配室抵抗（Ｐｃ）と塗布液分配スリット
を流れるときのスリット抵抗（Ｐｓ）とがＰ　ｓ　／　
Ｐ　ｃ　≧８０で、より好ましくは１００〜１００．０
００の範囲であり、押し出しホッパー装置にあっては、
分配室抵抗（Ｐｃ）と、塗布液分配スリットを流れる際
のスリット抵抗（Ｐｓ）とがＰｓ　／Ｐｃ≧４０．より
好ましくは４０〜１００．０００の範囲内の関係に保た
れる事により、塗布液を安定且つ均一に塗布することが
可能である。

これら分配室抵抗（Ｐｃ）、スリット抵抗（Ｐｓ）は、
塗布液供給速度、粘度、供給圧に応じて決定すればよい
。

押し出しホッパー装置においては、ホッパーエツジは被
塗布体外径より０．０５〜ｌａ＋ａ＋大きく、より好ま
しくは塗布膜厚をｈｏ　ａｍとすると２ｈｏｍｍから４
ｂｏｍｍまでの範囲であり、塗布方向長さ０．１〜１０
ｍｍ、より好ましくは０．５〜４■−を有するものであ
るのが望ましい、また該ホッパーエッジはその上端より
鉛直下方及びそれより３０度までの範囲内で前記基材の
反対側に傾斜したものであり、より好ましくは鉛直下方
及びそれより２０度までの範囲内で傾いて延びるものが
よい。またホッパーエッジの傾斜が３０度を越えると塗
布液の架橋が短くなり、ビードが不安定となって良好な
塗布膜が得にくくなる。

塗布装置に供給された各塗布液は一旦各塗布液分配室に
溜められ、これに連結する各々の塗布液分配スリットに
塗布液を均一に分配するようにされるが、前記各塗布液
を前記各々スリ７）に均一に分配しかつ前記各々スリッ
トに分配された各塗布液を基材面に均一に塗布できるよ
うにするには、前記各々塗布液分配スリットに対する前
記各塗布液分配室の圧力損失比はスライド型のもので８
０以上であり、好ましくは８０〜１００，０００の範囲
内であり、また押し出し型のものでは、該圧力損失比は
４０以上であり、好ましくは４０〜１００．０００の範
囲内である。圧力損失が８０（スライド型）、および４
０（押し出し型）未満の場合は、塗布液の均一な分配及
び塗布ができにくくなり、両者共ｉｏｏ、ｏｏｏを超え
ると塗布液分配室を大きくするとか、スリン１を長くす
る必要が生じ装置構造上問題を生ずる。

塗布装置を用いて被塗布体に形成される塗布膜は、塗布
液ビードによる。即ち、塗布装置を離れる塗布液の層は
、その離れるときと同じ厚さの層で被塗布体に直接塗布
されるのではなくて、−度液溜り（塗布液ビード）を形
成し、このビードから被塗布体が塗布液を引きとってい
くのである。

従ってこの塗布液ビードによって形成される塗布膜は、
実際上、塗布装置から被塗布体に直接形成されるのでは
なく、塗布装置は単に塗布液ビードを維持し、被塗布体
はそのビードから塗布される。

該塗布液ビードの維持は、塗布液分配スリットを押し出
された塗布液又は液スライド部上を流下してきた塗布液
により、被塗布体とホッパーエッジとの間に架橋して形
成される。このビードによる塗布では、そのビードを横
切ってこれと交叉して移動する被塗布体上に塗布される
塗布膜の厚みは、ビードの作用によって決定され且つ被
塗布体が移動する速度、塗布液の供給速度および供給圧
、ホンバー構造の効率等によって変化する。

排出パイプより排出された塗布液は、例えば攪拌器によ
る攪拌等の処理を行った後、再び塗布液として供給パイ
プに供給されるように、塗布液を循環させるよう構成し
てもよい。

塗布液分配室内の塗布液を排出する塗布液排出口または
排出パイプに、塗布液の排出液量を規制するパルプを設
け、供給側だけによらず、排出側においても液量調節を
行うようにしてもよい。

塗布液の供給は、供給パイプから供給され、−部は塗布
液分配スリットを通じて塗布面に流出し、他の一部は排
出パイプにより排出され、この液の流れは連続的に行わ
れるが、塗布液の凝集時間を考慮して塗布液を一定時間
毎に供給するなど、塗布液供給を間欠的に行ってもよい
。

導電性基体の形状は円筒状だけでなく、エンドレスに成
形された帯状物であってもよく、更に他の形状であって
もよい。ただし、エンドレスに成形された連続周面を有
するものがよ、い。

また、塗布に際しては、被塗布体を移動せしめても良く
、ホッパー装置の方を移動せしめても良く、両者を移動
せしめてもよい。移動の方向にも特に限定はないが、鉛
直上下方向に両者が相対的に移動するのが好ましい。

ホッパー装置により被塗布体上にキャリア輸送層とは別
の塗布層を形成するに際しては、被塗布体に１本毎に塗
布層を形成してもよく、被塗布体を複数本連続してホン
パー装置内へと送り込み、連続的に塗布層を形成しても
よく、更には複数の被塗布体を予め接続し、一体化した
状態でホッパー装置内へと送り込み、一連の複数の被塗
布体上に塗布層を形成し、しかる後に被塗布体毎に分離
するようにしてもよい。

キャリア輸送層、中間層にはブレード塗布、デイツプ塗
布、スプレー塗布、スパイラル塗布、前述したスライド
ホッパー、押し出しホッパーによる塗布等の塗布方法が
適用できる。

次に、本発明の方法により製造される電子写真感光体に
ついて述べる。

第５図〜第８図はそれぞれ電子写真感光体の一例を示す
一部断面図である。

第５図の例においては、導電性基体１上にキャリア輸送
層２、キャリア発生層３が順次積層セしめられ、感光層
６が形成されている。

第６図の例においては、導電性基体１と感光層６との間
に中間層５が設けられている。

第７図の例においては、感光層６の上に耐剛性、耐傷性
の向上等を目的として保護層４が設けられている。

第８図の例においては、感光層６と導電性基体１との間
に中間層５が設けられ、かつ感光層６上に保護層４が設
けられている。

感光層６と保護層４との間に接着層を設けてもよい。

次に、感光体構成層の膜厚、処方について述べる。

保１ｉ１１層（ＯＣＬ）の厚みは０．１〜１０μｍ、好
ましくは０．５〜５μｍである。必要に応じて電子受容
性物質、キャリア輸送物質（ＣＴＭ）等を含有せしめて
もよい。

キャリア発生層（ＣＧＬ）の膜厚は第５図、第６図の例
においては０．１〜２０μｍが良り、０．２〜１０μｍ
が更に好ましい、第７図、第８図においては、０．１〜
５μｍが好ましく、０．２〜３μｍが更に好ましい。

キャリア発生層中にはキャリア輸送物質を含有せしめ、
正電荷を担持゛させることも可能である。

ＣＧＬにおいてＣＧＭがバインダ樹脂に含有される割合
は、バインダ樹脂１００に対して５〜２０〇−ｔ％、好
ましくは１０〜１００　ｗｔ％である。

ＣＧＭの含有割合がこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。

またＣＴＭを含有させる場合、ＣＴＭがバインダ樹脂に
対して含有される割合は、バインダ樹脂１００に対して
１０〜２００　ｗｔ％、好ましくは２０〜１５０賀ｔ％
である。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高（なり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

ＣＧＬ中にＣＴＭを含有させる場合のＣＧＭとＣＴＭと
の含有量比は、重量比で１０：１〜１：４０とするのが
好ましい。

キャリア輸送ＪｉｉＪ　（ＣＴＬ）中のＣＴＭの含有量
はバインダ樹脂１００当り２０〜２００　ｗｔ％、好ま
しくは３０〜１５０　ｗｔ％である。

ＣＴＭの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く残留
電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解性が悪
くなる。

形成されるＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、
特に好ましくは５〜３０μｍである。また、ＣＧＬとＣ
ＴＬの膜厚比は１：　（１〜３０）であるのが好ましい
。

次に、各感光体構成層の形成方法について述べる。

ＣＧＭ、ＣＴＭを含有するＣＧＬ、ＣＴＬは、ＣＧＭを
真空蒸着させる方法またはＣＧＭ、ＣＴＭを適当な溶媒
もしくは適当なバインダ樹脂溶媒溶液に溶解もしくは分
散懸濁せしめたものを塗布して乾燥させる方法により設
けることができる。

ＣＧＬ、ＣＴＬの形成に用いられる前記溶媒としては、
例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トル
エン、キシレン、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロ
ロエタン、ジクロロメタン、１．１．”２−）ジクロロ
エタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、酢
酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができる。

ＣＧＭＳＣＴＭを溶媒もしくはバインダ樹脂溶液に分散
懸濁させた塗料を塗布、乾燥してＣＧＬ、ＣＴＬを形成
する場合には、次の如き方法によって設けることが好ま
しい。即ち、前述のＣＧＭ。

ＣＴＭをボールミル、ホそミキサ等によって分散媒中で
微細粒子とし、バインダ樹脂を加えて混合分散して得ら
れる分散液が用いられる。この方法において超音波の作
用下に粒子を均一分散させることが好ましい。

前記ＣＧＭ、ＣＴＭを分散せしめてＣＧＬ、ＣＴＬを形
成する場合、当該ＣＧＭ、ＣＴＭは２μｍ以下、好まし
くは１μｍ以下の平均粒径の粉粒体とするのが好ましし
−０即ち、粒径があまり大きいと層中への分散が悪くな
る。

ただし、上記粒径があまり小さいと却って凝集し易く、
層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び繰り
返し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界があ
るから、平均粒径の下限を０．０１９ｍとするのが望ま
しい。

本発明に於いて、ＣＴＬは、ＣＴＭを前記と同様にして
（即ち、単独であるいはバインダ樹脂と共に溶解、分散
せしめたものを塗布、乾燥して）形成することができる
。

次に、各感光体構成層に使用できる物質について述べる
。

キャリア発生層中のＣＧＭは、電磁波を吸収してフリー
キャリアを発生するものであれば、無機顔料及び有機顔
料の何れも用いることができる。

ＣＧＭとして以下のものが例示される。

（１）　　無定型セレン、二方品系セレン、セレン−砒
素合金、セレン−テルル合金、硫化カドミウム、セレン
化カドミウム、硫セレン化カドミウム、硫化水銀、硫化
鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、無定型シリコン等の無機顔
料 （２）　　モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾ
ールアゾ顔料等のアゾ系顔料（３）アントラキノン誘導
体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘
導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体及び
イソビオラントロン誘導体等のアントラキノン系又は多
環キノン系顔料 （４）　　インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等の
インジゴイド系顔料 （５）　　チタニルフタロシアニン、バナジルフタロシ
アニン等の各種金属フタロシアニン、及びα型、β型、
τ型、τ型、ビ型、η型、ブ型等の無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン系顔料 （６）　　ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタ
ン顔料、キサンチン顔料及びアクリジン顔料等のカルボ
ニウム系顔料 （７）アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔料等
のキノンイミン系顔料 （８）　　シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン
憑顔料 （９）　　キノリン系顔料 ａΦ　ニトロ系顔料 −（１１）ニトロソ系顔料 （１２）ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（１３）
ナフタルイミド系顔料 （１４）ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン系
顔料 （１５）フルオレノン系顔料 （１６）スクアリリウム顔料 （１７）アズレニウム化合物 （１８）ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペ
リレン系顔料 更に、好ましいアゾ化合物、多環キノン系顔料の例につ
いて示す。これら化合物の具体例については特願昭６１
−１９５８８１号明細書に詳細に記載されている。

（Ｉ−１） Ｎ （Ｊ−５） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ’−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ”−Ｎ＝Ｎ−Ａ
Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ’−ＣＨ＝Ｃ）ｔ−Ａｒ”−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−Ａｒ”−Ｎ＝Ｎ−Ａ ＣＩ−７） （Ｉ−８） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ’−Ｎ＝Ｎ−Ａｒｚ−Ｎ＝Ｎ−Ａ（Ｉ
−９） Ａ−Ｎ　＝Ｎ　−Ａｒ’−Ｎ　＝Ｎ−Ａｒｚ−Ｎ＝Ｎ−
Ａｒ”−Ｎ六Ｎ−Ａ −Ｎ＝Ｎ−Ａ 〔但し、上記各−数式中、 Ａｒ’ｚ　Ａｒ”及びＡｒ”：それぞれ、置換若しくは
未置換の炭素環式芳香族 環基、 Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３：それぞれ、電子吸引性基及びＲ４又
は水素原子であって、 ＲＩ　、　Ｒ４の少な（とも １つはシアノ基等の電子 吸引性基、 Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　Ｘ （Ｘは、ヒドロキシ基、 Ｎ　ＨＳ　Ｏｚ　　Ｒ” く但、Ｒ６及びＲ７はそれ ぞれ、水素原子又は置換 若しくは未置換のアルキ ル基、Ｒ８は置換若しく は未置換のアルキル基ま たは置換若しくは未置換 のアリール基〉、 Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、 置換若しくは未置換のア ルキル基、アルコキシ基、 カルボキシル基、スルホ 基、置換若しくは未置換 のカルバモイル基または 置換若しくは未置換のス ルファモイル基（但、ｍ が２以上のときは、互い に異なる基であってもよ い。）、 Ｚは、置換若しくは未置換の炭 素環式芳香族環または置 換若しくは未置換の複素 環式芳香族環を構成する に必要な原子群、 Ｒ５は、水素原子、置換若しくは 未置換のアミノ基、置換 若しくは未置換のカルバ モイル基、カルボキシル 基またはそのエステル基、 Ａ　ｒ　’は、置換若しくは未置換のアリール基、 ｎは、１または２の整数、 ｍは、０〜４の整数である。）〕 また、次の一般式（Ｉｆ）群の多環キノン顔料もＣＧＭ
として使用できる。

一般式〔■〕　： （但、この−数式中、Ｘ′はハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、アシル基又はカルボキシル基を表わし、ｐは
０〜４の整数、ｑは０〜６の整数を表わす。） スクアリリウム顔料については特願昭６０−２５８５５
０号公報等に記載がある。

チタニルフタロシアニンについては特開昭６２−２４１
９８３号明細書に記載がある。

アズレニウム化合物については、特願昭６２−２５１１
８８号明細書に記載がある。

更に、特殊な無金属フタロシアニンについて、特願昭６
１−２９５７８４号明細書等に記載がある。

キャリア輸送物質は、カルバゾール誘導体、オキサゾー
ル誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体
、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾリジン誘
導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒ
ドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシロン誘導
体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導
体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジ
ン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体
、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導
体、スチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラ
セン等から選ばれた一種又は二種以上であってよい。

かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例は特願昭６１
−１９５８８１号明細書に記載されている。以下にその
数例を揚げる。

キャリア輸送物質としての次の一般式（ＩＩＩ）又は（
ＩＶ）のスチリル化合物が使用可能である。

−数式〔■〕　： ＲＩ　ＩＩ　　　　　　　　　　　　Ｒｔ　ｌ　Ｒｌ　
ｚ（但、この−数式中、 Ｒ９、Ｒ１０：置換若しくは未置換のアルキル基、了り
−ル基を 表わし、置換基としては アルキル基、アルコキシ 基、置換アミノ基、水酸 基、イ１０ゲン原子、アリ ール基を用いる。

Ａｒ’、Ａｒ’　：置換若しくは未置換のアリール基を
表わし、置換 基としてはアルキル基、 アルコキシ基、置換アミ ノ基、水酸基、ハロゲン 原子、アリール基を用い る。

Ｒ１、Ｒ′！＝置換若しくは未置換のアリール基、水素
原子を表 わし、置換基としてはア ルキル基、アルコキシ基、 置換アミノ基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール 基を用いる。） 一般式〔■〕　： Ｉ３ （但、この−数式中、 Ｒ′３：置換若しくは未置換のア リール基、 Ｒ′４：水素原子、ハロゲン原子、 置換若しくは未置換のア ルキル基、アルコキシ基、 アミノ基、置換アミノ基、 水酸基、 ＲＩＳ：置換若しくは未置換のア リール基、置換若しくは 未置換の複素環基を表わ す、） また、キャリア輸送物質として次の一般式〔Ｖ〕、・（
Ｖｌ）、（Ｖｌａ）、（ＶＩｂ）又は〔■〕のヒドラゾ
ン化合物も使用可能である。

一般式〔■〕　： （但、この−数式中、 Ｒ”およびＲＩ？：それぞれ、水素原子またはハロゲン
原子、 Ｒ１１ｌおよびＲ”：それぞれ、置換若しくは未置換の
アリール基、 Ａｒ’：置換若しくは未置換のア リーレン基を表わす、） 一般式〔■〕　： （但、この−数式中、 Ｒ”：置換若しくは未置換のア リール基、置換若しくは 未置換のカルバゾリル基、 または置換若しくは装置 換の複素環基を表わし、 Ｒ”ｌ、Ｒ１：水素原子、アルキル基、およびＲ１３ｒ
Ｉｔ換若しくは未置換の了り−ル基、または置換若 しくは未置換のアラルキ ル基を表わす。） （但、この−数式中、 Ｒ２４：メチル基、エチル基、２ 一ヒドロキシエチル基ま たは２−クロルエチル基、 ＲＩＳ：メチル基、エチル基、ベ ンジル基またはフェニル 基、 Ｒ”：メチル基、エチル基、ベ ンジル基またはフェニル 基を示す。

一般式（ｖｉｂ）： （但、この−数式中、Ｒｚ″は置換若しくは未置換のナ
フチル基ＳＲ”は置換若しくは未置換のアルキル基、ア
ラルキル基又はアリール基；Ｒ１９は水素原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基；Ｒ３０及びＲ”は置換若しくは
未置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基から
なる互いに同一の若しくは異なる基を示す、） 一般式〔■〕　： （但、この−数式中、 Ｒｏ：置換若しくは未置換の了 り−ル基または置換若し くは未置換の複素環基、 Ｒ１：水素原子、置換若しくは 未置換のアルキル基また は置換若しくは未置換の アリール基、 Ｑ：水素原子、ハロゲン原子、 アルキル基、置換アミノ 基、アルコキシ基または シアノ基、 ｎｅｏまたはｌの整数を表わ す、） また、キャリア輸送物質として、次の一般式〔■〕のピ
ラゾリン化合物も使用可能である。

−数式〔■〕　： 〔但、この−数式中、 ｌ：０又は１、 Ｒ”およびＲ３Ｓ：置換若しくは未置換のアリール基、 Ｒ″′：置換若しくは未置換の了 り−ル基若しくは複素環 基、 Ｒ”およびＲ”：水素原子、炭素原子数１〜４のアルキ
ル基、又は 置換若しくは未置換のア リール基若しくはアラル キル基 （但、Ｒ３〕およびＲ”は 共に水素原子であること はなく、また前記ｌが０ のときはＲ”は水素原子 ではない、）〕 更に、次の一般式（ＩＸ）のアミン誘導体もキャリア輸
送物質として使用できる。

一般式〔■〕　： （但、この−数式中、 Ａｒ”ｓ　Ａｒ’　：置換若しくは未置換のフェニル基
を表わし、置換 基としてはハロゲン原子、 アルキル基、ニトロ基、 アルコキシ基を用いる。

Ａｒ”　　：置換若しくは未置換のフ ェニル基、ナフチル基、 アントリル基、フルオレ ニル基、複素環基を表わ し、置換基としてはアル キル基、アルコキシ基、 ハロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリ ール基、アミノ基、ニト ロ基、ピペリジノ基、モ ルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換ア ミノ基を用いる。但、置 換アミノ基の置換基とし てアシル基、アルキル基、 了り−ル基、アラルキル 基を用いる。） 更に、次の一般式（Ｘ）の化合物もキャリア輸送物質と
して使用できる。

一般式〔Ｘ〕　： （但、この−数式中、 Ａｒ”　　：置換又は未置換のアリー レン基を表わし、 Ｒ”、Ｒ”、：置換若しくは未置換のアＲ”およびＲ”
　　　ルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、ま たは置換若しくは未置換 のアラルキル基を表わす、） 更に、次の一般式（ＸＩ）の化合物もキャリア輸送物質
として使用できる。

一般式（ＸＩ）　　： 〔但、コノ一般式中、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ４％及びＲ”は、
それぞれ水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ベンジ
ル基又はアラルキル基、Ｒ”及びＲ４＠は、それぞれ水
素原子、置換若しくは未置換の炭素原子数１〜４０のア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アリール基又はアラルキル基（但、Ｒ”と
Ｒ”とが共同して炭素原子数３〜ｌＯの飽和若しくは不
飽和の炭化水素環を形成してもよい。）Ｒ４９、Ｒ”、
Ｒ５Ｉ及びＲ％冨は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、ヒドロキシル基、置換若しくは未置換のアルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基、了り−ル基、アラル
キル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基又
はアリールアミノ基である。〕保護層、キャリア発生層
中に高分子有機半導体を含有せしめることもできる。

こうした高分子有機半導体のうちポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール又はその誘導体が効果が大であり、好ましく用
いられる。かかるポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体
とは、その繰り返し単位における全部又は一部のカルバ
ゾール環が種々の置換基、例えばアルキル基、互トロ基
、アミ／Ｍ、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によって置
換されたものである。

ＯＣＬ、ＣＴＬ、ＣＧＬのいずれか、若しくはそれらの
複数層に感度の向上、残留電位ないし反復使用時の疲労
低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質
を含有せしめることができる。

使用可能な電子受容性物質としては１１例えば無水琥珀
酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フ
タル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラブロム無水
フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フ
タル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラ
シアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、Ｏ−ジニ
トロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３．５−ト
リニトロンベンゼン、バラニトロベンゾニトリル、ピク
リルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、プ
ルマニル、２−メチルナフトキノン、ジクロロジシアノ
バラベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラ
キノン、トリニトロフルオレノン、９−フルオレニリデ
ンー〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ポリニト
ロ−９−フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロノ
ジニトリル〕、ピクリン酸、０−ニトロ安息香酸、ｐ−
ニトロ安息香酸、３．５−ジニトロ安息香酸、ぺンタフ
ルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル酸、３．５−ジニ
トロサリチル酸、フタル酸、メリット酸、その他の電子
親和力の大きい化合物の一種又は二種以上を挙げること
ができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や
、ＣＩ　ＣＮ。

Ｎｏ、等の電子吸引性の置換基のあるベンゼン誘４体が
特によい。

また更に表面改質剤としてシリコーンオイルを存在させ
てもよい。また耐久性向上剤としてアンモニウム化合物
が含有されていてもよい。

更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いてもよい。

好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベン
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。

また酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、了り−ルアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合
物等が挙げられる。

これらの具体的化合物としては、特願昭６１−１６２８
６６号、同６１−１８８９７５号、同６１−１９５８７
８号、同６１−１５７６４４号、同６１−１９５８７９
号、同６１−１６２８６７号、同６１−２０４４６９号
、同６１−２１７４９３号、同６１−２１７４９２号及
び同６１−２２１５４１号に記載がある。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる０例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１１００００ｐｐが好ま
しく、より好ましくは１０〜１１０００ｐｐである。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダ樹脂、同じ溶媒を使用して感光
体を形成することも可能であり、その場合、感光体の生
産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、同
じバインダ樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャリア
輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキャリ
アがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、それだ
け感光体の悪疫特性その他残留電位、メモリー特性等も
改善される。

更に又、同じバインダ樹脂、溶媒等が共通に使用できれ
ば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点がある。

そして、この場合にも前述したホッパー装置の特性によ
り、下層側であるキャリア輸送層の溶解が生じず、有利
である。

ＯＣＬ中には加工性及び物性の改良（亀裂防止、柔軟性
付与等）を目的として必要により熱可塑性樹脂を５０重
量％未満含有せしめることができる。

感光体の製造に使用可能なバインダ樹脂としては、例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シ
リコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加
型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの樹脂の繰り返し単
位のうち２つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙
げられる。

また、前記中間層は接着層又はバリヤ層等として機能す
るもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビニル
アルコール、エチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、Ｎ
−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。

電子写真感光体の製造に用いられる導電性基体としては
、主として下記のものが用いられるが、これらにより限
定されるものではない。

１）アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。

２）祇あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上に
、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミ
ネート若しくは蒸着によって設けたもの。

３）紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上に
、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズ等の導電
性化合物を塗布又は蒸着によって設けたもの。

本発明により製造される感光体をＬＤ、ＬＥＤ光源を使
用したプリンターに適用すれば、正の放電は雑音を与え
ないため有利である。また、反転現像時には負帯電感光
体のため開発された各種現像剤が使用でき、特にプリン
ター用途に適している。

以下、更に具体的な実施例につき説明するが、これによ
り本発明の実施の態様が限定されるものではない。

く塗布液の調製〉 まず、以下のようにして、塗布液を調製した。

キャリア　止層形　　・−布゛ １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）９００＋＋＋
ｆ、１．１．２−）ジクロルエタン１００Ｉｌｌの混合
溶媒中に、バインダ樹脂としてポリカーボネート（パン
ライトＬ−１２５０、奇人化成社製）６０ｇ及びＣＴＭ
として１，１−ビス（４−Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ−
２−メチルフェニル）ノルマルブタン３０ｇを溶解した
。

また、キャリア発生物質として４．１０−ジブロムアン
スアンスロン３０４＋をボールミル中で、２４時間粉砕
し、これに上記溶液を加えてボールミルで更に２４時間
分散し、粘度１５ｃｐのキャリア発生層形成用塗布液（
分散液）を得た。

キャリア替゛　　・　用゛・布２ １．２−ジクロルエタン９００ｒａ　１及び１．１．２
−トリクロルエタン１００ｍ　Ｉｔの混合溶媒中に、バ
インダ樹脂としてポリカーボネート（パンライトＬ−１
２５０、奇人化成社製）１００ｇ　、、ＣＴＭとして１
゜１−ビス（４−Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ−２−メチ
ルフェニル）ノルマルブタンＬｏＯｇ、及びメチルフェ
ニルポリシロキサン（信越化学社製）０．１ｇを溶解し
、粘度６０ｃｐのキャリア輸送層形成用塗布液を調製し
た。

晋　　　　　ノ　　　　　ｔ６−ｔＳ ｌ、２−ジクロルエタン９００ｔａ　Ｉｔ及び１．　１
．　２−トリクロルエタン１００ｔｓ　Ｉｔの混合溶媒
中に、バインダ樹脂としてポリカーボネート（パンライ
トＬ−１２５０、奇人化成社製）　１００ｇを溶解し、
粘度２Ｑｃｐの保護層形成用塗布液を得た。

く塗布実験〉 大旌拠上 前記キャリア輸送層形成用塗布液を塗布槽内に収容シ、
８０ｍｍφＸ　３５５＋＋＋ｍのアルミニウム製円筒状
導電性基体ドラム（以下、基体ドラムと呼ぶ、）を塗布
槽内へと浸漬し、基体ドラム上にデイツプ塗布により膜
厚１５μｍのキャリア輸送層を形成した。

次に、第１図に示す円形スライドホッパー装置を用い、
乾燥膜厚５μｍのキャリア発生層を上記キャリア輸送層
上に塗布形成した。

なお、基体ドラム上昇速度は５０ａ＋ｍ／ｓｅｃ、キャ
リア発生層形成用塗布液の供給速度は４４ｍｌ１／＠ｉ
ｎ、塗布時の膜厚５９μｍとした。

得られた電子写真感光体を目視で検査したところ、キャ
リア輸送層の溶解も生じず、界面が均一で、かつキャリ
ア発生層自体にも気泡等の凸状欠陥は見られなかった。

即ち、キャリア発生層は赤色を呈し、膜厚の不均一、塗
膜の不均一は色彩の濃淡となって現れるため、目視で検
査できるのである。

また、上記電子写真感光体をＫｏｎＬｃａ　Ｕ−ＢＬｘ
　１５５０改造機に搭載し、複写画像を評価したところ
、良好な画像が得られた。

大皿■叢 実施例１と同様の基体ドラム上た第１図の円形スライド
ホフバーを用いて膜厚１５μｍのキャリア輸送層を塗布
形成した。

なお、基体ドラム上昇速度は１００ｍ＋＊／ｓｅｃ　、
キャリア輸送層形成用塗布液の供給速度は１６６ｍ　ｌ
　／Ｌｎ、塗布時の膜厚１１０μｍとした。

次に、上記キャリア輸送層上に、実施例１と同様にして
膜厚５μｍのキャリア発生層を塗布形成した。

得られた電子写真感光体を目視で評価したところ、キャ
リア輸送層の溶解は生じず、均一かつ良好な塗膜が得ら
れた。また、この電子写真感光体をＫｏｎｉｃａ　Ｕ−
Ｂｉｘ　１５５０改造機に搭載し、実写評価をしたとこ
ろ、良好な画像が得られた。

大嵐貫主 実施例１と同様にして基体ドラム上にキャリア膜厚１μ
ｍの保護層を形成した。

なお、基体ドラム上昇速度は５０ｏ＋ｎ＋／ｓｅｃ、保
護層形成用塗布液の供給速度は１１　ｍ　ｌ　／１ａｓ
ｎｓ塗布時の膜厚１４μｍとした。

得られた電子写真感光体を目視で評価したところ、キャ
リア発生層の溶解や界面の不均一も生じず、良好な塗膜
が得られた。また、実施例１と同様に実写評価したとこ
ろ、画像欠陥の特にない良質の画像が得られた。

ル較貫上 実施例１と同様にして基体ドラム上にキャリア輸送層を
形成した。

次に、このキャリア輸送層上に、前記キャリア発生層を
使用してデイツプ塗布によりキャリア発生層を形成する
ことを試みた。しかし、塗布槽中への浸漬、引き上げを
行う間にキャリア輸送層の溶解が生じ、キャリア発生層
の塗膜も不均一となった。また、この感光体は実写評価
もできなかった。

此１粗ｌ 実施例１と同様にして基体ドラム上にキャリア輸送層を
形成した。

次に、前記キャリア発生層形成用塗布液を用いて、キャ
リア輸送層上に膜厚５μｍのキャリア発生層をスプレー
塗布により形成した。

なお、キャリア発生層形成用塗布液の供給速度１０　ｗ
ｈ　ｌ　／ｍａｉｎ、、エマ−の圧力は１．５　ｋｇ／
ａＪ、ノズル横送り速度は１０ｍｍ／ｓｅｃ、ノズルと
基体との距離は１０抛−とした。

この結果、キャリア発生層の溶解の少ない電子写真感光
体が得られた。しかし、この感光体をＫｏｎＬｃａ　Ｕ
４ｉｘ　１５５０改造機に搭載して実写評価したところ
、複写画像全面に亘って白斑点（白ポチ）が現れた。こ
れはキャリア発生層中に巻き込まれたエアーのためと思
われる。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではなく、種々変形が可能であ
る。

へ０発明の効果 本発明によれば、キャリア輸送層上に少なくともキャリ
ア発生層を設けてなる感光体の製造方法において、少な
くともキャリア輸送層の形成された被塗布体の外周面に
対向してホッパーエッジを設け、このホッパーエッジに
塗布液を供給して前記被塗布体と前記ホッパーエツジと
の間に塗布液ビードを形成し、この塗布液ビードと接触
させながら前記被塗布体を相対的に移動せしめて前記キ
ャリア輸送層上に別の塗布層を形成する工程を有してい
るので、別の塗布層を形成する際に塗布液ビードと被塗
布体表面とが接触する時間が短く、従って被塗布体の溶
解が生じず、被塗布体と別の塗布層との界面が不均一と
なることもなく、別の塗布層の塗膜が良好かつ均一とな
り、更に塗布速度の制御が可能で生産性も高い。

また、上記した別の塗布層の形成工程を、基体上に少な
くとも前記キャリア輸送層を形成して被塗布体を作成す
る工程とは別に行っているので、別の塗布層を形成する
際には被塗布体表面を所定の状態とすることができ、別
の塗布層を形成する際に被塗布体との界面が不均一とな
ることも防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は実施例を示すものであって、第１図（
ａ）はスライドホンパー装置を用いてキャリア輸送層上
にキャリア発生層を塗布している状態を示す断面図、同
図山）は同図（ａ）の一部拡大図、同図（Ｃ）はスライ
ドホッパー装置を示す斜視図、 第２図（ａ）は他のスライドホッパー装置を用いてキャ
リア輸送層上にキャリア発生層を塗布している状態を示
す断面図、同図中）は他のスライドホッパー装置を示す
斜視図、 第３図（ａｌは更に他のスライドホッパー装置を用いて
キャリア輸送層上にキャリア発生層を塗布している状態
を示す断面図、同図（ｂｌは更に他のスライドホッパー
装置を示す平面図、 第４図は押し出しホッパー装置を用いてキャリア輸送層
上にキャリア発生層を塗布している状態を示す断面図 である。 第５図、第６図、第７図、第８図はそれぞれ電子写真感
光体の一例を示す一部断面図である。 なお、図面に示す符号において ｔ　−・−・−・−・３電性基体 ２−・−一一−−−−−−キャリア輸送層３−・−−−
−−−−一−−−キャリア発生層４・−ｍ−−−−−−
・・・−保護層 ５・−−ｍ−−−・−・−・中間層 、　　　６−−−−−−−−−−・−感光層１２−・−
・・・−・塗布液分配室 １３−・・−−−−−−・−塗布液分配スリット１４・
−−−一−−−−−−−−−塗布液供給パイブ１５・・
・−・−ｍ−−−−−・減圧室（Ｓル←）１６−・−・
・−・・−ホッパーエツジ１７−・−一−−−−−−−
−・スライド面１１Ｌ−−−・−・−・−空気排気管 １９−一・・−・−排出管 ５−−−−−−−−一・−・−塗布液 である。 代理人　　弁理士　　逢　坂　　　宏 第２図 （Ｑ） （ｂ） 第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、キャリア輸送層上に少なくともキャリア発生層を設
   けてなる感光体の製造方法において、（ａ）基体上に少
   なくとも前記キャリア輸送層を形成して被塗布体を作成
   する工程と、 （ｂ）しかる後にこの作成工程とは別に、前記被塗布体
   の外周面に対向してホッパーエッジを設け、このホッパ
   ーエッジに塗布液を供給して前記被塗布体と前記ホッパ
   ーエッジとの間に塗布液ビードを形成し、この塗布液ビ
   ードと接触させながら前記被塗布体を相対的に移動せし
   めて前記キャリア輸送層上に別の塗布層を形成する工程
   と を有する感光体の製造方法。