JPS6352146A - 正帯電用電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に正帯電用感光体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、例えば電子写真感光体としては、セレン、酸化亜
鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を含有する感
光層を有する感光体が広く用いろれでいる。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することか近年活発に開発、研究さ
れている。

例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、ポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾールと２．４．７　、　　ｈリニトロ−
９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機感光体
について記載されている。しかしこの感光体は、感度及
び耐久性において必ずしも満足できる乙のではない。こ
のような欠点を改得するために、感光層において、電荷
発生機能と電荷輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
けることによ：つ、感度が高くて耐久性の大きい有機感
光体を開発する試みがなされている。

このような、いわば機能分離型の電子写真感光体におい
ては、各機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択
することができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。

こうしｆ二機能分離型の電子写真感光体に有効な電荷発
生物質として、従来数多くの物質が提案されている。無
機物質を用いる例としては、例えば特公昭４３−１６１
９８号公報に記載されているように、無定形セレンがあ
り、これは有機電荷輸送物質と組み合わせる。

また、有機染料や有機顔料を電荷発生物質として用いた
電子写真感光体ら多数提案されており、例えば、ヒスア
ゾ化合物を含有する感光層を有するものは、特開昭４７
−３７５４３号、同５５−２２８３４号、同５４−７９
６３２号、同５６−１１６０４０号各公報等により既に
知られている。

ところで、前記有機光導電性物質を用いた従来の感光体
は通常、負帯電用として使用されている。

この理由は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホール
の移動度が大きいことから、光感度等の面で有利なため
である。しかしながら、このような負帯電使用では、次
の如き問題があることが判明している。即ち、帯電器に
よる負帯電時に雰囲気中にオゾンが発生し易くなり、環
境条件を悪くするという問題がある。さらに他の問題は
、負帯電用感光体の現像には正極性のトナーが必要とな
るが、正極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦
帯電系列からみて製造が困難である二とである。

そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正帯電で使
用することが提案されている。例えば、電荷発生層上に
電荷輸送層を積層して感光体を形成する際、感光体表面
の正電荷を能率よく打消すため前記電荷輸送層に電子輸
送能の大きい、例えばトリニトロフルオレノンを使用し
ているが、該物質は発ガン性があり、公害上極めて不適
当である。

さらに正帯電用感光体として、米国特許第３６１５４１
４号明細書には、チアピリリウム塩（電荷発生物質）を
ポリカーボネート（バイングー樹脂）と共晶錯体を形成
するように含有させｆこものか示されている。しかしこ
の公知の感光体では、メモリー現象が大きく、ゴースト
も発生し易いという欠点がある。又米国特許第３３５７
９８９号明細書にも、フタロンアニンを含有せしめた感
光体が示されているが、フタロンアニン：よ結晶型によ
って特性が変化する上に、結晶型を厳密に制御しなけれ
ばならないという弊害があり、かつメモリー現象が大き
く、短波長感度が低いため前記短波長を含む可視光を光
源とする複写機には不適当なものとされる。

このように正帯電用感光体を得るための試みが種々行な
われているが、いずれも光感度、メモリー又は公害等の
点で改善すべき多くの問題点がある。

そこで光照射時ホール及び電子を発生する電荷発生物質
を含有する電荷発生層を上層（表面層）とし、ホール輸
送機能を有する電荷輸送物質を含む電荷輸送層を下層と
する積層構成の感光層を有する感光体を正帯電用として
使用することが考えられる。さらに又、前記電荷発生物
質と前記電荷輸送物質を含む単層構成の感光７層を有す
る感光体も正帯電用として使用可能と考えられる。なお
かかる正引：電用とされる感光体においては、溝造中に
例えば電子吸引性基を有する電荷発生物質を用いるよう
にすれば、感光体表面の正電荷を打消すｆこめの電子の
移動が早くなり、あ゛ｊ感度特性が得られることが考え
られる。

しかしながら、航記正帯電用感光体はいずれら電荷発生
物質を含む層が表面層；として形成されろため、光照射
、コロナ放電、湿度、特に機械的７擦等の外部作用に敏
感な電荷発生物質が前記表面層近傍に存在することとな
り、感光体の保存中及び像形成の過程で電子写真性能が
劣化し、画質が低下するようになる。

従来の電荷輸送１響を表面層とする負帯電用感光体にお
いては、前記各種の各部作用の影響は極めて少なく、む
しろ前記電荷輸送層が下層の電荷発生層を保護する作用
を存している。

これに反して正帯電用感光体の場合は表面、響とされる
電荷発生物質を含む層が外部作用、特に現像及びクリー
ニング等により機械的摩耗及び損傷をうけ、白ポチ、白
筋等の画像欠陥その低表面電位、感度、メモリー、残留
電位等の電子写真性能の劣化が生ずるようになる。

そこて、例えば絶縁性かつ透明な樹脂から成る薄い保護
層を設け、前記電荷発生物質を含む層を補強することが
考えられるが、光照射時発生する電荷が該保護層でブロ
ッキングされて光導電性が失なイっれるという問題があ
る。

また、表面層となる電荷発生層の膜厚を増すことにより
電荷発生層の耐摩耗性および耐傷性を高めることが考え
られるが、膜厚の増加が感度低下を沼くという問題があ
る。

〔発明の目的〕

従って本発明の目的は、有機光導電性物質を用いて正帯
電用として好適に構成され、耐傷性に優れ高感度で耐久
性があり、しかもオゾン酸化耐性にも勝る電子写真感光
体を提供することにある。

〔発明の構成および作用効果〕

本発明の目的は、導電性支持体上に電荷輸送層、電荷発
生層および必要に応じて保護層を順次積層した電子写真
感光体において、電荷発生層中に電荷輸送物質を含有し
、かつ電荷発生層中あるいは保護層中に下記一般式で示
されろ化合物を含有する正帯電用電子写真感光体によっ
て構成される。

一般式 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基または
アラルキル基を表し、Ｒ′はアルキル基を表す。

なお、電荷発生層の膜厚が２〜７μｍである場合に本発
明の効果がより発揮される。

従来の技術でも記述したように有機光導電性物質を用い
た正帯電用感光体においては、電荷発生層（以下、ＣＧ
Ｌと略すことがある）が表面層となるので耐傷性に欠け
、耐久性向上のためにはｃＧＬ膜厚を厚くする必要があ
る。しかしながろ、膜厚を厚くオると感度低下を引き起
こす。この感度低下を抑制する手段としてＣＧＬ中への
電荷輸送物質（以下、ＣＴＭと略すことがある）添加が
あるが、このＣＴＭは電荷発生物質（以下、ＣＧＭと略
すことがある）に比ベオゾン酸化を受は易い構造を有す
るので、オゾンにより容易に劣化され感光体の耐久性が
損われてしまう。

本発明者らは、オゾン劣化性の改良に関し鋭意検討の結
果、正帯電用感光体の表面層であるＣＧＬ中に本発明の
化合物を含有させることにより、上記劣化を著しく軽減
できることを見い出し本発明をなすに至った。

作用効果の詳細は不明であるが、オゾンがＣＧＬ中のＣ
ＴＭを劣化するより前に本発明の化合物に作用し、それ
以上のオゾン酸化をガードすることによりＣＴＭが保護
されるものと考える。

本発明の化合物は自身の酸化によってＣＴＭのオゾン劣
化を防止するので、必要に応じてＣＧＬ上に保護層（以
下、○ＣＬと略すことがある）を設けた感光体において
は、勿論ＣＧＬ中に添加されるが、ＣＧＬにも添加され
てよく、更にＣＴＭを主成分とする電荷輸送層　（以下
、ＣＴＬと略すことがある）にも添加されてよい。

以下、本発明をより具体的に詳述する。

前記一般式で示される本発明の化合物は６−アルキル−
２，３，５−トリメチル−ｐ−フェニμ〉ジアミン誘導
体である。

一般式において、アミン基を置換するＲが表すアルキル
基は直鎖でも分岐でしよく、好ましくは炭素原子数１〜
８のアルキル基で、具体的にメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｉ−ペンチル基、ヘキソル基、を−オクチル基等を挙げ
ろことができる。

これらの中でも、分岐アルキル基が好ましい。

Ｒが表すアリール基と、してはフェニル基が好ましく、
このフェニル基は置換基を有してもよい。

Ｒが表すアラルキル基としてはベンジル基、フェネチル
基等が挙げられ、これろの居も置換橋を有してもよい。

Ｒ′で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数１
〜１８のアルキル基で特に炭素原子数ｌ〜ｌ２の直鎖ア
ルキル基が好ましい。

本発明に好ましく用いられる化合物の代表的具体例を以
下に示すが、こ１ｔに限定されるものではない。

本発明の化合物の添加量は、ＯＣＬ中に用いられる場合
、ＣＧ　Ｌ中のＣＴＭに対して０．１〜１００重量％、
好ましくは１〜５０重量％、特に好ましくは５〜２５重
量％である。また、ＯＣＬ中に用いられる場合、ＯＣＬ
中のバインダー樹脂に対して０．１〜１００重量％、好
ましくは１〜５０重量％である。

次に本発明の感光体の構成を図面によって説明する。感
光体としては例えば第１図に示すように支持体ｌ　（導
電性支持体またはシート上に導゛這層を設けたもの）上
にＣＴＭと必要に応してバインダー樹脂を含有する電荷
輸送層２を下層とし、ＣＧＭ、ＣＴＭと必要に応じてバ
インダー樹脂を含有する電荷発生層３を上層とする積層
構成の感光層４を設けたもの、第２図に示すように第１
図の感光層の上に保護層（ＯＣＬ）４を設けたもの及び
第３図に示すように支持体上にＣＧ　ＭとＣＴＭと必要
に応じてバインダー樹脂を含有する単層構成の感光層４
を設けたもの、等が挙げられるか、第３図の単層構成の
感光層上にＯＣＬが設けられてもよく、また支持体と感
光層の間に中間習が設けられてもよい。

次に本発明に適する電荷発生物質としては、可視光を吸
収してフリー電荷を発生するものであれば、無機顔料及
び有機色素の何れをも用いることう１できる。無定形セ
レン、三方晶系セレン、セレン−砒素合金、セレン−テ
ルル合金、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、硫セ
レン化カドミウム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機
顔料の外、次の代表例で示されろような有機顔料を用い
てもよい。

（１）モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料
、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及びチアゾール
アゾ顔料等のアゾ系顔料。

（２）ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等のペリ
レン系顔料。

（３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロノ誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソヒオラントロン誘導体等
のアントラキノン系又は多環キノン系顔料 （、ｔ）インノボ誘導体皮びチオインジゴ誘導体等のイ
ンノコイド系顔料 （５）金属フタロンアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン系顔料 （６）　ジフェニルメタン系顔料、トリフェニルメタン
顔料、キサンチン顔料及びアクリノン顔料等のカルボニ
ウム系顔料 （７）アジン顔料、オキサノン顔料及びチアノン顔料等
のキノンイミン系顔料 （８）・シアニン顔料及びアゾメチン、顔料等のメチン
系顔料 （９）キノリン系顔料 （ｌＯ）ニトロ系顔料 （ｉｔ）　　ニトロソ系顔料 （１２）ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料（１３）
　　ナフタルイミド系顔料 （１４）　　ビスヘンズイミダゾール誘導体等のペリノ
ン系顔料 電子吸引性基を有する種々のアゾｊ領科が、５窪、メモ
リー現象、残留電位等の電子写真特性の良好さから用い
られるが耐オゾン性の点て多環キノン系顔料が最し好ま
しい。

詳細は不明であるが、おそらくアゾ基はオゾン酸化を受
は易く電子写真特性が低下してしまうが、多環キノン類
はオゾンに対して不活性であるためと思われる。

前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、例えば次
の例示化合物群（１）〜〔■〕で示されるものがある。

例示化合物群〔■〕： 例示化合物群〔■〕。

例示化合物群〔■〕： 例示化合物〔■〕： 例示化合物（Ｖ）・ また、以下の多環キノン顔料から成る例示化・ご物群（
ｖＩ）〜〔■〕はＣＧ〜ｉとして最も好ましく使用でき
る。　　　　　　　　　　　　　、７−１．７、。

以下余、７１ 例示化合物群（Ｖｌ） 例示化合物群〔■〕： 以ｔ′介−ｐ ？′ｙ 例示化合物群〔■〕・ 次に本発明で使用可能な電荷輸送物質としては、特に制
限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体
、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾ
コン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジ
ン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾ
リン誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘
導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナプリン誘導体、
ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘
導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニル
アントラセン等であってよい。

しかしながら光照射時発生するホールの支持体側への輸
送能力が浸れている外、前記キャリア発生物質との組合
せに好適なものが好ましく用いられ、かかるＣ　Ｔ　Ｍ
としては、例えば下記例示化合物群（ＴＸ）又は〔Ｘ〕
で示されるスチル化合物か使用される。

例示化合物群〔■〕： 例示化合物群（Ｘ） また、ＣＴ〜１として下記例示化合物群〔η〕〜（ＸＶ
）で示されるヒドラゾン化合物も使用可能である。

例示化合物群〔■〕 例示化合物群（ＸＩ［ｌ　）　： 例示化合物群ＣＸＶ　）　： ま几、ＣＴＭとして下記例示化合物〔Ｘ■〕で例示化合
物群〔Ｘ■〕： また、ＣＴ　Ｍとして下記例示化合物群〔Ｘ■〕で示さ
れるアミン誘導体も使用可能である。

例示化合物群〔Ｘ〜１〕二 以下余ｑ −り 次に本発明に用いられてよい保護層：よバインダーとし
て体積抵抗１０６Ω・ｃｍ以上、好ましくは１０１０Ω
・ｃｍ以上、より好ましくは１０Ｉ３Ω・ｃｍ以上の透
明樹脂か用いられる。又面記バインダーは光又は熱によ
り便化する樹脂を少なくとも５０重量％以上含有するも
のとされろ。

かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、例えば熱
硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エボキン樹脂、ウ
レタン１１指、尿素樹脂、フェノール樹脂、ポリニスチ
ル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性・桂
皮酸樹脂等又はこれらの共重合らしくは共縮合樹脂があ
り、その外電子写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂
の全てが利用される。又前記保護層中には加工性決び物
性の改良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要
により熱可塑性樹脂を５０重量％未、ｊぬ含有砂しめる
ことかでさる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポ
リプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エボキノ樹脂、ブチラール
樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、又はこれ
らの共重合樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有
機半導体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂
の全てつく利用される。

また面記保護層は、電子受容性物質を含何してもよく、
その池、必要によりＣＧ　Ｍを保護する目的で紫外線吸
収剤等を含有してもよく、前記ノ１イ　　゛ングーと共
に溶剤に溶解され、例えばディ、二ｌブ塗布、スプレー
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等により塗布・乾燥さ
れて２μｍ以下、好ましくは１μｍ以下の層厚に形成さ
れる。

本発明の、感光体の感光層の層構成は前肥り）ように積
層構成と単層構成とがめるが、電荷輸送、Ｖ、電荷発生
層または保護層には６変の向上、残留電位ないし反復使
用時の疲労低威等を目的として、ＩＮまたは２種以上の
電子受容性物質を含４丁せしめることができる。

本発明に使用可能な電子受容性物質としては、例えば無
水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸
、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラブ
ロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニト
ロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸
、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、
０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、！、３
゜５、−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニトリ
ル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラ
ニル、ブルマニル、２−メチルナフトキノン、ジクロロ
ジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ンニトロ
アントラキノン、トリニトロフルオレノン、９−フルオ
レノンデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ポ
リニトロ−９−フルオレノンデンー〔ジシアノメチレン
マロツノニトリル〕、ピクリン酸、０−ニトロ安息香酸
、ｐ−ニトロ安息香酸、３．５−ジニトロ安口、香酸、
ペンタフルオロ安９、香酸、５−ニトロサリチル酸、３
．５−ジニトロサリチル酸、フタル酸等が挙げられる。

本発明において感光層に使用可能なバインダー樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂
、ポリニスチルｆａｔ脂、アルキッド樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合
型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの
樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイノ酸共重合体樹脂等の
絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高
分子有機半導体が挙げられる。

次に前記感光層を支持する導電性支持体としては、アル
ミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金属
箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムなどを蒸
着したプラス千ツクフィルムあるいは導電性物質を塗布
し１こ紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使
用することかできる。

電荷輸送層は既述のＣＴＭを適当な溶媒に単独もしくは
適当なバインダー樹脂と共に溶解もしくは分散せしめた
乙のを塗布して乾燥させる方法により設ける。

ＣＴＬの形成に用いられる溶媒としては、例えばＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キルン
、モノクロルベンゼン、１．２−ジクロロエタン、ジク
ロロメタン、１，１．２−トリクロロエタン、テトラヒ
ドロフラン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等を挙げることができる。

形成されるＣＴＬの膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、
特に好ましくは５〜３０μｍである。

ＣＴＬ中のバインダー樹脂１００重量部当りＣＴＭか２
０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部とさ
４する。

ＣＴ　Ｍの含有割合がこれより少ないと光感度が悪く、
残留電位が高くなり易く、これより多いと溶媒溶解性が
悪くなる。

電荷発生層は、既述のＣＧ　ＭとＣＴ〉、１を別々に、
あるいは−緒に適当な溶剤に単独もしくは適当なバイン
ダー樹脂と共に溶解もしくは分散せしめたものを塗布、
乾燥してＣＴＬの場合と同様に形成することかできる。

上記ＣＧ　Ｍを分散せしめてＣＧＬを形成する場合、当
該ＣＧＭは２μ川以下、好ましくは１μｍ以下の平均粒
径の粉粒体とされるのが好ましい。即ち、粒径かあまり
大きいと層中への分散が悪くなると共に、粒子が表面に
一部突出して表面の平滑性が悪くなり、場合によっては
粒子の突出部分て放電か生じたり或いはそこにトナー粒
子が付置してトナーフィルミング現象が生じ易い。

ｒこたし、」−記粒径があまり小さいと却って：ｓｉ集
し易く、層の抵抗が上昇し１こり、結晶欠陥が増えて、
盛度汝び繰返し特性が低下し１こり、或いは？’ｆｉ　
＋１Ｉｌｌ化する上で限界があるから、平均粒径の下限
を００１μｍとするのが望ましい。

ＣＧ　Ｌば、次の如き方法によって設；することができ
ろ。即ち、記述のＣＯＮ２をボールミル、→；モミキサ
ー等によって分散媒中て微細粒子とし、バインダー樹脂
およびＣＴＭを加えて混合分散して得られる分散液を塗
布する方法である。この方法において超音波の作用下に
粒子を分散させると、均一分散が可能である。

ＣＧＬ中のバインダー樹脂１００重量当りＣＧＭが２０
〜２００重量部、好ましくは２５〜１００重量部とされ
、ＣＴＭが２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５
０重量部とされる。

ＣＧＭがこれより少ないと光感度が低く、残留電位の増
加を招き、又これより多いと暗減衰が増大し、かつ受容
電位が低下する。

以上のようにして形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましく
は１〜１０μｍ、特に好ましくは２〜７μｍである。

積層構成の場合、ＣＧＬとＣＴＬの膜厚比は１：（１〜
３０）であるのが好ましい。

前記単ＫＪｔｌ成の場合、電荷発生物質がバインダー樹
脂に含有される割合は、バインダー樹脂１００重量部に
対して２０〜２００重量部、好ましくは２５〜１００重
量部とされる。

電荷発生物質の含有割合がこれより少ないと光感度が低
く、残留電位の増加を措き、又これより多いと暗減衰及
び受容電位が低下する。

次に電荷輸送物質かバインダー樹脂に対して含有される
割合は、バインダー樹脂１００重量部に対して２０〜２
００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部とされる。

電荷輸送物質の含有割合がこれより少ないと光感度が悪
く残留電位が高くなり易く、又これより多いと溶媒溶解
性が悪くなる。

前記単層構成の感光層中の電荷発生物質に対する電荷輸
送物質の量比は重量比でｌ：３〜ｌ　２とするのが好ま
しい。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により説明するが、これにより本発
明の実施の態様が限定５れるらのではない。

実施例　１ アルミニウム箔をラミネートし１ニポリエステルフィル
ムより成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体（エスレック＼ＩＦ−ＩＱ、
漬水化学工業社製）よりなる厚さ０．１μｍの中間層を
形成した。

次いてポリカーボネート樹脂（パンライトＬ−１２５０
、音大化成社製）／’　ＣＴ　Ｍ　（ＩＸ　−７５）−
１００／　７５（重量比）を１６５重１％含有する１、
２−ジクロルエタン溶液を中ｆＬ’１Ｌ上にディップ塗
布し、１５μｍ厚の電ぐ輸送層を形成した。次に、ＣＧ
〜■として昇華し１こ４．ｌＯジブロムアンスアンスロ
ン（■−３）／パンライトＬ　−１２５０＝　１／２（
重量比）が９重量％にｒ；ろように１．２−ジクロルエ
タン中ボールミルで２４時′１１粉砕し、更に２４時間
分散した液にＣＴ　Ｍ　（ＩＸ−７５）をパンライトＬ
−１２５０に対して７５重量％およびＣＴ　Ｍに対して
０５重量％の例示化合物（６）を加えた。この溶液にモ
ノクロルベンゼンを加えて１．２−ツクＵ２ルヘンゼン
／モノクロルベンゼン−７／３（体Ｍｔ比）になるよう
調製した分散液を前記ＣＴ　Ｌ上にスプレー塗布し、乾
燥して５μｍの電荷発生層をニド釣戊し、積層（１が成
の感光層を有する本発明に係る感光体を得た。

比較例　１ 実施例１において、例示化合物（６）を除いた以外は実
血例１と全く同様にして比較の感光体を得に。

実施例　２ 実施例１において、例示化合物（６）に代えて例示化合
物（７）を用いｆこ以外は全く同様にして感光体を得た
。

実施例　３ 実施例１の例示化合物（６）を除いｆコ感光−（比較例
１の感光体に同し）上に、熱硬化性アクリル−メラミン
−エポキシ（１：ｌ　：１）樹脂１．５５重量部および
例示化合物（６）　０．１５５Ｆｍ部をモノクロルベン
ゼン／１．１．２−トリクロルエタン混合溶媒に溶解さ
せた塗布液をスプレー塗ｉ’ＩＴ　Ｌ、乾燥して１μｍ
厚の保護層を有する感光体を得ｆ二。

実施例　４ 実施例１の例示化合物（６）を除いた感光層上に、ノリ
コンバートコート用ブライマーＰＨ９１（東芝シリコン
社製）を０．１μｍとなるようにスプレー塗布し、更に
その上にシリコンハードコートトスガード５１０（東芝
シリコン社製）及び例示化合物（６）を樹脂１００重屯
部にたいして１０重量部となるよう添加しｆこ溶液をス
プレー塗布し、乾燥して１７重ｍｌ’７の保護層を形成
し感光体を得１こ。

実施例　５ アルミニウム箔をラミネートしたポリエステルフィルム
より成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体（エスレックＭＦ−１０、前出
）よりなる厚さ約０．１μｍの中間層を形成した。

次いでＣＴ　Ｌ用塗布液としてブチラール樹脂（エスレ
ノク１３Ｘ−１．積水化学社製）８重１％とＣＴ〜Ｉ　
　（ＩＸ−７５）　６重量％をメチルエチルケトンに溶
解して得られる塗布液を前記中間層上？こ塗布・乾燥し
て１０μｍ厚の電荷輸送層を形成した。次いてＣＧ　Ｘ
ｉ（■−７）　０．２９をペイントコンデショナ−（Ｐ
ａｉｎｔ　ＣｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒＳＲｅｄ　Ｄｅｖｉ
１社製）で３０分粉砕し、これにポリカーボネート樹脂
　（パンライトＬ　　Ｌ２５０、ｊ再出）を１，２−ジ
クロルエタン／１．１．２−トリクロルエタンを見合溶
媒に０．５重量％となるよう溶解させた溶液を８．３９
加えて３分間分散し、次いでこれにポリカーボネート樹
脂、ＣＴ＼＝Ｉ（ＩＸ−７５）および例示化合物（６）
をそれぞれ３３重（４％、２．６重量％および０．２６
重憤％とするよう１．２−ジクロルエタン／１，１．２
−トリクロルエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液１
９１ｇを加えてさらに３００分間分散た。かくして得ら
れた分散液を前記ＣＴ　Ｌ上にスプレー塗布し、かつ乾
燥して５μｍ厚の電荷発生層を形成し、積層構成の感光
層を有する感光体を得た。

比較例　２ 実施例５において例示化合物（６）を除いｆ二辺外は実
施例５と全く同様にして比較の感光体を得ｆコ。

実施例　６ 実施例５において、例示化合物（６）に代えて例示化合
物（７）を用いた以外は全ぐ同様にして感光体を得ｆこ
。

実施例　７ 実施例５の例示化合物（６）を除い、・二盛光３４　　
（比較例２の感光体に同じ）上に、実施例３と同様の例
示化合物（６）を含有する保護層を設置し、感光体を得
た。

実施例　８ 実施［す５の例示化合物（６）を除いｆ二感光層上に、
実施例、■と同（ηの例示化合物（６）を含有する保護
層を設置し、感光体を得た。

上記のようにして得られた感光体試料を次に示すオゾン
疲労試験機により耐オゾン性を評価した。

すなわち、静電試験機（川口電機製作新製５Ｐ−４２８
型）にオゾン発生器（日本オゾン株式会社製０−１−２
型）およびオゾンモニター（エバラ実業昧式会社製ＥＣ
−２００１型）を取り付けた装置を用いた。

オゾン層間９０ｐｐｔｑにおいて感光体を装着し、↓６
に■の電工を印加して５秒間のコロナ放電により感光層
を帯電さ什ｒ二後５秒間放置（この時の電位を初期電位
Ｖ０とする）し、次いて感光、１表面の照度が１４ルツ
クスとなる状態でタングステンランプよりの光を、１１
１射し、この操作を１００回くり返した。

１００回照射後の電位を■１とする時、ｖ、／ｖｏｘ１
００（％）で耐オゾン性を表しｆこ。Ｖ、／Ｖ、は１０
０回反復後の電位低下の程文を示す乙のであり、数値が
大きい程に子ましい。

別　　表 別表から本発明の感光体はいずれも耐オゾン性がすぐれ
ているのに対し、比較用感光体：よオゾン劣化が粁しい
ことが判る。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第３図は本発明の工：１７電用き光体の断
面図であるっ １・・支持体 ２・・電荷輸送層 ３・・・電荷発生層 ４・・感光層 ５・・・電荷輸送物質（Ｃ′ｒＭ） ６・・・電荷発生物質（ＣＧＭ） ７・・保護層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性支持体上に電荷輸送層、電荷発生層および
   必要に応じて保護層を順次積層した電子写真感光体にお
   いて、電荷発生層中に電荷輸送物質を含有し、かつ電荷
   発生層中あるいは保護層中に下記一般式で示される化合
   物を含有することを特徴とする正帯電用電子写真感光体
   。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基また
   はアラルキル基を表し、Ｒ′はアルキル基を表す。〕