JPS6093442A - 電子写真記録体基材等の塗布装置 - Google Patents
電子写真記録体基材等の塗布装置Info
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- JPS6093442A JPS6093442A JP20110483A JP20110483A JPS6093442A JP S6093442 A JPS6093442 A JP S6093442A JP 20110483 A JP20110483 A JP 20110483A JP 20110483 A JP20110483 A JP 20110483A JP S6093442 A JPS6093442 A JP S6093442A
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- Japan
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- coating
- base material
- liquid
- coating liquid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエンドレスに形成された連続面を有する暴利の
外面上に節液を同時にニー以上の重畳に均一に塗布する
電子写真記録体基材等の塗布装置に関する。
外面上に節液を同時にニー以上の重畳に均一に塗布する
電子写真記録体基材等の塗布装置に関する。
外面上への薄膜で均一な塗布に関してスプレー塗布法、
浸漬の血性、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の
方法が検討されている。特に電子写真感光体ドラムのよ
うな薄膜で均一な塗布については生産性のすぐれた塗布
装置を開発すべく倹約されている。しかしながら、従来
のエンドレスに形成された連続面を有する暴利への塗布
方法の装置においては、均一な塗膜が得られなかったシ
生産性が悪い等の短所があうた。
浸漬の血性、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の
方法が検討されている。特に電子写真感光体ドラムのよ
うな薄膜で均一な塗布については生産性のすぐれた塗布
装置を開発すべく倹約されている。しかしながら、従来
のエンドレスに形成された連続面を有する暴利への塗布
方法の装置においては、均一な塗膜が得られなかったシ
生産性が悪い等の短所があうた。
スプレー診血性ではスプレーガンよシ噴出したの鞘液滴
が該エンドレスに形成された連続面を肩する基材の外周
面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の
固形分濃度が上昇してしまい、それにともない塗布液滴
の粘度上昇がおこって液滴が面に到達した時、液滴が面
上を充分に広がらないため、あるいは乾燥固化してしま
った粒子が表面に刺着するため、塗布表面の平渭性の良
への液滴の到達率が１００係でなく部分的にも不均−で
あるため、膜厚コントロールが非常に回線である。史に
、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用す
る溶媒及び樹脂に制限がある。
が該エンドレスに形成された連続面を肩する基材の外周
面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の
固形分濃度が上昇してしまい、それにともない塗布液滴
の粘度上昇がおこって液滴が面に到達した時、液滴が面
上を充分に広がらないため、あるいは乾燥固化してしま
った粒子が表面に刺着するため、塗布表面の平渭性の良
への液滴の到達率が１００係でなく部分的にも不均−で
あるため、膜厚コントロールが非常に回線である。史に
、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため使用す
る溶媒及び樹脂に制限がある。
ブレード防血性、ロール塗布法は例えば円筒状基材の長
さ方向にグレードもしくはロールを配置し該円筒状基材
を回転させて内布を行ない円筒状基材を１回転させた後
ブレードもしくはロールを後退させるものである。しか
しながら、ブレードもしくはロールを後退させる際、糸
鞘液の粘性により、Ｏ布膜厚の一部に他の部分よシ厚い
部分が生じ、均一な命膜が得られない欠点がある。特開
昭５４−８７２２９号公報、％開開５４−１２８７４０
号公報には、ブレード塗布におけるブレードが真空と大
気の切換え可能なタンクもしくはシリンダー内のピスト
ンの運動の方向の変化とつながっておシ、フレードを後
退させる際前記真空側に切シ換えることによシ余剰な内
布液を吸い取シ均一なお膜を得るものである。しかしな
がら、均一な塗膜を得るためには１引するタイミングの
設定や吸引する塗布液邪の精密な制御が必要となるが、
この制御が複雑かつ困難であるなどの欠点がある。
さ方向にグレードもしくはロールを配置し該円筒状基材
を回転させて内布を行ない円筒状基材を１回転させた後
ブレードもしくはロールを後退させるものである。しか
しながら、ブレードもしくはロールを後退させる際、糸
鞘液の粘性により、Ｏ布膜厚の一部に他の部分よシ厚い
部分が生じ、均一な命膜が得られない欠点がある。特開
昭５４−８７２２９号公報、％開開５４−１２８７４０
号公報には、ブレード塗布におけるブレードが真空と大
気の切換え可能なタンクもしくはシリンダー内のピスト
ンの運動の方向の変化とつながっておシ、フレードを後
退させる際前記真空側に切シ換えることによシ余剰な内
布液を吸い取シ均一なお膜を得るものである。しかしな
がら、均一な塗膜を得るためには１引するタイミングの
設定や吸引する塗布液邪の精密な制御が必要となるが、
この制御が複雑かつ困難であるなどの欠点がある。
浸ｒＲ俤血性（特［ｓ昭４９−１３０７３６４公報参照
）は、上記におけるような顔面膜表面の平鋼性、伶布膜
の均一性の悪い点は改良される。しかじ内布膜厚の制御
がＯ血液物性（粘度、表面張ブハ密度）と魯布速度に支
配され塗布液物性の調整が非常にＮ要であシ、また魯布
速度も低く制限されるため生産性が悪い郷の欠点がある
。
）は、上記におけるような顔面膜表面の平鋼性、伶布膜
の均一性の悪い点は改良される。しかじ内布膜厚の制御
がＯ血液物性（粘度、表面張ブハ密度）と魯布速度に支
配され塗布液物性の調整が非常にＮ要であシ、また魯布
速度も低く制限されるため生産性が悪い郷の欠点がある
。
％開開５６−１５８６４号公報、特開昭５６−１５８６
５号公報、特開昭５６−１５８６６号公報には、円筒状
基材円周にあるクリアランスを持って配置されたかき取
υ刃を移動させ、〕布をおこなうため形成する膜厚はか
きＨ！ｌシ刃と円筒状基材のクリアランスによシ決定さ
れ、その膜厚はクリアランスの約１／２となシ均一な膜
厚を得るためには円筒状基材を回転させたシフリアラン
スを一足に保つためにかき取シ刃の作詩方法ｆＬ提案し
ている。式らにり１膜厚を変化させる場合においては飴
膜厚はクリアランスの約１／２となるため、必要とする
塗膜厚に応じたクリアランスを有するようなかき取シ刃
を用意する必要がお９、膜胛鼓史のたびに作業員は煩雑
な作業を強いられる。またかきｌレジ方の設妃精反が即
齢厚鞘匿りなるｌζめ精度に遊び（可変性）がなく、塗
布膜厚の倣し、５整が非常にむずかしい。
５号公報、特開昭５６−１５８６６号公報には、円筒状
基材円周にあるクリアランスを持って配置されたかき取
υ刃を移動させ、〕布をおこなうため形成する膜厚はか
きＨ！ｌシ刃と円筒状基材のクリアランスによシ決定さ
れ、その膜厚はクリアランスの約１／２となシ均一な膜
厚を得るためには円筒状基材を回転させたシフリアラン
スを一足に保つためにかき取シ刃の作詩方法ｆＬ提案し
ている。式らにり１膜厚を変化させる場合においては飴
膜厚はクリアランスの約１／２となるため、必要とする
塗膜厚に応じたクリアランスを有するようなかき取シ刃
を用意する必要がお９、膜胛鼓史のたびに作業員は煩雑
な作業を強いられる。またかきｌレジ方の設妃精反が即
齢厚鞘匿りなるｌζめ精度に遊び（可変性）がなく、塗
布膜厚の倣し、５整が非常にむずかしい。
本出願人は上記欠点′ｆ：力１（決ずべく塗布装置を先
に特願昭５７−７４０３０号として提案した。この先提
案技術の熟布装置によれば、エンドレスに形成された連
続面′を有する丞相への伶布力；均一な＠厚を得ること
が可能であり、精度の高い膜厚制御を迅速かつ容易に行
なうことができる０布装置である。しかし該ず第布装置
にあっては、一度の塗布工程で丞相に一層の塗膜しか内
布することができず、２以上の堕液を二層以上の重畳に
同時に塗布することはできない。従って該丞相に重畳塗
布する場合には上記内布工程にて一晶命布毎に乾燥させ
、さらに上記内布工程を繰ｐ返し行なわなけれは在らず
、その操作が極めて繁雑であった。
に特願昭５７−７４０３０号として提案した。この先提
案技術の熟布装置によれば、エンドレスに形成された連
続面′を有する丞相への伶布力；均一な＠厚を得ること
が可能であり、精度の高い膜厚制御を迅速かつ容易に行
なうことができる０布装置である。しかし該ず第布装置
にあっては、一度の塗布工程で丞相に一層の塗膜しか内
布することができず、２以上の堕液を二層以上の重畳に
同時に塗布することはできない。従って該丞相に重畳塗
布する場合には上記内布工程にて一晶命布毎に乾燥させ
、さらに上記内布工程を繰ｐ返し行なわなけれは在らず
、その操作が極めて繁雑であった。
本発明味上記にみられる欠点を解決すべく成されたもの
で、エンドレスに形成された連続面を有する基材へ一度
の内布工程で２以上の堕液を同時に二層以上の１畳に塗
布することを可能ならしめる内布装置を提供するもので
あシ、本発明のその他の目的ないし付随する目的は本明
細書の以下の記述によって明ら□かに、される。
で、エンドレスに形成された連続面を有する基材へ一度
の内布工程で２以上の堕液を同時に二層以上の１畳に塗
布することを可能ならしめる内布装置を提供するもので
あシ、本発明のその他の目的ないし付随する目的は本明
細書の以下の記述によって明ら□かに、される。
本発明の上記目的は、ホッパーエツジ（唇状部）が基材
周面を取囲むように且つ該基材周面との間に２以上の重
畳塗布液層からなるピードを架橋可能な間隙を維持する
ように、ホッパー装置が配置されており、該ホッパー装
置、には、前記内布液ビードの重畳層の各々に、内布液
を重畳の関係で供給する塗布液分配室が基材周面を取囲
むように設けられていることを特徴とする電子写真記録
体基材等の霞布装置によって達成される。
周面を取囲むように且つ該基材周面との間に２以上の重
畳塗布液層からなるピードを架橋可能な間隙を維持する
ように、ホッパー装置が配置されており、該ホッパー装
置、には、前記内布液ビードの重畳層の各々に、内布液
を重畳の関係で供給する塗布液分配室が基材周面を取囲
むように設けられていることを特徴とする電子写真記録
体基材等の霞布装置によって達成される。
本発明に係るＯ布装置は、エンドレスに形成された連続
面を肩する基材の外面上に内布する装置において、２以
上の塗布液分配室及びの鞘液分配室の各々につながる命
命液分配スリットの各々が連続であシ、各塗布液分配室
に鎚鞘液を供給する塗布液供給手段が各塗布液分配室に
連結してあ）、各そ血液分配スリットの内側に位置し、
塗布液分配スリットの各塗布液流出口の下側に連続して
下方斜めに傾斜し〃・クエンドレスに形成された連続面
を有する基材外寸よシや中太なる寸法において終端ｆ：
なすように構成された液スライド面を有し、エンドレス
に形成された連続面を有する基材外寸よＪ）０．０５〜
１ｍ大きく、液スライド面終端よ）下方に延びる長さｏ
、ｌ〜ｌｏｍ＋好ましくは０．５〜４■のホッパーエツ
ジ（唇状部）を有している塗布装置とするのがよい。又
前記唇状部は前記スライド面終端よシ鉛直下方及びそれ
よシ３０度迄０範題内で前記基材と反対側に傾斜したも
のであル、よシ好ましくは、鉛直下方及びそれよシ２ｏ
度迄のＲ卵内で傾いて延びるものである。
面を肩する基材の外面上に内布する装置において、２以
上の塗布液分配室及びの鞘液分配室の各々につながる命
命液分配スリットの各々が連続であシ、各塗布液分配室
に鎚鞘液を供給する塗布液供給手段が各塗布液分配室に
連結してあ）、各そ血液分配スリットの内側に位置し、
塗布液分配スリットの各塗布液流出口の下側に連続して
下方斜めに傾斜し〃・クエンドレスに形成された連続面
を有する基材外寸よシや中太なる寸法において終端ｆ：
なすように構成された液スライド面を有し、エンドレス
に形成された連続面を有する基材外寸よＪ）０．０５〜
１ｍ大きく、液スライド面終端よ）下方に延びる長さｏ
、ｌ〜ｌｏｍ＋好ましくは０．５〜４■のホッパーエツ
ジ（唇状部）を有している塗布装置とするのがよい。又
前記唇状部は前記スライド面終端よシ鉛直下方及びそれ
よシ３０度迄０範題内で前記基材と反対側に傾斜したも
のであル、よシ好ましくは、鉛直下方及びそれよシ２ｏ
度迄のＲ卵内で傾いて延びるものである。
唇状部の傾斜が３０度を蛸えると塗布液の架橋が短くな
シ、ビードが不安定となって良好な塗布膜が得にくくな
る。又塗布装置に供給された塗布液は一旦、各塗布液分
配室に溜められ、これに連結するめ血液分配スリットの
各々に塗布液を均一に分配するようにされるが、前記塗
布液を前記スリットに均一に分配しがり前記スリットに
分配された塗布液を基材面に均一に塗布できるようにす
るには、前記塗布液分配スリットに対する前記塗布液分
配室の圧力損失比は各々４０以上であシ、よシ好ましく
は４０−１００．０００の範囲内であるのがよい。圧力
損失が４０未満の場合は、各塗布液の均一な分配及び０
布ができにくくなり、１ｏｏ、ｏｏｏを紹えると各ら鞘
液分配室を大きくするとか、各スリットを長くする必要
が生じ、装置構造上問題を生ずる。
シ、ビードが不安定となって良好な塗布膜が得にくくな
る。又塗布装置に供給された塗布液は一旦、各塗布液分
配室に溜められ、これに連結するめ血液分配スリットの
各々に塗布液を均一に分配するようにされるが、前記塗
布液を前記スリットに均一に分配しがり前記スリットに
分配された塗布液を基材面に均一に塗布できるようにす
るには、前記塗布液分配スリットに対する前記塗布液分
配室の圧力損失比は各々４０以上であシ、よシ好ましく
は４０−１００．０００の範囲内であるのがよい。圧力
損失が４０未満の場合は、各塗布液の均一な分配及び０
布ができにくくなり、１ｏｏ、ｏｏｏを紹えると各ら鞘
液分配室を大きくするとか、各スリットを長くする必要
が生じ、装置構造上問題を生ずる。
本発明の塗布装置における２以上の重畳塗布液層の塗布
による塗膜は塗布液ピードによりて形成される。っまシ
俤布装置を離れる塗布液の層は、その離れるときの厚さ
と同じ厚さの層で基材に直接お布されるのではなくて一
度液溜り（ビード）になってから該基材に移るのである
。従ってこの塗布液ビードによって形成されるの膜は、
実際上伶布装置から基材に直接形成されるのではなく塗
布装置は単に塗布液ビードを維持し、丞相はそのビード
から塗布される。このビードによる塗布ではそのビード
を横切ってこれと交叉して移動する基材上に塗布される
俤膜の厚みは、ビードの作用によって決定され且つ丞相
が移動する速度、塗布液の供給速度、ホッパー構造の効
率等によって変化する。
による塗膜は塗布液ピードによりて形成される。っまシ
俤布装置を離れる塗布液の層は、その離れるときの厚さ
と同じ厚さの層で基材に直接お布されるのではなくて一
度液溜り（ビード）になってから該基材に移るのである
。従ってこの塗布液ビードによって形成されるの膜は、
実際上伶布装置から基材に直接形成されるのではなく塗
布装置は単に塗布液ビードを維持し、丞相はそのビード
から塗布される。このビードによる塗布ではそのビード
を横切ってこれと交叉して移動する基材上に塗布される
俤膜の厚みは、ビードの作用によって決定され且つ丞相
が移動する速度、塗布液の供給速度、ホッパー構造の効
率等によって変化する。
本発明の塗布装置は、エンドレスに形成された連続面を
有する基材が円筒形である場合塗布液分配スリットが円
形であシ該円筒形基材直径よシや中太なる直径（０，０
５〜！四大なる直径）のホッパーエツジ（円周状終端部
）をもち、かつ円錐状斜面をもり塗布装置を用いること
によって好適に塗布てきる。
有する基材が円筒形である場合塗布液分配スリットが円
形であシ該円筒形基材直径よシや中太なる直径（０，０
５〜！四大なる直径）のホッパーエツジ（円周状終端部
）をもち、かつ円錐状斜面をもり塗布装置を用いること
によって好適に塗布てきる。
本発明の小布装置によるの布は次のようにして行なわれ
る。即ち、電子写真感光体の如く、エンドレスに形成さ
れた連続局面を有する基材を塗布する場合において、該
基材を取シ囲むように且り該８面との間に間隙を維持す
るようにホッパーを設け、該間隙に、基材周面に対向す
るホッパーエツジ（唇状部）と基材周面とを架橋する塗
布液ビードを形成し、該ビードに対して、１つのめ鞘液
層が他の臨在液層を連続的に且つ同時に供給して、各個
別の層が明確な重畳関係に維持される如くなし、前記基
材をその周面が前記塗布液ビードと交叉し且つ接触する
ように連続的に移動させ、基材周面が、塗布液ビードの
重畳層の外端部に係合して結合層を同時に引出し同時重
畳塗布される。
る。即ち、電子写真感光体の如く、エンドレスに形成さ
れた連続局面を有する基材を塗布する場合において、該
基材を取シ囲むように且り該８面との間に間隙を維持す
るようにホッパーを設け、該間隙に、基材周面に対向す
るホッパーエツジ（唇状部）と基材周面とを架橋する塗
布液ビードを形成し、該ビードに対して、１つのめ鞘液
層が他の臨在液層を連続的に且つ同時に供給して、各個
別の層が明確な重畳関係に維持される如くなし、前記基
材をその周面が前記塗布液ビードと交叉し且つ接触する
ように連続的に移動させ、基材周面が、塗布液ビードの
重畳層の外端部に係合して結合層を同時に引出し同時重
畳塗布される。
以下、本発明の実施例を添付図面に従って詳細に説明す
る。しかし本発明は以下の実施態様に限定される、もの
ではない。
る。しかし本発明は以下の実施態様に限定される、もの
ではない。
第１図は本発明に係る塗布装置を示す一部断面斜視図、
第２図は基材へのＯ布状態を示す断面図である。
第２図は基材へのＯ布状態を示す断面図である。
各図において、１は塗布装置本体、２は塗布液を塗布す
るホッパー装置である。３Ａ、３Ｂは塗布液分配室で該
分配室３Ａ、３８には各々異なる塗布液８１，８２を供
給するバイブ４Ａ、４Ｂが連結されている。５Ａ、５８
Ｆｉ塗布液分配スリットで、端部を持たず基材外周を取
シ囲むように連続して形成されている。６Ａ、６ＢはＯ
布液流出口、７はスライド部、８はホツノ（−エツジ、
９は塗布液ビードである。
るホッパー装置である。３Ａ、３Ｂは塗布液分配室で該
分配室３Ａ、３８には各々異なる塗布液８１，８２を供
給するバイブ４Ａ、４Ｂが連結されている。５Ａ、５８
Ｆｉ塗布液分配スリットで、端部を持たず基材外周を取
シ囲むように連続して形成されている。６Ａ、６ＢはＯ
布液流出口、７はスライド部、８はホツノ（−エツジ、
９は塗布液ビードである。
各々異なるの血液８１．Ｓ２は、必要量たけ図示しない
ポンプによシバイブ４Ａ、４Ｂを介して各々分配室３Ａ
、３Ｂに供給される。そこで塗布液Ｓｌ 、８２は円筒
形ドラムの円周方向に分配され、分配スリン）５Ａ、５
Ｂを経て各々塗布液流出口５Ａ、５Ｂよりスライド部Ｔ
上に円周方向に均一に流出し、該ダスライド部１上を流
１しながら前記塗布液ＳＬ、８２は二層形成され、前記
液スライド部１を介してホッパーエツジ８よシ円筒形基
材１０の外周面１１との間に％橋してビードを形成し、
該ビードによって該基材外周面１１に二層の層状Ｌ１．
Ｌ２勺布される。
ポンプによシバイブ４Ａ、４Ｂを介して各々分配室３Ａ
、３Ｂに供給される。そこで塗布液Ｓｌ 、８２は円筒
形ドラムの円周方向に分配され、分配スリン）５Ａ、５
Ｂを経て各々塗布液流出口５Ａ、５Ｂよりスライド部Ｔ
上に円周方向に均一に流出し、該ダスライド部１上を流
１しながら前記塗布液ＳＬ、８２は二層形成され、前記
液スライド部１を介してホッパーエツジ８よシ円筒形基
材１０の外周面１１との間に％橋してビードを形成し、
該ビードによって該基材外周面１１に二層の層状Ｌ１．
Ｌ２勺布される。
本発明の好ましい実施態様では、ホッパーエツジ径と円
筒形基材外径との差は０．０５〜Ｌｍの範囲であるが、
好ましくは０．１〜０．６ｍの範囲である。又、スライ
ド部の傾斜角度は水平に対して１０〜７０°の範囲であ
ハよシ好ましくは２０〜４５゜の範囲である。
筒形基材外径との差は０．０５〜Ｌｍの範囲であるが、
好ましくは０．１〜０．６ｍの範囲である。又、スライ
ド部の傾斜角度は水平に対して１０〜７０°の範囲であ
ハよシ好ましくは２０〜４５゜の範囲である。
岡本装置において塗布される塗布液の粘度性０．５〜７
００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲で
ある。本装置において塗布された簡布膜は円筒形基材円
周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリット及びスライド
部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく
均一なものである。
００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲で
ある。本装置において塗布された簡布膜は円筒形基材円
周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリット及びスライド
部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく
均一なものである。
又印膜厚は塗布液供給量と円筒形の移動速度によシ決定
されるため容易にコントロールが可能であり同時に塗布
速度は浸漬法に比べはるかに速くできる。さらに該ホッ
パー装置は異なる数種類の塗布液に応じて複数設けても
よい。
されるため容易にコントロールが可能であり同時に塗布
速度は浸漬法に比べはるかに速くできる。さらに該ホッ
パー装置は異なる数種類の塗布液に応じて複数設けても
よい。
なお同図中、第１図及び第２図と同一符号で示した部分
は第１図及び第２図における該当符号が示す部材と同一
のものを示す。
は第１図及び第２図における該当符号が示す部材と同一
のものを示す。
臨在液分配室に塗布液を供給するの血液供給手段として
は上記実施例に示す如くパイプを用いることが好ましく
、また塗布液の安定性、均−性等のためには図示しない
が２以上の複数のパイプを用いてもよい。
は上記実施例に示す如くパイプを用いることが好ましく
、また塗布液の安定性、均−性等のためには図示しない
が２以上の複数のパイプを用いてもよい。
本発明の塗布装置においては、塗布液の粘度からきまる
膜厚範囲を下回る膜厚で塗布する場合、塗布液粘度が高
すぎる場合、又塗布速度が高速となシすぎたシした場合
に、該円筒形基材円周上にホッパーエツジで包布された
液が持ち去られる時に液の粘性によりビードの液金上に
持ち上けようとする力が強く働いて該円筒形基材とホッ
パーエツジとの間に形成されるビードが安定に存在する
ことができなくなることがわシ、これを防止するために
第３図に示す如く、ホッパーエツジ（唇状部）８と連続
面を有する基材１０との間に形成している鎚鞘液のビー
ドの下部に該ビードと円１町形基材１０と協働する減圧
室１２を設け、当該減圧室１２に連通する気体排出管１
３を設けて減圧室１２内を雰囲気気圧よシ負圧に保つよ
う減圧し冷血をおこなうようにした命布装置も好適に用
いることができる。
膜厚範囲を下回る膜厚で塗布する場合、塗布液粘度が高
すぎる場合、又塗布速度が高速となシすぎたシした場合
に、該円筒形基材円周上にホッパーエツジで包布された
液が持ち去られる時に液の粘性によりビードの液金上に
持ち上けようとする力が強く働いて該円筒形基材とホッ
パーエツジとの間に形成されるビードが安定に存在する
ことができなくなることがわシ、これを防止するために
第３図に示す如く、ホッパーエツジ（唇状部）８と連続
面を有する基材１０との間に形成している鎚鞘液のビー
ドの下部に該ビードと円１町形基材１０と協働する減圧
室１２を設け、当該減圧室１２に連通する気体排出管１
３を設けて減圧室１２内を雰囲気気圧よシ負圧に保つよ
う減圧し冷血をおこなうようにした命布装置も好適に用
いることができる。
この装置を用いれば、ビード下方に該ビード及び円筒形
基材１０表面一部を壁の一部として含む減圧室１２内よ
シ空気を排気管１３を通して排出し減圧室１２内圧を雰
囲気圧より負に（望ましく紘雰囲気圧よシ１■水柱〜３
００露水柱の範囲で低く）保って動弁するようにして制
御される。従って塗布速度の変動や円筒形先月とホッパ
ーエツジとの間隙の変動等による塗布が不均一となるこ
とを防止することができる。
基材１０表面一部を壁の一部として含む減圧室１２内よ
シ空気を排気管１３を通して排出し減圧室１２内圧を雰
囲気圧より負に（望ましく紘雰囲気圧よシ１■水柱〜３
００露水柱の範囲で低く）保って動弁するようにして制
御される。従って塗布速度の変動や円筒形先月とホッパ
ーエツジとの間隙の変動等による塗布が不均一となるこ
とを防止することができる。
以上、本発明の実施例では２つの塗布液を同時に重畳塗
布する場合について述べたが、３以上の塗布液を同時に
重畳塗布することもできる。
布する場合について述べたが、３以上の塗布液を同時に
重畳塗布することもできる。
本装置は薄膜で均一な魯布膜を要求する電子写真感光体
ドラム、静電記録体の製造、ローラー表面上への被覆、
エンドレス帯状物等の外周面への塗膜形成等に用いられ
、それらに制限されることはない。即ちエンドレスに形
成された連続面を有する基材の外面上の同時重畳塗布装
置として用いられる。Ｏ布はエンドレスに形成された連
続面を有する基材自体が移動しても塗布装置が移動して
も良く、史に基材（円筒形ドラム）を回転してもよい。
ドラム、静電記録体の製造、ローラー表面上への被覆、
エンドレス帯状物等の外周面への塗膜形成等に用いられ
、それらに制限されることはない。即ちエンドレスに形
成された連続面を有する基材の外面上の同時重畳塗布装
置として用いられる。Ｏ布はエンドレスに形成された連
続面を有する基材自体が移動しても塗布装置が移動して
も良く、史に基材（円筒形ドラム）を回転してもよい。
なお、本装置はホッパーエツジと円筒ｒ基材は、ある間
隙を持って配置されているため先月（円筒形ドラム）を
傷つけることがない。
隙を持って配置されているため先月（円筒形ドラム）を
傷つけることがない。
また本装置に使用される塗布液は、塗布に必要な量だけ
供給するため少量ですみ、溶液状態で含有される成分が
分解等変質し易いような不安定な液においても短時間で
塗布乾燥が行なわれるためイ］利である。
供給するため少量ですみ、溶液状態で含有される成分が
分解等変質し易いような不安定な液においても短時間で
塗布乾燥が行なわれるためイ］利である。
以上のように本発明の帛７５装置ｔよ、エンドレスに形
成された連続面上に傷つけることなく、性質の異なる２
以上の鎚鞘液を一度の俤布工程で同時に２以上の層状に
、しかも均一な膜厚が得られるよう塗布することが可能
でわシ、その膜厚制御も容易であシ、迅速かつ高い生産
性ケ有する。特に、時重Ｉｆａ塗布することが可能であ
る。
成された連続面上に傷つけることなく、性質の異なる２
以上の鎚鞘液を一度の俤布工程で同時に２以上の層状に
、しかも均一な膜厚が得られるよう塗布することが可能
でわシ、その膜厚制御も容易であシ、迅速かつ高い生産
性ケ有する。特に、時重Ｉｆａ塗布することが可能であ
る。
娼１図は本発明に係る塗布装置を示す一部断面斜視図、
第２図はエンドレスに形成された連続面を有する基材へ
の塗布状態を示す断面図、第３図は他の実施例を示す断
面図である。 図中ニオいて、１は節介装置本体、２はホッパー装置、
３Ａ、３Ｂは塗布液分配装置、４Ａ、４Ｂはパイプ、５
Ａ、５Ｂは動弁液分配スリット、６Ａ、６Ｂは小布液流
出口、７はスライド部、８はホッパーエツジ、９は塗布
液ピード、１０は基材、１１は基材外周面、１２は減圧
室、１３は緋出管、を特徴とする 特許出願人 小西六写真工業株式会社 酋 ２ 図 第 ３ 図
第２図はエンドレスに形成された連続面を有する基材へ
の塗布状態を示す断面図、第３図は他の実施例を示す断
面図である。 図中ニオいて、１は節介装置本体、２はホッパー装置、
３Ａ、３Ｂは塗布液分配装置、４Ａ、４Ｂはパイプ、５
Ａ、５Ｂは動弁液分配スリット、６Ａ、６Ｂは小布液流
出口、７はスライド部、８はホッパーエツジ、９は塗布
液ピード、１０は基材、１１は基材外周面、１２は減圧
室、１３は緋出管、を特徴とする 特許出願人 小西六写真工業株式会社 酋 ２ 図 第 ３ 図
Claims (1)
- 電子写真感光体基材の如く、エンドレスに形成された連
続周面を有する基材を移動させながら液を塗布するビー
ド塗布装置において、ホッパー再ツジ（唇状部）が基材
周面を取囲むように且つ該基材周面との間に２以上の重
畳の鞘液層からなるビードを架橋可能な間隙を維持する
□ように、ホッパー装置が配置されておシ、該ホッパー
装置には、的記俤鞘液ビードの重畳層の各々に、塗布液
を重畳の関係で供給する塗布液分配室が基材周面を取囲
むように設けられていることをｉ徴とする電子写真記録
体基材等の堕布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58201104A JPH067265B2 (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 電子写真記録体基材等の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58201104A JPH067265B2 (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 電子写真記録体基材等の塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6093442A true JPS6093442A (ja) | 1985-05-25 |
| JPH067265B2 JPH067265B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=16435464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58201104A Expired - Lifetime JPH067265B2 (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 電子写真記録体基材等の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH067265B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01158452A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Konica Corp | 感光体の製造方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4942343A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-04-20 | ||
| JPS49130736A (ja) * | 1973-04-17 | 1974-12-14 | ||
| JPS5487229A (en) * | 1977-12-23 | 1979-07-11 | Fujitsu Ltd | Coating device of photo sensitive drum for zerography |
| JPS54124039A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-26 | Agfa Gevaert Nv | Method and apparatus for providing multii layers on web by curtain coating |
| JPS54128740A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-05 | Fujitsu Ltd | Production of photosensitive drum for zerography |
| JPS5615864A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of applying coating material on peripheral surface of cylindrical-substrate |
| JPS5615865A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of applying coating material on peripheral surface of cylindrical substrate |
| JPS5615866A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of applying coating material to peripheral surface of cylindrical substrate |
-
1983
- 1983-10-28 JP JP58201104A patent/JPH067265B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS4942343A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-04-20 | ||
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| JPS54128740A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-05 | Fujitsu Ltd | Production of photosensitive drum for zerography |
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| JPS5615865A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of applying coating material on peripheral surface of cylindrical substrate |
| JPS5615866A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of applying coating material to peripheral surface of cylindrical substrate |
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|---|---|---|---|---|
| JPH01158452A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Konica Corp | 感光体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH067265B2 (ja) | 1994-01-26 |
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