JPH0116362B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0116362B2
JPH0116362B2 JP2882183A JP2882183A JPH0116362B2 JP H0116362 B2 JPH0116362 B2 JP H0116362B2 JP 2882183 A JP2882183 A JP 2882183A JP 2882183 A JP2882183 A JP 2882183A JP H0116362 B2 JPH0116362 B2 JP H0116362B2
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
image
bit
reduced
image memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2882183A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59154307A (ja
Inventor
Koji Uchiumi
Hideo Kikuchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP58028821A priority Critical patent/JPS59154307A/ja
Publication of JPS59154307A publication Critical patent/JPS59154307A/ja
Publication of JPH0116362B2 publication Critical patent/JPH0116362B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/024Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of diode-array scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はパターン幅の測定方式に関し、たとえ
ば印刷配線板用フオトマスクのパターン幅の測定
方式に関するものである。 従来、印刷配線板製造工程の一過程で行われる
フオトマスクの検査は自動化がなされていない。
そのため、作業者がルーペ・座標測定機等を用い
目視により多大な工数を費して検査を行なつてい
るが、目視検査であるためフオトマスクの欠陥検
出率が低く2重・3重の検査がなされてきた。 この検査項目の一つであるフオトマスクのパタ
ーン幅の測定は、近年、印刷配線板の製造技術の
向上に伴い、急速に高密度化がなされ、パターン
幅も微細になり、その検査規格はさらに厳しくな
つてきている。そのため作業者の検査工数および
疲労度は以前に増して増え、また個人差による測
定のバラツキも無視できない状態にある。 本発明の目的は、かかる従来の問題点を解決し
たフオトマスクのパターン幅測定方式を提供する
ことにある。 本発明によれば印刷配線板用フオトマスクパタ
ーンの二値化画像を実時間で第1画像メモリに記
憶すると同時に第1画像メモリより画像の一部を
切出し、各ビツトの状態の組合せにより1ビツト
縮小処理を行い、結果を次段の画像メモリへ出力
する一連の、画像の記憶・切出し・縮小の処理を
第N画像メモリに記憶されるまでN回行ない得ら
れたN個の1ビツト毎に縮小された画像各々に対
し実時間で画像の一部を切出し各ビツトの状態の
組合せでパターン消去判定を行い、第X画像メモ
リより消去判定信号が出力された場合のパターン
幅をXビツトと判定することを特徴とするパター
ン幅測定方式が得られる。 以下、本発明の一実施例を図面により詳細に説
明する。第1図は、パターン縮小処理過程の説明
図である。1〜Kビツトを持つ受光素子で構成さ
れる一次元光センサー1を受光素子の列方向に対
して垂直方向に定ピツチで移動させながら一次元
センサー1でフオトマスクを光学的に読み取り、
二値化(パターン部を“1”、余白部を“0”と
する)した画像信号を実時間でKビツトのシフト
レジスタ2列と3ビツトシフトレジスタで構成さ
れる第1画像メモリ2−1に記憶する。同時に、
2ビツト×2ビツトで二値化された画像を切り出
し、パターン縮小回路3−1で処理した結果を2
画像メモリ2−2へ出力する。第2画像メモリ2
−2には、パターンの1ビツト縮小された画像が
記憶されている。さらに第2画像メモリ2−2に
ついても同様に2ビツト×2ビツトで画像の切出
しを行ないパターン縮小回路3−2で処理し、さ
らに1ビツトパターンを縮小して第3画像メモリ
2−3へ出力する。以下同様の処理をN回繰り返
し、第N画像メモリ2−Nに記憶するまで行な
う。この処理により被検査パターンの画像から、
Nビツト縮小した画像まで、1ビツト縮小される
毎のパターンを全て実時間で記憶することがで
き、かつ実時間で読み出すことが可能となる。 第2図、第3図はパターン縮小回路の説明図で
ある。画像メモリより切り出された4個の画像の
単位ビツト4−1〜4−4に対して全てのビツト
が、パターンである場合に限り縮小処理回路3a
はパターン信号を次段に出力する。しかしながら
全ての縮小操作に第2図のパターン縮小回路3a
を適用すると第1表の(1)、(2)に示すように、水
平・垂直パターンに対しては、1ビツトづつ縮小
されるが、斜め45゜のパターンに対しては、その
縮小割合が√2ビツトづつとなり、水平・垂直パ
ターンよりも急速に縮小が行なわれ、不具合が生
ずる。(例えば、7ビツトのパターンを想定する。
第1表より、水平・垂直パターン対しては、7回
の縮小処理パターンが消去されるのに対し、斜め
45゜のパターンは5回の縮小処理パターンが消去
され、この回数はパターン幅を示すビツト数が多
くなればなるほど著しくなる傾向にある。)
【表】 上述の不具合点を、解決する手段として、第3
図の様に、水平・垂直パターンに対しては1ビツ
ト縮小するが斜め45゜のパターンに対しては、縮
小を行なわないような対角線上の画像の単位ビツ
ト4−5と4−8,4−6と4−7のいずれかが
パターンの場合、パターン信号を出力する斜めパ
ターン補正縮小回路3bを使用し、水平垂直斜め
の縮小の均一化を計る。第1表中の(3)は、斜めパ
ターン補正縮小回路3bを2回目と6回目に行な
つた場合の斜め45゜のパターンの縮小割合を示し
たもので、例えば7回縮小した場合には7.070と
なり、0.070ビツトだけ余分に縮小されることと
なるがこの値は無視できるほど小さい。 従つて、7回の縮小過程の2回目と6回目を斜
めパターン補正縮小回路3bで処理する。ブロツ
クをN/7個接続すればNビツトの均等のとれた
パターンの縮小を行なうことができる。第4図は
画像消去瞬間判定の説明図である。3ビツト×3
ビツトで画像の一部を切出し消去判定回路5によ
り次の縮小処理で消去されるべきパターンを検出
する。第5図は、消去瞬間パターン例6−1〜6
−3であり3ビツト×3ビツトで切出された画像
(塗りつぶされた部分がパターン)に対してパタ
ーンが消去されると判定を行なうべきパターンで
あり、29=521通りの全てのパターンに対し各々
消去瞬間の判定処理を行なう。 上記1ビツトづつ縮小された画像を持つN個の
画像メモリ2各々に消去判定回路5を接続しN個
の画像のいずれかに消去瞬間パターン6−1〜6
−3が存在すれば、その画像メモリ2に接続され
た消去判定回路5により消去判定信号が出力され
次の縮小処理でパターンが消去されることを検出
できる。例えば、Xビツトの幅のパターンはX−
1ビツト縮小すれば消去瞬間パターン6となり、
第X画像メモリ2−Xに消去瞬間パターン6が記
憶され、第X画像メモリ2−Xに接続された消去
判定回路5により、消去瞬間を検出できる。 Xビツトの幅のパターンはXビツト縮小すれば
消去されるため、被測定パターンが何ビツト縮小
されて消去したかを検出することでパターン幅が
わかるはずである。 すなわち、第X画像メモリ2−Xで切出された
3ビツト×3ビツトの画像がX回目の縮小処理で
消去されるならば、第X画像メモリ2−Xに記憶
されている画像が消去判定回路5により検出さ
れ、Xビツトのパターン幅であることが判定され
る。 以上、本発明によれば画像の実時間縮小処理結
果を利用するだけでパターン幅が正確に、かつ短
時間で測定され完全に自動化が出来ることからそ
の実用的価置は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は第N段までの画像メモリとパターン縮
小処理回路の構成を示すブロツク図、第2図〜第
3図は、画像縮小回路図。第4図は、画像消去瞬
間判定を示す回路のブロツク図。第5図は消去瞬
間パターン例である。 図中の符号、1……一次元光センサー、2−X
……第X画像メモリ、3a……パターン縮小処理
回路、3b……斜めパターン補正縮小回路、4…
…画像の単位ビツト、5……消去判定回路、6…
…消去瞬間パターン例。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 印刷配線板用フオトマスクパターンの二値化
    画像を実時間で第1画像メモリに記憶すると同時
    に、第1画像メモリの画像の一部を切出し、各ビ
    ツトの状態の組合せにより1ビツト縮小処理を行
    ない、結果を次段の画像メモリへ出力する一連の
    画像の記憶・切出し・縮小の処理を第N画像メモ
    リに記憶されるまでN回行ない、得られたN個の
    1ビツト毎に縮小された画像各々に対し、実時間
    で画像の一部を切出し、各ビツトの状態の組合せ
    でパターン消去判定を行ない、第X画像メモリよ
    り消去判定信号が出力された場合のパターン幅を
    Xビツトと判定することを特徴とするパターン幅
    の測定方式。 2 前記一連の縮小の処理方法として、水平・垂
    直パターンは縮小し、斜めパターンの縮小は行な
    わない縮小の処理と、水平・垂直・斜めパターン
    とを共に縮小する縮小の処理とを設け、Nビツト
    縮小する際にそれぞれ2N/7回と5N/7回行な
    うよう設定したことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載のパターン幅測定方式。
JP58028821A 1983-02-23 1983-02-23 パタ−ン幅の測定方式 Granted JPS59154307A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58028821A JPS59154307A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 パタ−ン幅の測定方式

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58028821A JPS59154307A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 パタ−ン幅の測定方式

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59154307A JPS59154307A (ja) 1984-09-03
JPH0116362B2 true JPH0116362B2 (ja) 1989-03-24

Family

ID=12259060

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58028821A Granted JPS59154307A (ja) 1983-02-23 1983-02-23 パタ−ン幅の測定方式

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JPS59154307A (ja) 1984-09-03

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